RU192894U1 - СВЧ МДП-варикап - Google Patents
СВЧ МДП-варикап Download PDFInfo
- Publication number
- RU192894U1 RU192894U1 RU2019121393U RU2019121393U RU192894U1 RU 192894 U1 RU192894 U1 RU 192894U1 RU 2019121393 U RU2019121393 U RU 2019121393U RU 2019121393 U RU2019121393 U RU 2019121393U RU 192894 U1 RU192894 U1 RU 192894U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- region
- mis
- microwave
- varicap
- semiconductor
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 230000004807 localization Effects 0.000 abstract description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/86—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable only by variation of the electric current supplied, or only the electric potential applied, to one or more of the electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched
- H01L29/92—Capacitors having potential barriers
- H01L29/93—Variable capacitance diodes, e.g. varactors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Abstract
Полезная модель относится к области полупроводниковой электроники. МДП-варикап предлагаемой конструкции может быть использован при разработке МДП-варикапов, предназначенных для применения в устройствах ВЧ и СВЧ диапазона.В основу полезной модели поставлена задача увеличения предельной частоты прибора. Поставленная задача достигается тем, что в СВЧ МДП-варикапе область электронной проводимости, контактирующая с управляющим электродом, расположена на поверхности плавающей области дырочной проводимости и выполнена из поликристаллического материала. Область легированного донорной примесью поликристаллического кремния создают на этапе формирования затворов МДП структур, что обеспечивает высокое качество границы раздела кремний-диэлектрик. Соответственно, низкая плотность поверхностных состояний исключает потери мощности СВЧ сигнала на границе раздела.Отсутствие области электронной проводимости в пределах локализации области дырочной проводимости узла стока позволяет уменьшить толщину полупроводника электронной проводимости при том же уровне технологии. По сравнению с известными решениями прибор имеет меньшее значение последовательного сопротивления потерь и более высокое значение предельной частоты. 2 ил.
Description
Полезная модель относится к области полупроводниковой электроники и может быть использована при разработке варикапов на основе структуры металл-диэлектрик-полупроводник (МДП), предназначенных для применения в устройствах ВЧ и СВЧ диапазона.
Известен СВЧ МДП-варикап с переносом заряда [1]. Данный прибор содержит полупроводник электронной проводимости, диэлектрик, управляющий электрод и расположенный вне области локализации управляющего электрода узел стока неосновных носителей на основе резистора и p-n-перехода. Узел стока неосновных носителей выполнен в слое поликристаллического кремния, расположенном на диэлектрике, и содержит две легированные области, разделенные резистивной областью нелегированного поликристаллического кремния, причем первая область, легированная акцепторной примесью, имеет общую границу раздела с поверхностью полупроводника, а вторая легированная область соединена с управляющим электродом.
Недостаток данной конструкции состоит в том, что максимальное значение рабочей температуры прибора ограничивается величиной тока обратно смещенного p-n-перехода узла стока.
Наиболее близким к предлагаемой конструкции прибора является варикап [2]. Данный прибор содержит полупроводник электронной проводимости, диэлектрик, управляющий электрод, область дырочной проводимости и область электронной проводимости, образующие узел стока неосновных носителей с p-n-переходом, и контактирующий с полупроводником электрод. Область электронной проводимости узла стока расположена в пределах локализации области дырочной проводимости и соединена с управляющим электродом, область дырочной проводимости сформирована в полупроводниковой подложке n-типа и изолирована от электродов.
Недостаток данной конструкции прибора состоит в том, что максимальное значение предельной частоты, ограничено толщиной полупроводника, которая не может быть меньше, чем глубина области дырочной проводимости, с учетом ширины области пространственного заряда (ОПЗ) в полупроводнике электронной проводимости. При этом глубина области дырочной проводимости должна быть достаточной для формирования локальной области электронной проводимости, минимальная толщина которой ограничена шириной ОПЗ в данной области.
Задачей предлагаемой полезной модели является повышение предельной частоты СВЧ МДП-варикапа.
В предлагаемом техническом решении эта задача достигается тем, что в СВЧ МДП-варикапе, содержащем полупроводник электронной проводимости, диэлектрик, управляющий электрод, область дырочной проводимости и область электронной проводимости, образующие узел стока неосновных носителей с р-n-переходом, и контактирующий с полупроводником электрод, область электронной проводимости, контактирующая с управляющим электродом, расположена на поверхности области дырочной проводимости и выполнена из поликристаллического материала.
На фиг. 1 приведена конструкция предлагаемого СВЧ МДП-варикапа, где 1 - полупроводник электронной проводимости, 2 - диэлектрик, 3 - управляющий электрод, 4 - контактирующий с полупроводником электрод, 5 - область дырочной проводимости, 6 - область электронной проводимости. На фиг. 2 эквивалентная схема, где (а) - при подаче на управляющий электрод положительного напряжения смещения, (б) - при подаче на управляющий электрод отрицательного напряжения смещения.
Область электронной проводимости 6 (легированного донорной примесью поликристаллического кремния) создают на этапе формирования затворов МДП структур, что обеспечивает высокое качество границы раздела кремний-диэлектрик. Низкая плотность поверхностных состояний исключает потери мощности СВЧ сигнала на границе раздела.
СВЧ МДП-варикап содержит полупроводник электронной проводимости 1, диэлектрик 2, управляющий электрод 3, контактирующий с полупроводником электрод 4. Узел стока неосновных носителей содержит область дырочной проводимости 5, с которой контактирует область электронной проводимости 6 через вскрытое в диэлектрике контактное окно. Управляющий электрод 3 сформирован на поверхности области электронной проводимости 6 и диэлектрика 2.
Принцип действия предлагаемого прибора состоит в следующем. При подаче на управляющий электрод 3 положительного напряжения смещения (фиг. 2а) реализуется состояние емкости прибора, соответствующее его номинальному значению:
Cн=C0⋅S,
где С0 - удельная емкость диэлектрика 2;
S - площадь управляющего электрода 3.
Потери мощности переменного сигнала в цепи МДП 3-2-1-4 учитываются при помощи резистора RS1. В этом режиме работы ток проводимости узла стока неосновных носителей определяется обратным током n-p-перехода, образованного областью электронной проводимости 6 и областью 5 дырочной проводимости. Вклад узла стока в эквивалентную схему определяется величинами RP1 и СР1, где RP1 - эквивалентное сопротивление, СР1 - эквивалентная емкость обратно-смещенного n+-р-перехода.
При положительном напряжении на управляющем электроде область дырочной проводимости соединена с электродом через большое сопротивление n-р-перехода 6-5, которое ограничивает ток р-n перехода 5-1, смещенного в прямом направлении.
При подаче на управляющий электрод прибора отрицательного смещения на управляющем электроде n-р-переход 6-5 смещен в прямом направлении и потенциал области дырочной проводимости 5 близок к потенциалу на полевом электроде 3. В этом режиме р-n-переход 5-1 смещен в обратном направлении и обеспечивает удаление неосновных носителей из приповерхностной области полупроводника под полевым электродом 3.
Эквивалентная схема прибора в этом режиме представлена в общем виде на фиг. 26, где CSC - емкость ОПЗ, RP2 - эквивалентное сопротивление и СР2 - емкость узла стока при отрицательном напряжении на полевом электроде.
В отличие от прототипа, отсутствие области электронной проводимости в пределах локализации области дырочной проводимости 5 позволяет уменьшить толщину полупроводника электронной проводимости 1 при том же уровне технологии (0,9 мкм по сравнению с 1,5 мкм). Соответственно, по сравнению с известными решениями, прибор имеет меньшее значение последовательного сопротивления потерь RS, и более высокое значение предельной частоты ƒп:
Пример. При уменьшении толщины полупроводника электронной проводимости до 0,9 мкм величина последовательного сопротивления потерь, приведенная к единице площади, составляет 4,5⋅10-5 Ом⋅см2 при удельной емкости СВЧ МДП-варикапа Сох=2,4⋅10-8 Ф/см2. При этом значение предельной частоты СВЧ МДП-варикапа вырастает в 1,7 раз по сравнению с варикапом, у которого толщина полупроводника электронной проводимости составляет 1,5 мкм, а последовательное сопротивление потерь, приведенное к единице площади, равно 7,5⋅10-5 Ом⋅см2.
Эффективность предложения обеспечивается тем, что нестационарный МДП-варикап СВЧ диапазона предлагаемой конструкции может быть использован при разработке МДП-варикапов, предназначенных для применения в устройствах ВЧ и СВЧ диапазона, благодаря повышению значения предельной частоты прибора.
Источники информации:
1. Патент на полезную модель РФ №167582.
2. Патент на полезную модель РФ №114807 - прототип.
