RU1825349C

RU1825349C - Устройство дл анаэробной обработки сточных вод

Info

Publication number: RU1825349C
Application number: SU864028114A
Authority: RU
Inventors: Небль Астрид
Original assignee: Эрнст Небль
Priority date: 1984-02-14
Filing date: 1986-08-13
Publication date: 1993-06-30
Also published as: HUT40975A; ES540408A0; HU198160B; ATE33619T1; WO1985003695A1; EP0153299B1; DE3562218D1; JPS61501195A; EP0153299A1; ES8601812A1; JPH0569600B2; US4746433A

Abstract

Использование: очистка сточных вод, содержащих органические загр знени в твердом или растворенном виде. Сущность изобретени : Устройство представл ет собой реактор, содержащий буферную зону

Description

стенками реактора и трубой установлена решетка (16), и на ней размещен слой насадки (17) со слоем шлама (18), образующие реакционное пространство (19). Устройство имеет сплошное непроницаемое промежуточное перекрытие (8), сифон (10) с распределительным цилиндром (11), образующие распределительную камеру (50) и камеры вторичной очистки (49), соединенные соединительными лини ми (21). Отвод очищенных вод выполнен в виде переливного желоба (35), а также периодически самоочищающегос фильтра (65). 13 з.п. ф-лы, 5 ил.

Изобретение относитс к технике анаэробной обработки сточных вод с органическими загр знени ми в твердой или растворенной форме.

Цель изобретени - повышение эффективности и экономичности обработки сточных вод.

Указанна цель достигаетс тем, что обрабатываемые стоки после частичного окис- лени смешиваютс с биомассой и пропускаютс через слой насадки, при этом при необходимости часть образующихс газов отводитс дл уменьшени турбулентности . После прохождени насадочного материала стоки направл ютс в распределительную камеру дл разделени шлама. Всплывающие части шлама собираютс и осаждающиес части шлама вытесн ютс и при необходимости подвергаютс последующему осветлению дл отделени биомассы от воды.

Согласно изобретению, путем перемешивани поступающих сточных вод с биомассой достигаетс повышение активности поступающего субстрата. Пропускание сквозь слой осадочного шлама на насадке содействует уменьшению органической нагрузки субстрата, а отделение шлама от субстрата и повторный подвод шлама в начало процесса позвол ет повторно исполь -овать субстрат с обогащенной биомассой с целью повышени активности поступающего субстрата . Таким образом, ведение процесса согласно изобретению позвол ет существенно улучшить анаэробную обработку органических субстратов. Предусмотрено также, что остаточна часть воды, содержаща небольшие количества шлама, используетс дл давлени на шлам дл перемешивани со вновь введенным субстратом , при этом шлам вытесн етс в зону смешивани ; при необходимости после вытеснени шлама вода, содержаща небольшие количества шлама, частично снова подвергаетс вторичной очистке. Такое ведение процесса позвол ет применить остаточную воду подобно поршню дл нагрузки давлением на шлам, подлежащий смешиванию со вновь подведенным субстратом, при этом не требуетс дополнительного подвода энергии дл движени шлама в зону смешивани и позвол ет экономить энергию. Газ, образующийс в ходе сквозного пропускани через насадку и шлам, частично вводитс в сточную воду, наход щуюс в распределительной камере дл разрушени плавучей корки, и дл этого не требуетс подвода энергии извне. Целесообразным вл етс смешивание биомассы и сточных

вод при пропускании сквозь покрытые биомассой частицы насадки, при этом удаетс избежать повреждени биомассы, растущей на насадке, и активность ее сохран етс . При пропускании сточных вод через слой

насадки и слой шлама частицы насадки и шлама перемешиваютс , что позвол ет избежать спекани сло и по влени мертвых пространств.

На фиг. 1 изображено устройство в продольном разрезе; на фиг. 2 - то же, вид сверху при сн той крышке реактора, разрез по А-А на фиг. 1; на фиг. 3 - разрез по Б-Б на фиг. 1; на фиг. 4 - вариант устройства с переливными желобами в продольном разрезе: на фиг. 5 - устройство с переливными желобами, вид сверху со сн той крышкой.

