KR970059847A - 패턴 검출방법 및 마스크와 작업편의 위치맞춤장치 - Google Patents

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요네타 다나카
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다나카 아키히로
우시오덴키 가부시키가이샤
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G—PHYSICS
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Abstract

본 발명은 표면이 거친 작업편상의 패턴의 위치좌표를 자동적으로 정밀도 좋게 검출할 수 있는 패턴 검출 방법 및 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
표면이 거칠은 작업편상에 형성된 서로 교차하는 거칠은 형성된 패턴을 CCD카메라등으로 수상(受象)하여 명암신호를 기억수단으로 기억한다. 그리고, 상기 패턴의 각 직선에 평행한 방향에서 화상신호를 적산하여,적산신호(∑Xn, ∑Yn)를 구한다. 화상신호를 적산함으로써, 표면의 거칠기에 의해 발생하는 상은 평균화되고, 적산신호는 (a), (d)에 도시한 바와 같이 패턴의 경계위치를 명확하게 표시하는 신호가 된다. 이 적산신호(∑Xn, ∑Yn)를 미분하여 (b), (e)에 도시한 신호를 얻어, 그 피크 위치로부터 패턴의 위치를 구한다.

Description

패턴 검출방법 및 마스크와 작업편의 위치맞춤장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 있어서의 패턴의 검출방법을 설명하는 도면.

Claims (2)

  1. 표면이 거칠은 작업편상의 패턴의 위치좌표를 검출하는 패턴 검출방법으로서, 교차하는 직선부분만으로 형성된 패턴의 화상을 명암신호로서 기억하고, 상기 패턴의 각 직선에 평행한 방향에서 명암신호를 적산하여 상기 각 직선에 대응한 적산신호를 구하고, 상기 각 적산 값을 미분하여 미분신호의 피크 위치를 구하여, 각 적산 값으로부터 구한 피크위치에 의거하여 패턴의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 패턴 검출방법.
  2. 마스크 패턴과, 마스크얼라인먼트 마크를 가지는 마스크와, 그 마스크를 재치하는 마스크 스테이지와, 교차하는 직선부분만으로 형성된 작업편 얼라인먼트 마크를 가지는 표면이 거칠은 작업편과, 그 작업편을 재치하는 작업편 스테이지와, 상기 마스크를 통해서 상기 작업편상에 광을 조사하는 거칠은, 마스크의 얼라인먼트 마크상과, 작업편상에 설치된 얼라인먼트 마크상을 수상하는 얼라인먼트 유닛과, 상기 얼라인먼트 유닛으로부터 송출되는 화상신호에 의거하여 마스크와 작업편의 얼라인먼트 마크의 위치좌표를 검출하고, 상기 마스크스테이지 및/또는 작업편 스테이지를 구동하여, 마스크와 먼트 위치맞춤을 행하는 제어장치를 구비한 마스크와 작업편의 위치맞춤장치로서, 상기 제어장치는 상기 얼라인먼트 유닛에 의해 수상한 화상신호를 명암신호로서 기억하는 수단을 구비하며, 상기 기억수단에 기억된 명암신호를 상기 얼라인먼트 마크의 각 직선에 평행한 방향에서 적산하여 각 직선에 대응한 적산값을 얻고, 각 적산값을 미분하여 적산값을 피크의 위치를 구하고, 그 피크위치에 의거하여 얼라인먼트 마크의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 마스크와 작업편의 위치맞춤장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960075631A 1996-01-11 1996-12-28 패턴 검출방법 및 마스크와 작업편의 위치맞춤장치 KR970059847A (ko)

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