PL107277B1 - Sposob nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla oraz urzadzenie do nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla - Google Patents

Sposob nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla oraz urzadzenie do nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla Download PDF

Info

Publication number
PL107277B1
PL107277B1 PL1976190302A PL19030276A PL107277B1 PL 107277 B1 PL107277 B1 PL 107277B1 PL 1976190302 A PL1976190302 A PL 1976190302A PL 19030276 A PL19030276 A PL 19030276A PL 107277 B1 PL107277 B1 PL 107277B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
glass
gas
ribbon
coating
glass surface
Prior art date
Application number
PL1976190302A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL107277B1 publication Critical patent/PL107277B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/453Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/25Metals
    • C03C2217/263Metals other than noble metals, Cu or Hg
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Gloves (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób naklada¬ nia powlok na plaska powierzchnie szkla oraz urzadzenie do nakladania powlok na plaska po¬ wierzchnie szkla.Znany jest sposób nakladania powlok na plaska powierzchnie goracego szkla poprzez stykanie szikla z gazowym materialem przy cisnieniu atmo¬ sferycznym. Jednakze otrzymanie równomiernego pokrycia na przesuwajacej sie wstedze szkla 7c pomoca tego sposobu nastreczalo duze trudnosci.W opisie paitentowyim Stan. Zjednoczonych nr 3 850 679 dla uzyskania bardziej jednorodnych po¬ wlok otrzyimywarnych na drodze chemicznego \vy- (trajcainia z par pncipomuje sie kierowanie gazowe¬ go mafterialiu na powierzchnie szkla poprzez kon¬ cówke wylotowa, przy czym liczba Reynoldsa wynosi co najmniej 2500. Przy pokrywaniu ciag¬ lej wstetgi liufo tafli szklanej • przesuwajacej sie z diuiza szyibkoscia dla przeplywajacego gazu zaleca sie liczbe Reynoldsa wynoszaca co najmniej 50O0.Przy liczbie Reynoldsa wyzszej niz 2500 przeplyw gazu ma charakter tuntaudenitny.Celem wynalazku jest 'opracowanie sposobu uimozilftwiajacegó równomierne pokrywanie pla¬ skich powierzchni goracego szMa przy przeply¬ wie gaizo w kierunku rówmoleglyim do powierzchni przesuwajacej sie wstegi szkla przy czym nakla- damie pcwlck odbywa sie wówczas w warunkach przeplywu laminarnejgo. w odróznieniu od warun- 10 15 20 30 ków omówionych powyzej, gdzie przeplyw gazu ma charakter tarfoulcntny.Cel wyinalaizku zastal osiagniety przez opraco¬ wanie sposobu powlekania plaskich powierzchni szkla który polega na tym, ze kieruje sie gaz z rozdzielacza usytuowanego poprzecznie do przesu¬ wajacej sie wstegi szkla na powierzchnie jego, prizy czym powoduje sie ze przeplyw gazu w kie¬ runku równoleglym do powierzchni szkla jest Ja- minarnyim, a na calej szerokosci szklanej wstegi ma charakter jednorodny. Sposób ten, obok in¬ nych zastosowan, jest szczegól/nie pnzydafaiy przy nakladaniu powlok na szklo gorace, przykladowo wstege szkla. Ga,z uzywany przy powlekaniu po¬ wierzchni szklanych zawiera gaiziowy material, np. pary metalu, który kondensuje na powierzchni szkla. Wynalazek jest szczególnie przydatny przy nakladaniu powlok powstajacych na skutek ze¬ tkniecia sie z goraca powierzchnia szkla w wyni¬ ku, którego materia- powlekajacy osadza sie na szkle.Korzystnie jest jesli takdimi gazami sa lotne karbonylki metali luib wodorki, ulegajace rozkla¬ dowi przy zetknieciu sie z goracym szklem, badz tez silany, szczególnie krzemometain, ulegajace pi¬ rolizie, w wyniku której krzem osadza sie na pó- wienzchmi szkla.Gaz stosowany do powlekania goracego szkla maze byc równiez mieszanina zawierajiaca jeden lub wiecej zwiazków omówianyeh wyzej, badz 107 2773 10T277 4 tez mieszanina dwóch zwiajzków, z których jed¬ nym jest np. halogenek jakiegos metalu a dru¬ gim zwiazek lub pierwiastek z nim reagujacy, np. tlem luib zwi,azek tlenowy, w wyniku reaikcjd za¬ chodzi proces wytracania sie substancji powle¬ kajacej na powierzchni szkla. Gaz wykorzysty¬ wany do nakladania powlok moze równiez zawie¬ rac, jezeli jest to wymagane, skladnik obojetny, np. azot, bedacy gaizem nosnym.Temperatura gazu jest regulowana dila zapobie¬ zenia przedwczesnemu wyitracaniu sie stalego ma¬ terialu powiekajaceigo prlzed zetknieciem sie gazu z goraca powierzchnia sdkla. W tym celu tempe¬ ratura utrzymywana w doprowadzajacych gaz kanalach rozdzielacza musi byc na tyle wysoka, aby zapobiec kondensacji gazu, a z drugiej, strony dostatecznie niska, aby uniknac rozkladu gazu przed jego zetknieciem sie z powierzchnia szkla.Gaz, wykorzystywany przy nakladaniu powlok do¬ prowadza sie bez klopotu na powierzchnie szkla przy cisnieniu atmosferycznym. Wyzsze lub n/z- sze cisnielnia moga byc stosowane z zachowaniem nalezytej ostroznosci, jako ze w tym przypadku dazenie do wyrównania cisnien zaklóca, skiero¬ wany równolegle do powierzchni szkla przeplyw laminarny gaizu badz tez prowadzi do niepozada¬ nego utleniania, sie gazu z miejsca przeznaczone¬ go do pokrycia. Najczesciej gaiz jest kierowany równolegle do powierizchni szkla na calej szero¬ kosci wstegi, przy czym w calym tym obszarze utrzymuje sie jednakowe cisnienie. Umozliwia to utrzymanie warunków do laminarnego przeplywu gazu, a takze pomaga w osiagnieciu równomier¬ nego pokrycia.W celu uzyskania* równomiernego pokrycia po¬ zadanym jest, aby wstega szkla: byla obrabiana jednakowo na calej swej sizerokosci przeznaczonej do powlekania konzyjstaiyim jest aiby kieruneK przeplywu gazu byl rzeczywiscie równolegly do plaszczyzny wstegi jak i. kierunlkiu prizesuwania sie tej wstegi. Kierunek przeplywu gazu moze pokrywac sie z kierunkiem ruchu wstegi badz tez moze miec zwrot przeciwny w stosunku -, do tego ostaitmiego. Stwfierdizono jednaka ze utrzyma¬ nie warunków dla laminarnego przeplywu naj¬ latwiej osiagnac, jezeli gaz skierowany jest w kierunku pokrywajacym sie z kierunkiem ruchu wstegi szkla.Cejl wynalazku zostal równiez osiagniety przez skonstruowanie urzadzenia do nakladania powlok na plaskie powierzchnie szkla, majace podpore dla wstegi szkla gazowy rozdzielacz usyifcuowany po¬ przecznie wizgledem wstegi, oraz. mechanizm przy¬ stosowany do przesuwania szkla wzgledem roz^ dzielaoza, który zawiera przewód1 doprowadzaja- ,cy, gaz, oraz kanal- prowadzacy, którego kontury stanowia odpowiednio uksztaltowane . scianki za¬ pewniajace przeplyw gazu, oraz zabezpieczajac-e jego