Устройство содержит цилиндрический корпус 1, плоское днище 2 и плоскую крышку 3. В днище 2 выполнен отстойник и имеетс распределительный конус 5, к которому прикреплены распределительные лопасти 6 направл ющей трубы 7. Под крышкой 3 установлено непроницаемое промежуточное перекрытие 8, переход щее в газовый купол

9. Верхнее отверстие направл ющей трубы 7 закрыто колпаком сифона 10, над которым установлен распределительный цилиндр 11. Исходные сточные воды подаютс по трубопроводу 12, имеющему отводной трубопровод 13. Внутри направл ющей трубы 7 имеетс буферна зона 14, откуда обрабатываемый субстрат попадает в распределительное пространство 15 под решетку 16, на которой расположен слой насадки 17 и слой

шлама 18, образующие в работе реакционное пространство 19. Над реакционным пространством расположены газовые ловушки 20 в виде кольца, откуда по соединительной линии 21 субстрат через отверстие

22 попадает в верхние распределительные

камеры над сифЬном 10. Газова обводна лини 23 с расширением трубы 24 выведена в трубу 25, открытую с обеих концов. Между сифоном 10 и нижними кромками цилиндра

11имеютс щели 26, а- из верхней части сифона выведена газова соединительна лини 27 с трехходовым вентилем 28 с газо- дувкой 29 повышени давлени газа. Трубопровод 30 отвода газа со стороны всасывани воздуходувки соединен с трубопроводом 31 отвода газа из устройства и имеет запорный вентиль 32 со стороны газового купола. Регулируемый по высоте сток 33 с запорным клапаном 34 предусмотрен к переливному желобу 35 и соединен с трубопроводом, имеющим крышку 36 и выполненным в виде сифона 37 с вентил ционным штуцером 38, присоединенным к линии 39 стока очищенной воды. Донный спуск 40 с запорным вентилем предусмотрен дл удалени выпавших твердых осадков . Уровни жидкости 41-45 устанавливаютс в различных фазах процесса . Под сифоном расположено газовое пространство 46, под промежуточным перекрытием - газовое пространство 47, под крышкой реактора - газовое пространство 48, камера 49 повторной очистки и распределительна камера 50. Газова обводна лини 51 соедин ет реакторное пространство у нижних кромок сифона 10 с реакторным пространством перед промежуточным перекрытием . Переливной желоб 35 установлен на высоте, соответствующей уровню жидкости 52 у внешней стенки желоба. Б устройстве дл отвода воды в нижней части предусмотрены отверсти 53 обратной промывки с клапаном 54, а также питающее пространство55 и накопительное пространство 56. Максимальный уровень жидкости в пространстве под крышкой реактора ограничен уровнем 57 расположени верхней кромки внутренней стенки переливного желоба , под которым выполнены сопла 58 фильтрующее устройство 59. В переливном желобе выполнена воронка 60, а в боковой стенке отверсти 61. Дополнительный переливной желоб 62 соединен подвод щей линией 63 с расположенным на держателе 64 фильтром 65, имеющим также держатель 66. Желоб 62 ограничен боковой стенкой 67. Обводна лини 51 имеет на входе расширение трубы 68.

Устройство работает следующим образом .

Исходные сточные воды после достижени рабочей температуры по трубопроводу

12поступают в буферную зону 14 направл ющей трубы 7. Субстрат, наход щийс а этой буферной зоне 14, вытесн етс вниз к

днищу 2 и попадает в распределительное пространство 15 под реакционным пространством 19. Распределительное пространство 15 и реакционное пространство 5 19 отделены друг от друга решеткой 16. Могут быть предусмотрены также несколько промежуточных решеток, которые могут находитьс одна под другой на разных рассто ни х . Могут быть предусмотрены также

0 промежуточные решетки, выполненные в виде боковых поверхностей конуса В этом случае сегментообразные участки боковой поверхности конуса могут и не иметь прорезей . При процессе смешивани наход щий5 с в буферной зоне 14 вновь поступивший субстрат попадает в распределительное пространство 15 и вытесн етс из него через решетку 16 в наход щеес над ним реакционное пространство 19. Если имеетс

0 несколько промежуточных решеток, то субстрат постепенно проходит через наход щиес между этими решетками реакционные пространства 19. На промежуточных решетках 16 лежит насадка 17, кото5 ра заполн ет реакционное пространство 19 только частично. В реакционное пространство 19 выход т соединительные линии 21, по которым субстрат попадает в распределительные камеры 50. Распреде0 лительна камера 50 образует часть камеры 49 повторной очистки, котора отделена от реакционного пространства 19 сплошным промежуточным перекрытием 8, проход щим от стенки корпуса 1 к стенкам внутрен5 него цилиндра 7. Распределительна камера 50 через пропускные щели 26 со стороны дна соединена с камерой 49 повторной очистки и субстрат, подведенный в распределительную камеру 50. может пере0 текать в камеру 49 повторной очистки, где происходит осаждение. Субстрат, освобожденный от оседающих веществ, собираетс в переливном желобе 35, установленном в камере 49 повторной очистки, и по линии

5 стока 39, отход щей от переливного желоба 35, покидает реактор. Обогащенна осадочными веществами часть воды, еще имеюща с в камере 49 повторной очистки, возвращаетс обратно в буферную зону 14

0 и попадает еще раз в процесс обработки.

