KR970707619A - 저가의 평균 전력과 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템(low cost, high average power, high brightness solid state laser) - Google Patents

저가의 평균 전력과 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템(low cost, high average power, high brightness solid state laser)

Info

Publication number
KR970707619A
KR970707619A KR1019970703260A KR19970703260A KR970707619A KR 970707619 A KR970707619 A KR 970707619A KR 1019970703260 A KR1019970703260 A KR 1019970703260A KR 19970703260 A KR19970703260 A KR 19970703260A KR 970707619 A KR970707619 A KR 970707619A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
solid state
pulsed laser
laser
pulse
laser system
Prior art date
Application number
KR1019970703260A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100371125B1 (ko
Inventor
해리 리저
헨리 쉴즈
리차드 엠 포스터
Original Assignee
리차드 엠 포스터
제이엠에이알 테크놀로지 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/339,755 external-priority patent/US5491707A/en
Application filed by 리차드 엠 포스터, 제이엠에이알 테크놀로지 캄파니 filed Critical 리차드 엠 포스터
Publication of KR970707619A publication Critical patent/KR970707619A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100371125B1 publication Critical patent/KR100371125B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H01S3/2325—Multi-pass amplifiers, e.g. regenerative amplifiers
    • H01S3/2333—Double-pass amplifiers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383—Parallel arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S2301/00—Functional characteristics
    • H01S2301/08—Generation of pulses with special temporal shape or frequency spectrum
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08072—Thermal lensing or thermally induced birefringence; Compensation thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
    • H01S3/082—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors defining a plurality of resonators, e.g. for mode selection or suppression
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/1022—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation by controlling the optical pumping
    • H01S3/1024—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation by controlling the optical pumping for pulse generation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/107—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using electro-optic devices, e.g. exhibiting Pockels or Kerr effect
    • H01S3/1075—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using electro-optic devices, e.g. exhibiting Pockels or Kerr effect for optical deflection
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
    • H01S3/1103—Cavity dumping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
    • H01S3/1123—Q-switching
    • H01S3/1127—Q-switching using pulse transmission mode [PTM]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
    • H01S3/1123—Q-switching
    • H01S3/115—Q-switching using intracavity electro-optic devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H01S3/2316—Cascaded amplifiers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

본 발명은 높은 평균 전력의 고휘도 고상 레이저 시스템을 제공한다. 본 발명은 짧은 펄스 지속 기간을 가지는 시드 레이저 비임을 먼저 발생시킨다. 레이저 증폭기(24)는 1011W.㎠를 초과하는 휘도 레벨을 가지는 펄스를 발생시키도록 정밀하게 집속되는 증폭된 펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 시드 비임을 증폭한다. 양호한 실시예에는 평균 전력이 1kW 범위의 전력, 초당 12,000개 펄스의 평균 펄스의 평균 펄스 주파수를 가지는 증폭된 펄스 레이저 비임을 발생시키는데, 펄스는 크기가 최대로 큰 스폿을 모의 실험하기 위해 신속하게 스티어링 될 수 있는 직경이 20㎛인 스폿에서 1014W/㎠를 초과하는 휘도 레벨을 가지고 있다. 선택적으로 수(예를 들어, 7개)개의 비임(병렬로 배열된 증폭기로부터의 비이)을 가지는 kHz시스템은 20㎛에서 각각 집속될 수 있고, 100 내지 200㎛의 유효 스폿 크기를 발생시키도록 클러스터된다. 이러한 비임은 리소그래피용 X선 소오스를 발생시에 유용하다.

Description

저가의 평균 전력과 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템(LOW COST, HIGH AVERAGE POWER, HIGH BRIGHTNESS SOLID STATE LASER)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (39)

