PL207238B1 - Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego - Google Patents

Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego

Info

Publication number
PL207238B1
PL207238B1 PL362826A PL36282603A PL207238B1 PL 207238 B1 PL207238 B1 PL 207238B1 PL 362826 A PL362826 A PL 362826A PL 36282603 A PL36282603 A PL 36282603A PL 207238 B1 PL207238 B1 PL 207238B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
scintillator
photomultiplier
focusing electrode
scanning electron
electron microscope
Prior art date
Application number
PL362826A
Other languages
English (en)
Other versions
PL362826A1 (pl
Inventor
Witold Słówko
Original Assignee
Politechnika Wroclawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Wroclawska filed Critical Politechnika Wroclawska
Priority to PL362826A priority Critical patent/PL207238B1/pl
Priority to EP04775184A priority patent/EP1673797B1/en
Priority to DE602004024559T priority patent/DE602004024559D1/de
Priority to PCT/PL2004/000078 priority patent/WO2005036583A2/en
Publication of PL362826A1 publication Critical patent/PL362826A1/pl
Priority to US11/403,823 priority patent/US7470915B2/en
Publication of PL207238B1 publication Critical patent/PL207238B1/pl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2443Scintillation detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/24475Scattered electron detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2448Secondary particle detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/2602Details
    • H01J2237/2605Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
    • H01J2237/2608Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere with environmental specimen chamber