В днище 2 сделан отстойник 4 дл насоса , в котором собираютс грубые осадки и вместе с излишним шламом через донный спуск 40 удал ютс из реактора.

5В нижней части внутреннего цилиндра

7 прикреплены распределительные лопасти 6 дл перемешивани субстрата, накопленного в буферной зоне 14 и равномерного распределени в пространстве 15. Распределительный конус 5 на днище 2 служит дл

поворота вертикального потока из цилиндре 7 в горизонтальном направлении. Лопасти 6 и распределительный конус 5 с днищем 2 создают эффект сопла, который, с одной стороны, обеспечивает приведение твердых частиц основного шлама в состо ние турбулентного движени и, с другой стороны , во вращательное движение в распределительном пространстве. Число, форма, характеристика и свойства содержащихс твердых веществ в субстрате следует учитывать при определении формы и расположении распределительных крыльев 6.

Сверху внутренний цилиндр 7 закрыт колпаком в виде сифона 10, который своей боковой поверхностью выходит в пространство между промежуточным перекрытием 8 и боковой поверхностью цилиндра 7, От колпака сифона 10 соединительна газова лини 27 перепускает газ в газовое пространство газового купола 9. В газовую соединительную линию 27 встроен трехходовой клапан 28 дл управлени газом, подаваемым газодувкой 29, повышающей давление из газового пространства 48 камеры 49 повторной очистки.

Трубопровод 31 отвода газа выполнен с ответвлением в виде трубопровода 30 и подает газ к потребителю или в газгольдер.

Газова обводна лини 51 перепускает газ из газового пространства 46 под колпаком сифона 10 в газовое пространство 47 реакционного пространства 19. Из пространства 47 газова обводна лини 23 перепускает газ в распределительную камеру 50 и вертикальную трубу 25, где по вл етс эрлифтный эффект.

В камере повторной очистки установлен варьируемый по вертикали сток 33, который может быть использован в дополнение к переливному желобу 35. Сток 33 соединен с сифоном 37, имеющим запорный клапан 34, перед линией 39 стока.

Трубопровод 12 снабжен отводным трубопроводом 13 с вентил цией дл того, чтобы избежать отсоса из реактора в случае, когда в подвод щем трубопроводе устанавливаетс пониженное давление.

В линии 21, соедин ющей реакционное пространство 19 и распределительную камеру 50, встроено управл емое от поплавка отверстие 22, которое при повышающемс уровне жидкости в распределительной камере 50 закрываетс .

Над слоем насадки 17 образуетс слой шлама 18, который может заполнить все реакционное пространство 19, исключа газовый купол 9.

В реакционном пространстве 19 установлены газовые ловушки 20 дл предотвращени проникновени газа, образующегос в реакционном пространстве 19, в соединительную линию 21 между реакционным про- странством 19 и распределительной

камерой 50. Газовые ловушки 20 могут быть также выполнены в виде кольца 20, которое от вертикальной части промежуточного перекрыти 8 наклонно вниз направлено к внешней стенке корпуса 1. Край кольца 20

0 оканчиваетс на рассто нии от стенки корпуса 1. Дополнительно может быть предусмотрено другое кольцо, расположенное под первым кольцом 20, при этом между свободными кра ми этих колец 20 предусмотрен

5 свободный проход дл субстрата.

