RU2017123030A - Прозрачная диффузная подложка осид и способ получения такой подложки - Google Patents

Прозрачная диффузная подложка осид и способ получения такой подложки Download PDF

Info

Publication number
RU2017123030A
RU2017123030A RU2017123030A RU2017123030A RU2017123030A RU 2017123030 A RU2017123030 A RU 2017123030A RU 2017123030 A RU2017123030 A RU 2017123030A RU 2017123030 A RU2017123030 A RU 2017123030A RU 2017123030 A RU2017123030 A RU 2017123030A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
refractive index
high refractive
enamel layer
layer
microns
Prior art date
Application number
RU2017123030A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2017123030A3 (ru
Inventor
Йоунг Сеонг Ли
Дзин Воо Хан
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс
Publication of RU2017123030A publication Critical patent/RU2017123030A/ru
Publication of RU2017123030A3 publication Critical patent/RU2017123030A3/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/854—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • B05D1/265—Extrusion coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B05D3/0254—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • C03C17/04—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass by fritting glass powder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/008—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in solid phase, e.g. using pastes, powders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/04—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/81—Anodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/877—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/60—Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/228—Other specific oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/425—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/45—Inorganic continuous phases
    • C03C2217/452—Glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/91—Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/10—Transparent electrodes, e.g. using graphene
    • H10K2102/101—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO]
    • H10K2102/103—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO] comprising indium oxides, e.g. ITO
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/351—Thickness
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/361—Temperature
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Claims (20)

1. Способ получения многослойной подложки для светоизлучающего устройства, содержащий, по меньшей мере, следующие этапы:
обеспечения стеклянной подложки (1), обладающей показателем преломления, при 550 нм, 1,45-1,65,
нанесения стеклофритты (3), обладающей показателем преломления, при 550 нм, по меньшей мере, 1,7, на упомянутую стеклянную подложку (1), причем упомянутая стеклофритта содержит, по меньшей мере, 30 мас.% Bi2O3,
обжига полученной стеклянной подложки с нанесенной стеклофриттой при температуре выше температуры Литлтона для стеклофритты, с образованием, таким образом, первого (4) слоя эмали с высоким показателем преломления,
нанесения слоя (2) оксида металла на упомянутый первый слой эмали с высоким показателем преломления, и
обжига результирующей покрытой стеклянной подложки при температуре выше температуры Литлтона для стеклофритты, составляющей 530-620°C, что, таким образом, заставляет оксид металла (2) реагировать с нижележащим первым (4) слоем эмали с высоким показателем преломления, и формирования второго (5) слоя эмали с высоким показателем преломления, с множеством сферических пустот (6), внедренных в верхний участок второго слоя эмали с высоким показателем преломления вблизи границы раздела с воздухом.
2. Способ по п. 1, в котором слой оксида металла обладает толщиной 5-60 нм, предпочтительно, 10-40 нм, более предпочтительно, 15-30 нм.
3. Способ по п. 1 или 2, в котором оксид металла выбран из группы, состоящей из TiO2, Al2O3, ZrO2, Nb2O5, HfO2, Ta2O5, WO3, Ga2O3, In2O3 и SnO2 и их смесей.
4. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором показатель преломления стеклофритты составляет 1,70-2,20, предпочтительно, 1,80-2,10.
5. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором стеклофритта содержит, по меньшей мере, 50 мас.%, предпочтительно, по меньшей мере, 60 мас.% Bi2O3.
6. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором этапы обжига (c) и (e) осуществляют при температуре, составляющей 540-600°C.
7. Способ по любому из предыдущих пунктов, дополнительно содержащий (f) нанесение прозрачного электропроводящего слоя (TCL) (8) на второй (5) слой эмали с высоким показателем преломления.
8. Многослойная подложка, получаемая способом по любому из предыдущих пунктов, содержащая:
стеклянную подложку (1), обладающую показателем преломления 1,45-1,65,
(ii) слой (5) стеклянной эмали с высоким показателем преломления, обладающий показателем преломления, при 550 нм, по меньшей мере, 1,7, и содержащий, по меньшей мере, 30 мас.% Bi2O3,
характеризующаяся тем, что множество сферических пустот (6) внедрены в слой (5) эмали с высоким показателем преломления вблизи его поверхности, по меньшей мере, 95%, предпочтительно, по меньшей мере, 99%, и более предпочтительно, по существу все сферические пустоты имеют диаметр, значительно меньший, чем половина толщины слоя (5) эмали с высоким показателем преломления и расположенны в верхней половине слоя эмали с высоким показателем преломления вблизи границы раздела (7) с воздухом.
9. Многослойная подложка по п. 8, в которой сферические пустоты обладают средним эквивалентным сферическим диаметром 0,2-8 мкм, предпочтительно, 0,4-4 мкм, более предпочтительно, 0,5-3 мкм.
10. Многослойная подложка по п. 8 или 9, в которой толщина второго слоя эмали с высоким показателем преломления составляет 3-25 мкм, предпочтительно, 4-20 мкм, а более предпочтительно, 5-15 мкм.
11. Многослойная подложка по любому из пп. 8-10, дополнительно содержащая (iii) прозрачный электропроводящий слой (8) на слое (5) эмали с высоким показателем преломления.
12. Многослойная подложка по любому из пп. 8-11, в которой сферические пустоты занимают, по меньшей мере, 20% поверхности и по большей мере, 80% поверхности области, ранее покрытой оксидом металла.
RU2017123030A 2014-12-01 2015-11-23 Прозрачная диффузная подложка осид и способ получения такой подложки RU2017123030A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP14195677.1A EP3028999B1 (en) 2014-12-01 2014-12-01 Transparent diffusive oled substrate and method for producing such a substrate
EP14195677.1 2014-12-01
PCT/EP2015/077393 WO2016087252A1 (en) 2014-12-01 2015-11-23 Transparent diffusive oled substrate and method for producing such a substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2017123030A true RU2017123030A (ru) 2019-01-10
RU2017123030A3 RU2017123030A3 (ru) 2019-05-24

Family

ID=51987090

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017123030A RU2017123030A (ru) 2014-12-01 2015-11-23 Прозрачная диффузная подложка осид и способ получения такой подложки

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10361398B2 (ru)
EP (1) EP3028999B1 (ru)
JP (1) JP6608932B2 (ru)
KR (1) KR20170093810A (ru)
CN (1) CN107001119B (ru)
ES (1) ES2637715T3 (ru)
RU (1) RU2017123030A (ru)
TW (1) TWI660926B (ru)
WO (1) WO2016087252A1 (ru)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108454196A (zh) * 2018-02-27 2018-08-28 嘉兴奥普劲达厨卫科技有限公司 一种具有除甲醛功能的铝合金覆膜板及其制造方法
EP4077230A1 (en) * 2019-12-20 2022-10-26 AGC Glass Europe Enameled glazing

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101766052B (zh) * 2007-07-27 2012-07-18 旭硝子株式会社 透光性基板、其制造方法、有机led元件及其制造方法
KR101476488B1 (ko) * 2007-11-09 2014-12-24 아사히 가라스 가부시키가이샤 투광성 기판, 그의 제조 방법, 유기 ｌｅｄ 소자 및 그의 제조 방법
WO2010084922A1 (ja) * 2009-01-26 2010-07-29 旭硝子株式会社 有機ｌｅｄ素子の散乱層用ガラス及び有機ｌｅｄ素子
FR2955575B1 (fr) * 2010-01-22 2012-02-24 Saint Gobain Substrat verrier revetu d'une couche haut indice sous un revetement electrode et dispositif electroluminescent organique comportant un tel substrat.
JP2013539158A (ja) * 2010-07-16 2013-10-17 エージーシー グラス ユーロップ 有機発光デバイスのための半透明導電性基板
FI3962088T3 (fi) 2010-11-04 2023-09-20 Ge Video Compression Llc Kuvankoodaus, joka tukee lohkojen yhdistämistä ja ohittavaa toimintamuotoa
KR101843760B1 (ko) * 2010-12-01 2018-05-14 닛토 덴코 가부시키가이샤 도펀트 농도 구배를 갖는 방사성 세라믹 재료들 및 그것을 제조하고 사용하는 방법들
DE102012206955B4 (de) * 2012-04-26 2016-09-22 Osram Oled Gmbh Verfahren zum Herstellen einer Streuschicht für elektromagnetische Strahlung
KR101715112B1 (ko) 2012-06-14 2017-03-10 쌩-고벵 글래스 프랑스 Ｏｌｅｄ 소자용 적층체, 그 제조방법 및 이를 구비한 ｏｌｅｄ 소자
EP2712851B1 (en) * 2012-09-28 2015-09-09 Saint-Gobain Glass France Method of producing a transparent diffusive oled substrate
MY174696A (en) * 2013-02-25 2020-05-08 Saint Gobain Substrate for device having an organic light-emitting diode
KR101436548B1 (ko) * 2013-05-28 2014-10-30 코닝정밀소재 주식회사 유기발광소자용 광추출 기판 및 그 제조방법
ES2625733T3 (es) * 2014-07-16 2017-07-20 Saint-Gobain Glass France Sustrato OLED difusor transparente y método para producir dicho sustrato
EP3082172A1 (en) * 2015-04-16 2016-10-19 Saint-Gobain Glass France Layered structure for an oled and a method for producing such a structure

Also Published As

Publication number Publication date
JP6608932B2 (ja) 2019-11-20
KR20170093810A (ko) 2017-08-16
TW201630844A (zh) 2016-09-01
TWI660926B (zh) 2019-06-01
US10361398B2 (en) 2019-07-23
US20170263894A1 (en) 2017-09-14
EP3028999B1 (en) 2017-05-24
CN107001119B (zh) 2019-11-26
RU2017123030A3 (ru) 2019-05-24
EP3028999A1 (en) 2016-06-08
JP2018503940A (ja) 2018-02-08
ES2637715T3 (es) 2017-10-16
CN107001119A (zh) 2017-08-01
WO2016087252A1 (en) 2016-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA027212B1 (ru) Полупрозрачное остекление, содержащее по меньшей мере один узор, который предпочтительно является прозрачным
CO2017013475A2 (es) Material provisto de un laminado con propiedades térmicas
CH709524B8 (de) Substrat mit mindestens einer harten Anti-Reflex-Beschichtung sowie deren Herstellung und Verwendung.
US8247962B2 (en) Organic light emitting device and manufacturing method thereof
EA201290679A1 (ru) Стеклянная подложка, покрытая слоем с высоким показателем преломления ниже электродного покрытия, и электролюминесцентное органическое устройство, содержащее такую подложку
RU2018114900A (ru) Изделие с покрытием
RU2017104776A (ru) Прозрачная диффузионная подложка осид и способ для изготовления такой подложки
RU2008146761A (ru) Окно с антибактериальными и/или антигрибковыми свойствами и способ его производства
CN105870358B (zh) 一种散射层的制备方法、有机发光二极管
RU2586268C2 (ru) Светодиодная сборка, включающая в себя светорассеивающий слой
MX2015007732A (es) Cristal transparente con un recubrimiento electricamente conductor.
DE102012106769A1 (de) Wellenlängenwandelstruktur, Herstellungsverfahren derselben und Licht emittierende Vorrichtung mit der Wellenlängenwandelstruktur
RU2013121902A (ru) Внешнее покрытие из оксида циркония, легированного оксидом гадолиния и /или способ его получения
CN105684181A (zh) 用于发光器件的叠层以及制备所述叠层的处理
RU2016104511A (ru) Слоистый материал для светоизлучающего прибора и способ его изготовления
RU2017123030A (ru) Прозрачная диффузная подложка осид и способ получения такой подложки
JP2017528399A5 (ru)
RU2017134935A (ru) Слоистая структура для oled и способ получения такой структуры
RU2016100768A (ru) Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки
DE102009027977A1 (de) Leuchtdiode und Verfahren zur Herstellung einer Leuchtdiode
CN105518896B (zh) 用于制造超薄有机发光装置的方法
JP2018503940A5 (ru)
RU2015153822A (ru) Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки
RU2016145417A (ru) Прозрачный электрод на подложке для осид
WO2015166708A1 (ja) ガラス基板、有機ｅｌ照明装置、ガラス基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
FA94 Acknowledgement of application withdrawn (non-payment of fees)

Effective date: 20201202