RU2478463C1 - Device for one-sided thinning of plates - Google Patents
Device for one-sided thinning of plates Download PDFInfo
- Publication number
- RU2478463C1 RU2478463C1 RU2011150868/02A RU2011150868A RU2478463C1 RU 2478463 C1 RU2478463 C1 RU 2478463C1 RU 2011150868/02 A RU2011150868/02 A RU 2011150868/02A RU 2011150868 A RU2011150868 A RU 2011150868A RU 2478463 C1 RU2478463 C1 RU 2478463C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plates
- vacuum
- spindle
- grinding
- plate
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к устройствам для односторонней обработки, преимущественно шлифованием и полированием, пластин стекла, керамики, сапфира, кварца, кремния, арсенида галлия, карбида кремния и других материалов и может быть использовано в производстве изделий микро - и оптоэлектроники.The invention relates to devices for one-sided processing, mainly grinding and polishing, of glass plates, ceramics, sapphire, quartz, silicon, gallium arsenide, silicon carbide and other materials and can be used in the manufacture of micro and optoelectronic products.
Известен широкий класс оборудования для одностороннего утонения пластин, в котором используется так называемый метод жестких осей [1]. Устройство включает вращающийся вакуумный столик, на котором фиксируется обрабатываемая пластина, шлифовально-полировальный инструмент, в виде независимых кольцевых двух шлифовальных и одной полировальной вращающихся головок, жестко установленных на верхнем шпинделе. Недостатком такого типа оборудования является его высокая стоимость, низкая производительность, связанная с поштучной обработкой пластин, сложность в эксплуатации, а также высокие динамические нагрузки в зоне резания.A wide class of equipment is known for one-sided thinning of plates, in which the so-called hard axis method is used [1]. The device includes a rotating vacuum table on which the workpiece is fixed, a grinding and polishing tool, in the form of independent annular two grinding and one polishing rotating heads, rigidly mounted on the upper spindle. The disadvantage of this type of equipment is its high cost, low productivity associated with piecewise processing of plates, difficulty in operation, as well as high dynamic loads in the cutting zone.
Известно также устройство для одностороннего утонения пластин, включающее шлифовально-полировальный инструмент в виде стола с приводом вращения, самоустанавливающийся шпиндель с шарнирно закрепленным устройством перемещения шпинделя, сепараторы с гнездами, в которых размещены сателлиты с приклеенными пластинами [2 - прототип].A device for one-sided thinning of plates is also known, including a grinding and polishing tool in the form of a table with a rotation drive, a self-aligning spindle with a pivotally mounted spindle moving device, separators with sockets in which satellites with glued plates are placed [2 - prototype].
Известное устройство имеет следующие недостатки.The known device has the following disadvantages.
Из-за трения сателлитов с приклеенными пластинами в гнездах сепараторов пластины обычно располагаются под некоторым углом к поверхности шлифовально-полировального инструмента, и происходит точечное касание пластины и инструмента, что может привести к разрушению пластины и, соответственно, к снижению выхода годных изделий. Кроме того, операция приклеивания пластин к сателлитам является очень трудоемкой и ухудшает геометрические параметры пластины за счет неравномерности приклеечного слоя и деформаций пластины во время приклеивания и расклеивания. При этом при нагревании сателлитов с приклеенными пластинами во время расклеивания существует высокая вероятность разрушения пластины из-за градиентов температур.Due to the friction of the satellites with glued plates in the separator seats, the plates are usually located at some angle to the surface of the grinding and polishing tool, and the plate and the tool touch pointly, which can lead to destruction of the plate and, accordingly, to a decrease in the yield of suitable products. In addition, the operation of gluing the plates to the satellites is very time-consuming and worsens the geometric parameters of the plate due to the unevenness of the adhesive layer and deformation of the plate during gluing and gluing. In this case, when heating satellites with glued plates during gluing, there is a high probability of plate destruction due to temperature gradients.
Еще одним недостатком описанного устройства является то, что шлифование или полирование пластин осуществляется с помощью абразивных суспензий, подаваемых на поверхность шлифовально-полировального стола в зону контакта с пластинами. При этом часть абразивной суспензии попадает в зазор между стенками гнезд сепараторов и сателлитами, что приводит к дополнительному трению и препятствует свободному вращению сателлитов с приклеенными пластинами и, соответственно, к ухудшению геометрических параметров пластины.Another disadvantage of the described device is that the grinding or polishing of the plates is carried out using abrasive suspensions supplied to the surface of the grinding and polishing table in the contact zone with the plates. At the same time, part of the abrasive suspension falls into the gap between the walls of the separator nests and satellites, which leads to additional friction and prevents the free rotation of the satellites with glued plates and, accordingly, to a deterioration of the geometric parameters of the plate.
