NL158026B - Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling.Info
- Publication number
- NL158026B NL158026B NL7314156.A NL7314156A NL158026B NL 158026 B NL158026 B NL 158026B NL 7314156 A NL7314156 A NL 7314156A NL 158026 B NL158026 B NL 158026B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- manufacturing
- semiconductor circuit
- integrated semiconductor
- integrated
- circuit
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0272—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers for lift-off processes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP47104283A JPS4960870A (de) | 1972-10-16 | 1972-10-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7314156A NL7314156A (de) | 1974-04-18 |
NL158026B true NL158026B (nl) | 1978-09-15 |
Family
ID=14376586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7314156.A NL158026B (nl) | 1972-10-16 | 1973-10-15 | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3945347A (de) |
JP (1) | JPS4960870A (de) |
CA (1) | CA989076A (de) |
DE (1) | DE2351943B2 (de) |
FR (1) | FR2203175B1 (de) |
GB (1) | GB1418969A (de) |
NL (1) | NL158026B (de) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4096623A (en) * | 1974-07-01 | 1978-06-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Thyristor and method of producing the same |
FR2284981A1 (fr) * | 1974-09-10 | 1976-04-09 | Radiotechnique Compelec | Procede d'obtention d'un circuit integre semiconducteur |
US3985597A (en) * | 1975-05-01 | 1976-10-12 | International Business Machines Corporation | Process for forming passivated metal interconnection system with a planar surface |
US4045594A (en) * | 1975-12-31 | 1977-08-30 | Ibm Corporation | Planar insulation of conductive patterns by chemical vapor deposition and sputtering |
FR2340620A1 (fr) * | 1976-02-06 | 1977-09-02 | Ibm | Procede de fabrication d'un dispositif integre a grande echelle ayant une surface plane |
US4035276A (en) * | 1976-04-29 | 1977-07-12 | Ibm Corporation | Making coplanar layers of thin films |
JPS57176746A (en) * | 1981-04-21 | 1982-10-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Semiconductor integrated circuit and manufacture thereof |
US4564997A (en) * | 1981-04-21 | 1986-01-21 | Nippon-Telegraph And Telephone Public Corporation | Semiconductor device and manufacturing process thereof |
US4392298A (en) * | 1981-07-27 | 1983-07-12 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Integrated circuit device connection process |
US4440804A (en) * | 1982-08-02 | 1984-04-03 | Fairchild Camera & Instrument Corporation | Lift-off process for fabricating self-aligned contacts |
JPS5982746A (ja) * | 1982-11-04 | 1984-05-12 | Toshiba Corp | 半導体装置の電極配線方法 |
US4631806A (en) * | 1985-05-22 | 1986-12-30 | Gte Laboratories Incorporated | Method of producing integrated circuit structures |
JPH02125422A (ja) * | 1988-11-02 | 1990-05-14 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
KR0121106B1 (ko) * | 1994-02-15 | 1997-11-10 | 김주용 | 반도체 소자의 금속배선 형성방법 |
US5854128A (en) | 1996-04-29 | 1998-12-29 | Micron Technology, Inc. | Method for reducing capacitive coupling between conductive lines |
TW350099B (en) * | 1998-01-26 | 1999-01-11 | United Microelectronics Corp | IC microfilm process |
DE10208728B4 (de) * | 2002-02-28 | 2009-05-07 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelements mit unterschiedlichen Metallsilizidbereichen |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE590576A (de) * | 1959-05-06 | |||
US3160534A (en) * | 1960-10-03 | 1964-12-08 | Gen Telephone & Elect | Method of making tunnel diodes |
US3266127A (en) * | 1964-01-27 | 1966-08-16 | Ibm | Method of forming contacts on semiconductors |
NL132313C (de) * | 1964-12-17 | 1900-01-01 | ||
US3498833A (en) * | 1966-07-08 | 1970-03-03 | Fairchild Camera Instr Co | Double masking technique for integrated circuit |
US3840982A (en) * | 1966-12-28 | 1974-10-15 | Westinghouse Electric Corp | Contacts for semiconductor devices, particularly integrated circuits, and methods of making the same |
GB1286737A (en) * | 1969-10-15 | 1972-08-23 | Itt | Multilevel conductive systems |
GB1363815A (en) * | 1971-12-06 | 1974-08-21 | Tektronix Inc | Semiconductor device and method of producing same |
US3747200A (en) * | 1972-03-31 | 1973-07-24 | Motorola Inc | Integrated circuit fabrication method |
-
1972
- 1972-10-16 JP JP47104283A patent/JPS4960870A/ja active Pending
-
1973
- 1973-10-12 FR FR7336533A patent/FR2203175B1/fr not_active Expired
- 1973-10-15 CA CA183,425A patent/CA989076A/en not_active Expired
- 1973-10-15 NL NL7314156.A patent/NL158026B/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-10-16 US US05/406,927 patent/US3945347A/en not_active Expired - Lifetime
- 1973-10-16 DE DE2351943A patent/DE2351943B2/de not_active Ceased
- 1973-10-16 GB GB4821873A patent/GB1418969A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS4960870A (de) | 1974-06-13 |
FR2203175B1 (de) | 1977-09-23 |
CA989076A (en) | 1976-05-11 |
DE2351943B2 (de) | 1980-08-07 |
FR2203175A1 (de) | 1974-05-10 |
GB1418969A (en) | 1975-12-24 |
NL7314156A (de) | 1974-04-18 |
DE2351943A1 (de) | 1974-05-02 |
US3945347A (en) | 1976-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL161620C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde schakeling. | |
NL7412121A (nl) | Geheugenhalfgeleiderinrichting van het draad- vormige type alsmede werkwijze voor het ver- vaardigen van deze inrichting. | |
NL161302B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting. | |
NL161305B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting. | |
NL159534B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling met van een geisoleerde stuurelektrode voorziene veldeffecttransistoren. | |
NL172710C (nl) | Halfgeleiderlaser en werkwijze voor het vervaardigen van deze laser. | |
NL186608C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderinjectie-logicainrichting. | |
NL158026B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling. | |
NL7608923A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL162789C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL162511C (nl) | Geintegreerde halfgeleiderschakeling met een laterale transistor en werkwijze voor het vervaardigen van de geintegreerde halfgeleiderschakeling. | |
NL158022B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL161619C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting. | |
NL169120C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een elektrisch element en element verkregen volgens deze werkwijze. | |
NL161301C (nl) | Halfgeleiderinrichting en werkwijze voor de vervaar- diging daarvan. | |
NL186933C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugenschakeling van het ladinggekoppelde type. | |
NL164157C (nl) | Geintegreerde halfgeleiderschakeling van het ladings- gekoppelde type en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke halfgeleiderschakeling. | |
NL154062B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling, alsmede geintegreerde halfgeleiderschakeling, vervaardigd met deze werkwijze. | |
NL159536B (nl) | Halfgeleiderlaser en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
NL7410215A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde schakeling. | |
NL140365B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een elektronische microstructuur. | |
NL169802C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een door dielektrisch materiaal geisoleerde, geintegreerde halfgeleiderschakeling. | |
NL7604708A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geinte- greerde schakeling. | |
NL179248C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling met complementaire transistoren. | |
NL7510427A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee | ||
NL80 | Information provided on patent owner name for an already discontinued patent |
Owner name: MATSUS ELEC |