  1. 높은 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템에 있어서, (a) 1ns보다 작은 지속 기간을 각각 가지고 있는 초당 1,000개의 펄스를 초과하는 펄스 주파수를 가지는 제1펄스 레이저 비임을 발생시키기 위한 시드 레이저 서브시스템 수단과 (b) 고주파수 펄스를 포함하고, 10W를 초과하는 평균 전력을 가지고 있는 증폭된 펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 상기 제1펄스 레이저 비임을 증폭시키기 위한 레이저 증폭기 수단과 (c) 1011W/㎠를 초과하는 휘도 레벨을 발생시키기에 충분히 작은 크기의 스폿으로 상기 증폭된 펄스 레이저 비임을 타겟 상에 집속시키기 위한 집속 수단을 포함하는 높은 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템 수단은 상기 제1펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 레이저 비임의 80%의 펄스보다 많이 제거하기 위한 펄스 간격 선택기를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 작은 스폿보다 큰 크기의 스폿을 모의 실험하기 위해서 상기 타겟에 관련하여 상기 증폭된 펄스 레이저 비임을 신속하게 스티어링시키기 위한 비임 스티어링 수단을 더 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  4. 제2항에 있어서, 상기 비임 스티어링 수단이 미러에 부착된 PZT 장치를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 비임 스티어링 수단이 상기 증폭된 펄스 레이저 비임에 관련하여 상기 타겟을 이동시키기 위한 수단을 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  6. 제2항에 있어서, 레이저 수단이 모드 동기식 레이버 비임을 발생시키기 위한 모드 동기 수단을 포함하는 모드 동기식 레이저 발진기를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  7. 제6항에 있어서, 상기 모드 동기 수단이 음학 광학 모드 로커인 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  8. 제2항에 있어서, 상기 펄스 선택기 수단이 전자 광학 변조기를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 레이저 증폭기 수단이 펌핑 수단에 의해 펌프된 다중 패스 Nd：YAG 레이저 증폭기를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 상기 펌핑 수단이 다수의 레이저 다이오드 어레이를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  11. 제9항에 있어서, 상기 펌핑 수단이 플래쉬 램프를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  12. 제1항에 있어서, 상기 레이저 증폭기 수단이 다수의 레이저 다이오드 어레이에 의해 펌프된 Nd：YAG 연마봉을 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  13. 제12항에 있어서, 상기 레이저 다이오드 어레이가 CW를 동작시키도록 프로그램되어 있는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  14. 제12항에 있어서, 상기 다수의 레이저 다이오드 어레이가 100%보다 작은 충격 계수에서 동작하도록 프로그램되어 있는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스레이저 시스템.
  15. 제14항에 있어서, 상기 충격 계수가 약 20%인 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  16. 제15항에 있어서, 상기 증폭된 펄스 레이저 비임이 일련의 주기적으로 격설된 고주파수 펄스를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  17. 제1항에 있어서, 상기 작은 스폿으로 조명시에 X선의 발생을 위한 타겟을 더 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  18. 제17항에 있어서, 상기 타겟이 금속으로 구성되는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  19. 제18항에 있어서, 상기 금속이 구리 및 철로 구성된 군(group)에서 선택되는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  20. 제1항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템이 공진기를 정하고 Q 스위치로 이루어진 모드 동기식 레이저를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  21. 제20항에 있어서, 상기 Q 스위치가 10%를 초과하는 이득을 가지는 고이득 Q 스위치이고, 상기 공진기가 10.16㎝(4인치)보다 짧은 공진기인 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  22. 제20항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템이 공동 덤퍼를 더 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  23. 제1항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템이 반사 측면, λ/2 포겔 셀 및 편광자 비임 분할기를 가지고 있는 레이저 크리스탈을 포함하고, 상기 반사 측면과 상기 포겔 사이의 거리를 L 길이로 정하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  24. 제23항에 있어서, 상기 길이(L)가 4㎝보다 크지 않는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  25. 제24항에 있어서, 상기 길이(L)가 2㎝보다 크지 않는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  26. 제1항에 있어서, 상기 레이저 증폭기가 동작 파장을 정하고, 상기 시드 레이저 서브시스템이 상기 레이저 증폭기의 동작 파장과 일치하는 파장을 가지는 펄스 레이저 비임을 발생시키는 레이저 다이오드를 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  27. 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템에 있어서, (a) 높은 펄스 주파수를 가지는 제1펄스 레이저 비임을 발생시키기 위한 모드 동기식 Nd：YAG 레이저 발진기와 (b) 초당 1,000개의 펄스를 초과하는 일련의 주기적으로 격설된 고주파수 펄스를 포함하는 제2펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 상기 비임에서 80%의 펄스보다 많이 상기 제펄스 레이저 비임에서 제거하기 위한 펄스 간격 선택기 수단과 (c) 약 1kW 범위에서 평균 전력을 가지고 있고 고주파수 펄스를 포함하는 증폭된 펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 상기 팽창된 펄스 레이저 비임을 증폭하기 위한 다중 패스 다이오드 펌프식 Nd：YAG 레이저 증폭기 수단과 (e) 1011W/㎝를 초과하는 휘도 레벨을 발생시키기에 충분히 작은 크기의 스폿으로 상기 증폭된 펄스 레이저 비임을 타겟 상에 접속시키기 위한 접속 수단을 포함하는 평균 전력의 고휘도 고상 펄스 레이저 시스템.
  28. 제27항에 있어서, 상기 작은 스폿보다 큰 크기의 스폿을 모의 실험하기 위해서 상기 타겟에 관련하여 증폭된 펄스 레이저 비임을 신속하게 스티어링시키기 위한 비임 스티어링 수단을 더 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  29. 제1항에 있어서, 증폭된 비임의 주파수를 증가시키기 위해 증폭된 비임에 배치된 주파수 증가 수단을 더 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  30. 제28항에 있어서, 상기 주파수 증가 수단이 고조파 발생기인 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  31. 제1항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템이 고상 크리스탈, 보드 로커, Q 스위치 고속 전자 광학 감속기 및 편광 비임 분할기를 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  32. 제31항에 있어서, 상기 고속 전자 광학 감속기가 포겔 셀인 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  33. 제31항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템 수단이 다이오드 펌프식 고상 레이저를 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  34. 제1항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템 수단이 고상 서브 나노세컨드 펄스 레이저 및 펄스 열 멀티플렉서를 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  35. 제34항에 있어서, 상기 펄스 레이저가 Nd：YAG 레이저인 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  36. 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템에 있어서, (a) 고주파수 펄스를 가지는 제1펄스 레이저 비임을 발생시키기 위한 모드 동기식 Nd：YAG 레이저 발진기와 (b) 초당 1,000개의 펄스를 초과하는 일련의 주기적으로 격설된 고주파수 펄스를 포함하는 제2펄스 레이저 비임을 발생시키기 위한 상기 비임에서 80%이 펄스보다 많이 상기 제1펄스 레이저 비임에서 제거하기 위한 펄스 간격 선택기 수단과 (c) 약 1kW 범위의 평균 전력을 가지고 있고 고주파수 펄스를 포함하는 증폭된 펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 상기 팽창된 펄스 레이저 비임을 증폭하기 위한 다증 패스 다이오드 펌프식 Nd：YAG 레이저 증폭기 수단단과 (e) 1011W/㎠를 초과하는 휘도 레벨을 발생시키기에 충분히 작은 크기의 스폿으로 상기 증폭된 펄스 레이저 비임을 타겟상에 집속시키기 위한 접속 수단을 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  37. 제27항에 있어서, 상기 작은 스폿보다 큰 크기의 스폿을 모의 실험하기 위해서 상기 타겟에 관련하여 상기 증폭된 펄스 레이저 비임을 신속하게 스티어링시키기 위한 비임 스티어링 수단을 더 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  38. 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템에 있어서, (a) 1ns보다 작은 지속 기간을 가지는 펄스로 500Hz보다 크거나 5000Hz보다 작은 주파수를 가지는 제1펄스 레이저 비임을 발생시키기 위한 시드레이저 서브시스템 수단과 (b) 상기 제1펄스 레이저 비임을 다수의 분주된 펄스 레이저 비임으로 분주하기 위한 비임 분주기 수단과 (c) 다수의 증폭된 펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 상기 다수의 분주된 펄스 레이저 비임의 각각을 증폭하기 위해 병렬로 배열된 다수의 레이저 증폭기와 (d) X선 소오스를 발생시키기 위해서 X선 발생 타겟 상의 작은 스폿의 클러터스 내에 상기 다수의 증폭된 펄스 레이저 비임을 접속시키기 위한 집속 수단을 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
  39. 제38항에 있어서, 상기 시드 레이저 서브시스템 수단이 상기 제1펄스 레이저 비임을 발생시키기 위해 펄스 레이저 비임을 증폭하기 위한 펄스 레이저 전치 증폭기를 포함하는 평균 전력이 높고 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템.
    ※ 참고사항：최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970703260A 1994-11-15 1995-11-06 저가의 평균 전력과 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템 KR100371125B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/339755 1994-11-15
US08/339,755 US5491707A (en) 1994-08-24 1994-11-15 Low cost, high average power, high brightness solid state laser
US50337395A 1995-07-17 1995-07-17
US08/503373 1995-07-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970707619A true KR970707619A (ko) 1997-12-01
KR100371125B1 KR100371125B1 (ko) 2003-08-19