laminarny przeplyw gazu w kierunku rów¬ noleglym do powierzchni goracego szkla.Dla utrzymania, równomiernego rozkladu gazu na calej szerokosci wstegi. szkla pomiedzy prze¬ wód doprowadzajacy gaz i kanal prowadizacy mc-? ze byc wprowadzona przepustnica. Przepustn-ce tworzy uklad kanalów umieszczonych miedzy przewodem doprowadzajacym gaz. i kanalem pro¬ wadzacym, a charakteryzujacych sie malymi pj- wierachniami przekrojów poprzecznych. Rozmiary powyzszych kanalów sa takie, ze spadek cisnie- 5 nia wzdluz przewodu doprowadzajacego gaz jest maly w porównaniu ze spadkiem cisnienia wzdluz kanalów.Urzadzenie db nakladania powlok na plaskie powierzchnie goracego szkla moze równiez zawie- 2i rac mechanizm do kontroli temperatury scianek, które wyznaczaja droge przeplywu gazu w kierun¬ ku równoleglym do powierizchni szkla. Mecha- niizm do kontrolii temperatury ma izolacje cieplna miedzy przewodem doprowadzajacyim gaiz a scian- lg kami.Zgodnie z niniejszym wynalazkiem, do urza¬ dzenia wprowadza sie odpowiednio uksztalfcoware scianki umozliwiajace odprowadzanie gazu z po¬ wierzchni szkla po osadizemiu sie nai nim materia- 2o lu pokrywajacego.Urzadzenie db nakladania powlok na plaskie powierzchnie goracego szkla moze zawierac me¬ chanizm pnzedmiuohuijajcy do rozpraszania gazu odprowadzanego z powierzchni szkla po osad ze- 25 niu sie na nim materialu pokrywajacego*. Takze wyciag mozna wprowadzic we wlasciwe dla niego miejsce.W urzadzeniu wedlug wynalazku rozdzie¬ lacz gazu ma centralny blok, oraz dwa czlo- 30 ny boczne usytuowane w polozeniu stycznym do bloku centralnego tworzac w ten sposób kanal prowadzacy o ksztalcie litery „U" dla gazu wy¬ plywajacego z przepuistnicy, prizy czym kontury kanalu wyznacza pierwszy czlon boczny i scianka 35 boczna bloku centralnego., dolna scianka bloku centralnego i powierzchnia szkla, oraz drugi czlon boczmy i scianka bloku centralnego.Najczesciej pierwszy i drugi czlon boczny sie¬ gaja niemal do powierzchni poruszajacej sie 40 wstegi a ich dolne scianki sa usytuowane równo¬ legle do powierzchni szkla co umozliwia zredu- kowanae do minimum utleniania sie gazów mie¬ dzy powierzchnia szkla a dolnymi sciankami czlo¬ nów bocznych. 45 Przedmiot wynalazku zostal zilustrowany w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. i przedstawia urzadzenie z plynnym szklem w przekroju podluznym z uwidocznionym zbior- n ikieim zawierajacym wanne z plynnym metalem, 50 oraz rozdzielacz jgazU ulozony'" poprzecznie wzgle¬ dem kierunku przesuwania sie wistegi szkla w poblizu wylotu urzadzenia, fig. 2 — rozdzielacz ze szczególami w przekroju podluznym wzdluz linii II-—II zaznaczonej na fig. 4, fig. 3 '— czesc 55 przepustndcy uwidoczniona na fig. 2 w powiek¬ szeniu, fig. 4 — praepustaiica w przekroju wzdluz linii IV—IV z fig. 4, fiig. 5 — przepustnica w rzucie z boku,, w czesciowym, przekroju wzdluz linii V-—V z fig. 4, fig. 6 —.szczegól urzadzenia 60 stosowany do ustawiania i podpierania rozdzie¬ lacza gazu nad przesuwajaca sie wstega szlela.W prezentowanej konstrukcji nakladanie po¬ wloki odbywa sie w poblizu czesci wylotowej wanny przed uniesieniem wstegi szkla z por- 65 wierzchni plynnego metalu, na której wstega ze-5 stala uformowana. Na fig. 1 stopione szklo 1 jest dostarczane w klasyczny sposób kanalem 2 pro¬ wadzacym z zasilacza pieca do topienia szkla.Kanal 2 konczy sie rynna spustowa majaca bocz¬ ne elementy 3 i dziobak 4, a przeplyw stopionego szkla do ryinny spustowej, zazwyczaj szkla krze- mianowegio sodcwo^waipniowego, jest kontrolo¬ wany przeiz przyslone regulacyjna 5. Rynna spu¬ stowa jest usytuowana nad wylotowa scianka 6 zbiornika skladajacego sie z dna 7, wylotowej scianki 8, oraz bocznej scianki 9.Zbiornik zawiera wanne 10 z cieklym metalem, którym zazwyczaj jest stopiona cyna lub jej sto¬ py, a stapiane, szklo plynie, co zaznaczono odnos¬ nikiem 11, nad dziobkiem 4 rynny spustowej wprost na powierzchnie cieklego metalu w ..wan¬ nie 10 przez czesc wlotowa wanny, gidzie przy pomocy podgrzewaczy 12 utirizyiimije sie tempera¬ ture w granicach okolo 1000°C. Podgrzewacze te zainstalowane sa na konstrukcji sklepieniowej . 13 utrzymywanej nad zbiornikiem, przy czym konstrukcja 13 okresla wielkosc przeswitu II istniejacego nad wanna z plynnym metalem.Konstnukoja sklepieniowa ma scianke wlotowa 15, która jest wprowadzona w dól niemal do po¬ wierzchni wanny 10 tworzac w czesoi wlotowej wanny otwór wlctcwy 16 o ograniczonej wysoko¬ sci. Przedluzenie 17 konstrukcji sklepieniowej se- ga aiz do przyslony reguiacyijnej 5 twonzac w ten spesób kom-ore, w której zamkniejta. jest rynna spustowa.W czesci wylotowej konstrukcja sklepieniowa ma równiez scianke 19 schodzaca pionowo w dól.Dolna powierzchnia wylotowej scianki 19 nale¬ zacej do konstaikcji sklepieniowej, oraz górna powierzchnia wylotowej scianki 8 nalezacej do wanny wyanaczaja granice- otworu wylotowego 20 dla wstegi szkla 21. Napedzane rolki 22 sa uimieszcizone ponizej otworu wylotowego 20 w ten sposób, ze ich górne powierzchnie leza tuz ponad górna powierzchnia wylotowej scianki 3 nalezacej do wanny, przez co wstega szkla uno¬ szona jest w tym miejscu lagodnie z powierzchni wanny a za otworem wylotowym 20 przemieszcza sie Juz poziomo na rolkach 22. W przestrzeni przeswitu 14 utrzymuje sie artmosfere ochronna zawierajaca korzystnie 95% azotu i 5% wodoru.Mieszanina ta dostarczana jest przewodami 23 biegnacymi w dól przez konstrukcje sklepienio¬ wa 13, pirzy czym przewody te polaczone sa z jed¬ na wspólna nura roagalezna 24. Mieszanina ochronna przeplywa na zewnajtrz poprzez otwór wlotowy 16 do komory 17 zawierajacej wewnatrz rutre spustowa.Wzdluz powierzchna warmy iitazymuje sie. gra¬ dient temperatury, przy czyim temperatura w czesci wlotowej wanny wynosi okolo 1000°C w czesci wylotowej, gdzie wstega wyplywa z wan¬ ny, waha sie w granicach od 57-0°C do G50°C.Plrzy temperaturze 570—650°C szklo jest juz do¬ statecznie sztywne, alby nie ulec uszkodzeniu przy zetfldndeciu sie z roUcami tZ ale nadal jest w stanie, który umozliwia uniesienie go z po¬ wierzchni wanny.Stopione szklo 11 plynace nad dziobkiem 4 ryn- 7 277 J ny spustowej rozlewa sie po calej powie-rzenni wanny tworzac warstwe 25, która jest nastepnie przesuwana do pnzodu jako wstega 21. W trak¬ cie przesuwu wstega 21 jest chlodzona, a nastep- 5 nie usuwana z powuenzchni wanny. Szerokosc zbiornika zawierajacego wanne miedzy sc;ankami bocznymi 9 jest wieksza niz szerokosc wstegi.Rozdzielacz 26 doprowadzajacy gaz na po¬ wierzchnie wstegi szklanej jest umieszczony w 10 poblizu czesci wylotowej poprzecznie do kierun¬ ku ruchu przesuwajacej sie wstegi (fig. 1). Roz¬ dzielacz umieszczony jest prostopadle zarówno da górnej powierzchni wstegi szkla jak i kierunku ruchu tej wstegi. Rozdzielacz 26 potoaizany je?