PL199526B1 - Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego - Google Patents
Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowegoInfo
- Publication number
- PL199526B1 PL199526B1 PL350143A PL35014399A PL199526B1 PL 199526 B1 PL199526 B1 PL 199526B1 PL 350143 A PL350143 A PL 350143A PL 35014399 A PL35014399 A PL 35014399A PL 199526 B1 PL199526 B1 PL 199526B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- glazing panel
- mixed oxide
- materials
- mixture
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 36
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 28
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 65
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 28
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 166
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 85
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 22
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 21
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 14
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 11
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 9
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 9
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 9
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 8
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 3
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
Abstract
Wynalazek obejmuje panel oszkleniowy z naniesionym zestawem powlekaj acym zawieraj acy w sekwencji co najmniej: pod lo ze szklane, doln a warstw e przeciwodblaskow a, warstw e odbijaj ac a w podczerwieni i wierzchni a warstw e przeciwodblaskow a, charakteryzuj acy si e tym, ze warstwa prze- ciwodblaskowa zawiera co najmniej: a) warstw e mieszanego tlenku, który zawiera tlenek b ed acy mie- szanin a Zn z co najmniej jednym dodatkowym materia lem X, i b) warstw e, która zawiera azotek zawie- rajacy co najmniej jeden z materia lów Al, Si i Zr, lub wierzchnia warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstw e mieszanego tlenku, który zawiera tlenek b ed acy mieszanin a Zn z co najmniej jednym dodat- kowym materia lem X, i pokrywaj ac a warstw e, która zawiera azotek zawieraj acy co najmniej jeden z materia lów Al, Si i Zr. Wynalazek obejmuje równie z sposób wytwarzania panelu oszkleniowego ma- j acego zamglenie mniejsze od 0,5, obejmuj acy etap wygrzewania panelu oszkleniowego wed lug wy- nalazku w temperaturze co najmniej 570°C. PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego, a zwł aszcza lecz nie wyłącznie panel oszkleniowy, którego zadaniem jest kontrola sł oneczna i który może być wygrzewany po nałożeniu filtra kontroli słonecznej.
Opis EP 23303A ujawnia panel oszkleniowy z filtrem optycznym naniesionym metodą napylania katodowego mającym następującą konstrukcję: podłoże szklane/spodnia warstwa dielektryczna SnO2/pierwsza bariera metaliczna Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/Ag/druga warstwa metaliczna Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/wierzchnia warstwa dielektryczna SnO2. Zadaniem filtra optycznego jest blokowanie znaczącej części podającego promieniowania w podczerwonej części widma, z umożliwieniem przejścia znaczącej części promieniowania w widzialnej części widma. W ten sposób filtr zmniejsza efekt cieplny padającego promieniowania słonecznego, z zachowaniem dobrej widoczności przez oszklenie, które jest szczególnie odpowiednie na przednie szyby samochodowe.
W tym typie konstrukcji, warstwa Ag odbija padaj ą ce promieniowanie w podczerwieni; dla wykonania tego zadania warstwa powinna być w postaci metalicznego srebra, a nie jako tlenek srebra i nie powinna być zanieczyszczona przez sąsiednie warstwy. Warstwy dielektryczne, które przekładają warstwę Ag służą do zmniejszenia odbicia widzialnej części widma, co w przeciwnym razie powodowałaby warstwa Ag. Druga bariera służy do zapobiegania utlenianiu warstwy Ag podczas napylania katodowego wierzchniej warstwy dielektrycznej SnOx w utleniającej atmosferze; bariera ta ulega co najmniej częściowemu utlenieniu podczas tego procesu. Głównym zadaniem pierwszej bariery jest zapobieganie utlenianiu warstwy srebra podczas wygrzewania powłoki (na przykład podczas zginania i/lub odpuszczania) panelu oszkleniowego raczej w wyniku jej utleniania niż w wyniku przechodzenia tlenu do warstwy Ag. To utlenianie bariery podczas wygrzewania powoduje zwiększenie wartości TL panelu oszkleniowego.
Opis EP 792847A ujawnia wygrzewalny panel oszkleniowy do kontroli promieniowania słonecznego, który jest oparty na tej samej zasadzie i ma następującą konstrukcję: podłoże szklane/warstwa dielektryczna ZnO/bariera Zn/Ag/bariera Zn/warstwa dielektryczna ZnO/bariera Zn/Ag/bariera Zn/warstwa dielektryczna ZnO. Bariery Zn umieszczone poniżej każdej warstwy Ag mają być całkowicie utlenione podczas wygrzewania i służą do ochrony warstw Ag przed utlenianiem. Jak wiadomo według stanu techniki, konstrukcja z dwóch oddalonych od siebie warstw Ag, a nie pojedyncza warstwa Ag zwiększa selektywność filtra.
Opis EP 275474 ujawnia wygrzewalny panel oszkleniowy do kontroli promieniowania słonecznego, który ma następującą konstrukcję: panel oszkleniowy/warstwa dielektryczna cynianu cynku/bariera Ti/Ag/bariera Ti/warstwa dielektryczna cynianu cynku. Ogólnie w tym typie wygrzewanej konstrukcji korzystne są bariery Ti dzięki swemu dużemu powinowactwu do tlenu i stosunkowej łatwości, z jaką mogą być utleniane do tlenku tytanu.
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy z naniesionym zestawem powlekającym zawierający w sekwencji co najmniej:
podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą w podczerwieni i wierzchnią warstwą przeciwodblaskową, charakteryzujący się tym, że dolna warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej: a) warstwę mieszanego tlenku, który zawiera tlenek będący mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, w którym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, i w którym X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i
b) warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr, lub wierzchnia warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę mieszanego tlenku, który zawiera tlenek będący mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, w którym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, i w którym X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmują cej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i pokrywają c ą warstwę , która zawiera azotek zawierają cy co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr.
Korzystnie panel oszkleniowy zawiera w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodblaskową, zawierającą warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr i warstwę wierzchnią mieszanego tlenku, która zawiera tlenek,
PL 199 526 B1 który jest mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, przy czym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, a X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmują cej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi, warstwę odbijającą w podczerwieni zawierającą srebro, warstwę barierową, wierzchnią warstwę przeciwodblaskową, zawierającą warstwę tlenku mieszanego, która zawiera tlenek, który jest mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, przy czym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, a X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i pokrywającą warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr.