Family

ID=26991782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970703260A KR100371125B1 (ko) 1994-11-15 1995-11-06 저가의 평균 전력과 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP0792530B1 (ko)
JP (1) JPH10509280A (ko)
KR (1) KR100371125B1 (ko)
DE (1) DE69532479T2 (ko)
WO (1) WO1996016484A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3588195B2 (ja) * 1996-07-18 2004-11-10 浜松ホトニクス株式会社 固体レーザ増幅器
US6483859B1 (en) * 1999-06-24 2002-11-19 Lockheed Martin Corporation System and method for high-speed laser detection of ultrasound
US6281471B1 (en) * 1999-12-28 2001-08-28 Gsi Lumonics, Inc. Energy-efficient, laser-based method and system for processing target material
FR2814599B1 (fr) * 2000-09-27 2005-05-20 Commissariat Energie Atomique Dispositif laser de forte puissance crete et application a la generation de lumiere dans l'extreme ultra violet
US7916388B2 (en) * 2007-12-20 2011-03-29 Cymer, Inc. Drive laser for EUV light source
JP4703060B2 (ja) * 2001-08-28 2011-06-15 京セラ株式会社 サファイア基板とその製造方法およびこれを用いた電子装置とその製造方法
DE10232124A1 (de) * 2002-07-12 2004-02-12 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Impulslaseranordnung und Verfahren zur Impulslängeneinstellung bei Laserimpulsen
DE10240599A1 (de) * 2002-08-30 2004-03-18 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Anordnung und Verfahren zur Erzeugung ultrakurzer Laserimpulse
JP2006128157A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム
KR100829009B1 (ko) * 2007-08-28 2008-05-14 지에스아이 루모닉스 인코퍼레이티드 표적 물질 처리를 위한 에너지 효율적인 레이저 기반 방법 및 시스템
JP5075951B2 (ja) * 2010-07-16 2012-11-21 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置及びドライバレーザシステム
CN109149351B (zh) * 2018-10-16 2020-02-21 中国科学院福建物质结构研究所 调q激光器