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego, przeznaczony zwłaszcza do pracy w zakresie ciśnień w komorze przedmiotowej rzędu 100 Pa.
Z opisu patentowego nr PL 189 008 pt. Wysokociśnieniowy skaningowy mikroskop elektronowy, oraz ze zgłoszenia patentowego nr P359748, pt. „Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego znany jest układ detekcyjny elektronów wtórnych, złożony z płytki mikroporowatej, korzystnie typu mikrosferoidalnego oraz detektora elektronów wtórnych typu scyntylacyjnego. W obu rozwiązaniach, strumień elektronów wtórnych jest wprowadzany do otworu w dolnej ściance komory poś redniej, spolaryzowanej odpowiednim napięciem elektrycznym. Otwór ten stanowi jednocześnie dolną aperturę dławiącą przepływ gazu z komory przedmiotowej do komory pośredniej. Elektrony wtórne, które wpadły do wnętrza komory pośredniej kierowane są na powierzchnię wejściową płytki mikroporowatej umieszczonej na osi kolumny elektronooptycznej i przechodząc przez płytkę mikroporowatą ulegają powieleniu. Po stronie wyjściowej płytki mikroporowatej, wzmocniony strumień elektronów wtórnych zostaje przyciągnięty przez scyntylator spolaryzowany wysokim napięciem i podlega końcowej detekcji, to jest przetworzeniu na sygnał świetlny, przesyłany światłowodem do fotopowielacza celem powtórnego przetworzenia na sygnał elektryczny.
Detektor tego typu nie może dokonać skutecznej detekcji elektronów wstecznie rozproszonych, bowiem dysponują one zbyt dużymi energiami początkowymi by mogły zostać zogniskowane w otworze dolnej ścianki komory pośredniej i wniknąć do jej wnętrza. Wobec tego, sygnał wyjściowy tego detektora nie zawiera pełnych informacji o obiekcie, bowiem elektrony wstecznie rozproszone niosą informację o kompozycji materiałowej, podczas gdy elektrony wtórne zawierają informacje głównie o jego topografii.
Detektor elektronów wtórnych znany z japońskiego opisu patentowego JP8212962, przeznaczony jest do rozdziału strumienia elektronów według ich energii stosowane są elektrody w formie siatki, przy czym detektor ma dwa zespoły siatek odbierające dwie grupy energetyczne elektronów, środkowy z siatką w kształcie klina, przez którą przechodzą elektrony o energii większej niż 200 eV, podczas gdy elektrony o mniejszych energiach są odbijane do siatek bocznych o identycznej konstrukcji. To czy elektron trafi do lewej czy też prawej siatki, zależy od tego czy wszedł do detektora z prawej czy lewej strony jego osi, a wię c czy odbił się na prawym czy lewym zboczu siatki centralnej. Obie siatki połączone są równolegle, a ich sygnały trafiają do wspólnego fotopowielacza, bez możliwości rozdzielenia niesionych przez nie informacji. Zatem w cytowanym opisie, celem równoległego połączenia dwóch detektorów jest jedynie zwiększenie amplitudy sygnału wyjściowego. Siatki detektora umieszczone są nad stolikiem, z boku osi wiązki elektronowej, co powoduje asymetryczny odbiór sygnału elektronów wtórnych i elektronów rozproszonych wstecznie, niekorzystny przy pracy mikroskopu z kontrastem materiałowym.
Przedmiotem wynalazku jest układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego, wyposażony w płytkę mikroporowatą, elektrodę ogniskującą i dwa scyntylatory połączone ze światłowodami oraz fotopowielaczem.
Istota układu polega na tym, że płytka mikroporowata jest zamocowana na górnej ściance komory pośredniej poniżej górnego scyntylatora, który jest spolaryzowany wysokim dodatnim napięciem i powyż ej dolnego scyntylatora, który jest zamocowany do ś cianki po stronie stolika przedmiotowego. Pomiędzy czołem fotopowielacza oraz końcami górnego światłowodu i dolnego światłowodu jest umieszczona ruchoma przesłona z otworem. W komorze pośredniej, jest co najmniej jedna elektroda ogniskująca, która ma otwór na osi wiązki elektronowej.
Korzystnie elektroda ogniskująca jest usytuowana na powierzchni dolnego scyntylatora.
Zaletą układu detekcyjnego elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego według wynalazku jest możliwość uzyskania w jednym układzie detekcyjnym: sygnału elektronów wtórnych, lub alternatywnie sygnału elektronów wstecznie rozproszonych, albo też sygnału stanowiącego sumę obu wymienionych sygnałów.
Przedmiot wynalazku w przykładzie wykonania jest odtworzony na rysunku, który przedstawia przekrój poprzeczny układu detekcyjnego elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego w.
Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego jest zamontowany w korpusie 1, wykonanym z teflonu. W dolnej części korpusu 1 jest umieszczona ścianka 2 oddzielająca wnętrze korpusu 1 stanowiące komorę pośrednią 3 od obszaru
PL 207 238 B1 komory przedmiotowej 4. Do ścianki 2 jest zamocowany dolny scyntylator 5, w postaci płytki z małym otworem na osi wiązki elektronowej WE. Dolny scyntylator 5 jest połączony z dolnym światłowodem 6 prowadzącym do fotopowielacza 7. Powyżej dolnego scyntylatora 5, lub na jego górnej powierzchni jest umieszczona elektroda ogniskująca 8 z otworem na osi wiązki elektronowej WE. Na górnej ściance komory pośredniej jest zamocowana płytka mikroporowata 9 typu mikrosferoidalnego, wykonana w formie spieku z mał ych kuleczek szklanych. Pł ytka mikroporowata 9 ma otwór z zamocowaną w nim rurką ekranującą 10, umieszczony na osi wiązki elektronowej WE i umożliwiający jej przejście do stolika przedmiotowego 11. Powyżej płytki mikroporowatej 9 umieszczony jest górny scyntylator 12, połączony z górnym światłowodem 13 prowadzącym do fotopowielacza 7. Pomiędzy fotopowielaczem 7, a końcami górnego światłowodu 13 i dolnego światłowodu 6 znajduje się ruchoma przesłona 14 z otworem 15.
Tak zbudowany układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego działa w następujący sposób.
Elektrony wstecznie rozproszone EWR wygenerowane z preparatu umieszczonego na stoliku przedmiotowym 11 charakteryzują się dużą energią kinetyczną i poruszają się po torach prostoliniowych. W związku z tym padają na powierzchnię dolnego scyntylatora 5, gdzie ulegają przetworzeniu na sygnał świetlny, transportowany dolnym światłowodem 6 do fotopowielacza 7, gdzie ulega on ostatecznie przetworzeniu na sygnał elektryczny. Sygnał z tego toru detekcyjnego zawiera informacje o kompozycji materiałowej preparatu. Z kolei, elektrony wtórne EW o małej energii kinetycznej są przyśpieszane i ogniskowane w otworze dolnego scyntylatora 5 przez pole elektryczne soczewki immersyjnej, utworzonej dzięki napięciu elektrycznemu między stolikiem przedmiotowym 11 i powierzchnią dolnego scyntylatora 5 pokrytą cienką warstwą przewodzącą, oraz elektrodą ogniskującą 8. Biegnąc dalej, elektrony wtórne EW padają na płytkę mikroporowatą 9 działającą jak powielacz elektronowy i przechodzą c przez nią ulegają wzmocnieniu, a nastę pnie zostają przycią gnię te do górnego scyntylatora 12 spolaryzowanego wysokim dodatnim napięciem. W górnym scyntylatorze 12 sygnał elektronów wtórnych EW zostaje przetworzony na sygnał świetlny i przesłany górnym światłowodem 13 do fotopowielacza 7, gdzie następuje jego ostateczna konwersja na sygnał elektryczny. Sygnał elektronów wtórnych EW zawiera informację o topografii badanej powierzchni. Ruchoma przesłona 14 umieszczona między czołem fotopowielacza 7 oraz końcami górnego światłowodu 13 i dolnego światłowodu 6 służy do wyboru rodzaju sygnału docierającego do fotopowielacza 7. W pozycji pośredniej, końce obu światłowodów mieszczą się w świetle otworu 15 i do fotopowielacza dociera zarówno sygnał elektronów wtórnych EW jak i elektronów wstecznie rozproszonych EWR. Obraz syntezowany przy wykorzystaniu obu sygnałów charakteryzuje się mieszanym kontrastem topograficzno-materiałowym. Proporcje między obu składowymi kontrastu można regulować zmieniając napięcie zasilające płytkę mikroporowatą 9, decydujące o wzmocnieniu przechodzącego przez nią prądu elektronów wtórnych EW. Przesunięcie ruchomej przesłony 14 w przeciwległe pozycje krańcowe, powoduje zasłonięcie przez jej obrzeża górnego światłowodu 13, lub alternatywnie dolnego światłowodu 6. Dzięki temu można uzyskać obraz mikroskopowy o dominującym kontraście materiałowym lub topograficznym.