Если процесс перемешивани закончен , то уровень 42 жидкости в камере 49 повторной очистки реакционного пространства 19 и распределительной камеры 50 ус0 тановилс , т.е. в газовом куполе 9 газового пространства 48, а в камере 49 повторной очистки реакционного пространства 19 и в обводной газовой линии 31 - одинаковое газовое давление. Газовое пространство 46

5 заполнено субстратом. Обусловленный положением уровн 49 жидкости сток по линии стока 39 не происходит. Временно в случае необходимости прекращаетс также подвод исходной воды. Запорный газовый клапан

0 32 в трубопроводе 30 закрываетс , газодув- ка 29 приводитс в действие и трехходовой вентиль 28 устанавливаетс в положение, в котором открываетс путь к газовому куполу 9 и к колпаку сифона 10. Газ, подаваемый

5 через газовый купол 9 в реакционное пространство 19, вытесн ет часть наход щегос там субстрата через решетку 16 в распределительное пространство 15, буферную зону 14 и в камеру 49 повторной

0 очистки. Де тельность газодувки 29 поддерживаетс за счет образовани газа в реакционном пространстве 19, поскольку газ, по вл ющийс в реакционном пространстве 19, также собираетс у непроницаемого

5 перекрыти 8. Уровень 42 жидкости поднимаетс в камере 49 повторной очистки и опускаетс в реакционном пространстве 19 до уровн 41 жидкости, при этом образуетс газовое пространство под колпаком сильфо0 на 10. Дл увеличени этого газового пространства после определенного заданного времени трехходовой вентиль 28 устанавливаетс во второе положение, и теперь через соединительную линию 27 весь газовый по5 ток идет под колпак сифона 10. Этот подвод газа сохран етс так долго, пока уровень жидкости не опуститс ниже верхнего кра внутреннего цилиндра 7. Этим прекращаетс коммуникаци между буферной зоной 14 и камерой 49 повторной очистки, и субстрат

может быть вытеснен только через соединительную линию 21 из реакционного пространства 19 в распределительную камеру 50 и через щелевые проходы 26 в камеру 49 повторной очистки. В этом случае снова мо- жет быть подведена исходна вода. Газо- дувка 29 может быть отключена. Отверстие 22, управл емое поплавком, закрываетс после того, как повышающийс уровень 42 жидкости перейдет за уровень поплавка. Выход жидкости возможен только через верхнее отверстие соединительной линии 21. Это отверстие находитс выше, чем уровень перелива переливного желоба 35 дл того, чтобы под действием выход щего из отверсти субстрата, который подаетс на уровень 43 жидкости, освободить хлопь шлама от сцепленных с ними газовых пузырьков и осадить шлам. В колпаке сифона 10 могут устанавливатьс разные уровни 44 и 45 жидкости. Дл того чтобы воспреп тствовать падению уровн жидкости ниже ниж- него кра колпака сифона 10 и этим избежать перехода газа из колпака сифона 10 в соседнюю камеру 49, над нижним кра- ем колпака сифона 10 выполнено отверстие расширени 68 обводной газовой линии 51. Как только опускающийс уровень жидкости в реакционном пространстве 19 достигнет уровн 41, газ из газового пространства 47 реакционного пространства 19 течет через обводную газовую линию 23 в рэспреде- лительную камеру 50. Посредством про вл ющегос при этом подъемного эр- лифтного действи трубы 25 происходит пе- ремешиваниесубстратав

распределительной камере 50, что оказывает противодействие образованию плавучей корки. Трехходовой клапан может быть возвращен в первое положение и газовое про- странство 46 в колпаке сифона 10 снова соедин етс с газовым куполом 9.

Как только в камере 49 повторной очистки будет достигнут наивысший уровень 43 жидкости, поступающее в нее количество воды через переливной желоб 35 будет подведено к линии 39 стока и покинет реактор. Стекающее количество воды равно подводимому количеству исходных вод, увеличенному на количество, соответствующее производимому газу в реакционном пространстве 19. Как только в реакционном пространстве 19 будет достигнут уровень 41 жидкости, количества, вытесненные в отдельных функциональных пространствах, соответствуют подведенному количеству исходных вод и также отводимому количеству продуктрв обработки.