Claims (1)
- СВЧ МДП-варикап, содержащий полупроводник электронной проводимости, диэлектрик, управляющий электрод, область дырочной проводимости и область электронной проводимости, образующие узел стока неосновных носителей с p-n-переходом, и контактирующий с полупроводником электрод, отличающийся тем, что область электронной проводимости, контактирующая с управляющим электродом, расположена на поверхности области дырочной проводимости и выполнена из поликристаллического материала.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2019121393U RU192894U1 (ru) | 2019-07-09 | 2019-07-09 | СВЧ МДП-варикап |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2019121393U RU192894U1 (ru) | 2019-07-09 | 2019-07-09 | СВЧ МДП-варикап |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU192894U1 true RU192894U1 (ru) | 2019-10-04 |
Family
ID=68162633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2019121393U RU192894U1 (ru) | 2019-07-09 | 2019-07-09 | СВЧ МДП-варикап |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU192894U1 (ru) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997011498A1 (en) * | 1995-09-18 | 1997-03-27 | Philips Electronics N.V. | A varicap diode and method of manufacturing a varicap diode |
US20050148149A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-07-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing variable capacitance diode and variable capacitance diode |
RU100333U1 (ru) * | 2010-06-10 | 2010-12-10 | ФГУП "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" (ФГУП "НИИМП-К") | Мдп-варикап с переносом заряда |
RU2447541C1 (ru) * | 2010-12-03 | 2012-04-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" | Мдп-варикап |
RU114807U1 (ru) * | 2011-12-21 | 2012-04-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" | Варикап |
RU167582U1 (ru) * | 2016-06-08 | 2017-01-10 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" | Свч мдп-варикап с переносом заряда |
-
2019
- 2019-07-09 RU RU2019121393U patent/RU192894U1/ru active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997011498A1 (en) * | 1995-09-18 | 1997-03-27 | Philips Electronics N.V. | A varicap diode and method of manufacturing a varicap diode |
US20050148149A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-07-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing variable capacitance diode and variable capacitance diode |
RU100333U1 (ru) * | 2010-06-10 | 2010-12-10 | ФГУП "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" (ФГУП "НИИМП-К") | Мдп-варикап с переносом заряда |
RU2447541C1 (ru) * | 2010-12-03 | 2012-04-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" | Мдп-варикап |
RU114807U1 (ru) * | 2011-12-21 | 2012-04-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" | Варикап |
RU167582U1 (ru) * | 2016-06-08 | 2017-01-10 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" | Свч мдп-варикап с переносом заряда |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110459599B (zh) | 具有深埋层的纵向浮空场板器件及制造方法 | |
US4586064A (en) | DMOS with high-resistivity gate electrode | |
CN107086247B (zh) | 包括温度传感器的半导体装置及其制造方法和电路 | |
JP6246760B2 (ja) | フィールド・リング・エッジ終端構造および相異なるフィールド・リング間に配置された分離トレンチを有する半導体デバイス | |
CN102792448A (zh) | 半导体器件 | |
US3544864A (en) | Solid state field effect device | |
KR20160136249A (ko) | 조절 가능한 터널링 전계 효과 트랜지스터 유사 저항을 포함하는 증폭기 및 관련된 장치 | |
US8288827B2 (en) | Field effect transistor with metal-semiconductor junction | |
US2964648A (en) | Semiconductor capacitor | |
RU192894U1 (ru) | СВЧ МДП-варикап | |
US3628185A (en) | Solid-state high-frequency source | |
CN113659009A (zh) | 体内异性掺杂的功率半导体器件及其制造方法 | |
US4142199A (en) | Bucket brigade device and process | |
RU100333U1 (ru) | Мдп-варикап с переносом заряда | |
RU2447541C1 (ru) | Мдп-варикап | |
US4183033A (en) | Field effect transistors | |
US3808472A (en) | Variable capacitance semiconductor devices | |
RU167582U1 (ru) | Свч мдп-варикап с переносом заряда | |
US3378738A (en) | Traveling wave transistor | |
US3591840A (en) | Controllable space-charge-limited impedance device for integrated circuits | |
CN103779416B (zh) | 一种低vf的功率mosfet器件及其制造方法 | |
JP2017212397A (ja) | SiC接合型電界効果トランジスタ及びSiC相補型接合型電界効果トランジスタ | |
US4894689A (en) | Transferred electron device | |
RU102845U1 (ru) | Мдп-варикап | |
CN106158943A (zh) | N沟碳化硅静电感应晶闸管及其制造方法 |