NL191186C - Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat. - Google Patents

Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat.

Info

Publication number
NL191186C
NL191186C NL8203211A NL8203211A NL191186C NL 191186 C NL191186 C NL 191186C NL 8203211 A NL8203211 A NL 8203211A NL 8203211 A NL8203211 A NL 8203211A NL 191186 C NL191186 C NL 191186C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
measuring
substrate
thickness
layer
photometric device
Prior art date
Application number
NL8203211A
Other languages
English (en)
Other versions
NL8203211A (nl
NL191186B (nl
Original Assignee
Leybold Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Ag filed Critical Leybold Ag
Publication of NL8203211A publication Critical patent/NL8203211A/nl
Publication of NL191186B publication Critical patent/NL191186B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL191186C publication Critical patent/NL191186C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
    • G01B11/0633—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection using one or more discrete wavelengths

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
NL8203211A 1981-09-08 1982-08-16 Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat. NL191186C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3135443 1981-09-08
DE19813135443 DE3135443A1 (de) 1981-09-08 1981-09-08 Verfahren und fotometrische anordnung zur dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer schichten

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL8203211A NL8203211A (nl) 1983-04-05
NL191186B NL191186B (nl) 1994-10-03
NL191186C true NL191186C (nl) 1995-03-01

Family

ID=6141084

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8203211A NL191186C (nl) 1981-09-08 1982-08-16 Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4469713A (nl)
JP (2) JPS5855706A (nl)
CA (1) CA1203598A (nl)
CH (1) CH669662A5 (nl)
DE (1) DE3135443A1 (nl)
FR (1) FR2512545B1 (nl)
GB (1) GB2105461B (nl)
NL (1) NL191186C (nl)
SU (1) SU1584759A3 (nl)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4643910A (en) * 1985-04-01 1987-02-17 Motorola Inc. Process for curing polyimide
EP0290657A1 (de) * 1987-05-15 1988-11-17 KSB Aktiengesellschaft Verfahren und Vorrichtung zur Messung der optischen Eigenschaften von dünnen Schichten
US4837044A (en) * 1987-01-23 1989-06-06 Itt Research Institute Rugate optical filter systems
JPH02257929A (ja) * 1989-03-09 1990-10-18 Makutaa Kk 生体透過率測定器
US5101111A (en) * 1989-07-13 1992-03-31 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method of measuring thickness of film with a reference sample having a known reflectance
US5009485A (en) * 1989-08-17 1991-04-23 Hughes Aircraft Company Multiple-notch rugate filters and a controlled method of manufacture thereof
NL9000323A (nl) * 1990-02-12 1991-09-02 Philips & Du Pont Optical Werkwijze voor het vanuit een metalliseringsvloeistof stroomloos neerslaan van een metaallaag op een vlak voorwerp.
US5384153A (en) * 1993-03-10 1995-01-24 At&T Corp. Monitoring electroless plating baths
EP0665577A1 (en) * 1994-01-28 1995-08-02 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for monitoring the deposition rate of films during physical vapour deposition
DE19522188C2 (de) * 1995-06-19 1999-12-02 Optisense Ges Fuer Optische Pr Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dicke und/oder des komplexen Brechungsindexes dünner Schichten und Verwendung zur Steuerung von Beschichtungsverfahren
US6630998B1 (en) 1998-08-13 2003-10-07 Acushnet Company Apparatus and method for automated game ball inspection
US6052176A (en) * 1999-03-31 2000-04-18 Lam Research Corporation Processing chamber with optical window cleaned using process gas
US20040046969A1 (en) * 2002-09-10 2004-03-11 Honeywell International Inc. System and method for monitoring thin film deposition on optical substrates
CN100564592C (zh) * 2003-09-19 2009-12-02 应用材料公司 对无电沉积的终点进行检测的装置和方法
US9013450B1 (en) * 2003-11-03 2015-04-21 Imaging Systems Technology, Inc. IR touch
US20060062897A1 (en) * 2004-09-17 2006-03-23 Applied Materials, Inc Patterned wafer thickness detection system
DE102005008889B4 (de) * 2005-02-26 2016-07-07 Leybold Optics Gmbh Optisches Monitoringsystem für Beschichtungsprozesse
FR2902514A1 (fr) * 2006-06-15 2007-12-21 Sidel Sas Procede pour controler l'epaisseur d'un revetement sur un substrat

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1404573A (en) * 1971-07-26 1975-09-03 Vickers Ltd Sensing of liquids on surfaces
US3773548A (en) * 1972-01-27 1973-11-20 Optical Coating Laboratory Inc Method of monitoring the rate of depositing a coating solely by its optical properties
DE2220230C3 (de) * 1972-04-25 1975-01-16 Labtronic Ag Gesellschaft Fuer Klinischelabortechnik, Zuerich (Schweiz) Schaltung zum automatischen Nullabgleich für ein Phonometer zur digitalen Anzeige der Lichtabsorption einer Messprobe
DE2300922A1 (de) * 1973-01-09 1974-07-18 Fischer Gmbh & Co Helmut Einrichtung zur optisch elektronischen messung der schichtdicke von farben
DE2412729C3 (de) * 1974-03-16 1982-04-29 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und Anordnung zur Regelung der Verdampfungsrate und des Schichtaufbaus bei der Erzeugung optisch wirksamer Dünnschichten
US4135006A (en) * 1974-07-29 1979-01-16 United States Steel Corporation Automatic coating weight controls for automatic coating processes
US4024291A (en) * 1975-06-17 1977-05-17 Leybold-Heraeus Gmbh & Co. Kg Control of vapor deposition
DE2627753C2 (de) * 1976-06-21 1983-09-01 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Anordnung zur Dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer Dünnschichten
GB1594710A (en) * 1977-12-21 1981-08-05 Lippke Gmbh Co Kg Paul Manufacture of films of plastics material
JPS5535214A (en) * 1978-09-04 1980-03-12 Asahi Chem Ind Co Ltd Method and device for film-thickness measurement making use of infrared-ray interference
DE2913879C2 (de) * 1979-04-06 1982-10-28 Frieseke & Hoepfner Gmbh, 8520 Erlangen Verfahren zur Regelung der Dicke von laufenden Meßgutbahnen

Also Published As

Publication number Publication date
SU1584759A3 (ru) 1990-08-07
CH669662A5 (nl) 1989-03-31
NL8203211A (nl) 1983-04-05
GB2105461B (en) 1985-09-25
JPH0318121B2 (nl) 1991-03-11
US4469713A (en) 1984-09-04
NL191186B (nl) 1994-10-03
CA1203598A (en) 1986-04-22
JPS5855706A (ja) 1983-04-02
FR2512545A1 (fr) 1983-03-11
DE3135443C2 (nl) 1988-09-15
FR2512545B1 (fr) 1986-12-26
DE3135443A1 (de) 1983-03-24
GB2105461A (en) 1983-03-23
JPH0439004B2 (nl) 1992-06-26
JPH03135703A (ja) 1991-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL191186C (nl) Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat.
NL194832B (nl) Werkwijze voor het vormen van een dunne-halfgeleiderfilm.
NL190419C (nl) Inrichting voor het opbrengen van een parti le oppervlaktebekleding.
NL193801B (nl) Inrichting voor het verwarmen van een cirkelvormig substraat.
NL7710659A (nl) Werkwijze voor het vormen van een epitaxiale laag op het oppervlak van een substraat.
NL190645B (nl) Werkwijze voor het vormen van een beschermende diffussielaag.
AU548963B2 (en) Multilayer element for ligand assay
NL190671C (nl) Inrichting voor het meten van een oppervlaktetemperatuur.
NL191267C (nl) Inrichting voor het met plasma bewerken van een substraat.
NL191241C (nl) Kleefvel voor halfgeleiders.
NL8007022A (nl) Pijpplaat; werkwijze voor het vervaardigen van een pijpplaat.
DE69011956D1 (de) An der Oberfläche poröser Film.
NL188550C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidersubstraat.
NL191639C (nl) Inrichting voor de contactvrije meting van de snelheid van een bewegend medium.
MX162167A (es) Metodo mejorado para revestir un substrato con una pelicula de multiisocianato-fenolico
ES266631Y (es) Dispositivo para la produccion de ranuras en un filamento alargado.
MX163517B (es) Deteccion de la presencia de un revestimiento sobre un substrato
NL190983C (nl) Inrichting voor het aanhechten van labelpennen.
NL7700641A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een bekleding voor halfgeleidersubstraten.
NL7706712A (nl) Inrichting voor het meten en regelen van de dikte val een laag.
NL174281B (nl) Inrichting voor het opnemen van een laag elementen met een cilindrisch opneemorgaan, waarvan een, als klep uitgevoerd gedeelte de elementen opneemt.
NL179301C (nl) Werkwijze voor het vormen van een aanhechtend metaaloppervlak op een substraat.
NL7710607A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een laag met een structuur op een substraat.
BE888841A (nl) Stelsel voor het meten van de wanddikte van een meetobject.
NL193722B (nl) Werkwijze voor het bekleden van een substraat.

Legal Events

Date Code Title Description
A85 Still pending on 85-01-01
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT TE HANAU A.D. MAIN

TNT Modifications of names of proprietors of patents or applicants of examined patent applications

Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AKTIENGESE

V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 20020816