Следующий процесс - это примешивание вновь подведенного к наход щемус в

буферной зоне 14 субстрату в р спррдрпи- тельном пространстве 15. Дл этого открывают газовый запорный вентиль 32 в трубопроводе 30, В этом случае в соединенных газовых пространствах 48 камеры 49 повторной очистки с давлением газа, равным давлению в трубопроводе 31, вследствие его соединени с газгольдером или потребителем, и давлению в газовом пространстве 47 реакционного пространства 19, а также в газовом пространстве 46 под колпаком сифона 10 с наивысшим давлением газа, соответствующим максимальной разности уровней, происходит выравнивание давлений. Уровни жидкости 44 и 45, которые ранее установились под повышенным давлением, начинают подниматьс до тех пор, пока пространство под колпаком сифона 10 не будет заполнено субстратом, при этом снова восстанавливаетс соединение между камерой 49 повторной очистки, буферной зоной 14, распределительным пространством 15 и реакционным пространством 19. Объем жидкости между уровн ми жидкости 42 и 43, соответствующий объему газового пространства 47, через внутренний цилиндр 7 по распределительным крыль м 6 перемещаетс в распредели- тельное пространство 15 и следует в реакционное пространство 19. Газ из газового пространства 47 перемещаетс в камеру 49 повторной очистки по трубопроводу 30. При этом снова устанавливаетс уровень 42 жидкости и после закрыти газового запорного вентил 32 начинаетс снова описанный процесс.

В зависимости от свойств подводимого материала в буферной зоне 14 начинаетс гидролизаци или же быстро продолжаетс уже начавша с до этого гидролизаци , обусловленна температурой процесса. При субстратах с легко отдел емыми веществами , растворенными веществами может произойти значительное смещение рН в кислотную область. Поскольку наход щиес в буферной зоне 14 активные метановые бактерии вновь поступающим субстратом медленно вытесн ютс вниз, они не повреждаютс по вл ющейс кислой средой, так как она образуетс сверху. Следовательно , возможно также подавать в реактор сильно кислый материал без предварительной обработки, например без нейтрализации , при условии, что речь идет об органических кислотах. Граничаща с внутренним цилиндром 7 буферна зона 14 используетс также дл того, чтобы было возможно при процессе примешивани вытесненную из верхней части реакционного пространства 19 в камеру 49 повторной очистки часть через распределительные крыль 6 направить в распределительное пространство 15, При применении в качестве очистной установки буферна зона внутри цилиндра 7 должна иметь не только возможность соединени с распределительным пространством 15, но что важнее этого, чтобы в буферной зоне 14 накапливалась часть субстрата, соответствующа переменной разности уровней жидкости 42 и 43 в камере повторной очистки 49. Это количество хорошо отделенной от биомассы воды по окончании процесса примешивани вытесн етс в камеру 49 повторной очистки, что обеспечивает наименьший вынос биомассы из реактора через сток 39.

Сама верхн часть реакционного пространства 19 должна быть выбрана таких размеров, чтобы его уровень зеркала шлама находилс ниже соединительной линии 21 с распределительной камерой 50. С помощью расширени трубы 24 и 68 создаетс преп тствие тому, чтобы возникали большие колебани в уровн х жидкости 41, 43 или 44, 45.

Дл уменьшени выноса шлама используетс дополнительный переливной желоб у зеркала жидкости в реакционном пространстве под перекрытием 8.

Подлежаща фильтрованию смесь шлама и воды попадает после достижени уровн 43 в переливной желоб 62, из которого она по подвод щей линии 63 течет в питающее пространство 55. Отсюда смесь воды и шлама направл етс через горизонтально установленное поперечное сечение фильтра 65, покрывающего питающее пространство 55. По заполнении накопительного пространства 56, наход щегос над фильтром 65, теперь уже освобожденна от шлама вода может притекать по переливному желобу 35 через входную воронку 60 к линии 39 стока, Скопление шлама на нижней стороне фильтра увеличивает его сопротивление . Это воздействует на повышение уровн зеркала воды сверх уровн 43. Дл того, чтобы предотвратить разрушение фильтра 65 повышающимс давлением вследствие повышени уровн зеркала жидкости , к переливному желобу 35 непосредственно подключено аварийное переливное устройство - отверсти 61. После достижени верхнего кра аварийного переливного устройства (уровень 57) происходит перепуск жидкости в переливной желоб 35.

Дл очистки фильтра 65 используетс резкое снижение уровн зеркала жидкости с уровн 43, которое происходит при введении фазы перемешивани в реактор. При этом уровень зеркала жидкости в реакторе

снижаетс до минимального уровн в камере повторной очистки 49. Смесь воды и шлама , содержаща с в распределительном пространстве 55, вытекает через отверстие

53 обратной промывки из питающего пространства 55. Жидкость, наход ща с над фильтром 65 в накопительном пространстве 56, течет также к отверстию 53 обратной промывки и при этом отрывает и захватыва0 ет с собой вследствие высокой скорости потока частицы шлама, прилипшие к нижней стороне фильтра. Фильтр 65 может быть очищен жидкостью, котора направл етс через сопла 58, наход щиес над фильтром

5 65, на верхнюю сторону фильтра 65. Фильтр 65 укладываетс на держател х 64 и другими держател ми 66 удерживаетс от всплыти . Отверсти 53 обратной промывки имеют защиту от обратного удара - клапан

0 54. что позвол ет медленно наполн ть фильтрующее устройство.