*, 1S bardziej szczególowo na fig. 2, 3 i 4. W jego sklad wchodzi komora 27 z odslonieta w dolnej czesci powierzchnia czolowa, pnzy czym ksztalt komory zapewnia uzyskanie przeplywu laminacnego gazu rówmoiegfle do powieractond sztaia. 20 Rozdzielacz 26 (fig. 2) ma element kanalowy 28, którego przekrój ma ksztalt odwróconej litery „U". Element ten ma dwie scianki boczne 29 : 30 oraz scianke górna 31. Kanal wewnatrz elemen¬ tu 28 podzielony jest pionowa przegroda 32 przy- 25 spawana do górnej scianki 31 w miejsca ozna¬ czonym 33. Poziome elementy 34 i 35 usytuowane sa wewnatrz miedzy scianka boczna 29 prze¬ groda 32. w ten sposób, ze stykaja, sie z ich dol¬ nymi koncami, pnzy czym elementy te tworza ra* M zem wydluzona szczeline 36. Drugi, mniejszy ele¬ ment kanalowy 37, którego przekrój ma równiez ksztalt oiriwiraconej litery „U", umieszczony jest pomiedzy scianka boczna 29 i przegroda 32, przy ozyim jego dolne krawedzie pnzyspawane sa do H pozornych elementów 34 i 35. Poziomy element 38 przyspawany jest zairówmo do podstawy pio¬ nowej przegrody 32 jak i do scianki 30 usytuo¬ wanej nad tym elementom.Elementy kanalowe 28 i 37 razem z poz;ornymi 41 elementami 34 i 35 tworiza przewód 39 majacy w przekroju ksztalt odwróconej litery ,,U'* a przeznaczony do przeplywu cieczy, której zada¬ niem jest wymiana ciepla, natomiast prostokatny przewód powrotny 40 zworzony jest przez scian- 4i ke boczna 50, górna solanke 31, przegrode 32 i pozicmy element 38. Wewnetrzna powierzchnia elementu kanalowego 37 razem z poziomymi ele¬ mentami 34 i 35 tworza pnzewód 41 doprowadza¬ jacy gaz. Pirzepustnica 42 ma element 43 pnzy- n pominajacy swa budowa wafle, który umieszczony jest miedzy plytkami wspierajacymi 44. Prze- pustnica przymocowana jest do spodu poziomych elementów 34 i 35 za pomoca sworzni 45, które wkreca sie w klocki 46 ulozone wztdluz dolnych 34 rogów przewodu 41 po obydwu stronach szczeliny 36. Element 43 i szczelina 36 ulozone sa wówczas w Jednej linii.Na lig. 3, centralny element 43 przypominaja¬ cy swa budowa wafel sklada sie z podobnych, M fafófstych pasków metalowych 47 ulozonych w ten sposób, ze tworza one uklad kanalów 48, przy czym powierzchnia przekroju poprzecznego kazdego z nich jest nielwielka w porównaniu z powierzchnia przekroju przewodu 41 doprowa- m dbajacego gaz. Róznice te powoduja, ze przy do-7 107 277 8 starczaniu gazu pod cisnieniem do przewodu 41 przez przewody 49, na obydwu koncach rozdzie¬ lacza, (fig. 4), spadek cisnienia wzdluz przewodu 41 jest niewielki w porównaniu ze spadkiem c s- nienia wzdfluz kanalów 48. Stad) element 43 two¬ rzy efektywnie dzialajacy mechanizm, który po¬ zwala na przepuszczanie gazu wzdluz calej jego drogi przy rzeczywiscie stalym cisnieniu i tem¬ peraturze. Umozliwia to uzyskanie jednorodnego przeplywal na calej szerokosci wstegi szklanej przeznaczonej do pokrycia.Bloki 50, 51, 52 i 53 tworza komore 27 w ksztalcie litery „U". Jej odslonieta powierzchnia czolowa rozposciera sie nad cala szerokoscia wstegi szkla. 21. Blok 50 rma górna sekcje 54 i dolna sekcje 55 podzielone warsttwa 56 wlókni¬ stej izolacji eiepUneg.. Odpowiednio uksztaltowany blok 51 równiez ma strukture warstwowa zloco¬ na z górnej i dolnej sekcji, oznaczonych odjpo- wdedlnio przez 57 i 58, i rozdzielajacej je warstwy 59 wlóknistej izolacji cieplnej. Warstwy 56 i 59 kontroluja przeplyw ciepla miedzy przewodem 41 doprowadzajacym gaiz a komora 27.Do zewneitrznej powierzchni scianki bocznej 30 elementu kanalowego 28 pnzyspawana jest duza ilosc równo rozmieszczonych czesci 60. Analogicz^ rie czesc 61 nolzmdeszczone sa w tej galezn komo¬ ry 27, w której gaz wedruje pionowo w góre.Gzesci Cl oddzielaja bloki 52 i 53. Gzesci 61 i blok 52 przymocowane sa do czesci 60 sworzniami 62 o lbach wpustzozanyich w czesci 61. Blok 53 przy¬ twierdzony jest sworzniami 63, które osadzone sa w czesciach 61.Sworznie 63 przymocowuja równiez do scianki rozdzielacza ulozone poziomo wsporniki zabezpie¬ czajace 64 i 65. Sworznie te podltrzymuija takze prizewód 66 majacy wydluzona szczeline, która stanowi koncówke wylotowa, umozliwiajaca do¬ prowadzenie gaizu pod cisnieniem.Powierzchnie bloków 50, 51, 52 i 53 tworzacych scianki komory 27 sa gladkie i uksztaltowane tak, azeby uniknac turbulencji a zapewnic jedynie laminarny przeplyw gazu nad powierzchnia szkla.Dofc&aitkowe bloki 67 i 68 sa przytwierdzone do tylnej czesci bloku 53 odpowiednio w jego gór¬ ne/j i dojLnej partii ulatowiaflac w ten sposób kon¬ trole przeplywu gazu. Nizszy, dodatkowy blok 68 umieszczony jest w pozycji poziomej tuz przy powierzchni warstewki gazu ograniczajac w ten sposób przeplyw gazu pod Wlokiem 53. Górny, do¬ datkowy blok 67 usytuowany jest poziomo, przy czym jego poczatek zaczyna sie przy górnej czesci komina tworzacego przez bloki 52 i 53.W ten sposób blok*-57 kieruje gazem ulatnia¬ jacym sie z komina^" zabezpieczajaic tym samym wstege szkla przed zbyt szybkim, ponownym zerknieciem sie z gazem. Jak pokazano na fig. 1, w sasiedztwie otworu wylotowego komina two¬ rzonego przez bloki 52 i 53 zainstalowany jest wzdluz rozdzielacza wyciag majacy przewód upustowy 69. Wyciag- ten umozliwia usuniecie nadwyzek gazu gromadzacego sie nad po¬ wierzchnia wstegi szkla. Fnzewód upustowy 69 jest ulozony tak, ze usuwanie gazu nfie za-burza przeplywu laminarnego nad wspomniana po¬ wierzchnia.Ciecz przeznaczona do wymiany ciepla, np. wo¬ da chlodzaca, dostarczana jest do jednego z kon- 5 ców rozdzielacza znajdujacego sie na zewnatrz zbiornika (fig. 4). Rura doprowadzajaca ciecz polaczona jest z przewodem 39, a wiec c^ecz ply¬ nie przewodem 39 do drugiego konca rozdzielacza a nastepnie przez nie pokazany otwór w prze- 10 grodzie 32 do przewodu powrotnego 40 w ele¬ mencie 28. Ciecz plynie przewodem powrotnym 40 do rury odiprowadlziajacej, równiez nie poka¬ zane}, znajdujacej sie w tym samym koncu roz¬ dzielacza co i rura 70 doprowadzajaca ciecz. Ten 15 sposób dostarczania cieczy zapewnia kontrolowa¬ nie temperatury przewodu 41 doprowadzajacego gaz a stad i temperatury gazu w tym przewo- di7.jp.Fig. 2 pokazuje sposób rozmieszczenia bloków 20 50, 51, 