RU183906U1 - Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования - Google Patents

Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования Download PDF

Info

Publication number
RU183906U1
RU183906U1 RU2018110328U RU2018110328U RU183906U1 RU 183906 U1 RU183906 U1 RU 183906U1 RU 2018110328 U RU2018110328 U RU 2018110328U RU 2018110328 U RU2018110328 U RU 2018110328U RU 183906 U1 RU183906 U1 RU 183906U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
base
clamp plate
press clamp
polymer composition
relief
Prior art date
Application number
RU2018110328U
Other languages
English (en)
Inventor
Евгений Петрович Гребенников
Николай Олегович Порошин
Григорий Евгеньевич Адамов
Вагиз Равилевич Курбангалеев
Павел Борисович Малышев
Original Assignee
Акционерное общество "Центральный научно-исследовательский технологический институт "Техномаш"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Акционерное общество "Центральный научно-исследовательский технологический институт "Техномаш" filed Critical Акционерное общество "Центральный научно-исследовательский технологический институт "Техномаш"
Priority to RU2018110328U priority Critical patent/RU183906U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU183906U1 publication Critical patent/RU183906U1/ru

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к области получения полимерных микроэлементов методом контактного копирования и может быть использована для повышения качества изготовления планарных микроструктур, в том числе, и многослойных планарных систем, с рельефной поверхностью из фотоотверждаемых полимеров. Установка для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции включает основание, на котором расположена подложка с нанесенным фотополимеризуемым составом фотоотверждаемой полимерной композиции, верхнюю плиту пресс-прижима, установленную в закрепленной на основании направляющей втулке и снабженную приводом вертикального перемещения параллельно основанию, на которой закреплена матрица-штамп с формообразующей поверхностью в виде «зеркальной» копии формируемого рельефа микроструктуры, и УФ-источник света, расположенный над верхней плитой пресс-прижима, причем плита пресс-прижима и матрица-штамп выполнены из оптически прозрачного материала. При этом привод вертикального перемещения плиты пресс-прижима выполнен в виде трех равномерно расположенных на основании компактных моторизованных приводов с шаговым двигателем, на выдвижных штоках которых установлена плита пресс-прижима. Технический результат заключается в создании конструктивно простого устройства для точного механического формирования микроструктуры. 5 з.п. ф-лы, 1 ил.