Korzystnie panel oszkleniowy zawierający w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą w podczerwieni, środkową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą w podczerwieni, wierzchnią warstwą przeciwodblaskową, charakteryzuje się tym, że co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej: a) warstwę mieszanego tlenku, który zawiera tlenek będący mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, w którym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, i w którym X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i
b) warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr.
Korzystnie X oznacza jeden lub kilka materiałów wybrany z grupy obejmującej Ti i Al.
Korzystnie warstwa barierowa znajduje się pod co najmniej jedną lub pod każdą warstwą odbijającą w podczerwieni.
Korzystnie panelem oszkleniowym jest wygrzewalny panel oszkleniowy lub wygrzewany panel oszkleniowy nie zawierający zamglenia.
Korzystniej środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę mieszanego tlenku zawierającą co najmniej jeden z ZnAlOx i ZnTiOx.
Korzystnie stosunek atomowy X/Zn w warstwie mieszanego tlenku jest w zakresie od 0,05 do 0,6, korzystniej stosunek atomowy X/Zn w warstwie mieszanego tlenku mieści się w zakresie od 0,08 do 0,5.
Korzystnie panelem oszkleniowym jest wygrzewalny panel oszkleniowy lub wygrzewany panel oszkleniowy nie zawierający zamglenia, przy czym panel oszkleniowy wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5% po wygrzewaniu.
Przedmiotem wynalazku jest również sposób wytwarzania panelu oszkleniowego mającego zamglenie mniejsze od 0,5, charakteryzujący się tym, że obejmuje etap wygrzewania panelu oszkleniowego według wynalazku w temperaturze co najmniej 570°C.
Połączenie określonych warstw w co najmniej jednej z przeciwodblaskowych warstw zapewnia korzystne połączenie właściwości. W takiej konstrukcji warstwy przeciwodblaskowe nie tylko muszą spełniać swe główne zadanie zapobiegania nadmiernemu odbiciu w widzialnej części widma, ale także muszą być na przykład kompatybilne z innymi warstwami w zestawie powlekającym, mieć odporność mechaniczną i chemiczną i nadawać się do wytwarzania w skali przemysłowej.
Dowolną odpowiednią metodę lub kombinację metod można zastosować do nanoszenia warstw powlekających. Na przykład szczególnie korzystne jest odparowywanie (cieplne lub za pomocą wiązki elektronów), piroliza cieczowa, chemiczne nanoszenie par, nanoszenie próżniowe i napylanie katodowe, zwłaszcza napylanie magnetronowe, przy czym to ostatnie jest szczególnie korzystne. Różne warstwy zestawu powlekającego można nanosić stosując różne metody.
Niniejszy wynalazek zapewnia korzystne połączenie takich właściwości jak:
- stabilno ść cieplna podczas ogrzewania panelu oszkleniowego, na przykł ad podczas odpuszczania i/lub zginania. Zastosowanie niniejszego wynalazku może zwłaszcza zmniejszyć degradację warstwy odbijającej w podczerwieni, w porównaniu do porównywalnych konstrukcji stosujących na przykład znane przeciwodblaskowe warstwy ZnO lub SnO2. W szczególności warstwa azotku może blokować migrację i/lub dyfuzję tlenu i/lub jonów przez zestaw powlekający, a określona warstwa mieszanego tlenku może zarówno zwiększać blokowanie, jak również może być bardziej termoodporna niż inne znane tlenki;
PL 199 526 B1
- łatwość i możliwość kontroli nanoszenia: warstwę przeciwodblaskową można nanosić łatwiej i z lepszą kontrolą niż na przykład warstwę Al2O3 lub SiO2. Chociaż Al2O3 lub SiO2 wykazuje dobrą stabilność cieplną, to trudno je nanosić zwykłymi sposobami napylania katodowego;
- odporność mechaniczna: warstwę przeciwodblaskową można stosować bez pogorszenia mechanicznej odporności powłoki. Może ona w szczególności wykazywać dobre właściwości w próbach ubijania, jeśli panel oszkleniowy stosuje się w konstrukcji laminowanej;
- kompatybilność z Ag: krystalizacja warstwy Ag wpł ywa na jej wł a ś ciwoś ci optyczne. Warstwa czystego ZnO w sąsiedztwie Ag może spowodować nadmierną krystalizację Ag i zamglenie powłoki, w szczególności podczas wygrzewania. Jednak jeśli warstwa przeciwodblaskowa nie składa się z ZnO, to rekrystalizacja warstw Ag może być niewystarczająca, co spowoduje, że poziom odbicia w podczerwieni i poziom przewodnictwa elektrycznego w powł oce bę dzie mniejszy od moż liwego do uzyskania optimum. Niniejszy wynalazek można stosować dla poprawy krystalizacji w stopniu dostatecznym do uzyskania dobrych właściwości odbicia w podczerwieni z uniknięciem nadmiernego zamglenia. Można uzyskać w szczególności korzystną krystalizację w porównaniu do warstwy przeciwodblaskowej z TiO2.
Jednym możliwym wyjaśnieniem tego może być fakt, że obecność materiału X w konstrukcji tlenku cynku może ograniczyć wzrost ziarn krystalicznych w warstwie mieszanego tlenku, zwłaszcza w warstwie prostopadłej do podłoż a. Może to spowodować powstanie mniej krystalicznej i bardziej amorficznej konstrukcji, która zmniejsza dyfuzję, która w przeciwnym wypadku mogłaby wystąpić na granicach krystalicznych ziarn,
- czas cyklu wytwarzania: warstwa tlenkowa, która jest mieszaniną Zn z co najmniej jednym z okreś lonych materiał ów dodatkowych, zwł aszcza jeś li materiał em dodatkowym jest Ti, Ta, Zr, Nb, Bi lub mieszanina tych metali, ma ogólnie większy współczynnik załamania światła niż na przykład warstwy ZnO i SnO2, które stosuje się zwykle w podobnych konstrukcjach, a jednak które można nanosić szybciej niż znane warstwy przeciwodblaskowe mające stosunkowo duże współczynniki załamania światła, na przykład TiO2. Tak więc w ten sposób można skrócić cykl czasu wytwarzania,
- dobra selektywność: większy współczynnik załamania ś wiatła może dodatkowo spowodować wzrost selektywności zestawu powlekającego, zwłaszcza jeśli materiałem dodatkowym jest Ti, Ta, Zr, Nb, Bi lub mieszanina tych metali.