52 i 53 w centralnej czesci rozdzielacza nad cala szerokoscia wstegi szkla przeznaczonego do pokrycia. Wydluzona szczelina 36 jest wiec usytuowana nad centralna czescia przewodu 41 doprowadzajacego gaz a jednoczesnie siega ku 25 obydwu koncom tego przewodu. Ponizej wspom¬ nianych bloków przewód 41 doprowadzajacy gaz i przewód 39 doprowadzajacy wode chlodzaca po¬ siadaja ciagle dno tworzone przez plyte, która pnzyspawana jest do scianek 29 i 32. W celu 31 zapobiezenia boccnemu ulatnianiu sie gazu z ka¬ nalów tworzonych przez bloki 50, 51, 52 i 53, na koncu kazdego z bloków wprowadza sie bloki 71 ksztaltem swym przypominajace litere „L". Bloki 71 sa dostatecznie grube na to, aby uniemozliwic 35 ucieczke gazu z obszaru polozonego pod nim.Na fig. 4, rozdzielacz 26 jest polaczony w usta¬ lonych punktach 72 i 73 z belkami wspierajacymi 74 i 75, usytuowana po lewej strcmie belka 74 spoczywa na rolkach 76 (fig. 4) konturami prze- 40 rywanymi, pnzy czym te ostatnie umieszczone sa w korpusie 77. Rygiel 78 blokuje belke 74 unie¬ mozliwiajac jej przesuwanie sie wzgledem kor¬ pusu 77.Korpus 77 w widoku z góry ma ksztalt prosto- 45 katny. W rogacth korpuis ten wspierany jest przez cztery dzwigniki. Na fig. 4 dzwigniki 79 i 80 pod¬ pierajace jedna strone korpusu 77, zas analogicz¬ na para dzwigników umieszczona jest po drugiej stronie korpusu 77. Dzwigniki umocowane sa na 50 lozu 81, przy czym dzwigniki 79 i 80 sprzegniete sa ze soba za pomoca drazka napedowego 82 a ich regulowanie odbywa sie za pomoca kólka recznego 83. Analogiczna para dzwigników po drugiej stronie korpusu 77 jest regulowana w "55 podobny sposób.Usytuowana po prawej stronie (fig. 4) belka wspierajaca 75 spoczywa na elementach wspie¬ rajacych 84 i 85 ulozonych w stosunku do niej poprzecznie. Element wspierajacy 84 umocowany 60 jest swoimi koncami na dzwigniku 86 i anilo- gicznym dzwigniku, nie pokazanym na fig. 4, znaj¬ dujacym sie po drugiej stronie belki wspierajacej 75. Podobnie element wspierajacy 85 umocowany jest swymi koncami na dzwigniku 87 i analo- 65 gicznym dzwigniku usytuowanym po drugiej9 107 277 li stronie belki 75 a nie pokazanym na fig. 4.Dzwignika 86 i 87 oraz ich odpowiedniki po dru¬ giej stronie belki wspierajacych umieszczone sa na wóizkrd 88 posuwajacym sie po torze 89. Poka¬ zany na fig. 4 w6zek jest blokowany przez ry¬ giel 90. Dzwigniki 86 i 87 sa sprzegniete ze soba za pomioca drazka napedowego 91 a ich ustawia¬ nie odbywa sie za pomoca kólka recznego 92.Analogiczna para dzwigników jest regulowana w podobny sposób.Fig. 5 jest przekrojeni przeiz belke wspierajaca 74 w ustalonym punkcie 72, przekrój ten ilustru¬ je sposób podwieszania rozdzielacza gazowego 26 pod belki wspierajace 74 i 75. Belka 74 sklada sie z trzech prostokatnych kanalów 93, 94 i 95 ulozonych w tsn sposób, ze formoja odwrócona liiteire „U", przy cizypn kanaly 93 i 95 tworza ga¬ lezie tej litery. Na wewnetrznych krawedziach kanalów 93 i 95 znajduja sie toiry 96 i 97, po których poruszaja sie kola z wiencem oznaczone odpowiednio przez 98 i 99. Kola 98 i 99 obracaja sie wokól osi 100, na której sa umocowane. Kor¬ pus ma os 100 przy czym wewnatrz znajduje sie czop 101 Uisyitucwany prostopadle do osi. Element zawieszer.ilowy 102 dJLa rozdzielacza gazowego 26 jesat umocowany na czopie 101 w ten sposób, ze ma zdolnosc obracania sie wokól niego, natomiast z górna czescia rozdzielacza 26 element tein jest po prostu zespawany.- Kola 98 i 99 sa scisle dopasowane do rozmia¬ rów litery „U" [tworzonej przez kanaly 93, 94, 95.Stad pomimo swej zdolnosci do . obracania sie, kola te mocno tlkw.ia na swym miejscu a w Kon¬ sekwencji i czop 101 znajduje sie w ustalonym punkcie 72. W podobny sposób rozdzielacz gazu zawieszony jest ponizej belki wspierajacej 75 w ustalonym punkcie 73. Azeiby ustawic rozdzielacz nad wstega szkla .21, (belki wspierajace 74 i 75 wjezdzaja z dwu przeciwleglych stron do zbiorni¬ ka w .ten sposób, ze ruchwytty 103 na 'belce wspie¬ rajacej 75 zajmuja polozenie mliedzy wystajacymi podkladkami 104 na belce wispierajaceij 74. Belka wspierajaca 74 posuwa sie po rolkach 76, nato¬ miast belka 75 jest pnzesiuwana nucihem wózka 88 wzfdiuz (toru 89 przy chwilowo usunietelj ko¬ lumnie 105. Rozdzielacz 26 ^zasilany jest wówczas pnzez belki wspierajace 74 d 75 z kolaimi 98 i 99, przy. czym analogiczne kola umieszczone w pun¬ kcie 73 poruszaja sie po torach Ettiajdiujacych sie na spodzie belek wspierajacych. Jezeli rozdzielacz ustawiony jest prawidlowo, to wówczas zostaje zablokowany on przez srube blokujaca 106 umieszczona na lozu 81 a belki wspierajace 74 i 75 sa cofniete w polozenie pokazane na fig. 4 i za¬ blokowane pnzeiz rygle 78 i 90* Polozenie rozdzielacza gazu, wewnatrz zbiorni¬ ka moze byc regulowane przez wychylanie rozdzie¬ lacza wokól ustalonych punktów 72 i 73. Na fig. 4, czesc rozdzielacza znajdujaca sie po lewej stro¬ nie jest polaczona z dzwignikiem 107 umocowa¬ nym na lozu 81 a wprawianym w ruch za po¬ moca recznego kólka 108. W podobny sposób pra¬ wa czesc rozdzielacza 26 jest polaczona z dzwig¬ nikiem 109 umieszczonym na kolumnie 105 ..a wprawianym -w ruch za pomoca recznego kólka 110^ Kolumna 105 polaczona jest srubami z to¬ rem 89 w miejscu znajdujacym sie pomiedzy wóz¬ kiem 88 i zbiornikiem.Poniewaz rozdzielacz blokowany jest skutecz¬ nie w ustalonych punktach 72 i 73, dzwigniki 107 i 109 moga byc uzyte do eliminowania pionowych wychylen rozdzielacza 26. Np. przekrzywienie w kierunku centrum rozdzielacza mozna skorygo¬ wac przez opuszczenie dzwigników 107 i 109 nie zmieniajac przy tym polozenia punktów 72 d 73.Urzaidizenie zawiera równiez mechanizm prze¬ ciwdzialajacy kazdej tendencji rozdzielacza do obracania sie wzgledem kierunku ruchu wsteg: szkla. W tym celu uformowany w ksztalcie litery „U" wspornik 111, pokazany na fig. 2 i 4, przy- twierdizony jest za pomoca podpory 114 do loza 79, przy czym wspomniany wspornik posiada ga¬ lezie 112 i 113. Galezie 112 i 113 ulozone sa po obu stronach rozdzielacza 26. Gwintowane prety 115 i 116 przechodza przez gwintowane otwory w galeziach 112 i 113 i stykaja sie z dolnymi partia¬ mi scianek bocznych 29 i 30 rozdzielacza 26. Kólka reczne 117 i 118 sa umocowane na gwintowanych pretach 115 i 116 umozliwiajac w ten sposób re¬ gulacje tych ostatnich. Wspornik 119, przypomi¬ najacy wygladem wspornik 111, umieszczony jest na kolumnie 105 znajdujacej sie po prawej stro¬ nie rozdzielacza gazu. Podobnie jak