Изобретение позвол ет существенно улучшить анаэробную обработку сточных вод с органическими загр знени ми как в

5 твердой, так и в растворенной форме, повысить производительность очистного сооружени и уменьшить энергетические затраты.

Claims

Формула изобретени

0 1. Устройство дл анаэробной обработки сточных вод, содержащее цилиндрический корпус реактора с крышкой и днищем, установленную по оси корпуса направл ющую трубу, решетку со слоем насадки, раз5 мещенную между стенками корпуса и направл ющей трубой, трубопровод подачи исходной воды в верхнюю часть направл ющей трубы, переливные желоба дл вывода осветленной воды с трубопроводом ее отвода

0 и линию отвода газа, отличающеес тем, что, с целью повышени эффективности и экономичности очистки, оно снабжено сифоном , расположенным над направл ющей трубой на рассто нии от ее стенок и выпол5 ненным в виде колпака, нижние торцовые кромки которого ниже верхних торцовых кромок направл ющей трубы, устройство снабжено непроницаемым промежуточным перекрытием с газовыми ловушками, уста0 новленным между стенками корпуса и направл ющей трубой, верхние кромки которой расположены между перекрытием и крышкой корпуса реактора, а нижние кромки - над днищем корпуса, а также рас5 пределительным цилиндром, установленным по оси корпуса над сифоном и имеющим соединительные трубопроводы, верхний конец которых выходит в распределительный цилиндр над уровнем сливного желоба, а нижний конец сообщен с реактором под промежуточным перекрытием с газовой ловушкой.
2.Устройство по п. 1, отличающее- с тем, что оно снабжено установленными на днище корпуса вокруг направл ющей трубы распределительными лопаст ми и распределительным конусом между ними.
3.Устройство по пп. 1 и 2, отличающеес тем, что оно снабжено газовой линией с расширением, расположенным под сифоном над его нижними кромками и проход щими через промежуточное перекрытие .
4.Устройство по пп. 1 -3. отличающеес тем, что в промежуточном перекрытии выполнен расположенный купол с газовой обводной линией, сообщенной с сифоном в верхней его части и снабженной трехходовым вентилем, соединенными с ним газодувкой дл повышени давлени и трубопроводом отвода газа со стороны всасывани .
5.Устройство по п. 4, отличающее- с тем. что оно снабжено соединительным трубопроводом с запорным вентилем,сообщающим реакторное пространство под крышкой и через газовый купол реакторное пространство под промежуточным перекрытием с трубопроводом отвода газа.
6.Устройство по пп. 1-5, отличающеес тем, что оно снабжено установленной над сифоном внутри распределительного цилиндра газовой обводной линией с трубным расши- рением на конце, размещенным под промежуточным перекрытием ниже верхней кромки направл ющей трубы.
7.Устройство по п. 6, отличающее- с тем, что оно снабжено размещенной внутри распределительного цилиндра трубой , открытой с обеих сторон, в которой размещен верхний конец газовой обводной линии.
8.Устройство по пп. 1-7, отличаю- щ е е с тем, что оно снабжено соединительной линией, сообщающей реакторное пространство под промежуточным перекрытием и его крышкой с регулируемым отверстием между ними на уровне

ниже переливного желоба.
9.Устройство по пп. 1-8, отличающеес тем, что оно снабжено присоединенным к переливному желобу регулируемым по высоте стоком с запорным

клапаном.
10.Устройство по пп. 1-9. отличающеес тем, что трубопровод отвода осветленной воды снабжен вентил ционным штуцером .
11. Устройство по пп. 1-10, отличающеес тем, что оно снабжено размещенным перед трубопроводом отвода воды фильтром.
12. Устройство по п. 11, отличающее с тем, что фильтр выполнен в виде размещенной над промежуточным перекрытием накопительной емкости, боковые стенки которой расположены выше переливного желоба .
13. Устройство по п. 12, отличающеес тем, что боковые стенки фильтра расположены под крышкой реактора и выполнены с отверсти ми.
14. Устройство по п. 13, о т л и ч а ю щ ее с тем, что в накопительной емкости фильтра выполнено отверстие дл промывки с защитой от обратного удара и переливные каналы.

65