Zastosowanie warstwy przeciwodblaskowej jako części przeciwodblaskowej warstwy wierzchniej, w szczególności jako warstwy wystawionej na działanie atmosfery, może nadawać dobrą odporność chemiczną i mechaniczną. Ponadto, można uzyskać dobrą kompatybilność z folią laminującą, na przykład z folią PVB, jeśli panel oszkleniowy ma być laminowany w celu wytwarzania laminowanego panelu oszkleniowego.
Korzystnych właściwości warstwy przeciwodblaskowej można nie uzyskać, jeśli stosunek atomowy X/Zn będzie mniejszy od określonego minimum, jeśli na przykład materiał X jest obecny tylko w postaci zanieczyszczenia lub jeś li stosunek atomowy X/Zn nie będzie dostatecznie duży.
Warstwa, która zawiera azotek, korzystnie zawiera co najmniej jeden materiał z określonych materiałów jak Al, Si lub Zr, w ilości co najmniej 10% w przeliczeniu na atomy azotków. Warstwa, która zawiera azotek, może zawierać na przykład azotek glinu, azotek krzemu, mieszany azotek zawierający Al i Si, mieszany azotek zawierający Al i Zr, mieszany azotek zawierający Si i Zr, mieszany azotek zawierający Al, Si i Zr. Warstwę tę można zastosować do blokowania migracji i/lub dyssypacji tlenu w warstwach powlekają cych i migracji i/lub dyfuzji jonów i innych substancji z podł oż a szklanego do warstw powlekających, zwłaszcza sodu i potasu.
Warstwa, która zawiera azotek, może składać się zasadniczo z AlN, Si3N4, ZrN lub z ich mieszanin.
Warstwę azotku można nanosić przez napylanie katodowe z tarczy w atmosferze azotu. Alternatywnie, można ją nanosić przez napylanie katodowe z tarczy w atmosferze, która jest mieszaniną argonu z azotem.
Warstwa azotku może zawierać czysty azotek lub na przykład oksyazotek, karboazotek lub oksykarboazotek.
Materiałem odbijającym w podczerwieni może być srebro lub stop srebra, na przykład stop srebra zawierający jeden lub kilka materiałów dodatkowych jak Pd, Au i Cu. Taki materiał dodatkowy może być obecny w stopie srebra w stosunku atomowym, w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i materiał u dodatkowego, od 0,3% do 10%, korzystnie od 0,3% do 5% i korzystniej, zwłaszcza jeś li materiałem dodatkowym jest Pd, od 0,3% do 2%.
PL 199 526 B1
Szczególnie korzystny układ warstw w panelu oszkleniowym z naniesionym zestawem powlekającym zawiera:
- w dolnej warstwie przeciwodblaskowej, okreś loną warstwę azotku, która jest korzystnie nanoszona bezpośrednio na powierzchnię podłoża szklanego, i która stanowi dobrą barierę dla dyfuzji jonów i tlenu z podłoża szklanego, podczas gdy wierzchnia warstwa mieszanego tlenku nadaje szczególnie dobrą kompatybilność z warstwą odbijającą w podczerwieni,
- w wierzchniej warstwie przeciwodblaskowej, (dielektrycznej), warstwa mieszanego tlenku nadaje szczególnie dobrą kompatybilność z warstwą odbijającą w podczerwieni, podczas gdy określona warstwa azotku stanowi dobrą barierą dla dyfuzji tlenu z atmosfery.
Jest tak szczególnie wtedy, gdy panel oszkleniowy ma być wygrzewany.
Taką korzystną kombinację właściwości można wykorzystać w panelu oszkleniowym z naniesionym zestawem powlekającym, który ma dwie, a nawet więcej niż dwie oddalone od siebie warstwy odbijające w podczerwieni.
Wieloarkuszowe, oddalone od siebie warstwy odbijające w podczerwieni można zastosować do wytwarzania panelu oszkleniowego o selektywności większej od 1,5 lub 1,7.
Szczególnie korzystne właściwości można uzyskać, jeśli materiał dodatkowy X w warstwie mieszanego tlenku składa się
- zasadniczo z Ti,
- z Ti z jednym lub kilku materiałami dodatkowymi z określonej grupy materiałów, na przykład Ti i Al,
- zasadniczo z Al,
- z Al z jednym lub kilku materiałami dodatkowymi z określonej grupy materiałów.
Zestaw filtra może zawierać jedną lub kilka warstw barierowych pod i/lub nad znaną według stanu techniki warstwą odbijającą w podczerwieni. Można na przykład zastosować bariery z jednego lub z kilku następujących materiałów: Ti, Zn, Cr, stal nierdzewna, Zr, Ni, NiCr, ZnTi i ZnAl. Takie bariery można nanosić na przykład jako warstwy metalu lub jako podtlenki (to jest warstwy częściowo utlenione). Alternatywnie, można stosować także azotkowe warstwy barierowe.
Jedna lub kilka takich warstw barierowych może zawierać takie same materiały jak warstwa mieszanego tlenku, zwłaszcza jak sąsiednia warstwa mieszanego tlenku. Może to ułatwić kierowanie tarczami i kontrolę warunków nanoszenia, a w tym ostatnim przypadku może zapewnić dobrą adhezję między warstwami, a tym samym dobrą trwałość mechaniczną zestawu powlekającego.