wspornik 111. posiada on gwintowane prety regulowane za po¬ moca kólek recznych i dotykajace sie z dolnymi partiami bocznych scianek rozdzielacza.Regulujac gwintowane prety we wspornikach 111 i 119, mie zmieniajac przy tym polozenia pun¬ któw 72 i 73, mozna przeciwdzialac kazdej ten¬ dencji rozdzielacza do obracania sie wzgledem kierunku rucnu wistegi szkla. Regulacja pretów gwintowanych 115 i 116 pomaga rówoiez w usta¬ wieniu rozdzielacza 26 dolna powierzchnia czolo¬ wa równolegle dk wstegi szkla., Cteiaga sie to przez wyregulowanie polozenia rozdzielacza wzgle¬ dem ustalonych punktów 72 i 73, wokól których rozdzielacz 26 obraca sie na czopie 101.System obiegiu cieczy obejmaujacy przewody 39 i 40 polaczony jest najczesciej z rura doprowa¬ dzajaca i rura odprowadzajaca ciecz do wymiany ciepla, przy czym polaczenie to ma mjejsce przed umieszczeniem rozdzielacza nad wEtega szkla. Je¬ zeli rozdzielacz ustawiony jest prajwidflJowo, to przewody 49 a takze przewód 66 polaczone sa ze zródlem gazu. Belki wspierajace 74 i 75 chlodzo¬ ne sa ciecza cnlodzajca, np. woda, przeplywajaca pnzez prostokatne kanaly wewnatrz tych belek oraz przez rury 120 i 121 przeznaczone odpowied¬ nio do doprowadzania i odprowadzania cieczy chlodzacej. Przez chlodzenie belek zapobiega sie ich wykrzywianiu, do jakiego moze dojsc w wa¬ runkach wysokich temperatur a ponadto ulatwia utrzymanie rozdzielacza na stalej wysokosci po¬ nad wstega szkla.Przy poprzecznym ulozeniu rozdzielacza wzgle¬ dem wstegi jego wysokosc moze byc regulowana za pomoca dzwigników umieszczonych na lozu 81 i wózku 88. Dzwigniki te umozliwiaja unoszenie i obnizenie belek wspierajacych 74 i 75. Rozdzie¬ lacz gazu ustawiony jest w ten sposób, ze bloki 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60ii 107-277 12 50 i 53 oraz bloki 71 znajduja sie tuz nad po¬ wierzchnia wstegi szkla. W ten sposób ucieczka gazu z obszaru lezacego ponizej tyoh bloków jest zredukowana do mimtaum. Rozmiary bloku 51 wybranie sa w ten sposób, aiby przy polozeniu bloków 56 i 53 tuz nad powierzchnia wstegi, czesc komory 27 miedzy blokiem 51 i wstega : szklana miala wielkosc pozwalajaca, na zachowanie wa¬ runków, w których przeplyw gazu bedzie mial charakter laimiinarny, tzn. liczba Reynoldsa be¬ dzie mniejsza niz 2500. W praktyce liczba Rey¬ noldsa na ogól ima wartosc póndze-j 1000, a naj¬ czesciej ponizej 100. Pirzeplyw gazu (fig. 2) odby¬ wa sie w kierunku 'Zgodnym z kierunkiem ruchu wstejgi szkla wzgledem rozdzielacza. Pokazane na rysunku urzadzenie jest szczególnie przydatne prizy osadzaniu powlok zawierajacych krzem po¬ chodzacy iz gazowego krzemowodoru SiH4. - Poniewaz krzemowodór rozklada sie w tempe¬ raturze znacznie przekraczajafceij 400°C, to Jo chlodizenia rozdzielacza uzywa sie wody dopro¬ wadzanej przewodaimti 39 i 40, która Jednoczesnie zapobiega przedwczesnemu (rozlozeniu sie krzemo¬ wodoru. Wode przepuszcza sie równiez przez ka¬ naly belek wspierajacych zapobiegajac w tenspo- sób ich wykrzywianiu sde w ' warunkach diziala¬ nia wysokich teimperaitiur* Waanstwy izolacji 56 1 59 w blokach 50 i 51 ograniczaja przeplyw ciepla z dofeiyieh sekcji 55 i 58 wspomnianych bloków do chlodzonej woda czesci rozdzielacza a równo¬ czesnie pozwalala na ogrzewanie sekcji 55 i 58 ciepiem wydzielainym przez wstejge szkla. Wobec tego krzemowodór wejdtruijacy do, kanalu 17 jest Ogrizewany jednakowo wzdluz calej drogi swego pnzeplywoi miedzy blokami 50 i 51. To równo¬ mierne ogrzewanie ttfaitwia otrzymanie przeply¬ wu lamtLnarnego.Krawedzie bloków sa uksztaltowane w ten spo¬ sób, ze przeplyw laiminarny gazu odbywa sie równolegle do powierzchni szkla. Przy przeply¬ wie krzemowodoru nniejdizy bflokanii 51 i wstega szkla, krzem osiada równomiernie na calej sze¬ rokosci tej ostatniej. Dla uitrzymania przeplywu teimiinaflinegd korzystnym jest, aby gradient tem¬ peratury w kierunku poprzecznym do przeplywu gazu rile by* izby* duzy. Równiez scianki nie po- wfeny* ^cr i»ift gorace z niwami na niepozadany proce- wytracania sie na inieh krzemu. Izolacja termiczna 59 jest przeznaczona jakfo srodek do ko^rtrcdi temperatury scianki, przy czyim ta ostat¬ nia wyznacza dlrdgc gaau równolegle do po¬ wierzchna szkla.Htofei 5i gaz ^ynacy nad wstega amierria w pewnym mo¬ mencie swój kierunek nie zaburzajac przy tym przeplywu laminarnego. Przekrój kanalu miedzy blSfeami 5l i 33 ma powierzchnie wieksza tj?z prteekarlfrj kanalu -miedzy biokaimi 50 i 51 z uwagi na zwiekszona pod wplywem ogrzewania objetosc przeplywajacego gazu. Dokladna'wartosc stosunku powierzchni obu przekrojów niezbedna do utrzyma¬ nia fanimarriych warunków przeplywu uzaleznio¬ na jest od warunków dzialania, skladu i wlasci¬ wosci uzytego gazu. Przeplyw gazu z koncówki wylotowej przewodu 166 rozprasza gaz stosowany do pokrycia, 'który uchodzi kominem tworzacym przez bloki 52 d 53.Urzadzenie wedlug rysunku zostalo zastosowane do nakladania powlok krzemowych w nastepuja- 5 cych warunkach: Sklad gazu ochronnego 90% objetosci — azot 10% objetosci — wodór Predkosc przesuwu wstegi szkla: 365 m/godz.Temperatura szkla: 620°C 10 Do pokrycia uzyto krzemowodoru zmieszanegu z azotem. Predkosc doprowadzania gazu przezna¬ czonego do nakladania powlok byla regulowana tak, aby utrzymac warunki przeplywu laminar¬ nego. Dzieki temu uzyskano równ-omierne nalo- 15 zenie powieki na szklo. Szybkosc ta wynosila wiec 50 litrów na minute w przeliczeniu na je¬ den 'metr d nial sie dajac w efekcie rózne grubosci pokryw krzemowych przy czym szybkosc przeplywu gazu 20 utrzymywana byla przez caly czas ma stalym po¬ ziomie. Równomierne pokrycie krzemem otrzy¬ mano przy zastosowaniu mieszanin, takich jak 5% objetosci — krzemowodór Sitt4, 5% objetosci — azot, b: 10% objetosci — krzemowodór S!H4, 25 90% objetosci — azot, c: 7% objetosci — krzemo¬ wodór S:iH4, 3% objetosci — wodór, 90% objeto¬ sci — azot.Grubosc, wspólczynnik zalamania swiatla i wlasnosci optyczne pokrywanego szkla przedsta- 30 wialy sie nastepujaco: (a) Dlugosc faili przy maksymal¬ nym odbiciu (Xmax) 4600A 7/1O0A 6000A Wspólczynnik zalamania 35 swiatla dla powloki 3,45 4,00 3,80 Grubosc optyczna powloki 1'ldOA H780A 1500A Grubosc powloki 348A 444A 395A (grubosc optyiazna/wsp. 40 zalamania) Przepuszczanie swiatla 25% 21% 18% bialego Przepuszczanie ciepla slonecznego 37% 2^/0 26% 45 Odbicie promieni slonecznych 43% 54% 52% Kolor w swietle przechodzacym brazowy zielony brazowy Kolor w swietle 90 odbitym srebrny zloty 6rebrny zloty Sposób nakladania powlok na plaskie po¬ wierzchnie goracego szkla oraz urzadzenie prze¬ znaczone do tego celu zostaly opisane jedynie dla »5 szczególnego przypadku, ^dy powloke szkla stano¬ wi warstwa krzemu. Jednakze zasady niniejszego wynalazku maja zastosowanie równiez do innych pokryc polegajacych na osadzeniu fazy lotaej na wstedze goracego szkla. Do tego celu moga byc •• stosowane równiez inne gazy, które ulegaja roz¬ kladowi przy zetknieciAi stie z powder^chnia go¬ racego szkla-. Naleza do nich miejdzy innym; kar¬ bonylki,' korzystnie karbohyflek zelaza, chromu, wolframu, niklu i kobaltu, a takze lotne zwiazki l5 metaloorganiczne szczególnie zwiaizki acetyioace-10T2W 13 14 tonu z takrimi metalami Jak miedz, zelazo, kobalt.Przy stosowaniu tych gazów temperatura w ka¬ nalach rozdzielacza 26 musi byc dostatecznie wy¬ soka, aby zapobiec toomdensacjd gazów na scian¬ kach tych kanalów, a z drugiej strony dosta- f tecznie niska, aby uimemozlliwic rozklad gazu przed jego zetknieciem sie z powierzchnia szkla.Jezeli wymagane Jest ogrzewanie przewodu 41 doprowadzajacego gaz, to w tym celu wprowadza sie iw obieg goraca ciecz, korzystanie nalte, fara- J0 zaca przez przewody ii i 40. Poza krzemowodo¬ rem równiez inne silany moga byc stosowane do pokryc knzemowych, mp. sposród wyzszych sila¬ nów uzywa sie do tego celiu dwaisiilanii. Czesto silany zastepuje S'iie dwusilanaini, przy czym to 15 ostatnie stosuje sie w mieszaninie z wodorem.Oprócz opisanego wyzej nakladania powlok na powierzchnie goracego szkla, wynalazek ten mo¬ ze .byc równiez wykorzystany do pokrywania szkla plaskiego wytwarzanego w procesie ciagnie- M nia pianowego lufa do pokrywania szkla Lustrza¬ nego. Nakladanie powloki moze byc przeprowa¬ dzone zanim uformowana wstega szkla zostanie wprowadzona do komory odprejzarki, badz tez w odprezarce, gdzie szklo jest jeszcze.na tyle góra- 25 ce, aby doprowadizic do rozkladu gaizu na swojej powierzchni.Zastrzezenia paf-teniGowe 30 1. Sposób nakladania powlok na plaskie po¬ wierzchnie szkla, znamienny tym, ze kieruje s^e gaz z rozdzielacza usytuowanego poprzecznie do przesuwajacej sie wstegi szkla na powierzchnie jego, przy czym powoduje sie, ze przeplyw gazu 35 w kierunku równoleglym do powierzchni szkla jest lamdnarnym i na calej szerokosci szklanej wstegi ma charakter jednorodny. a. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze naklada sie powloke w warunkach, gdy szklo po 40 przejsciu procesu formowania ma jeszcze wysoka tempera/ture. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze gaz stosowany pnzy nakladaniu powlok rozklada sie przy zetknieciu sie z gorajca powiarzchnia 45 szkla a nastepnie osadza sie na tej ostatniej ma¬ terial pokrywajacy. 4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze zapobiega sie przedwczesnemu osadzaniu sie ma¬ terialu pokrywajacego na powierzchni szkla oraz w reguluje sie (temperature gazu stosowanego do nakladania powlok. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze powoduje sie przeplyw gazu stosowanego do na¬ kladania powlok nad powierzchnia szkla przy 55 cisnieniu ataosferyczaiym. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze gaz kieruje sie równolegle do powierzchni go¬ racego szkla, przy czyim na calej szerokosci wste¬ gi przeznaczonej do pokrycia zachowuje sie jed- co nakowe cisnienie. 7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze kierunek przeplywu gazu pokrywa sie z kierun¬ kiem ruchu wstega szkla. 8. Urzadzenie do nakladania powlok na plaskie fó powierzchnie szkla, znamienne tym, ze ma podpo¬ re dla wstegi szkla (21), gazowy rozdzielacz (26) usytuowany poprzecznie wzgledem wstegi, oraz mechanizm przystosowany do przesuwania szkla wzgledem rozdzielacza (26), który zawiera prze¬ wód (41) doprowadzajacy gaz, oraz kanal prze¬ wodzacy (27), którego kontury stanowia odpo¬ wiednio uksztaltowane scianki zapewniajace prze¬ plyw gazu, oraz zabezpieczaja jego laminarny przeplyw gazu w kierunku równoleglym do po¬ wierzchni goracego szkla,(21). 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze ma przepustmce (42) usytuowana miejdzy prze¬ wodem (41) doprowadzajacym gaz i kanalem pro¬ wadzacym (27) zapewniajaca uzyskanie równo¬ miernego rozlozenia powloki gazowej na calej szerokosci szkla (21). 10. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze ma przepustnice (42) skladajaca sie z duzej ilosci kanalów (48) usytuowanych miedzy prze¬ wodem (41) doprowadzajacym gaz i kanalem pro¬ wadzacym (27), przy czym przekrój poprzeczny kazdego z nich jest maly co powoduje, ze spadek cisnienia wzdluz przewodu (41) jest niewielki w porównaniu ze spadkiem cisnienia wzdluz tych kanalów. 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze ma mechanizm przystosowany do kontrolowa¬ nia temperatury scianki, której kontury wyzna¬ czaja równolegla do powierzchni szkla droge przeplywu gazu. 12. Urzadzenie wedlug zastrz, 11, znamienne tym, ze ma izolacje termiczna (66), (57) w mecha¬ nizmie kontrolujacym temperature scianki, przy czyim izolacja ta jest usyttuowana miejdzy prze¬ wodem (41) doprowadzajacym gaz, a scianka któ¬ rej kom/tury wyznaczaja droge przeplywu gazu. 18. Urzadzenie wedlug zastnz. 12, znamienne tym, ze ma uksztaltowane scianki tak, ze jest mozliwosc odprowadzania gazu z powierzchni szkla po osadzeniu sie na nim maiterialu pokry¬ wajacego. 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 13, znamienne tym, ze ma mechanizm przedmuchujacy przysto¬ sowany do rozproszenia gazów odprowadzanych z powierzchni szkla (21). 1-5. Umzadzenie wedlug zastrz. 14, znamienne tym, ze ma rozdzielacz (26) zawierajacy blok cenitraJbny i dwa czlony boczne usytuowane w pozycji stycznej do biloku centralnego tworzac w ten sposób kanal prowadzacy (27) o ksztalcie litery „U" dfla gazu wyplywajacego z przepust- nicy (42), pnzy czym kontur kanalu wyznacza pierwszy czlon boczny i scianka boczna bloku centtraMego, doAna scianka bloku centralnego i powierzchnia szkla (21) oraz drugi boczny czlon i scianka boczna bloku centralnego. 16. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, znamienny tym, ze ma dwa czlony boczne siegajace do po¬ wierzchni przesuwajacej sie wstegi szkla, przy czym ich dolne scianki usytuowane sa równo¬ legle do powierzchni wstegi umozliwiajac zredu¬ kowanie do' miinimum ulatnianie sie gazów mie¬ dzy powierzchnia a dolnymi sedankami tych czlonów.107 277 Bgl n '/ s»± ZF-K 13 K \ // }.y..\I5 ,/tf 25 S 21 f 10 ^ W^WmM^W/ am<11k ^26 27- 55 \^X///////aV, l£xY/y//yMi 59 58 i cff107 277 -,J.' ^ ? - _J LI as-' rt3 -yw-fW^y. ¦¦ ¦/,-¦ s .:# ¦,.; n—v ~-fc /".^ r.^ P K- r^ Nt_^ ^f 66 „ //9 :V ^ &9 ¦ i\ ©y PL