Техническая задача данного изобретения заключается в увеличении производительности процесса утонения пластин при одновременном увеличении выхода годных изделий и улучшении геометрических параметров пластин за счет обеспечения равномерного распределения нагрузки по поверхности пластин и исключения деформации пластин при их вакуумной фиксации путем исключения операции приклеивания пластин, а также за счет уменьшения динамических нагрузок на пластины с использованием связанного пористого алмазно-абразивного инструмента.The technical task of this invention is to increase the productivity of the process of thinning the plates while increasing the yield of products and improving the geometric parameters of the plates by ensuring a uniform load distribution on the surface of the plates and eliminating the deformation of the plates during their vacuum fixation by eliminating the operation of gluing the plates, as well as by reducing dynamic plate loads using a bonded porous diamond abrasive tool.
Указанный результат достигается за счет того, что устройство для одностороннего утонения пластин путем шлифования и/или полирования пластин, включающее стол с приводом вращения, самоустанавливающийся шпиндель с шарнирно закрепленным устройством перемещения шпинделя, в котором шпиндель выполнен в виде планшайбы с зонами фиксации пластин рабочей стороной к поверхности планшайбы через упруго-эластичную прокладку, а шлифовально-полировальный стол, выполнен в виде планшайбы с кольцевой зоной алмазно-абразивных элементов, закрепленных на ее поверхности.This result is achieved due to the fact that the device for one-sided thinning of the plates by grinding and / or polishing the plates, including a table with a rotation drive, a self-aligning spindle with a pivotally mounted spindle moving device, in which the spindle is made in the form of a face plate with zones for fixing the plates with the working side to the surface of the faceplate through an elastic-elastic gasket, and the grinding and polishing table is made in the form of a faceplate with an annular zone of diamond-abrasive elements fixed to its surface.
Указанный результат достигается также за счет того, что зоны фиксации пластин выполнены из материала с микроотверстиями или порами для подачи вакуума через устройство перемещения шпинделя, устройство перемещения шпинделя снабжено с одного конца вакуумно-плотными втулками, а с другого конца вращающимся вакуумно-плотным цанговым соединителем с вакуумным шлангом.The indicated result is also achieved due to the fact that the fixation zones of the plates are made of material with micro holes or pores for supplying vacuum through the spindle moving device, the spindle moving device is equipped with vacuum-tight bushings at one end and a rotating vacuum-tight collet connector at the other end with vacuum hose.
На фиг.1 представлено предлагаемое устройство для одностороннего утонения пластин с одной зоной фиксации пластины, на фиг.2 - схема того же устройства в формате 3D, на фиг.3 - чертеж нижней поверхности планшайбы с тремя зонами фиксации пластин для их одновременного утонения.Figure 1 presents the proposed device for one-sided thinning of the plates with one zone of fixation of the plate, figure 2 is a diagram of the same device in 3D, figure 3 is a drawing of the lower surface of the faceplate with three zones of fixation of the plates for simultaneous thinning.
Устройство для одностороннего утонения пластин включает шлифовально-полировальный стол 1 с приводом вращения 2, самоустанавливающийся шпиндель 3 с шарнирно закрепленным устройством перемещения шпинделя 4. Шпиндель выполнен в виде планшайбы с зонами фиксации пластин 5 рабочей стороной 6 к поверхности планшайбы 7 через упруго-эластичную прокладку 8. При этом шлифовально-полировальный стол, выполнен в виде планшайбы с кольцевой зоной алмазно-абразивных элементов 9, закрепленных на ее поверхности.The device for one-sided thinning of the plates includes a grinding and polishing table 1 with a rotation drive 2, a self-aligning spindle 3 with a pivotally mounted spindle moving device 4. The spindle is made in the form of a faceplate with zones for fixing the
Кроме того, зоны фиксации пластин выполнены из материала 10 с микроотверстиями или порами для подачи вакуума через устройство перемещения шпинделя. Устройство перемещения шпинделя снабжено с одного конца вакуумно-плотными втулками 11, а с другого конца вращающимся вакуумно-плотным цанговым соединителем 12 с вакуумным шлангом 13. На устройстве перемещения шпинделя 4 соосно размещено устройство 14 для обеспечения относительной нагрузи обрабатываемой пластины 5 и алмазного инструмента 9. В частности, устройство нагружения 14 может быть выполнено в виде съемных грузов.In addition, the fixation zones of the plates are made of
В заявляемом устройстве шпиндель может быть выполнен в виде планшайбы с различным количеством зон фиксации пластин. В частности, на фиг.1, 2 приведена схема устройства с одной зоной фиксации пластины 5 рабочей стороной 6 к поверхности планшайбы 7 через упруго-эластичную прокладку 8, а на фиг.3 показан чертеж поверхности планшайбы 7 с тремя зонами фиксации 15.In the inventive device, the spindle can be made in the form of a face plate with a different number of zones of fixation of the plates. In particular, figure 1, 2 shows a diagram of a device with one zone of fixation of the
Работа устройства заключается в следующем. Фиксируют пластину 5 рабочей стороной 6 к поверхности планшайбы 7 в зонах фиксации через упруго-эластичную прокладку 8. Упруго-эластичная прокладка 8 служит, во-первых, для исключения механического повреждения рабочей поверхности пластины в процессе ее утонения, во-вторых, для обеспечения улучшения адгезии рабочей стороны пластины к поверхности планшайбы шпинделя, а в-третьих, для уменьшения динамических нагрузок на пластины.The operation of the device is as follows. The
Устанавливают шпиндель 3 с закрепленными пластинами 5 на шлифовально-полировальный стол 1, выполненный из кольцевой зоны алмазно-абразивных элементов 9. Нагружают шпиндель с закрепленными пластинами и включают привод вращения 2 шлифовально-полировального стола 1 с одновременным включением подачи смазочно-охлаждающей жидкости (СОЖ) в зону шлифования и/или полирования пластин 5. Под действием нагрузки обрабатываемых пластин 5 на шлифовально-полировальный инструмент 1, относительного перемещения пластин и инструмента и сил трения происходит утонение пластин за счет удаления части материала пластин.Install the spindle 3 with the
После удаления заданного припуска материала, то есть достижения необходимых геометрических размеров пластины осуществляют уменьшение скорости вращения шпинделя и нагрузки на обрабатываемые пластины до полной остановки.After removing the specified material allowance, that is, achieving the necessary geometrical dimensions of the plate, the spindle rotation speed and the load on the processed plate are reduced to a complete stop.
Использование в качестве шлифовально-полировального стола инструмента, выполненного в виде кольцевой зоны из связанных алмазно-абразивных элементов в виде таблеток, обеспечивает повышение производительности процесса шлифования-полирования и улучшение качества обработки поверхности пластин за счет уменьшения глубины нарушенного слоя и улучшения геометрических параметров обрабатываемой поверхности пластин.Using a tool made in the form of an annular zone of bonded diamond-abrasive elements in the form of tablets as a grinding and polishing table provides an increase in the productivity of the grinding-polishing process and an improvement in the quality of processing the surface of the plates by reducing the depth of the broken layer and improving the geometric parameters of the processed surface of the plates .
Кроме того, использование указанного связанного алмазно-абразивного инструмента в сочетании с применением упруго-эластичных прокладок при фиксации обрабатываемых пластин обеспечивает улучшение геометрических параметров пластин за счет уменьшения удельных нагрузок в зоне обработки и обеспечения равномерного распределения нагрузки по поверхности пластин и исключения деформации пластин при их вакуумной фиксации и исключения операции приклеивания пластин.In addition, the use of the specified bonded diamond-abrasive tool in combination with the use of elastic-elastic gaskets for fixing the processed plates provides an improvement in the geometric parameters of the plates by reducing the specific loads in the processing zone and ensuring uniform load distribution over the surface of the plates and eliminating the deformation of the plates during their vacuum fixing and eliminating the operation of gluing plates.
В таблице 1 приведены сравнительные показатели процесса утонения сапфировых пластин с помощью устройства-прототипа, в котором шлифование осуществлялось алмазной пастой, и заявляемого устройства, в котором шлифование проводилось пористым связанным алмазным инструментом РТ50Р1.Table 1 shows the comparative indicators of the process of thinning sapphire plates using the prototype device in which grinding was carried out with diamond paste, and the inventive device in which grinding was carried out with a porous bonded diamond tool PT50P1.
Предлагаемое устройство за счет обеспечения равномерного распределения нагрузки по поверхности пластин и исключения деформации пластин при их вакуумной фиксации путем исключения операции приклеивания пластин, а также за счет уменьшения динамических нагрузок на пластины и уменьшения глубины нарушенного слоя с использованием связанного пористого алмазно-абразивного инструмента позволяет обеспечить следующие преимущества:The proposed device by ensuring uniform distribution of the load on the surface of the plates and eliminating the deformation of the plates during their vacuum fixation by eliminating the operation of gluing the plates, as well as by reducing the dynamic loads on the plates and reducing the depth of the broken layer using a bonded porous diamond-abrasive tool advantages:
- повысить производительность процесса утонения пластин до 50-75%;- increase the productivity of the process of thinning plates up to 50-75%;
- увеличить выход годных изделий;- increase the yield of products;
- улучить геометрические параметры пластин.- improve the geometric parameters of the plates.
Источники информацииInformation sources
1. Мухина Е.П. Технология утонения ультратонких полупроводниковых пластин // Электроника НТБ, №3, 2009 г.1. Mukhina E.P. Technology of thinning of ultrathin semiconductor wafers // Electronics NTB, No. 3, 2009
2. Устройство одностороннего утонения пластин. - Полезная модель №38665, МПК7 В24В 37/04, опубликовано 10.07.2004 г.2. The device is one-sided thinning plates. - Utility model No. 38665, IPC 7 V24V 37/04, published July 10, 2004
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2011150868/02A RU2478463C1 (en) | 2011-12-14 | 2011-12-14 | Device for one-sided thinning of plates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2011150868/02A RU2478463C1 (en) | 2011-12-14 | 2011-12-14 | Device for one-sided thinning of plates |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2478463C1 true RU2478463C1 (en) | 2013-04-10 |
Family
ID=49152242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2011150868/02A RU2478463C1 (en) | 2011-12-14 | 2011-12-14 | Device for one-sided thinning of plates |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2478463C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU169926U1 (en) * | 2015-12-01 | 2017-04-06 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Оренбургский государственный аграрный университет" | DEVICE FOR GRINDING AND GRINDING SEALING ENDS OF NOZZLE CASES |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU818837A1 (en) * | 1978-12-08 | 1981-04-07 | Предприятие П/Я М-5273 | Apparatus for working part plane surfaces |
SU891385A1 (en) * | 1980-05-07 | 1981-12-23 | Предприятие П/Я Р-6707 | Apparatus for microfinishing flat surfaces of parts |
JP2000141207A (en) * | 1998-11-06 | 2000-05-23 | Ibaraki Prefecture | Precision surface working machine |
RU38665U1 (en) * | 2003-06-05 | 2004-07-10 | Терашкевич Игорь Макарович | DEVICE FOR ONE-SIDED THINING OF PLATES |
RU2284073C1 (en) * | 2005-02-24 | 2006-09-20 | Михаил Викторович Варакин | Method for producing monocrystal wafers |
-
2011
- 2011-12-14 RU RU2011150868/02A patent/RU2478463C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU818837A1 (en) * | 1978-12-08 | 1981-04-07 | Предприятие П/Я М-5273 | Apparatus for working part plane surfaces |
SU891385A1 (en) * | 1980-05-07 | 1981-12-23 | Предприятие П/Я Р-6707 | Apparatus for microfinishing flat surfaces of parts |
JP2000141207A (en) * | 1998-11-06 | 2000-05-23 | Ibaraki Prefecture | Precision surface working machine |
RU38665U1 (en) * | 2003-06-05 | 2004-07-10 | Терашкевич Игорь Макарович | DEVICE FOR ONE-SIDED THINING OF PLATES |
RU2284073C1 (en) * | 2005-02-24 | 2006-09-20 | Михаил Викторович Варакин | Method for producing monocrystal wafers |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU169926U1 (en) * | 2015-12-01 | 2017-04-06 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Оренбургский государственный аграрный университет" | DEVICE FOR GRINDING AND GRINDING SEALING ENDS OF NOZZLE CASES |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3620554B2 (en) | Semiconductor wafer manufacturing method | |
JP3925580B2 (en) | Wafer processing apparatus and processing method | |
CN111421391A (en) | Double-sided chemical mechanical polishing method for single crystal diamond wafer | |
JP2011255454A5 (en) | ||
TWI589398B (en) | Columnar processing equipment | |
TW201127553A (en) | Method and apparatus for conformable polishing | |
JP2013244537A (en) | Method for working plate-like object | |
CN110039381B (en) | Ultra-precision polishing method for cylindrical roller | |
RU196783U1 (en) | Device for processing flat surfaces of parts | |
WO2014049844A1 (en) | Method for polishing board-like body, and apparatus for polishing board-like body | |
RU2478463C1 (en) | Device for one-sided thinning of plates | |
JP2019166598A (en) | Wafer chamfering device and wafer chamfering method | |
JP6145548B1 (en) | Chamfering grinding method and chamfering grinding apparatus | |
KR20100135649A (en) | Method for chemically grinding a semiconductor wafer on both sides | |
JP2017177251A (en) | Chamfering device and chamfering method | |
CN113001262B (en) | Method for grinding workpiece | |
JP6742772B2 (en) | Chamfering device and chamfering method | |
TWI224832B (en) | Process for machining a wafer-like workpiece | |
KR20140055984A (en) | Machining apparatus | |
CN106903565A (en) | Equipment for grinding, method for grinding and the carborundum plate for glass manufacturing apparatus | |
CN205600498U (en) | High -speed machining and automatic measure integration equipment | |
KR20150026770A (en) | Method of dividing semiconductor wafer | |
TW201503283A (en) | Semiconductor waver holding jig, semiconductor waver polishing apparatus, and work holding jig | |
JP2004114184A (en) | Chuck | |
KR20160057585A (en) | Device for bonding wafer of wafer flattening apparatus and method for flattening wafer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20171215 |