Kombinacja właściwości, jaką można uzyskać, jest szczególnie korzystna w odniesieniu do paneli oszkleniowych poddawanych lub poddanych ogrzewaniu. Niemniej jednak wynalazek można zastosować także do oszklenia nie poddawanego ogrzewaniu. Stosowany w niniejszym opisie termin „panel oszkleniowy poddawany ogrzewaniu oznacza panel oszkleniowy z naniesionym zestawem powlekającym, który może być poddawany zginaniu i/lub odpuszczaniu cieplnemu i/lub operacji utwardzania cieplnego i/lub innemu sposobowi wygrzewania, przy czym zamglenie obrabianego w ten sposób panelu oszkleniowego nie przekracza wartości 0,5, a korzystnie 0,3. Termin „panel oszkleniowy zasadniczo bez zamglenia, stosowany w niniejszym opisie, oznacza panel oszkleniowy z naniesionym zestawem powlekającym, który zginano i/lub odpuszczano cieplnie i/lub utwardzano cieplnie i/lub poddano innemu sposobowi wygrzewania po naniesieniu zestawu powlekającego i który ma zamglenie nie przekraczające wartości 0,5, a korzystnie nie przekraczające wartości 0,3. Takie sposoby wygrzewania mogą obejmować ogrzewanie lub poddanie oszklenia z naniesionym zestawem powlekającym działaniu temperatury powyżej około 560°C, na przykład temperatury od 560°C do 700°C w atmosferze. Innymi takimi sposobami wygrzewania może być spiekanie materiału ceramicznego lub emalii, uszczelnianie próżniowe podwójnego oszklenia i wypalanie powlekanej na mokro powłoki o małym odbiciu lub powłoki przeciwoślepieniowej. Sposób wygrzewania, zwłaszcza sposób zginania i/lub odpuszczania cieplnego i/lub utwardzania cieplnego, można wykonać w temperaturze co najmniej 600°C w ciągu co najmniej 10 minut, 12 minut lub 15 minut albo w temperaturze co najmniej 620°C w ciągu co najmniej 10 minut, 12 minut lub 15 minut, albo w temperaturze co najmniej 640°C w cią gu co najmniej 10 minut, 12 minut lub 15 minut.
Grubość warstwy mieszanego tlenku wynosi korzystnie co najmniej 5-10-9 m (50 A); może to być ilość wystarczająca do uzyskania pożądanego lub znaczącego efektu. Warstwa mieszanego tlenku stosowana w panelu oszkleniowym z naniesionym zestawem powlekającym według niniejszego wynalazku może mieć grubość co najmniej 8-10-9 m (80 A), 10-8 m (100 A), 1,2-10-8 m (120 A), 1,4-10-8 m (140 A) lub 1,6-10-8 m (160 A).
PL 199 526 B1
Warstwę tlenku, która jest mieszaniną Zn z co najmniej jednym z określonych materiałów dodatkowych, można zastosować do nadawania korzystnych właściwości jednej, lub kilku, lub korzystnie wszystkim warstwom przeciwodblaskowym w zestawie powlekającym. Zastosowanie wszystkich warstw przeciwodblaskowych w zestawie powlekającym może ułatwić kontrolę sposobu i uporządkowanie i przechowywanie potrzebnych tarcz. Jeśli więcej niż jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera warstwę tlenku, który jest mieszaniną Zn z co najmniej jednym z wymienionych materiałów dodatkowych, to takie warstwy tlenku mogą mieć taki sam skład lub zasadniczo taki sam skład.
Szczególnie korzystną kombinację omawianych powyżej właściwości można uzyskać, jeśli stosunek atomowy X/Zn jest w zakresie od około 0,03 do około 1, korzystnie od około 0,05 do około 0,6, korzystniej od około 0,08 do około 0,5. Dobry wynik można także uzyskać w przypadku stosunku atomowego X/Zn co najmniej 0,12, 0,15 lub 0,3.
Wygrzewanie może spowodować wzrost wartości TL panelu oszkleniowego. Taki wzrost wartości TL może być korzystny, ponieważ zapewnia, że wartość TL będzie dostatecznie duża, aby panel oszkleniowy można było zastosować na przednie szyby samochodowe. Absolutne wartości TL mogą wzrastać podczas wygrzewania, na przykład o więcej niż około 2,5%, więcej niż około 3%, więcej niż około 5%, więcej niż około 8% lub więcej niż około 10%.
Niemniej jednak zestaw powlekający może mieć taki układ, aby podczas wygrzewania nie było znaczącego wzrostu wartości TL. Jednym sposobem ułatwiającym to jest niestosowanie metalicznych warstw barierowych poniżej warstwy lub poniżej warstw odbijających w podczerwieni.
Przedmiotem niniejszego wynalazku jest również sposób wytwarzania panelu oszkleniowego według wynalazku. Sposób taki można zastosować do wytwarzania na przykład wygrzewanych paneli oszkleniowych stosowanych w budownictwie, oszklenia samochodowego, zwłaszcza przednich szyb samochodowych.
Przykłady niniejszego wynalazku opisano w odniesieniu do fig. 1, która jest przekrojem przez panel oszkleniowy przed jego zginaniem i odpuszczaniem (dla ułatwienia przedstawienia, względnych grubości panelu oszkleniowego i warstw powlekających nie pokazano w tej samej skali).
P r z y k ł a d 1
Figura 1 przedstawia podwójną, wygrzewalną, powlekającą warstwę Ag naniesioną na podłoże szklane metodą napylania magnetronowego, mającą następującą konstrukcję sekwencyjną:
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m (2 mm) | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: | 11 | 6·10-9 m (60 A) | |
| AlN | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | 2,5·10-8 m (250 A) | Al/Zn=0,1 |
| bariera pod ZnAlOy | 14 | 10-9 m (10 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m (100 A) | |
| bariera nad ZnAlOy | 16 | 1,2·10-9 m (12 A) | Al/Zn=0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 7,5·10-8 m (750 A) | Al/Zn=0,1 |
| bariera pod ZnAlOy | 18 | 7·10-10 m (7 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m (100 A) | |
| bariera nad ZnAlOy | 20 | 1,7·10-9 m (17 A) | Al/Zn=0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,85·10-8 (185 A) | Al/Zn=0,1 |
| AlN | 23 | 8,5·10-9 (85 A) |
w której ZnAlOx oznacza mieszany tlenek zawierają cy Zn i Al naniesione w tym przykł adzie metodą reaktywnego napylania z tarczy, którą jest stop lub mieszanina Zn z Al w obecności tlenu.