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4630275A (en) * 1984-12-10 1986-12-16 Allied Corporation Controlled slow Q-switch
US4757268A (en) * 1985-05-22 1988-07-12 Hughes Aircraft Company Energy scalable laser amplifier
US4646308A (en) * 1985-09-30 1987-02-24 Spectra-Physics, Inc. Synchronously pumped dye laser using ultrashort pump pulses
US4930901A (en) * 1988-12-23 1990-06-05 Electro Scientific Industries, Inc. Method of and apparatus for modulating a laser beam
US5003543A (en) * 1990-01-19 1991-03-26 California Jamar, Incorporated Laser plasma X-ray source
DE4037901A1 (de) * 1990-11-28 1992-06-04 Lambda Physik Gmbh Verfahren zum steuern der gesamtenergiemenge einer vielzahl von laserpulsen
US5235606A (en) * 1991-10-29 1993-08-10 University Of Michigan Amplification of ultrashort pulses with nd:glass amplifiers pumped by alexandrite free running laser
US5339323A (en) * 1993-04-30 1994-08-16 Lumonics Corporation Laser system for controlling emitted pulse energy
US5434875A (en) * 1994-08-24 1995-07-18 Tamar Technology Co. Low cost, high average power, high brightness solid state laser

Also Published As

Publication number Publication date
EP0792530A1 (en) 1997-09-03
KR100371125B1 (ko) 2003-08-19
DE69532479D1 (de) 2004-02-26
DE69532479T2 (de) 2004-11-04
WO1996016484A1 (en) 1996-05-30
EP0792530A4 (en) 2000-01-19
JPH10509280A (ja) 1998-09-08
EP0792530B1 (en) 2004-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5790574A (en) Low cost, high average power, high brightness solid state laser
US5434875A (en) Low cost, high average power, high brightness solid state laser
US5287380A (en) Method and apparatus for generating long output pulses from flashlamp-excited lasers
US5491707A (en) Low cost, high average power, high brightness solid state laser
KR100339057B1 (ko) 단펄스 레이저 시스템
KR970707619A (ko) 저가의 평균 전력과 휘도가 높은 고상 펄스 레이저 시스템(low cost, high average power, high brightness solid state laser)
US5539764A (en) Laser generated X-ray source
JPH11330597A (ja) 短パルスレ―ザシステム
JP6345348B2 (ja) 高ピークパワーのパルスバースト又は他の時間変化するレーザー出力波形の生成をサポートするようポンプパワーを時間的に凝縮する方法及び装置
JP2002280324A (ja) レーザ装置
US6804045B2 (en) Optical chirped beam amplification and propagation
US6898218B2 (en) Method and apparatus for increasing the intensity of an eye safe laser
JP2008055456A (ja) 半田付け方法および半田付け用レーザ装置
JP2000107875A (ja) レーザ照射装置
TW515134B (en) High-peak-power laser device and application to the generation of light in the extreme ultraviolet
JP2014012290A (ja) レーザ加工方法、及び、レーザ加工装置
JP2007081065A (ja) レーザ装置、レーザ加工装置及び測定装置
JP2018032824A (ja) 光パルス信号生成装置、レーザ加工装置及びバイオイメージング装置
Klopotek et al. Short pulses from excimer lasers
JP2002113837A (ja) 版に画像を形成する装置、該装置を有する印刷ユニット、および印刷機
KR102653898B1 (ko) 버스트 펄스 증폭기를 포함하는 레이저 발생 장치
Simon et al. Ultraviolet femtosecond pulses: Key technology for sub-micron machining and efficient XUV pulse generation
JP3810716B2 (ja) Ｘ線発生装置及び発生方法
RU2044065C1 (ru) Лазерное генераторно-усилительное устройство одномодового излучения для термической обработки материалов
US20150375338A1 (en) Laser System for Modifying Objects

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20060111

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee