NO158798B - Fremgangsmaate for fremstilling av optiske fibre med ekstremt lave tap i det midlere infraroede omraadet. - Google Patents
Fremgangsmaate for fremstilling av optiske fibre med ekstremt lave tap i det midlere infraroede omraadet. Download PDFInfo
- Publication number
- NO158798B NO158798B NO843656A NO843656A NO158798B NO 158798 B NO158798 B NO 158798B NO 843656 A NO843656 A NO 843656A NO 843656 A NO843656 A NO 843656A NO 158798 B NO158798 B NO 158798B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- halogen
- glass
- optical fibers
- extremely low
- halide
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims abstract description 5
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- -1 halide compound Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000005283 halide glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 11
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910007998 ZrF4 Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrafluoride Chemical compound F[Zr](F)(F)F OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000674731 Homo sapiens TGF-beta-activated kinase 1 and MAP3K7-binding protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 102100021228 TGF-beta-activated kinase 1 and MAP3K7-binding protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019404 dichlorodifluoromethane Nutrition 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005386 fluorozirconate glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000007725 thermal activation Methods 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/041—Non-oxide glass compositions
- C03C13/042—Fluoride glass compositions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/15—Nonoxygen containing chalogenides
- Y10S65/16—Optical filament or fiber treatment with fluorine or incorporating fluorine in final product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Game Rules And Presentations Of Slot Machines (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse vedrører fremgangsmåte for fremstilling av optiske fibrer med ekstremt lave tap i det midlere infrarøde området.
Det forekommer forskjellige materialer for hvilke det kan forutsies en minimal egendempning av størrelsesorden fra
-2 -4
10 til 10 dB/km i spektralområdet mellom 2 og 12 ym.
De anses derfor som egnet for fremstilling av optiske fibre med ekstremt lave tap for anvendelse i transmisjonssystemer med forsterkere i stor avstand fra hverandre, og som opere-rer i det midlere infrarøde område. Materialer som anvendes for fremstilling av optiske fibre må likevel ha forskjellige egenskaper som ikke bare er av den optiske typen: Nemlig høy mekanisk motstand, kjemisk og strukturell stabilitet, lav reaktivitet med omgivelsene.
Blant de forskjellige materialene er de hvis egenskaper til-fredsstiller disse krav, halogenidglass og mer spesielt fluoridglass som har metallfluorider som hovedforbindelser.
Noen av fluorid-hovedforbindelsene er angitt i det nedenstående; de kan benyttes som glass-"formere" eller som matrise-"stabilisatorer" eller "modifiseringsmidler" for fremstilling av fluoridglass-strukturer. For slike forbindelser og for deres metallelementer og relevante oksyder er smeltetemperatur T^, koketemperatur T , sublimerings-eller dekomponeringstemperatur angitt i det nedenstående,
i de tilfeller de er kjente.
Selv om glass-strukturer avledet fra elementer i gruppe II (Be, Zn, Ba) eller gruppe III (Al, Sc, La, Th) kan anvendes, har matriser avledet fra elementene i gruppe IV (Hf, Zr) vist seg særlig egnet for optisk transmisjon i det midlere infrarøde område, varierende fra 2 til 6 ym. Fluorhafnat- og fluorzirkonatglass, oppdaget i Frankrike
i 1976, er i vanlig bruk og har alle de egenskaper som er nødvendig for et materiale som skal benyttes innen det optiske telekommunikasjonsområde.
I dag behandles disse materialer med de samme teknikker avledet fra multikomponent-glassteknologi.
Ved å utgå fra fluoridforbindelsen som er oppnådd ved kjemisk reaksjon med basiselementet eller dets oksyd, fremstilles blandinger med de forskjellige komponentene i de ønskede konsentrasjonene.
Deretter foretas utglødingen, glassdannelsen og eventuelt rensingen i en ovn, i grafitt- eller platinadigler. Til slutt omdannes det glassdannede materiale til sylindriske staver eller i preformer for tilførsel til trekkdigler eller for direkte trekking.