Alternatywnie, warstwę mieszanego tlenku można wytwarzać metodą napylania z tarczy, którą jest mieszanina tlenku cynku z tlenkiem materiału X, zwłaszcza w atmosferze gazowego argonu lub w atmosferze tlenu zawierają cej dużą ilość argonu.
PL 199 526 B1
Bariery ZnAlOy nanosi się podobnie metodą napylania katodowego z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn z Al, w atmosferze zawierającej tlen bogaty w argon, w celu naniesienia bariery, która nie jest całkowicie utleniona.
Stan utlenienia w każdej z dielektrycznych warstw ZnAlOx - spodniej, środkowej i wierzchniej nie musi być taki sam. Podobnie stan utlenienia w każdej z barier ZnAlOy nie musi być taki sam. Tak samo stosunek Al/Zn nie musi być taki sam dla wszystkich warstw; na przykład warstwy barierowe mogą mieć stosunek Al/Zn różny od stosunku dla przeciwodblaskowych warstw dielektrycznych, a przeciwodblaskowe warstwy dielektryczne mogą mieć stosunki Al/Zn różne między sobą.
Każda wierzchnia bariera chroni przed utlenieniem spodnią warstwę srebra podczas nanoszenia metodą napylania katodowego jej wierzchniej warstwy tlenku ZnAlOx. Chociaż może wystąpić dalsze utlenianie tych warstw barierowych podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych, to część tych barier korzystnie pozostaje w postaci niecałkowicie utlenionej i stanowi barierę dla następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on następujące właściwości:
| właściwość | przed wygrzewaniem (patrz uwaga 1 poniżej) | po wygrzewaniu (patrz uwaga 2 poniżej) |
| TL (iluminant A) | 63% | 76% |
| TE (system Moon 2) | 38% | 42% |
| zamglenie | 0,1 | 0,25 |
| a* | -20 (strona powleczona) | -6 (zewnętrzna) |
| b* | +3 (strona powleczona) | -12 (zewnętrzna) |
| RE (system Moon 2) | 31% (strona powleczona) | 33% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: zmierzono dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed wygrzewaniem.
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 650°C w ciągu 10 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2-10-3 m (2 mm) przezroczystym arkuszem szkła i z 7,6-10-4 m (0,76 mm) przezroczystym PVB.
Wygrzewanie powoduje korzystnie zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, przy czym po wygrzewaniu otrzymuje się następującą konstrukcję zestawu powlekającego:
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m (2 mm) | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: AlN (częściowo utleniony) ZnAlOx | 11 12 13 | 6-10-9 m (60 A) 2,5-10-8 m (250 A) | Al/Zn=0,1 |
| utleniona bariera pod ZnAlOx | 14 | 10-9 m - 1,6-10-9 m (10 A-16 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10'8 m (100 A) | |
| utleniona bariera nad ZnAlOx | 16 | 1,2-10-9 m - 2-10-9 m (12 A - 20 A) | Al/Zn=0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 7,5-10-8 m (750 A) | Al/Zn=0,1 |
| utleniona bariera pod ZnAlOx | 18 | 7-10-10 m - 1,2-10-9 m (7 A - 12 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m (100 A) | |
| utleniona bariera nad ZnAlOx | 20 | 1,7-10-9 m - 2,8-10-9 m (17 A - 28 A) | Al/Zn=0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx AlN (częściowo utleniony) | 22 23 | 1,85-10-8 m (185 A) 8,5-10-9 m (85 A) | Al/Zn=0,1 |
PL 199 526 B1
Warstwy AlN (częściowo utlenione) mogą zawierać mieszaninę AlN z Al2O3, przy czym AlN jest częściowo utleniony podczas wygrzewania. Warstwy barierowe nie muszą być całkowicie utlenione podczas wygrzewania, a ich grubość w pewnej mierze zależy do ich stopnia utlenienia.
P r z y k ł a d 2
Przykład 2 jest podobny do przykładu 1, ale pominięto spodnie warstwy zestawu barierowego. Zestawy barierowe i właściwości przykładu podano poniżej:
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m (2 mm) | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: | 11 | 10-8 m (100 A) | |
| AlN | 12 | Al/Zn=0,1 | |
| ZnAlOx | 13 | 2-10-8 m (200 A) | |
| Ag | 15 | 10-8 m (100 A) | |
| bariera nad ZnAl | 16 | 10-9 m (10 A) | Al/Zn=0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 7,5-10-8 m (750 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m (100 A) | |
| bariera nad ZnAl | 20 | 1,5-10-9 m (15 A) | Al/Zn=0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,85-10-8 m (185 A | Al/Zn=0,1 |
| AlN (częściowo utleniony) | 23 | 8,5-10-9 m (85 A) |
w którym ZnAlOx oznacza mieszany tlenek zawieraj ą cy Zn i Al naniesiony w tym przykł adzie metodą reaktywnego napylania z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn z Al, tlenu. Bariery ZnAl nanosi się podobnie metodą napylania katodowego z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn i Al w obecnoś ci zasadniczo oboję tnej, nie zawierają cej tlenu atmosferze.
Co najmniej część wierzchnich warstw 16, 20 zostaje utleniona podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych. Niemniej jednak, część tych barier pozostaje korzystnie w postaci metalicznej lub co najmniej w postaci niecałkowicie utlenionego tlenku i stanowi barierę podczas następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on nastę pują ce wł a ś ciwoś ci:
| właściwość | przed poddaniem cyklowi ogrzewania A (patrz uwaga 1 poniżej) | po poddaniu cyklowi ogrzewania A (patrz uwaga 2 poniżej) |
| TL (iluminant A) | 70% | 77% |
| TE (system Moon 2) | 41% | 43% |
| zamglenie | 0,1 | 0,2 |
| a* | -17 (strona powleczona) | -5 (zewnętrzna) |
| b* | +8 (strona powleczona) | -9 (zewnętrzna) |
| RE (system Moon 2) | 33% (strona powleczona) | 34% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: zmierzono dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed wygrzewaniem.