Description

Полезная модель относится к области получения полимерных микроэлементов методом контактного копирования (наноимпринтинга) и может быть использована для повышения качества изготовления планарных микроструктур, в том числе, и многослойных планарных систем, с рельефной поверхностью из фотоотверждаемых полимеров.
Из уровня техники известно формирования планарных микроструктур методом контактного копирования (наноимпринта) из фотоотверждаемой полимерной композиции, которую наносят на подложку и прижимают штампом с последующей фотополимеризацией полимера под действием света - облучения ультрафиолетовым УФ - излучением (Otto М., Bender М. Reproducibility and homogeneity in step and repeat UV-nanoimprint lithography // Microelectronic Engineering. 2004. N 73-74. P. 152-156; Фокина М.И., Денисюк И.Ю., Бурункова Ю.Э. Полимеры в интегральной оптике - физика, технология и применение. Учебное пособие. С-Петербург, СПб ГИТМО (ТУ), 2007, с 80-89; Арефьева Н.Н., Денисюк И.Ю. Применение наноимпринт-литографии для получения нано- и микроэлементов фотоники // Известия высших учебных заведений. Приборостроение. №3(53), 2010). Основной недостаток известного решения заключается в том, что технологические операции, необходимые для формирования отвержденной микроструктуры с требуемой конфигурацией производят вручную, что не обеспечивает высокой точности изготовления планарных микроэлементов.
Технический результат, на получение которого направлена полезная модель, заключается в создании конструктивно простого устройства для точного механического формирования планарной микроструктуры с заданной рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции.
Решение поставленной задачи обеспечивается тем, что устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции путем контактного копирования рельефа матрицы в процессе фотополимеризации, согласно полезной модели, включает основание, на котором расположена подложка с нанесенным фотополимеризуемым составом фотоотверждаемой полимерной композиции, верхнюю плиту пресс-прижима, установленную в закрепленной на основании направляющей втулке и снабженную приводом вертикального перемещения параллельно основанию, на которой закреплена матрица-штамп с формообразующей поверхностью в виде „зеркальной" копии формируемого рельефа микроструктуры, и источник света, расположенный над верхней плитой пресс-прижима, при этом верхняя плита пресс-прижима и матрица-штамп выполнены из оптически прозрачного материала.
Предпочтительно, привод вертикального перемещения плиты пресс-прижима выполнен в виде трех равномерно расположенных на основании компактных моторизованных приводов с шаговым двигателем, на выдвижных штоках которых установлена плита пресс-прижима.
Кроме того, устройство может быть снабжено дополнительным механическим прессом, давящий шток которого воздействует - передает осевое усилие на плиту пресс-прижима.
Плита пресс-прижима, предпочтительно, выполнена с цилиндрической боковой поверхностью и в плане имеет овалообразную форму, а направляющая втулка выполнена в виде закрепленного на основании цилиндрического стакана, внутренняя боковая поверхность которого выполнена сопряженной с боковой поверхностью плиты пресс-прижима.
Кроме того, основание снабжено вакуумным прижимом для закрепления-фиксирования подложки.
Предпочтительно, рабочая поверхность матрицы-штампа выполнена с антиадгезионным покрытием по отношению к материалу фотоотверждаемой полимерной композиции.
Предпочтительно, что источник света выполнен в виде источника ультрафиолетового излучения.
Заявленная конструкция устройства, включающая плиту пресс-прижима, установленную в направляющей втулке параллельно основанию и снабженную приводом вертикального перемещения, на которой закреплена матрица-штамп с формообразующей поверхностью в виде „зеркальной" копии формируемого рельефа микроструктуры, обеспечивает возможность точного многократного, в том числе, и многослойного, формирования (копирования) планарной нано-микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции за счет автоматизированного прецизионного позиционирование плиты пресс-прижима с матрицей-штампом в вертикальном направлении относительно основания и, соответственно, параллельно подложки посредством привода, который, предпочтительно, выполнен в виде трех равномерно расположенных компактных моторизованных микроприводов с шаговым двигателем, подключенных к автоматизированной системе управления. Наличие дополнительного пресса, например винтового, давящий шток которого воздействует - передает осевое усилие на верхнюю плиту пресс-прижима, обеспечивает дополнительное к весу плиты пресс-прижима усилие продавливания фотополимеризуемой полимерной композиции и надежное заполнение объема, определяемого рельефом поверхности матрицы-штампа, что повышает точность воспроизведения - формирования заданной планарной микроструктуры.
При этом заявленное устройство расширяет арсенал технических средств, предназначенных для автоматизированного формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции.
На чертеже схематично представлен общий вид заявленного устройства для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью.
Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции путем контактного копирования рельефа матрицы в процессе фотополимеризации включает горизонтальное основание 1, на котором посредством вакуумного прижима 2 закрепляют-фиксируют подложку 3 (например, из плавленого кварца или стекла К8), верхнюю оптически прозрачную плиту 4 пресс-прижима (например, из стекла К8), которая установлена с возможностью вертикального перемещения в закрепленной на основании 1 направляющей втулке 5 и свободно оперта (или шарнирно закреплена) на выдвижные штоки 6 (при этом концы штоков 6 вставлены в лунки, выполненные в плите 4 пресс-прижима) трех компактных моторизованных приводов 7 с шаговым двигателем (например, моторизованных приводов 8СМА28-10 фирмы Standa), образующих единый привод вертикального перемещения, которые равномерно закреплены на основании 1. На верхней плите 4 пресс-прижима закрепляют гибкую оптически прозрачную силоксановую матрицу-штамп 8 с формообразующей поверхностью в виде „зеркальной" копии оригинала с формируемым рельефом микроструктуры, выполненную, например, из «Силастика Т-4», представляющего собой вязкую текучую прозрачную композицию на основе силиконового каучука, способную переходить в резиноподобное состояние после смешивания с отвердителем при комнатной температуре. Над верхней плитой 4 пресс-прижима, расположен источник света 9, предпочтительно, в виде источника ультрафиолетового УФ -излучения.
При этом верхняя плита 4 пресс-прижима, предпочтительно, выполнена с цилиндрической боковой поверхностью и в плане имеет овалообразную форму, а направляющая втулка 5 выполнена в виде закрепленного на основании 1 цилиндрического стакана, внутренняя боковая поверхность которого выполнена сопряженной с овалообразной боковой поверхностью плиты 4 пресс-прижима.
Предпочтительно, рабочая поверхность гибкой матрицы-штампа 8 может быть выполнена с антиадгезионным покрытием по отношению к материалу фотоотверждаемой полимерной композиции (на чертеже не показано).
Кроме того, на основании 1 может быть установлен дополнительный, например, механический пресс 10, давящий шток которого воздействует - передает осевое усилие на плиту пресс-прижима.
Автоматизированное плоскопараллельное позиционирование
формообразующей поверхности матрицы-штампа 8 при перемещении в вертикальном направлении относительно горизонтального основания 1 и подложки 3 обеспечивает программный блок управления, например, на основе компьютера, (на чертеже не показано), к которому подключены контроллеры шаговых двигателей моторизованных приводов 7.
Заявленное устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью работает следующим образом.
Рабочую поверхность подложки 3 покрывают адгезионным слоем на основе 0,1% (вес.) водно-изопропанольного (50/50) раствора метакрилоилоксипропилтриэтоксисилана толщиной не более 250 нм, помещают подложку 3 на вакуумный прижим 2 горизонтального основания 1, включают вакуумный насос 11 и надежно фиксируют подложку 3 на горизонтальном основании 1. Формообразующую поверхность оптически прозрачной силоксановой матрицы-штампа 8 обрабатывают антиадгезионным составом на основе паров смеси диметилдихлорсилана и триметилхлорсилана с последующей гидролизацией в парах воды. На подложку 3 помещают 25÷33 мкл предварительно приготовленной фотоотверждаемой полимерной композиции на основе полимеризующегося компонента олигокарбонатметакрилата Д-1 (97% вес.) и фотоинициатора 2,2-диметокси-2-ацетофенона (3% вес.).
С помощью программного блока управления, к которому подключены контроллеры шаговых двигателей моторизованных приводов 7, производят автоматизированное плоскопараллельное перемещении - опускание плиты 4 пресс-прижима с матрицей-штампом 8, установленной на выдвижных штоках 6 трех компактных моторизованных приводов 7, в вертикальном направлении относительно горизонтального основания 1 до заданного расстояния между подложкой 3 и формообразующей поверхностью матрицы-штампа 8, равного, например, 50 мкм. При этом жидкая фотополимерная композиция прижимается матрицей-штампом 8, полимер растекается, заполняя объем, определяемый рельефом формообразующей поверхности матрицы-штампа 8. Для лучшего затекания полимера в мелкие элементы структуры формообразующей поверхности плиту 4 пресс-прижима с матрицей-штампом 8 можно дополнительно прижать с помощью механического пресса 10.
Включают источник света 9 и воздействуют ультрафиолетовым УФ-излучением на фотоотверждаемую полимерную композицию через оптически прозрачные верхнюю плиту 4 пресс-прижима и матрицу-штамп 8, предпочтительно, в течение 30 минут, инициируя процесс фотополимеризации до полного распада фотоинициатора. При этом рельеф формообразующей поверхности матрицы-штампа 8 переносится на подложку 3. После выключения источника света 9 с помощью программного блока управления, воздействуя на шаговые двигатели моторизованных приводов 7, производят подъем плиты 4 пресс-прижима с матрицей-штампом 8, при этом формообразующая поверхность матрицы-штампа 8 с антиадгезионным покрытием легко отделяется от подложки 3 с нанесенным рельефным полимерным слоем. Выключают вакуумный насос 11 вакуумного прижима 2 и снимают подложку 3 с приготовленной планарной микроструктурой с основания 1.