Alle disse operasjoner er meget forurensede og tillater først og fremst ikke kontroll av den optiske kjerne/cladding-grenseflatestruktur. Som for oksydglass eller for halogenidglass er således nevnte direkte behandlingsteknikker av materialet ikke egnet for fremstilling av optiske strukturer med ultralave tap (fra 10~<3> til 10~<4> dB/Km),
idet tapsverdier praktisk talt sammenfaller med de teoretisk mulige minimum egentapsverdier for slike materialer.
P.g.a. smelte- og koketemperaturer for forbindelsene og elementene av TAB1, kan indirekte synteseteknikker slik som de tradisjonelle CVD-prosessene ikke benyttes. Uorganiske forbindelser av slike elementer som lett lar seg fordampe ved omgivelsestemperatur, eksisterer således ikke.
Lett fordampning ved omgivelsestemperatur er av fundamental betydning ved anvendelse av CVD-prosessen for preform-fremstilling av optiske fibre, fordi en høy temperatur for fordampning av forbindelsen ikke bare medfører betyde-lige komplikasjoner for avsetningsanlegg, men tillater ikke en nøyaktig kontroll av reaksjonen og således kan forurens-ning oppstå.
Fra US patent 4.378.987 er det kjent å fremstille optiske fibrer fra en optisk bølgeleder-preform av glass, hvor materialet som er benyttet for preform-fremstillingen, er metallhalogenidglass oppnådd fra dampfasereaktanter, dvs. gassformige halogeneringsmidler og organometalliske forbindelser som er flyktige, ved reaksjon inne i et bærerrør av oksydglass, mellom den organometalliske forbindelse og det element hvis halogenidforbindelse er ønsket og en gassformig reaktant inneholdende halogenet, idet halogenidet er et fluorid.
I en prosess av den type som er beskrevet i US patent 4.378.987 anvendes, ifølge foreliggende oppfinnelse, en spesiell organometallisk forbindelse, hvilket resulterer i kontrollerbare reaksjoner som gir dannelse av optiske fibrer av høy renhet ved bruk av metallhalogenidglass, idet halogener i seg selv benyttes i reaksjonene med nevnte organometalliske forbindelse. For å øke graden av kjemisk forenlighet mellom oksyd- og halpgenid-grunnmasser er glasset i reaktorens indre overflate anriket ved termisk diffusjon.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det således tilveiebragt en fremgangsmåte for fremstilling av optiske fibrer med ekstremt lave tap i det midlere infrarøde området, hvor materialet benyttet for preform-fremstillingen utgjøres av metallhalogenidglass som er oppnådd fra dampfasereaktanter dannet ved reaksjon i et oksyd-bærerrør mellom en organometallisk forbindelse av det element hvis halogenidforbindelse er ønsket og en gassformig reaktant inneholdende halogenet og som deretter er avsatt på bærerrørets indre vegg, og denne fremgangsmåten er kjennetegnet ved at det anvendes en organometallisk forbindelse av typen:
hvor M representerer det metall hvis halogenidforbindelse skal oppnås ved den reaktive syntesen, C er karbonatom,
H er hydrogenatom, A er halogen, og symbolene y, 6, iJj , n representerer de molekylære koeffisienter for atomer C, H, og for gruppen CH og for halogenet A, respektivt;
og ved at den indre overflaten til nevnte bærerrør anrikes med nevnte halogen ved termisk diffusjon.
De ovenfor angitte trekk vil fremgå klarere fra følgende beskrivelse av en foretrukken utførelse.
Organometalliske forbindelser samt organiske forbindelser må bare representere bærere i dampfase ved omgivelsestemperatur, for det metall hvis halogenidforbindelse er ønsket. De må ikke inneholde forurensende elementer eller grupper, slik som OH -grupper eller overgangsmetallioner,
og ikke engang oksygen.
Den betingelse at oksygen ikke skal være til stede, begrenser i betydelig grad valget av bærerforbindelse sammenlignet med tilfellet for oksydglassmaterialer. Reaksjonsproduktene må dessuten være glassformige forbindelser, naturligvis med unntagelse for metallhalogenidet, slik at de lett kan ut-sendes gjennom strømmen av bærergasser.