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 625 °C w ciągu 14 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m (2 mm) przezroczystym arkuszem szkła i z 7,6-10-4 m (0,76 mm) przezroczystym PVB.
Wygrzewanie powoduje korzystnie zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, przy czym po wygrzewaniu otrzymuje się następującą konstrukcję zestawu powlekającego:
PL 199 526 B1
Zestaw powlekający po wygrzewaniu
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m (2 mm) | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: AlN (częściowo utleniony) ZnAlOx | 11 12 13 | 10-8 m (100 A) 2·10-8 m (200 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m (100 A) | |
| utleniona bariera nad ZnAlOx | 16 | 1,2·10-9 m - 2·10-9 m (12 A - 20 A) | Al/Zn=0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 7,5·10-8 m (750 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m (100 A) | |
| utleniona bariera nad ZnAlOx | 20 | 1,7·10-9 m - 3·10-9 m (17 A - 30 A) | Al/Zn=0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx AlN (częściowo utleniony) | 22 23 | 1,85·10-8 m (185 A) 8,5·10-9 m (85 A) | Al/Zn=0,1 |
P r z y k ł a d 3
W przykładzie 3 zastosowano ZnAlOx naniesiony bezpośrednio na podłoże szklane. Zestawy powlekające i właściwości tego przykładu podano poniżej:
| grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 2·10-3 m (2 mm) | |
| dolna warstwa zawierająca: ZnAlOx ZnAlOx | 1,2·10-8 m (120 A) 2·10-8 m (200 A) | Al/Zn=0,5 Al/Zn=0,1 |
| Ag | 10-8 m (100 A) | |
| bariera nad ZnAl | 1,2·10-9 m (12 A) | Al/Zn=0,05 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 8,3·10-8 m (830 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 1,1-10·® m (110 A) | |
| bariera nad ZnAl | 1,5·10-9 m (15 A) | Al/Zn=0,05 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx AlN | 2·10-8 m (200 A) 7,5· 10-9 m (75 A) | Al/Zn=0,1 |
w którym ZnAlOx oznacza mieszany tlenek zawieraj ą cy Zn i Al naniesiony w tym przykł adzie metodą reaktywnego napylania z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn z Al, w obecności tlenu. Bariery ZnAl naniesiono podobnie metodą napylania katodowego z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn i Al w zasadniczo obojętnej, nie zawierającej tlenu atmosferze.
Co najmniej część każdej wierzchniej warstwy zostaje utleniona podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych. Niemniej jednak, część tych barier pozostaje korzystnie w postaci metalicznej lub co najmniej w postaci niecałkowicie utlenionego tlenku i stanowi barierę podczas następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
PL 199 526 B1
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej przedniej szyby samochodowej i wykazuje on następujące właściwości:
| właściwość | przed wygrzewaniem (patrz uwaga 1 poniżej) | po wygrzewaniu (patrz uwaga 2 poniżej) |
| TL (iluminant A) | 63% | 76% |
| TE (system Moon 2) | 34% | 44% |
| zamglenie | 0,1 | 0,23 |
| a* | -12 (strona powleczona) | -6 (zewnętrzna) |
| b* | +23 (strona powleczona) | -8 (zewnętrzna) |
| RE (system Moon 2) | 28% (strona powleczona) | 31% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: zmierzono dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed wygrzewaniem.
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 625°C w ciągu 10 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m (2 mm) przezroczystym arkuszem szkła i z 7,6-10-4 m (0,76 mm) przezroczystym PVB.
Wygrzewanie powoduje korzystnie zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych. P r z y k ł a d 4
W przykładzie 4 zastosowano SiAlxNy jako część wierzchniej warstwy przeciwodblaskowej. Zestaw powlekający i właściwości tego przykładu podano poniżej:
| grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 2-10-3 m (2 mm) | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: AlN ZnAlOx | 1,5-10-8 m (150 A) 1,8-10-8 m (180 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 1,1-10-8 m (110 A) | |
| bariera nad ZnAl | 1,5-10-9 m (15 A) | Al/Zn=0,05 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 7,8-10-8 m (780 A) | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 9,5-10-9 m (95 A) | |
| bariera nad ZnAl | 1,5-10-9 m (15 A) | Al/Zn=0,05 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx AiAlxNy | 1,3-10-8 m (130 A) 9-10-9 m (90 A) | Al/Zn=0,1 Al/Si=0,5 |
SiAlxNy oznacza mieszany azotek zawierający glin i krzem w stosunku atomowym Al/Si co najmniej 0,1, korzystnie co najmniej 0,15, 0,2, 0,3, 0,4 lub 0,5 i w tym przypadku stosunek atomowy Al/Si wynosi 0,5. ZnAlOx oznacza mieszany tlenek zawierający Zn i Al naniesiony w tym przykładzie metodą reaktywnego napylania z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn z Al, w obecności tlenu. Bariery ZnAl naniesiono podobnie metodą napylania katodowego z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn i Al w zasadniczo obojętnej, nie zawierającej tlenu atmosferze.
Co najmniej część każdej wierzchniej warstwy zostaje utleniona podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych. Niemniej jednak, część tych barier pozostaje korzystnie w postaci metalicznej lub co najmniej w postaci niecałkowicie utlenionego tlenku i stanowi barierę podczas następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej przedniej szyby samochodowej i wykazuje on następujące właściwości:
PL 199 526 B1
| właściwość | przed wygrzewaniem (patrz uwaga 1 poniżej) | po wygrzewaniu (patrz uwaga 2 poniżej) |
| Tl (iluminant A) | 66% | 76% |
| TE (system Moon 2) | 34% | 44% |
| zamglenie | 0,1 | 0,23 |
| a* | -12 (strona powleczona) | -6 (zewnętrzna) |
| b* | +23 (strona powleczona) | -8 (zewnętrzna) |
| RE (system Moon 2) | 28% (strona powleczona) | 31% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: zmierzono dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed wygrzewaniem.
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 625°C w ciągu 10 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m (2 mm) przezroczystym arkuszem szkła i z 7,6-10-4 m (0,76 mm) przezroczystym PVB.
Wygrzewanie powoduje korzystnie zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych.