Claims (6)

1. Установка для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции путем контактного копирования рельефа матрицы, включающая основание, на котором расположена подложка с нанесенным фотополимеризуемым составом фотоотверждаемой полимерной композиции, верхнюю плиту пресс-прижима, установленную в закрепленной на основании направляющей втулке и снабженную приводом вертикального перемещения параллельно основанию, на которой закреплена матрица-штамп с формообразующей поверхностью в виде "зеркальной" копии формируемого рельефа микроструктуры, и источник света, расположенный над верхней плитой пресс-прижима, при этом плита пресс-прижима и матрица-штамп выполнены из оптически прозрачного материала, отличающаяся тем, что привод вертикального перемещения плиты пресс-прижима выполнен в виде трех равномерно расположенных на основании компактных моторизованных приводов с шаговым двигателем, на выдвижных штоках которых установлена плита пресс-прижима.
2. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что на основании закреплен дополнительный механический пресс-прижим, давящий шток которого воздействует - передает осевое усилие на плиту пресс-прижима.
3. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что плита пресс-прижима выполнена с цилиндрической боковой поверхностью и в плане имеет овалообразную форму, а направляющая втулка выполнена в виде закрепленного на основании цилиндрического стакана, внутренняя боковая поверхность которого выполнена сопряженной с боковой поверхностью плиты пресс-прижима.
4. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что основание снабжено вакуумным прижимом для закрепления-фиксирования подложки.
5. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что рабочая поверхность матрицы-штампа выполнена с антиадгезионным покрытием по отношению к материалу фотоотверждаемой полимерной композиции.
6. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что источник света выполнен в виде источника ультрафиолетового излучения.
RU2018110328U 2018-03-23 2018-03-23 Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования RU183906U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018110328U RU183906U1 (ru) 2018-03-23 2018-03-23 Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018110328U RU183906U1 (ru) 2018-03-23 2018-03-23 Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU183906U1 true RU183906U1 (ru) 2018-10-08

Family

ID=63794072

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018110328U RU183906U1 (ru) 2018-03-23 2018-03-23 Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU183906U1 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5597613A (en) * 1994-12-30 1997-01-28 Honeywell Inc. Scale-up process for replicating large area diffractive optical elements
RU2119430C1 (ru) * 1995-12-26 1998-09-27 Ижевский государственный технический университет Стереолитографическая установка
US6190838B1 (en) * 1998-04-06 2001-02-20 Imation Corp. Process for making multiple data storage disk stampers from one master
US20060279025A1 (en) * 2005-06-10 2006-12-14 Babak Heidari Pattern replication with intermediate stamp

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5597613A (en) * 1994-12-30 1997-01-28 Honeywell Inc. Scale-up process for replicating large area diffractive optical elements
RU2119430C1 (ru) * 1995-12-26 1998-09-27 Ижевский государственный технический университет Стереолитографическая установка
US6190838B1 (en) * 1998-04-06 2001-02-20 Imation Corp. Process for making multiple data storage disk stampers from one master
US20060279025A1 (en) * 2005-06-10 2006-12-14 Babak Heidari Pattern replication with intermediate stamp

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7972553B2 (en) Method for imprint lithography at constant temperature
US7704425B2 (en) Pattern replication with intermediate stamp
Dendukuri et al. Modeling of oxygen-inhibited free radical photopolymerization in a PDMS microfluidic device
KR101358255B1 (ko) 광경화 타입 소수성 몰드 및 그 제조방법
US8147235B2 (en) Device and method for large area lithography
JP4879511B2 (ja) リソグラフィのための装置および方法
JP2008542081A5 (ru)
CN108761600A (zh) 一种预应力辅助纳米压印制作高密度衍射光栅的方法
JP2005534063A (ja) 3d光重合デバイスの製造
RU183906U1 (ru) Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из фотоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования
CN100594137C (zh) 图案形成方法和图案形成装置
JP2023107840A (ja) スタンプの製造方法
JP7333676B2 (ja) マイクロナノ構造の製造方法
RU187667U1 (ru) Устройство для формирования планарной микроструктуры с рельефной поверхностью из термоотверждаемой полимерной композиции методом контактного копирования
JP7419516B2 (ja) マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工する装置および方法
CN109656097B (zh) 纳米压印装置及纳米压印方法
KR20230131108A (ko) 고점성 물질을 이용한 미세패턴 제조방법 및 이를 위한 미세패턴 제조장치
Chen et al. Design of a Vacuum-Assisted Soft UV-Imprint System for Micro-Nano Structures Patterning on Nonplanar Surfaces
KR100699270B1 (ko) 패턴형성장치
CN102053489B (zh) 基于硫醇-烯的连续浮雕微光学元件高精度紫外压印方法