Claims (1)

1. Zastrzezenia paf-teniGowe 30 1. Sposób nakladania powlok na plaskie po¬ wierzchnie szkla, znamienny tym, ze kieruje s^e gaz z rozdzielacza usytuowanego poprzecznie do przesuwajacej sie wstegi szkla na powierzchnie jego, przy czym powoduje sie, ze przeplyw gazu 35 w kierunku równoleglym do powierzchni szkla jest lamdnarnym i na calej szerokosci szklanej wstegi ma charakter jednorodny. a. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze naklada sie powloke w warunkach, gdy szklo po 40 przejsciu procesu formowania ma jeszcze wysoka tempera/ture. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze gaz stosowany pnzy nakladaniu powlok rozklada sie przy zetknieciu sie z gorajca powiarzchnia 45 szkla a nastepnie osadza sie na tej ostatniej ma¬ terial pokrywajacy. 4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze zapobiega sie przedwczesnemu osadzaniu sie ma¬ terialu pokrywajacego na powierzchni szkla oraz w reguluje sie (temperature gazu stosowanego do nakladania powlok. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze powoduje sie przeplyw gazu stosowanego do na¬ kladania powlok nad powierzchnia szkla przy 55 cisnieniu ataosferyczaiym. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze gaz kieruje sie równolegle do powierzchni go¬ racego szkla, przy czyim na calej szerokosci wste¬ gi przeznaczonej do pokrycia zachowuje sie jed- co nakowe cisnienie. 7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze kierunek przeplywu gazu pokrywa sie z kierun¬ kiem ruchu wstega szkla. 8. Urzadzenie do nakladania powlok na plaskie fó powierzchnie szkla, znamienne tym, ze ma podpo¬ re dla wstegi szkla (21), gazowy rozdzielacz (26) usytuowany poprzecznie wzgledem wstegi, oraz mechanizm przystosowany do przesuwania szkla wzgledem rozdzielacza (26), który zawiera prze¬ wód (41) doprowadzajacy gaz, oraz kanal prze¬ wodzacy (27), którego kontury stanowia odpo¬ wiednio uksztaltowane scianki zapewniajace prze¬ plyw gazu, oraz zabezpieczaja jego laminarny przeplyw gazu w kierunku równoleglym do po¬ wierzchni goracego szkla,(21). 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze ma przepustmce (42) usytuowana miejdzy prze¬ wodem (41) doprowadzajacym gaz i kanalem pro¬ wadzacym (27) zapewniajaca uzyskanie równo¬ miernego rozlozenia powloki gazowej na calej szerokosci szkla (21). 10. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze ma przepustnice (42) skladajaca sie z duzej ilosci kanalów (48) usytuowanych miedzy prze¬ wodem (41) doprowadzajacym gaz i kanalem pro¬ wadzacym (27), przy czym przekrój poprzeczny kazdego z nich jest maly co powoduje, ze spadek cisnienia wzdluz przewodu (41) jest niewielki w porównaniu ze spadkiem cisnienia wzdluz tych kanalów. 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze ma mechanizm przystosowany do kontrolowa¬ nia temperatury scianki, której kontury wyzna¬ czaja równolegla do powierzchni szkla droge przeplywu gazu. 12. Urzadzenie wedlug zastrz, 11, znamienne tym, ze ma izolacje termiczna (66), (57) w mecha¬ nizmie kontrolujacym temperature scianki, przy czyim izolacja ta jest usyttuowana miejdzy prze¬ wodem (41) doprowadzajacym gaz, a scianka któ¬ rej kom/tury wyznaczaja droge przeplywu gazu. 18. Urzadzenie wedlug zastnz. 12, znamienne tym, ze ma uksztaltowane scianki tak, ze jest mozliwosc odprowadzania gazu z powierzchni szkla po osadzeniu sie na nim maiterialu pokry¬ wajacego. 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 13, znamienne tym, ze ma mechanizm przedmuchujacy przysto¬ sowany do rozproszenia gazów odprowadzanych z powierzchni szkla (21). 1-5. Umzadzenie wedlug zastrz. 14, znamienne tym, ze ma rozdzielacz (26) zawierajacy blok cenitraJbny i dwa czlony boczne usytuowane w pozycji stycznej do biloku centralnego tworzac w ten sposób kanal prowadzacy (27) o ksztalcie litery „U" dfla gazu wyplywajacego z przepust- nicy (42), pnzy czym kontur kanalu wyznacza pierwszy czlon boczny i scianka boczna bloku centtraMego, doAna scianka bloku centralnego i powierzchnia szkla (21) oraz drugi boczny czlon i scianka boczna bloku centralnego. 16. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, znamienny tym, ze ma dwa czlony boczne siegajace do po¬ wierzchni przesuwajacej sie wstegi szkla, przy czym ich dolne scianki usytuowane sa równo¬ legle do powierzchni wstegi umozliwiajac zredu¬ kowanie do' miinimum ulatnianie sie gazów mie¬ dzy powierzchnia a dolnymi sedankami tych czlonów.107 277 Bgl n '/ s»± ZF-K 13 K \ // }.y.. \I5 ,/tf 25 S 21 f 10 ^ W^WmM^W/ am<11k ^26 27- 55 \^X///////aV, l£xY/y//yMi 59 58 i cff107 277 -,J.' ^ ? - _J LI as-' rt3 -yw-fW^y. ¦¦ ¦/,-¦ s .:# ¦,.; n—v ~-fc /".^ r. ^ P K- r^ Nt_^ ^f 66 „ //9 :V ^ &9 ¦ i\ ©y PL
PL1976190302A 1975-06-11 1976-06-10 Sposob nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla oraz urzadzenie do nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla PL107277B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB25077/75A GB1507996A (en) 1975-06-11 1975-06-11 Coating glass

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL107277B1 true PL107277B1 (pl) 1980-02-29

Family

ID=10221833

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1976190302A PL107277B1 (pl) 1975-06-11 1976-06-10 Sposob nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla oraz urzadzenie do nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla

Country Status (21)

Country Link
US (1) US4469045A (pl)
JP (1) JPS5244829A (pl)
AR (1) AR209369A1 (pl)
BE (1) BE842820A (pl)
BR (1) BR7603664A (pl)
CA (1) CA1144825A (pl)
CS (1) CS191974B2 (pl)
DE (1) DE2626118C2 (pl)
DK (1) DK153833C (pl)
ES (1) ES448758A1 (pl)
FI (1) FI59980C (pl)
FR (1) FR2314152A1 (pl)
GB (1) GB1507996A (pl)
IE (1) IE42834B1 (pl)
IT (1) IT1062150B (pl)
LU (1) LU75134A1 (pl)
NL (1) NL7606069A (pl)
NO (1) NO141714C (pl)
PL (1) PL107277B1 (pl)
SE (1) SE418393B (pl)
ZA (1) ZA763395B (pl)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1524326A (en) * 1976-04-13 1978-09-13 Bfg Glassgroup Coating of glass
CA1134214A (en) * 1978-03-08 1982-10-26 Roy G. Gordon Deposition method
JPS6325258Y2 (pl) * 1981-06-15 1988-07-11
CH643469A5 (fr) * 1981-12-22 1984-06-15 Siv Soc Italiana Vetro Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide.
FR2575679B1 (fr) * 1985-01-07 1988-05-27 Saint Gobain Vitrage Perfectionnement au procede de revetement d'un substrat tel un ruban de verre, par un produit pulverulent, et dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede
US5246734A (en) * 1986-05-05 1993-09-21 Dow Corning Corporation Amorphous silicon hermetic coatings for optical wave guides
DE3772659D1 (de) * 1986-06-28 1991-10-10 Ulvac Corp Verfahren und vorrichtung zum beschichten unter anwendung einer cvd-beschichtungstechnik.
US4849260A (en) * 1986-06-30 1989-07-18 Nihon Sinku Gijutsu Kabushiki Kaisha Method for selectively depositing metal on a substrate
EP0251764B1 (en) * 1986-06-30 1996-03-27 Nihon Sinku Gijutsu Kabushiki Kaisha Chemical vapour deposition methods and apparatus
US5082696A (en) * 1986-10-03 1992-01-21 Dow Corning Corporation Method of forming semiconducting amorphous silicon films from the thermal decomposition of dihalosilanes
US4793282A (en) * 1987-05-18 1988-12-27 Libbey-Owens-Ford Co. Distributor beam for chemical vapor deposition on glass
GB2209176A (en) * 1987-08-28 1989-05-04 Pilkington Plc Coating glass
US4853257A (en) * 1987-09-30 1989-08-01 Ppg Industries, Inc. Chemical vapor deposition of tin oxide on float glass in the tin bath
GB2227754A (en) * 1988-10-14 1990-08-08 Pilkington Plc Gas flow restrictor for glass coating apparatus
GB8824102D0 (en) * 1988-10-14 1988-11-23 Pilkington Plc Apparatus for coating glass
US4922853A (en) * 1989-05-16 1990-05-08 Libbey-Owens-Ford Co. Stripe coating on glass by chemical vapor deposition
GB8914047D0 (en) * 1989-06-19 1989-08-09 Glaverbel Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
US5221352A (en) * 1989-06-19 1993-06-22 Glaverbel Apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
FR2672518B1 (fr) * 1991-02-13 1995-05-05 Saint Gobain Vitrage Int Buse a alimentation dissymetrique pour la formation d'une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux.
FR2672519B1 (fr) * 1991-02-13 1995-04-28 Saint Gobain Vitrage Int Buse a talon aval sureleve, pour deposer une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux.
FR2677639B1 (fr) * 1991-06-14 1994-02-25 Saint Gobain Vitrage Internal Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium.
DK0583871T3 (da) * 1992-07-11 1997-04-21 Pilkington Uk Ltd Fremgangsmåde til fremstilling af reflekterende belægninger på glas og spejle fremstillet derved
US5580364A (en) * 1992-07-11 1996-12-03 Libbey-Owens-Ford Co. Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color
GB9300400D0 (en) * 1993-01-11 1993-03-03 Glaverbel A device and method for forming a coating by pyrolysis
US5356718A (en) * 1993-02-16 1994-10-18 Ppg Industries, Inc. Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glasss and coated glass substrates
US5863337A (en) * 1993-02-16 1999-01-26 Ppg Industries, Inc. Apparatus for coating a moving glass substrate
US5599387A (en) * 1993-02-16 1997-02-04 Ppg Industries, Inc. Compounds and compositions for coating glass with silicon oxide
GB9400323D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
GB9400319D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
GB9400320D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coating on glass
US6022414A (en) * 1994-07-18 2000-02-08 Semiconductor Equipment Group, Llc Single body injector and method for delivering gases to a surface
US6200389B1 (en) 1994-07-18 2001-03-13 Silicon Valley Group Thermal Systems Llc Single body injector and deposition chamber
FR2724923B1 (fr) * 1994-09-27 1996-12-20 Saint Gobain Vitrage Technique de depot de revetements par pyrolyse de composition de gaz precurseur(s)
GB9500330D0 (en) * 1995-01-09 1995-03-01 Pilkington Plc Coatings on glass
GB9511841D0 (en) * 1995-06-10 1995-08-09 Pilkington Glass Ltd Mirrors and their production
CN100373559C (zh) * 2002-01-15 2008-03-05 东京毅力科创株式会社 形成含硅绝缘膜的cvd方法和装置
JP5906711B2 (ja) * 2011-12-14 2016-04-20 日本ゼオン株式会社 表面改質成形体の製造方法
CN111285613B (zh) * 2020-03-31 2022-05-27 台玻安徽玻璃有限公司 浮法玻璃镀膜***
CN112777943B (zh) * 2021-03-02 2021-11-19 浙江大学 一种用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2332309A (en) * 1940-05-20 1943-10-19 Ohio Commw Eng Co Gaseous metal deposition
US3190262A (en) * 1961-10-20 1965-06-22 Alloyd Corp Vapor deposition
GB1282866A (en) * 1968-08-16 1972-07-26 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the production of glass having desired surface characteristics
BE760041A (fr) * 1970-01-02 1971-05-17 Ibm Procede et appareil de transfert de masse gazeuse
FR2097069B1 (pl) * 1970-07-31 1976-03-05 Saint Gobain
JPS4980119A (pl) * 1972-12-06 1974-08-02
GB1507465A (en) * 1974-06-14 1978-04-12 Pilkington Brothers Ltd Coating glass

Also Published As

Publication number Publication date
DK153833B (da) 1988-09-12
JPS5717862B2 (pl) 1982-04-13
FR2314152A1 (fr) 1977-01-07
SE7606431L (sv) 1976-12-12
FI761651A (pl) 1976-12-12
NO141714B (no) 1980-01-21
LU75134A1 (pl) 1977-01-25
AR209369A1 (es) 1977-04-15
DK153833C (da) 1989-01-30
ZA763395B (en) 1978-01-25
BE842820A (fr) 1976-12-10
CS191974B2 (en) 1979-07-31
FR2314152B1 (pl) 1982-11-05
DK258776A (da) 1976-12-12
ES448758A1 (es) 1977-07-16
SE418393B (sv) 1981-05-25
IT1062150B (it) 1983-06-25
DE2626118C2 (de) 1986-11-13
FI59980C (fi) 1981-11-10
GB1507996A (en) 1978-04-19
JPS5244829A (en) 1977-04-08
NO761965L (pl) 1976-12-14
AU1470276A (en) 1977-12-15
US4469045A (en) 1984-09-04
NL7606069A (nl) 1976-12-14
DE2626118A1 (de) 1976-12-30
NO141714C (no) 1980-04-30
BR7603664A (pt) 1977-01-25
IE42834B1 (en) 1980-10-22
CA1144825A (en) 1983-04-19
FI59980B (fi) 1981-07-31
IE42834L (en) 1976-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL107277B1 (pl) Sposob nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla oraz urzadzenie do nakladania powlok na plaska powierzchnie szkla
US3850679A (en) Chemical vapor deposition of coatings
FI59238B (fi) Foerfarande och anordning foer belaeggning av glas
US3970037A (en) Coating composition vaporizer
US3888649A (en) Nozzle for chemical vapor deposition of coatings
JPS6124352B2 (pl)
US6112554A (en) Device for forming a pyrolytic coating
US4917717A (en) Apparatus for and process of coating glass
US4402722A (en) Cooling arrangement and method for forming float glass
US5782949A (en) Device for the manufacture of flat glass sheet with improved characteristics
FI72957C (fi) Foerfarande och anordning foer termisk seghaerdning av glas.
US3951100A (en) Chemical vapor deposition of coatings
US4880698A (en) Coated flat glass
JPH01503295A (ja) ガラスの化学蒸着用分配ビーム
US3942469A (en) Vapor deposition nozzle
CA1054370A (en) Method and apparatus for manufacture of flat glass by the float process
US5065696A (en) Temperature controlled distributor beam for chemical vapor deposition
CA1332281C (en) Temperature controlled distributor beam for chemical vapor deposition
CA1287485C (en) Apparatus for coating glass
US3940256A (en) Apparatus and method for controlling the flatness of a newly-formed continuous sheet of flat glass
US3243277A (en) Process and device for improving the thermal uniformity of molten glass
CA2122860C (en) Method and apparatus for conditioning and homogenizing a glass stream
PL108359B1 (en) Method of coating glass,especially with silicon and apparatus for coating glass