RU2012137135A - Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе сложных эфиров - Google Patents
Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе сложных эфиров Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012137135A RU2012137135A RU2012137135/04A RU2012137135A RU2012137135A RU 2012137135 A RU2012137135 A RU 2012137135A RU 2012137135/04 A RU2012137135/04 A RU 2012137135/04A RU 2012137135 A RU2012137135 A RU 2012137135A RU 2012137135 A RU2012137135 A RU 2012137135A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- residues
- photopolymer composition
- composition according
- formula
- holograms
- Prior art date
Links
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims abstract 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims abstract 6
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims abstract 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims abstract 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims abstract 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims abstract 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims abstract 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 3
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 claims 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/035—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24035—Recording layers
- G11B7/24044—Recording layers for storing optical interference patterns, e.g. holograms; for storing data in three dimensions, e.g. volume storage
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H2001/026—Recording materials or recording processes
- G03H2001/0264—Organic recording material
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0065—Recording, reproducing or erasing by using optical interference patterns, e.g. holograms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
Abstract
1. Фотополимерная композиция, включающая полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, причем эти полимеры матрицы представляют собой полиуретаны, которые получаются в результате взаимодействия изоцианатного компонента a) с компонентом b), реакционноспособным по отношению к изоцианатам, который в среднем содержит в молекуле по меньшей мере 1,5 групп, реакционноспособных по отношению к изоцианатам, отличающаяся тем, что записывающие мономеры содержат ароматические соединения формулы (I),в которой по меньшей мере один из остатков R, R, R, R, R, Rпредставляет собой соединенный через X с ароматическим кольцом остаток формулы (II),причем в формуле (II) A является линейной или разветвленной, при необходимости содержащей кислород или азот углеводородной цепью, остальные остатки R, R, R, R, R, Rсоответственно независимо друг от друга представляют собой атом водорода или органический остаток, a Rявляется атомом водорода или метилом.2. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что два или три из остатков R, R, R, R, R, Rявляются остатками формулы (II), через X присоединенными к ароматическому кольцу.3. Фотополимерная композиция по п.2, отличающаяся тем, что если присутствуют два остатка формулы (II), эти остатки присоединены в мета- или пара-положении ароматического кольца, а если присутствуют три остатка формулы (II), эти остатки присоединены соответственно в мета-положениях.4. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что органический остаток содержит радиационно-отверждаемую группу.5. Фотополимерная композиция по п.4, отличающаяся тем, что эта радиационно-отверждаемая группа представляет собой акрилатную или метак
Claims (12)
1. Фотополимерная композиция, включающая полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, причем эти полимеры матрицы представляют собой полиуретаны, которые получаются в результате взаимодействия изоцианатного компонента a) с компонентом b), реакционноспособным по отношению к изоцианатам, который в среднем содержит в молекуле по меньшей мере 1,5 групп, реакционноспособных по отношению к изоцианатам, отличающаяся тем, что записывающие мономеры содержат ароматические соединения формулы (I)
в которой по меньшей мере один из остатков R1, R2, R3, R4, R5, R6 представляет собой соединенный через X с ароматическим кольцом остаток формулы (II)
причем в формуле (II) A является линейной или разветвленной, при необходимости содержащей кислород или азот углеводородной цепью, остальные остатки R1, R2, R3, R4, R5, R6 соответственно независимо друг от друга представляют собой атом водорода или органический остаток, a R7 является атомом водорода или метилом.
2. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что два или три из остатков R1, R2, R3, R4, R5, R6 являются остатками формулы (II), через X присоединенными к ароматическому кольцу.
3. Фотополимерная композиция по п.2, отличающаяся тем, что если присутствуют два остатка формулы (II), эти остатки присоединены в мета- или пара-положении ароматического кольца, а если присутствуют три остатка формулы (II), эти остатки присоединены соответственно в мета-положениях.
4. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что органический остаток содержит радиационно-отверждаемую группу.
5. Фотополимерная композиция по п.4, отличающаяся тем, что эта радиационно-отверждаемая группа представляет собой акрилатную или метакрилатную группу.
6. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что A представляет собой -CH2-СН2-, -CH2-СН2-СН2-, -СН2-СН(CH)3-СН2- или -СН2-CH2-СН2-СН2-.
7. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициаторы включают анионный, катионный или нейтральный краситель и соинициатор.
8. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит в качестве пластификаторов уретаны, причем эти уретаны особенно могут быть замещены по меньшей мере одним атомом фтора.
9. Фотополимерная композиция по п.8, отличающаяся тем, что эти уретаны имеют общую формулу (III)
в которой n≥1 и n≤8, a R8, R9, R10 независимо друг от друга являются атомами водорода, линейными, разветвленными, циклическими или гетероциклическими незамещенными или при необходимости также замещенными гетероатомами органическими остатками, причем предпочтительно по меньшей мере один из остатков R8, R9, R10 является замещенным по меньшей мере одним атомом фтора, и особенно предпочтительно R8 является органическим остатком по меньшей мере с одним атомом фтора.
10. Фотополимерная композиция по одному из пп.1-9, отличающаяся тем, что записывающие мономеры дополнительно включают другой моно- или мультифункциональный записывающий мономер, причем речь может идти особенно о моно- или полифункциональном акрилате.
11. Фотополимерная композиция по п.10, отличающаяся тем, что этот акрилат имеет общую формулу (IV)
в которой m≥1 и m≤4, a R11, R12 независимо друг от друга являются атомами водорода, линейными, разветвленными, циклическими или гетероциклическими незамещенными или при необходимости также замещенными гетероатомами органическими остатками.
12. Применение фотополимерной композиции по одному из пп.1-11 для изготовления голографических сред, особенно для изготовления осевых голограмм, внеосевых голограмм, голограмм сфокусированного изображения, голограмм, восстанавливаемых в белом свете, голограмм Денисюка, внеосевых отражательных голограмм, голограмм краевого освещения, а также голографических стереограмм.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP10001010.7 | 2010-02-02 | ||
| EP10001010 | 2010-02-02 | ||
| PCT/EP2011/051247 WO2011095442A1 (de) | 2010-02-02 | 2011-01-28 | Photopolymer-formulierung mit ester-basierten schreibmonomeren |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012137135A true RU2012137135A (ru) | 2014-03-10 |
| RU2568189C2 RU2568189C2 (ru) | 2015-11-10 |
| RU2568189C9 RU2568189C9 (ru) | 2016-06-27 |
Family
ID=
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2568189C2 (ru) | 2015-11-10 |
| US20120302659A1 (en) | 2012-11-29 |
| KR20120124430A (ko) | 2012-11-13 |
| EP2531889A1 (de) | 2012-12-12 |
| JP5792746B2 (ja) | 2015-10-14 |
| US9057950B2 (en) | 2015-06-16 |
| WO2011095442A1 (de) | 2011-08-11 |
| CN102754026B (zh) | 2015-10-07 |
| CN102754026A (zh) | 2012-10-24 |
| EP2531889B1 (de) | 2020-06-03 |
| JP2013518952A (ja) | 2013-05-23 |
| KR101804591B1 (ko) | 2017-12-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012137134A (ru) | Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина | |
| RU2013110226A (ru) | Дифункциональные (мет)-акрилатные пишущие мономеры | |
| JP2013518952A5 (ru) | ||
| RU2012122586A (ru) | Фотополимерные композиции с регулируемым механическим модулем guv | |
| Peng et al. | High performance graded rainbow holograms via two-stage sequential orthogonal thiol–click chemistry | |
| RU2012157530A (ru) | Слоистая структура с защитным слоем и облученным фотополимерным слоем, способ ее получения, а также применение этой слоистой структуры | |
| DE602006004060D1 (de) | Härtbare thiol-en-zusammensetzungen für optische artikel | |
| RU2012122590A (ru) | Фторуретаны в качестве добавки в фотополимерной композиции | |
| JP2013510333A5 (ru) | ||
| CN110325521B (zh) | 制备三芳基有机硼酸盐的方法 | |
| JP5689628B2 (ja) | 架橋性化合物 | |
| CN106232651B (zh) | 作为全息光聚合物组合物中的书写单体的芳族二醇醚 | |
| DE602005020827D1 (de) | Härtbare flüssigharzlichtwellenleiter-upjacket-zusammensetzung | |
| ATE534709T1 (de) | Polymere farbstoffe für haare | |
| TW200730496A (en) | Oxime ester photoinitiators | |
| ATE518894T1 (de) | Pigmentdispergiermittel, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung | |
| RU2014148968A (ru) | Содержащая нерадиационно-отверждаемый компонент композиция для первичного покрытия оптического волокна | |
| DE602007012575D1 (de) | Strahlungshärtbare d1363 bt-grundierbeschichtung für optische fasern | |
| RU2008134702A (ru) | Способ лечения невропатической боли | |
| JPWO2015068839A1 (ja) | 重合性化合物、それを用いた樹脂組成物、樹脂硬化物および光学材料 | |
| RU2011101907A (ru) | Композиция герметизирующего средства, отверждаемая высокоактивным излучением, и деталь с герметизирующим слоем | |
| JP2020024448A5 (ru) | ||
| EP1569013A3 (en) | Curable composition for optical parts | |
| TW200643041A (en) | Radiation curable methacrylate polyesters | |
| RU2012137135A (ru) | Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе сложных эфиров |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TH4A | Reissue of patent specification | ||
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20170129 |