Współrzędne barw podane w przykładach są szczególnie odpowiednie do zastosowań w przednich szybach samochodowych, ponieważ dają neutralny lub słabo niebieski lub słabo zielony wygląd w odbiciu, jeśli szybę samochodową ustawić pod kątem do karoserii samochodowej. Dla innych zastosowań, na przykład zastosowań w budownictwie, barwę w odbiciu można nastawiać sposobem znanym w technice przez nastawienie grubości warstw dielektrycznych i/lub warstwy/warstw odbijających w podczerwieni.
Dodatkowe warstwy można, jeśli jest to potrzebne, wprowadzać nad, pod lub między zestaw folii, bez odchodzenia od zakresu niniejszego wynalazku.
Oprócz korzystnych właściwości optycznych, jakie można uzyskać, każdy z przykładów daje warstwę powlekającą, która może być ogrzewana elektrycznie, na przykład w ogrzewanej elektrycznie szybie samochodowej, w celu usuwania zamglenia i/lub szronu, po wprowadzeniu odpowiednio umieszczonych łączników elektrycznych.
Wartość TL panelu oszkleniowego można dostosować do przewidywanego zastosowania. Na przykład:
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako szyba samochodowa na rynku europejskim, to można wybrać wartość TL większą od 75% (zgodnie z wymaganiami przepisów europejskich);
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako szyba samochodowa na rynku amerykańskim, to można wybrać wartość TL większą od 70% (zgodnie z wymaganiami przepisów amerykańskich);
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia boczna szyba samochodowa, to można nastawiać wartość TL większą od 70% (zgodnie z wymaganiami przepisów europejskich);
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako tylna boczna szyba samochodowa lub jako tylna szyba samochodowa, to można wybrać wartość TL w zakresie od około 30% do około 70%.
Takie nastawianie wartości TL można uzyskać na przykład:
- przez dobranie grubości warstw zestawu powlekającego, w szczególnoś ci grubości warstw dielektrycznych i/lub warstw odbijających w podczerwieni;
- przez połączenie zestawu powlekają cego z podł o ż em barwnego szkł a, na przykł ad dla zwię kszenia selektywności;
- przez połączenie zestawu powlekają cego z barwnym PVB lub z inną warstwą laminują c ą . Słownik.
O ile z kontekstu nie wynika, że jest inaczej, to podane poniż ej terminy w niniejszym opisie mają następujące znaczenia:
PL 199 526 B1
| a* | współrzędna barwy mierzona na skali CIELab pod normalnym kątem padania | |
| Ag | srebro | |
| Al | glin | |
| AI2O3 | tlenek glinu | |
| AlN | azotek glinu | |
| b* | współrzędna barwy mierzona na skali CIELab pod normalnym kątem padania | |
| Bi | bizmut | |
| Cr | chrom | |
| zamglenie | procent przepuszczonego światła, które przechodząc przez próbkę odchyla się do padającej wiązki w wyniku rozproszenia w przód, pomiar według normy ASTM D 1003-61 (powtórne zatwierdzenie 1988) | |
| Hf | hafn | |
| materiał odbijający w podczerwieni | materiał mający współczynnik odbicia większy niż współczynnik odbicia szkła sodowo-wapniowego w pasmie fal o długości od 7,8-10-7 m (780 mm) do 5-10-5 m (50 Lim) | |
| Na | sód | |
| Nb | niob | |
| NiCr | stop lub mieszanina niklu i chromu | |
| NiTi | stop lub mieszanina niklu i tytanu | |
| RE | odbicie energetyczne | strumień słoneczny (świecący i nieświecący) odbity od podłoża, w procentach padającego strumienia słonecznego |
| Sb | antymon | |
| selektywność | stosunek współczynnika przepuszczalności światła do czynnika słonecznego | |
| SiO2 | tlenek krzemu | |
| Si3N4 | azotek krzemu | |
| SnO2 | tlenek cyny | |
| Ta | tantal | |
| TE | współczynnik przepuszczania energii | strumień słoneczny (świecący i nieświecący) przepuszczony przez podłoże, w procentach padającego strumienia słonecznego |
| Ti | tytan | |
| TL | współczynnik przepuszczania światła | strumień światła przepuszczonego przez podłoże, w procentach padającego strumienia słonecznego |
| Zn | cynk | |
| ZnAl | stop lub mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnAlOx | mieszany tlenek zawierający cynk i glin | |
| ZnAlOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnO | tlenek cynku | |
| ZnTi | stop lub mieszanina zawierająca cynk i tytan | |
| ZnTiOx | mieszany tlenek zawierający cynk i tytan | |
| ZnTiOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cynk i tytan | |
| Zr | cyrkon |
PL 199 526 B1
Claims (11)
1. Panel oszkleniowy z naniesionym zestawem powlekającym zawierający w sekwencji co najmniej:
podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą w podczerwieni i wierzchnią warstwą przeciwodblaskową, znamienny tym, że dolna warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej:
a) warstwę mieszanego tlenku, który zawiera tlenek będący mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, w którym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, i w którym X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i
b) warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr, lub wierzchnia warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę mieszanego tlenku, który zawiera tlenek będący mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, w którym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, i w którym X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i pokrywającą warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr.
2. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodblaskową, zawierającą warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr i warstwę wierzchnią mieszanego tlenku, która zawiera tlenek, który jest mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, przy czym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, a X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi, warstwę odbijającą w podczerwieni zawierającą srebro, warstwę barierową, wierzchnią warstwę przeciwodblaskową, zawierającą warstwę tlenku mieszanego, która zawiera tlenek, który jest mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, przy czym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, a X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i pokrywającą warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr.
3. Panel oszkleniowy według zastrz. 1 albo 2, zawierający w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą w podczerwieni, środkową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą w podczerwieni, wierzchnią warstwę przeciwodblaskową, znamienny tym, że co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej:
a) warstwę mieszanego tlenku, który zawiera tlenek będący mieszaniną Zn z co najmniej jednym dodatkowym materiałem X, w którym stosunek atomowy X/Zn mieści się w zakresie od 0,03 do 1, i w którym X oznacza jeden lub kilka materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Ta, Zr, Nb, Bi i
b) warstwę, która zawiera azotek zawierający co najmniej jeden z materiałów Al, Si i Zr.
4. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że X oznacza jeden lub kilka materiałów wybrany z grupy obejmującej Ti i Al.
5. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że warstwa barierowa znajduje się pod co najmniej jedną lub pod każdą warstwą odbijającą w podczerwieni.
6. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że panelem oszkleniowym jest wygrzewalny panel oszkleniowy lub wygrzewany panel oszkleniowy nie zawierający zamglenia.
7. Panel oszkleniowy według zastrz. 6, znamienny tym, że środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę mieszanego tlenku zawierającą co najmniej jeden z ZnAlOx i ZnTiOx.
8. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Zn w warstwie mieszanego tlenku jest w zakresie od 0,05 do 0,6.
9. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Zn w warstwie mieszanego tlenku mieści się w zakresie od 0,08 do 0,5.
PL 199 526 B1
10. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że panelem oszkleniowym jest wygrzewalny panel oszkleniowy lub wygrzewany panel oszkleniowy nie zawierający zamglenia, przy czym panel oszkleniowy wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5% po wygrzewaniu.
11. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego mającego zamglenie mniejsze od 0,5, znamienny tym, że obejmuje etap wygrzewania panelu oszkleniowego określonego w zastrz. 1 w temperaturze co najmniej 570°C.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204314 | 1998-12-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL350143A1 PL350143A1 (en) | 2002-11-04 |
| PL199526B1 true PL199526B1 (pl) | 2008-09-30 |
Family
ID=8234487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL350143A PL199526B1 (pl) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1147066B1 (pl) |
| JP (1) | JP4359980B2 (pl) |
| AT (1) | ATE239677T1 (pl) |
| CZ (1) | CZ294113B6 (pl) |
| DE (1) | DE69907747T2 (pl) |
| ES (1) | ES2198987T3 (pl) |
| HU (1) | HU223651B1 (pl) |
| PL (1) | PL199526B1 (pl) |
| SK (1) | SK286398B6 (pl) |
| WO (1) | WO2000037381A1 (pl) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2258477T3 (es) | 1999-10-14 | 2006-09-01 | Glaverbel | Vidrio. |
| FR2818272B1 (fr) * | 2000-12-15 | 2003-08-29 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique |
| DE102004001655A1 (de) * | 2004-01-12 | 2005-08-04 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co.Kg | Mit einer Wärmeschutzschicht beschichtetes Substrat |
| EP1577276A1 (en) * | 2004-03-05 | 2005-09-21 | Glaverbel | Glazing panel |
| US7189458B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-03-13 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7198851B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-04-03 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7217461B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-05-15 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| CL2007003233A1 (es) * | 2006-11-09 | 2008-05-30 | Agc Flat Glass North America | Recubrimiento optico sobre un sustrato que comprende, en direccion hacia afuera desde el sustrato, una capa aumentadora de la durabilidad, una capa de nucleacion y una capa reflectante de infrarrojos; unidad de ventana; y metodo para hacer una pelicu |
| GB0712447D0 (en) | 2007-06-27 | 2007-08-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| GB0823501D0 (en) | 2008-12-24 | 2009-01-28 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| FR2970248B1 (fr) * | 2011-01-06 | 2019-08-30 | Saint-Gobain Glass France | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques, en particulier pour realiser un vitrage chauffant. |
| JPWO2012099124A1 (ja) | 2011-01-18 | 2014-06-30 | 旭硝子株式会社 | 合わせガラス及び合わせガラスの製造方法 |
| GB201102724D0 (en) * | 2011-02-17 | 2011-03-30 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2046161C (en) * | 1990-07-05 | 2001-08-21 | Masami Miyazaki | Low emissivity film |
| DK0758306T3 (da) * | 1994-05-03 | 1999-05-10 | Cardinal Ig Co | Transparent genstand med beskyttelsesfilm af siliciumnitrid |
| DE19520843A1 (de) * | 1995-06-08 | 1996-12-12 | Leybold Ag | Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
| CA2179853C (en) * | 1995-06-26 | 2007-05-22 | Susumu Suzuki | Laminate |
-
1999
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010074 patent/WO2000037381A1/en active IP Right Grant
- 1999-12-15 HU HU0104884A patent/HU223651B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-15 AT AT99968353T patent/ATE239677T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 DE DE69907747T patent/DE69907747T2/de not_active Revoked
- 1999-12-15 SK SK837-2001A patent/SK286398B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 PL PL350143A patent/PL199526B1/pl unknown
- 1999-12-15 ES ES99968353T patent/ES2198987T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 EP EP99968353A patent/EP1147066B1/en not_active Revoked
- 1999-12-15 CZ CZ20012221A patent/CZ294113B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-12-16 JP JP35778099A patent/JP4359980B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CZ294113B6 (cs) | 2004-10-13 |
| HUP0104884A2 (en) | 2002-11-28 |
| PL350143A1 (en) | 2002-11-04 |
| ES2198987T3 (es) | 2004-02-01 |
| JP2000229376A (ja) | 2000-08-22 |
| WO2000037381A1 (en) | 2000-06-29 |
| SK8372001A3 (en) | 2002-01-07 |
| HU223651B1 (hu) | 2004-11-29 |
| EP1147066A1 (en) | 2001-10-24 |
| DE69907747D1 (de) | 2003-06-12 |
| DE69907747T2 (de) | 2004-02-26 |
| SK286398B6 (sk) | 2008-09-05 |
| EP1147066B1 (en) | 2003-05-07 |
| ATE239677T1 (de) | 2003-05-15 |
| JP4359980B2 (ja) | 2009-11-11 |
| CZ20012221A3 (cs) | 2002-02-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1154965B1 (en) | Glazing panel | |
| PL201781B1 (pl) | Panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia, sposób wytwarzania panelu oszkleniowego | |
| JP4385460B2 (ja) | ガラス積層体、およびその製造方法 | |
| JP3515392B2 (ja) | 金属被覆物品とその製法 | |
| EP1230189B1 (en) | Glazing | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| KR20080109899A (ko) | 피복 판유리 | |
| PL199526B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego | |
| PL199886B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |