KR970066705A - 마스크 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 부분적으로 서로 다른 두께를 갖는 포토레지스터층을 노광하기 위한 마스크에 있어서; 석영기판; 상기 석영기판상에 패터닝되되, 상대적으로 빛 투과량이 적어야 될 지역을 덮고 있는 염색된 석영층; 상기 염색된 석영층상에 형성되되 빛 투과 지역이 오픈된 크롬층을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크에 관한 것으로, 단차에 맞게 투과율이 다른 마스크를 제작하여, 벌크 이펙트에 의한 패턴 불량을 해소함으로써, 공정이 안정화 따른 수율향상과 소자의 품질이 향상되는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 일실시예에 따른 콘택홀 형성용 레티클을 사용한 노광공정을 나타내는 단면도.
Claims (3)
- 부분적으로 서로 다른 두께를 갖는 포토레지스터층을 노광하기 위한 마스크에 있어서; 석영기판; 상기 석영층상에 패터닝되되, 상대적으로 빛 투과량이 적어야 될 지역을 덮고 있는 염색된 석영층; 상기 염색된 석영층상에 형성되되 빛 투과 지역이 오픈된 크롬층을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 마스크 제조 방법에 있어서; 석영기판 전면상에 염색된 석영층을 형성하는 단계; 상기 염색된 석영층상에 및 투과 지역이 오픈되는 크롬 패턴을 형성하는 단계; 전체 구조 상부에 포토레지스터를 도포하는 단계; 상대적으로 빛 투과량이 적어야 될 지역을 덮도록 상기 포토레지스터를 패터닝하는 단계; 노출되는 상기 염색된 석영층을 식각하는 단계; 잔류하는 상기 포토레지스터 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.
- 제2항에 있어서; 상기 포토레지스터의 패터닝을 전자-빔(E-Beam)에 의한 노광과 현상에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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