NL1028349A1 - Systeem en werkwijze voor het gebruik van een zijdelings gemonteerde interferometer voor het verwerven van positie-informatie. - Google Patents

Systeem en werkwijze voor het gebruik van een zijdelings gemonteerde interferometer voor het verwerven van positie-informatie.

Info

Publication number
NL1028349A1
NL1028349A1 NL1028349A NL1028349A NL1028349A1 NL 1028349 A1 NL1028349 A1 NL 1028349A1 NL 1028349 A NL1028349 A NL 1028349A NL 1028349 A NL1028349 A NL 1028349A NL 1028349 A1 NL1028349 A1 NL 1028349A1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
position information
acquiring position
laterally mounted
mounted interferometer
interferometer
Prior art date
Application number
NL1028349A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1028349C2 (nl
Inventor
William Clay Schluchter
Louis F Mueller
Douglas P Woolverton
Jeffrey A Young
Alan B Ray
David C Chu
Original Assignee
Agilent Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agilent Technologies Inc filed Critical Agilent Technologies Inc
Publication of NL1028349A1 publication Critical patent/NL1028349A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1028349C2 publication Critical patent/NL1028349C2/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
NL1028349A 2004-02-20 2005-02-18 Systeem en werkwijze voor het gebruik van een zijdelings gemonteerde interferometer voor het verwerven van positie-informatie. NL1028349C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/783,199 US7130056B2 (en) 2004-02-20 2004-02-20 System and method of using a side-mounted interferometer to acquire position information
US78319904 2004-02-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1028349A1 true NL1028349A1 (nl) 2005-08-23
NL1028349C2 NL1028349C2 (nl) 2006-11-27

Family

ID=34861174

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1028349A NL1028349C2 (nl) 2004-02-20 2005-02-18 Systeem en werkwijze voor het gebruik van een zijdelings gemonteerde interferometer voor het verwerven van positie-informatie.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7130056B2 (nl)
JP (1) JP4880232B2 (nl)
CN (1) CN1306241C (nl)
DE (1) DE102004059400A1 (nl)
NL (1) NL1028349C2 (nl)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7101053B2 (en) * 2004-01-15 2006-09-05 Associated Universities, Inc. Multidirectional retroreflectors
US7362447B2 (en) * 2004-02-20 2008-04-22 Agilent Technologies, Inc. Low walk-off interferometer
US7158236B2 (en) * 2004-05-21 2007-01-02 Agilent Technologies, Inc. Heterodyne laser interferometer for measuring wafer stage translation
US8693006B2 (en) * 2005-06-28 2014-04-08 Nikon Corporation Reflector, optical element, interferometer system, stage device, exposure apparatus, and device fabricating method
US7355719B2 (en) * 2005-08-16 2008-04-08 Agilent Technologies, Inc. Interferometer for measuring perpendicular translations
WO2007142351A1 (ja) * 2006-06-09 2007-12-13 Nikon Corporation 移動体装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
TW200900878A (en) * 2007-04-27 2009-01-01 Nikon Corp Optical member, interferometer system, stage apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2010122183A (ja) * 2008-11-21 2010-06-03 Sanyo Electric Co Ltd 物体検出装置および情報取得装置
CN102109769B (zh) * 2009-12-29 2012-10-03 上海微电子装备有限公司 工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置及联调方法
DE102013224381A1 (de) * 2012-12-20 2014-06-26 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
CN103499291B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 基于四标准光轴气浴的角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499288B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 基于三标准光轴气浴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499282B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 三光轴回位及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499280B (zh) * 2013-10-11 2015-04-22 哈尔滨工业大学 回位补偿式三光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499292B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 基于双标准光轴的角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499285B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 双光轴补偿及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528509B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 基于双标准光轴气浴的角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499289B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 形貌补偿式四光轴角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528508B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 形貌补偿式双光轴角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528504B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 回位补偿式四光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528501B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 基于四标准光轴气浴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499284B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 双光轴回位及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528499B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 形貌补偿式双光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499277B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 基于四标准光轴的角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528502B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 回位补偿式双光轴角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499286B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 回位补偿式双光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528526B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 形貌补偿式三光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499290B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 双光轴回位及气浴式角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528500B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 基于四标准光轴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499281B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 四光轴回位及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499278B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 形貌补偿式四光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528506B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 四光轴回位及气浴式角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528503B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 双光轴补偿及气浴式角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528507B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 回位补偿式四光轴角位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528525B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 三光轴补偿及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499287B (zh) * 2013-10-11 2015-03-11 哈尔滨工业大学 基于双标准光轴气浴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528505B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 四光轴补偿及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528510B (zh) * 2013-10-11 2015-02-11 哈尔滨工业大学 四光轴补偿及气浴式角位移激光干涉仪校准方法与装置
US9983298B2 (en) 2015-02-05 2018-05-29 Associated Universities, LLC Fiber optic based laser range finder
US10126411B2 (en) * 2015-03-13 2018-11-13 Continental Advanced Lidar Solutions Us, Llc. Beam steering LADAR sensor
CN106886143B (zh) * 2017-04-28 2019-08-09 电子科技大学 基于相位全息相关性的全息扫描空间距离提取方法
WO2019068601A1 (en) * 2017-10-04 2019-04-11 Asml Netherlands B.V. INTERFEROMETRIC PLATE PLATFORM POSITIONING APPARATUS
US10697893B2 (en) * 2018-03-09 2020-06-30 The Boeing Company Specular variable angle absolute reflectance method and reflectometer
JP7265020B2 (ja) 2019-02-28 2023-04-25 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． ステージシステム及びリソグラフィ装置
US11327013B2 (en) 2020-05-15 2022-05-10 The Boeing Company Specular variable angle absolute reflectance method and reflectometer

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4891526A (en) 1986-12-29 1990-01-02 Hughes Aircraft Company X-Y-θ-Z positioning stage
JPH0599612A (ja) * 1991-10-04 1993-04-23 Nikon Corp レーザ干渉計
JP3164960B2 (ja) 1994-02-18 2001-05-14 キヤノン株式会社 ステージ装置
EP0793079B1 (en) * 1996-02-29 2003-06-11 The Boeing Company Fiber coupled interferometric displacement sensor
KR100525521B1 (ko) * 1996-10-21 2006-01-27 가부시키가이샤 니콘 노광장치및노광방법
US6020964A (en) * 1997-12-02 2000-02-01 Asm Lithography B.V. Interferometer system and lithograph apparatus including an interferometer system
US6208407B1 (en) 1997-12-22 2001-03-27 Asm Lithography B.V. Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement
JP3413122B2 (ja) * 1998-05-21 2003-06-03 キヤノン株式会社 位置決め装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法
TW490596B (en) 1999-03-08 2002-06-11 Asm Lithography Bv Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the lithographic projection apparatus, device manufactured according to the method and method of calibrating the lithographic projection apparatus
US6603562B1 (en) * 1999-10-29 2003-08-05 Yokogawa Electric Corporation Two-dimensional positioning apparatus and method for measuring laser light from the apparatus
EP1285222A4 (en) 2000-05-17 2006-11-15 Zygo Corp INTERFEROMETRIC DEVICE AND INTERFEROMETRIC PROCEDURE
JP2003015509A (ja) * 2001-06-27 2003-01-17 Sony Corp 画像露光記録装置及び画像露光記録方法
US7193726B2 (en) * 2001-08-23 2007-03-20 Zygo Corporation Optical interferometry
CN2508215Y (zh) * 2001-11-09 2002-08-28 天津大学 偏振分束错位式干涉仪

Also Published As

Publication number Publication date
JP4880232B2 (ja) 2012-02-22
CN1306241C (zh) 2007-03-21
CN1657865A (zh) 2005-08-24
JP2005233966A (ja) 2005-09-02
US20050185193A1 (en) 2005-08-25
US7130056B2 (en) 2006-10-31
NL1028349C2 (nl) 2006-11-27
DE102004059400A1 (de) 2005-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1028349A1 (nl) Systeem en werkwijze voor het gebruik van een zijdelings gemonteerde interferometer voor het verwerven van positie-informatie.
NL1029261A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het bewerken van een kleurensignaal.
NL1030103A1 (nl) Systeem en werkwijze voor het beveiligd bijwerken van software voor een inrichting op afstand.
NL1028856A1 (nl) Werkwijze voor het coderen van een film.
NL1029167A1 (nl) Werkwijzen en systemen voor gegevensintegratie.
NL1032927A1 (nl) Werkwijze en stelsel voor het automatisch bepalen van zones in een gescand object.
NL1028397A1 (nl) Werkwijze voor automatisch bepalen van het sagittale vlak.
EP1889495A4 (en) METHOD AND SYSTEM FOR COMMUNICATING BY POSITION INFORMATION
NL2000656A1 (nl) Werkwijze en systeem voor het splitsen van een patroonlayout.
NL1032382A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het regelen van diepte van een driedimensionaal beeld.
NL1031057A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het coderen en decoderen van een stereobeeld.
NL1029328A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor beeldinterpolatie.
NL1030748A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het opnemen van een signaal gebruikmakend van een bundelvormingsalgoritme.
NL1029018A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het verbeteren van de contrastratio in een projectiesysteem.
NL1028887A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het afvlakken van een videosignaal met gebruikmaking van patroonaanpassend filteren.
NL1028888A1 (nl) Inrichting voor ontvlechten en werkwijze met gebruikmaking van gedetecteerde lijnbibber.
NL1031621A1 (nl) Systeem voor het meten van een absolute positie in twee dimensies met behulp van een doelwitpatroon.
NL1027730A1 (nl) Werkwijze voor het converteren van een bestandsysteem format en inrichting daarvan.
NL1032735A1 (nl) Werkwijzen en systemen voor het besturen van ruis in een gegevensverwervingssysteem.
NL1029242A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het detecteren van kleurengamma in een kleureninrichting en het berekenen van de inverse transformatiefunctie van een kleurenruimte.
NL1025558A1 (nl) Inrichting voor het walsen en een werkwijze voor walsen.
NL1033651A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van een maximum-intensiteitsprojectie.
NL2001004A1 (nl) Framestelsel voor een artikelopslaginrichting.
NL1030640A1 (nl) Beeldinterpolatie-inrichting en werkwijze voor het verhinderen van aliasing.
NL1028646A1 (nl) Inrichting voor het inspecteren van metalen oppervlakken.

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
RD2N Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report)

Effective date: 20060918

PD2B A search report has been drawn up
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20130901