Claims (4)

Zastrzeżenia patentowe
1. Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego, przeznaczony zwłaszcza do pracy w zakresie ciśnień w komorze przedmiotowej rzędu 100 Pa, wyposażony w korpus ze ściankami oddzielającymi, którego wnętrze stanowi komorę pośrednią oraz płytkę mikroporowatą, elektrodę ogniskującą i dwa scyntylatory połączone ze światłowodami oraz fotopowielaczem, znamienny tym, że płytka mikroporowata (9) jest zamocowana na górnej ściance komory pośredniej (3) poniżej górnego scyntylatora (12), który jest spolaryzowany wysokim dodatnim napięciem i powyżej dolnego scyntylatora (5), który jest zamocowany do ścianki (2) po stronie stolika przedmiotowego (11).
2. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że pomiędzy czołem fotopowielacza (7) oraz końcami górnego światłowodu (13) i dolnego światłowodu (6) jest umieszczona ruchoma przesłona (14) z otworem (15).
3. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że w komorze pośredniej (3), jest co najmniej jedna elektroda ogniskująca (8), która ma otwór na osi wiązki elektronowej (WE).
4. Układ według zastrz. 3, znamienny tym, że elektroda ogniskująca (8) jest usytuowana na powierzchni dolnego scyntylatora (5).
PL362826A 2003-10-14 2003-10-14 Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego PL207238B1 (pl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL362826A PL207238B1 (pl) 2003-10-14 2003-10-14 Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego
EP04775184A EP1673797B1 (en) 2003-10-14 2004-10-06 Detector system of secondary and backscattered electrons for a scanning electron microscope
DE602004024559T DE602004024559D1 (de) 2003-10-14 2004-10-06 Detektorsystem von sekundären und rückgestreuten elektronen für ein rasterelektronenmikroskop
PCT/PL2004/000078 WO2005036583A2 (en) 2003-10-14 2004-10-06 Detector system of secondary and backscattered electrons for a scanning electron microscope
US11/403,823 US7470915B2 (en) 2003-10-14 2006-04-14 Detector system of secondary and backscattered electrons for a scanning electron microscope

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL362826A PL207238B1 (pl) 2003-10-14 2003-10-14 Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL362826A1 PL362826A1 (pl) 2005-04-18
PL207238B1 true PL207238B1 (pl) 2010-11-30

Family

ID=34432601

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL362826A PL207238B1 (pl) 2003-10-14 2003-10-14 Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7470915B2 (pl)
EP (1) EP1673797B1 (pl)
DE (1) DE602004024559D1 (pl)
PL (1) PL207238B1 (pl)
WO (1) WO2005036583A2 (pl)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006043895B9 (de) 2006-09-19 2012-02-09 Carl Zeiss Nts Gmbh Elektronenmikroskop zum Inspizieren und Bearbeiten eines Objekts mit miniaturisierten Strukturen
DE102010026169B4 (de) * 2010-07-06 2014-09-04 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Partikelstrahlsystem
CZ307557B6 (cs) * 2010-10-07 2018-12-05 Tescan Orsay Holding, A.S. Scintilační detekční jednotka pro detekci zpětně odražených elektronů pro elektronové nebo iontové mikroskopy
US9076632B2 (en) 2012-02-12 2015-07-07 El-Mul Technologies Ltd. Position sensitive STEM detector
US9478390B2 (en) * 2014-06-30 2016-10-25 Fei Company Integrated light optics and gas delivery in a charged particle lens
KR101756171B1 (ko) * 2015-12-15 2017-07-12 (주)새론테크놀로지 주사 전자 현미경
CN115662866B (zh) * 2022-11-29 2023-03-14 北京中科科仪股份有限公司 一种二次电子探测装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5818851A (ja) * 1981-07-24 1983-02-03 Hitachi Ltd 反射電子検出装置
DE3213145A1 (de) * 1982-04-08 1983-10-20 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Mikroskopphotometer
US5683547A (en) * 1990-11-21 1997-11-04 Hitachi, Ltd. Processing method and apparatus using focused energy beam
JP2919170B2 (ja) * 1992-03-19 1999-07-12 株式会社日立製作所 走査電子顕微鏡
JP2927627B2 (ja) * 1992-10-20 1999-07-28 株式会社日立製作所 走査電子顕微鏡
JPH07122220A (ja) * 1993-10-21 1995-05-12 Hitachi Ltd 電子顕微鏡装置
JP3942108B2 (ja) * 1994-04-12 2007-07-11 エフイーアイ カンパニー 二次電子用検出器を具えた粒子‐光学装置
CZ284288B6 (cs) * 1997-03-13 1998-10-14 Preciosa, A. S. Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu
US5990483A (en) * 1997-10-06 1999-11-23 El-Mul Technologies Ltd. Particle detection and particle detector devices
WO1999046797A1 (de) * 1998-03-10 1999-09-16 Erik Essers Rasterelektronenmikroskop
IL124333A0 (en) * 1998-05-05 1998-12-06 El Mul Technologies Ltd Charges particle detector
PL189008B1 (pl) 1998-10-21 2005-05-31 Politechnika Wroclawska Wysokociśnieniowy skaningowy mikroskop elektronowy
US6847038B2 (en) * 2002-07-15 2005-01-25 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
EP1271603B1 (en) * 2000-03-31 2009-08-12 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
US6545277B1 (en) * 2000-08-15 2003-04-08 Applied Materials, Inc. High efficiency, enhanced detecting in-lens light guide scintillator detector for SEM
CZ20022105A3 (cs) * 2002-06-17 2004-02-18 Tescan, S. R. O. Detektor sekundárních elektronů, zejména v rastrovacím elektronovém mikroskopu
US6979822B1 (en) * 2002-09-18 2005-12-27 Fei Company Charged particle beam system
PL207199B1 (pl) * 2003-04-17 2010-11-30 Politechnika Wroclawska Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego
US7385187B2 (en) * 2003-06-21 2008-06-10 Leco Corporation Multi-reflecting time-of-flight mass spectrometer and method of use

Also Published As

Publication number Publication date
PL362826A1 (pl) 2005-04-18
DE602004024559D1 (de) 2010-01-21
WO2005036583A2 (en) 2005-04-21
WO2005036583A3 (en) 2005-09-09
US20060249674A1 (en) 2006-11-09
EP1673797A2 (en) 2006-06-28
EP1673797B1 (en) 2009-12-09
US7470915B2 (en) 2008-12-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9029766B2 (en) Scanning electron microscope
US8692195B2 (en) Charged particle radiation device
JP6012191B2 (ja) 荷電粒子顕微鏡に用いられる検出方法
US8164059B2 (en) In-chamber electron detector
US20080315094A1 (en) Charged particle detection devices
US7847268B2 (en) Three modes particle detector
TW201721701A (zh) 荷電粒子線裝置及掃描電子顯微鏡
JP2899629B2 (ja) 荷電二次粒子の検出装置
TWI419196B (zh) 帶電粒子成像系統的偵測單元、檢視試片系統及試片表面成像方法
Neděla et al. The simulation of energy distribution of electrons detected by segmental ionization detector in high pressure conditions of ESEM
US7470915B2 (en) Detector system of secondary and backscattered electrons for a scanning electron microscope
EP1063677A1 (en) Charged particle beam device
CN108352284A (zh) 宽场大气压扫描电子显微镜
US6815678B2 (en) Raster electron microscope
US20170323761A1 (en) Charged particle detector
US7060978B2 (en) Detector system for a particle beam apparatus, and particle beam apparatus with such a detector system
US20130056634A1 (en) Charged Particle Detector System Comprising a Conversion Electrode
TW201011803A (en) Charged particles detection devices
CZ284288B6 (cs) Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu
US9202667B2 (en) Charged particle radiation device with bandpass detection
CN118098914A (zh) 电子探测装置和扫描电镜
PL208151B1 (pl) Układ do detekcji elektronów w skaningowym mikroskopie elektronowym
CZ20041139A3 (cs) Detektor sekundárních elektronu
CZ2005726A3 (cs) Detektor sekundárních elektronu