De ovenfor angitte betingelser tilfredsstilles av de organometalliske forbindelsene av typen: hvor M representerer metallet hvis halogenidforbindelse skal oppnås ved reaktiv syntese, C er karbonatornet, H er hydrogen-atomet, A representerer et halogen som kan være klor eller fluor, og symbolene y, i, i|»og ri representerer henholdsvis de molekylære koeffisientene for atomer C, H, gruppen CH og atomet A. I nærvær av fluorid eller en av fluorforbindelsene: CCl2F2, CCIF^, CF4' HF/ 0<3 ve<^ termisk aktivering av den organometalliske forbindelse, vil følgende syntesereaksjon finne sted:•
I dette tilfelle dannes en fast halogenidforbindelse og noen flyktige forbindelser (CF4, HF, HA).
I det nedenstående gis som eksempel egenskapene og den relevante reaksjon for en aluminium-organometallisk forbindelse, dvs. dietylaluminiumklorid:
Blant de organometalliske forbindelsene (1) finnes forbindelser som ved omgivelsestemperatur er i flytende form og som lett kan fordampes, f.eks. ved bobling av en inert bærergass(er) gjennom væsken.
Når først forbindelsene og reaksjonene er valgt, kan av-setningsprosessen og preform-dannelsen utføres ved anvendelse av kjente teknikker innen halvlederteknikkén slik som OM-CVD (organometall-kjemisk dampavsetning) modifisert på hensiktsmessig måte for å ta hensyn til produktets forskjellige symmetri (plant i ett tilfelle, sylindrisk i et annet), den forskjellige sammensetning og krystallinske eller vitrøse struktur, de forskjellige kjemiske og fysikalske egenskapene til materialene. Alternativt kan de metoder som er typiske for forskjellig-dopet oksydglass og spesielt silisium-dioksydglassfibrer, benyttes.
Indre dampavsetningsteknikker er egnet i betraktning av renhetskravene for disse materialer for å utnytte deres optiske egenskaper maksimalt. Bærerrøret kan være av et fluoridglass med en glassmatrise lik den til fiberens ytre cladding. Både brytningsindekser og termiske ekspansjons-koeffisienter samt glassovergangstemperaturer avpasses til hverandre.
Betrakter man f.eks. en optisk fiber hvis kjerne og cladding består av en kvartær forbindelse ZrF^ - BaF2 - GdF^ - ^ F2' respektivt, så har denne følgende sammensetning uttrykt i molarprosent: 61,8 ZrF4 - 32,3 BaF^ - 3,9 GdF^ - 2 AlF3 med brytningsindeks nD = 1,519 og 59,2. ZrF4 - 31,0 BaF2 -
3,8 GdF^ - 6 AlF^ med brytningsindeks nD = 1,514 som beskrevet i artikkelen "Preparation of Low Loss Fluorid Glass Fibers" - S. Mitachi, T. Kanamori, T. Miyashita, Japanese Journal of
Applied Physics Vol. 21, Nr. 1, januar 1982, sidene L55-56.
Bærerrøret som anvendes både som en reaktor og som en utvendig fibercladding, består av flerkomponent-oksydglassmatriser inneholdende natrium-bor-kalium-silikater.
Også i dette tilfelle må reaktorglassmatrisen tilfredsstille spesielle krav hva angår brytningsindeks, ekspansjonskoeffisi-ent og glassovergangstemperatur. For å øke graden av kjemisk forenlighet mellom oksyd- og fluoridmatriser kan glasset på reaktorens indre overflate anrikes med fluor ved termisk diffusjon.
På denne måten oppnås det dobbelte mål med (1) bruk av
en reaktor med egenskaper lik dem for glassmatrisene for av-setning og som da er velegnet til å virke som hensiktsmessig bærer for avsetningen, og (2) oppnåelse av en utvendig beskyttende cladding for preformen, som ikke er reaktiv med omgivelsene og således velegnet til å bevare de optisk kjemiske og mekaniske egenskapene til det indre materialet.
Claims (3)
1. Fremgangsmåte for fremstilling av optiske fibrer med ekstremt lave tap i det midlere infrarøde området, hvor materialet benyttet for preform-fremstilling utgjøres av metallhalogenidglass som oppnås fra dampfasereaktanter dannet ved reaksjon i et oksydglass-bærerrør mellom en organometallisk forbindelse av det element hvis halogenidforbindelse er ønsket og en gassformet reaktant inneholdende halogenet, og som deretter avsettes på bærerrørets indre vegg, karakterisert ved at det anvendes en organometallisk forbindelse av typen:
hvor M representerer metallet hvis halogenidforbindelse skal oppnås ved reaktiv syntese, C er karbonatom, H er hydrogenatom, A er halogen, og symbolene y, 6, ip, n representerer de molekylære koeffisientene for atomer C, H, gruppe CH og for halogen A, respektivt; og ved at bærerrørets indre overflate anrikes med halogenet ved termisk diffusjon.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det som halogenid anvendes fluorid.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at den gassformige reaktanten inneholdende fluor velges blant følgende:
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT67956/83A IT1168841B (it) | 1983-09-15 | 1983-09-15 | Procedimento per la produzione di fibre ottiche a bassissima attenuazione nel medio infrarosso |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO843656L NO843656L (no) | 1985-03-18 |
| NO158798B true NO158798B (no) | 1988-07-25 |
| NO158798C NO158798C (no) | 1988-11-02 |
Family
ID=11306694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO843656A NO158798C (no) | 1983-09-15 | 1984-09-14 | Fremgangsmaate for fremstilling av optiske fibre med ekstremt lave tap i det midlere infraroede omraadet. |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4627865A (no) |
| EP (1) | EP0135903B1 (no) |
| JP (1) | JPS6086048A (no) |
| AT (1) | ATE27950T1 (no) |
| AU (1) | AU551606B2 (no) |
| BR (1) | BR8404517A (no) |
| CA (1) | CA1236303A (no) |
| DE (1) | DE3464359D1 (no) |
| DK (1) | DK158577C (no) |
| ES (1) | ES8606833A1 (no) |
| IT (1) | IT1168841B (no) |
| NO (1) | NO158798C (no) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5277889A (en) * | 1983-10-21 | 1994-01-11 | Corning Incorporated | Method for depositing pure metal halide compositions |
| US4874222A (en) * | 1986-03-31 | 1989-10-17 | Spectran Corporation | Hermetic coatings for non-silica based optical fibers |
| IT1191998B (it) * | 1986-04-10 | 1988-03-31 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento e apparecchiatura per la produzione di preforme per fibre ottiche operanti nella regione spettrale del medio infrarosso |
| US4883339A (en) * | 1987-07-17 | 1989-11-28 | Spectran Corporation | Oxide coatings for fluoride glass |
| US4820017A (en) * | 1987-09-09 | 1989-04-11 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Optical fiber systems employing multicomponent halide glass optical fibers |
| US5055120A (en) * | 1987-12-15 | 1991-10-08 | Infrared Fiber Systems, Inc. | Fluoride glass fibers with reduced defects |
| US5071460A (en) * | 1988-03-04 | 1991-12-10 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Process for the preparation of fluoride glass and process for the preparation of optical fiber preform using the fluoride glass |
| US5145508A (en) * | 1988-03-04 | 1992-09-08 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method of making fluoride glass using barium β-diketones |
| US4872894A (en) * | 1988-05-26 | 1989-10-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method for rapid preparation of halide glasses |
| US5051278A (en) * | 1989-07-10 | 1991-09-24 | Eastman Kodak Company | Method of forming metal fluoride films by the decomposition of metallo-organic compounds in the presence of a fluorinating agent |
| US4938562A (en) * | 1989-07-14 | 1990-07-03 | Spectran Corporation | Oxide coatings for fluoride glass |
| US5211731A (en) * | 1991-06-27 | 1993-05-18 | The United States Of Americas As Represented By The Secretary Of The Navy | Plasma chemical vapor deposition of halide glasses |
| CN113312852B (zh) * | 2021-06-28 | 2022-10-21 | 南京玻璃纤维研究设计院有限公司 | 一种基于神经网络算法预测玻璃介电损耗的方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57175743A (en) * | 1981-04-20 | 1982-10-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of base material for fluoride optical fiber |
| US4378987A (en) * | 1981-10-15 | 1983-04-05 | Corning Glass Works | Low temperature method for making optical fibers |
-
1983
- 1983-09-15 IT IT67956/83A patent/IT1168841B/it active
-
1984
- 1984-09-07 AU AU32851/84A patent/AU551606B2/en not_active Ceased
- 1984-09-10 CA CA000462805A patent/CA1236303A/en not_active Expired
- 1984-09-11 ES ES535817A patent/ES8606833A1/es not_active Expired
- 1984-09-11 BR BR8404517A patent/BR8404517A/pt unknown
- 1984-09-12 DK DK436084A patent/DK158577C/da active
- 1984-09-12 US US06/650,296 patent/US4627865A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-09-14 DE DE8484111019T patent/DE3464359D1/de not_active Expired
- 1984-09-14 EP EP84111019A patent/EP0135903B1/en not_active Expired
- 1984-09-14 AT AT84111019T patent/ATE27950T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-09-14 NO NO843656A patent/NO158798C/no unknown
- 1984-09-14 JP JP59191897A patent/JPS6086048A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES535817A0 (es) | 1986-05-01 |
| DK436084A (da) | 1985-03-16 |
| ATE27950T1 (de) | 1987-07-15 |
| BR8404517A (pt) | 1985-08-06 |
| NO158798C (no) | 1988-11-02 |
| AU551606B2 (en) | 1986-05-08 |
| DK158577C (da) | 1990-11-05 |
| JPH0234896B2 (no) | 1990-08-07 |
| DE3464359D1 (en) | 1987-07-30 |
| DK158577B (da) | 1990-06-11 |
| JPS6086048A (ja) | 1985-05-15 |
| AU3285184A (en) | 1985-03-21 |
| CA1236303A (en) | 1988-05-10 |
| EP0135903A1 (en) | 1985-04-03 |
| IT8367956A0 (it) | 1983-09-15 |
| EP0135903B1 (en) | 1987-06-24 |
| DK436084D0 (da) | 1984-09-12 |
| NO843656L (no) | 1985-03-18 |
| IT1168841B (it) | 1987-05-20 |
| ES8606833A1 (es) | 1986-05-01 |
| US4627865A (en) | 1986-12-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NO158798B (no) | Fremgangsmaate for fremstilling av optiske fibre med ekstremt lave tap i det midlere infraroede omraadet. | |
| EP0542724B1 (en) | Furnace for heating glass preform for optical fiber and method for producing glass preform | |
| US4666247A (en) | Multiconstituent optical fiber | |
| US7891215B2 (en) | Thermally stable IR-transmitting chalcogenide glass | |
| US4082420A (en) | An optical transmission fiber containing fluorine | |
| US3963468A (en) | Light guide fabrication | |
| US6732551B2 (en) | Method and feedstock for making silica | |
| DK162385B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af et glasraaemne til optiske fibre | |
| EP0302121B1 (en) | Heating furnace for glass materials for optical fiber and method of manufacturing same | |
| NO165912B (no) | Fremgangsmaate for fremstilling av et natriumholdig glass eller en keramisk gjenstand. | |
| US5779757A (en) | Process for removing hydrogen and carbon impurities from glasses by adding a tellurium halide | |
| US4564378A (en) | Method for producing a preform for light waveguides | |
| US20020162357A1 (en) | Method and feedstock for making silica by flame combustion | |
| EP0164127B1 (en) | Method for producing glass preform for optical fibers | |
| Katsuyama et al. | Fabrication of high‐purity chalcogenide glasses by chemical vapor deposition | |
| Plotnichenko et al. | Influence of molecular hydrogen diffusion on concentration and distribution of hydroxyl groups in silica fibers | |
| US4190487A (en) | Reactive atmosphere processing method of crystal growth of alkaline earth chlorides | |
| Poulain | Fluoride glass composition and processing | |
| EP0196665A1 (en) | Process of and apparatus for manufacturing optical fibres for operation in the medium infrared transmission range | |
| JPS59184736A (ja) | 光学系多孔質ガラスの透明ガラス化法 | |
| US5277889A (en) | Method for depositing pure metal halide compositions | |
| JP2979840B2 (ja) | フッ化物ガラスファイバー用材料の製造方法 | |
| US6037285A (en) | Infrared transmitting optical fiber materials | |
| JPS6140835A (ja) | 光フアイバ製造方法および製造装置 | |
| Sarhangi | Vapor deposition of fluoride glasses |