KR970051735A - 평판소자의 필름형 기능막 - Google Patents
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- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
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Abstract
본 발명은 AC형 PDP등의 평판소자에 절연층등의 기능층을 형성하는 필름형태의 기능막을 개시한다. 인쇄방법이나 박막증착법등의 문제를 해결하기 위해 등장한 필름형태의 기능막은 주름이나 틈새의 잔류에 의해 소자의 균일한 특성이 보장되지 못하는 문제가 있었다. 또한 종래의 기능막을 합성수지가 잔류하여 절연특성 등이 나브고 유기가스가 발생되어 소자를 오염시키는 문제도 있었다. 본 발명에서는 기능층을 구성할 기능입자를 열분해성 바인더에 분산시켜 필름형태의 기능막을 구성한 뒤, 이 기능막을 기판에 접합시켜 기능입자의 소성온도 이상으로 가열함으로써 바인더는 열분해 및 휘산시키고 기능입자만이 소성되어 균일한 기능층을 형성하도록 하였다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명 절연막의 구성을 보이는 일부확대 단면도.
제5 (가), (나)는 본 발명 절연막의 접합시의 작용을 보이는 순차적 단면도들이다.
Claims (4)
- 평판소자의 기판상에 접합되어 소정의 기능층을 형성하는 필름형태의 기능막에 있어서, 상기 기능막이 상기 기능층을 형성할 기능입자를 열분해성의 바인더에 분산시켜 구성한 것을 특징으로 하는 평판소자의 필름형 기능막.
- 제1항에 있어서, 상기 기능막을 상기 기판상에 입착시킨후 이를 상기 기능입자의 소성온도 이상으로 가열함으로써 상기 바인더가 열분해 및 휘산되고 상기 기능입자가 소성되어 상기 기능층을 형성하는 것을 특징으로 하는 평판소자의 필름형 기능막.
- 제1항 또는 제2항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 평판소자가 교류형 플라즈마 표시소자이며, 상기 기능막의 기능입자가 절연층을 형성하는 것을 특징으로 하는 평판소자의 필름형 기능막.
- 제3항에 있어서, 상기 기능입자가 납유리 분말인 것을 특징으로 하는 평판소자의 필름형 기능막.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019950064372A KR100226164B1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 평판소자의 필름형 기능막 |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019950064372A KR100226164B1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 평판소자의 필름형 기능막 |
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KR970051735A true KR970051735A (ko) | 1997-07-29 |
KR100226164B1 KR100226164B1 (ko) | 1999-10-15 |
Family
ID=19446880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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KR100355346B1 (ko) * | 2000-01-28 | 2002-10-11 | 한국과학기술연구원 | 산화물 후막의 치밀화 방법 |
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KR100366092B1 (ko) * | 2000-09-18 | 2002-12-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 필름과, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의제조방법 |
KR100683527B1 (ko) * | 2004-05-06 | 2007-02-15 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 |
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1995
- 1995-12-29 KR KR1019950064372A patent/KR100226164B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100355346B1 (ko) * | 2000-01-28 | 2002-10-11 | 한국과학기술연구원 | 산화물 후막의 치밀화 방법 |
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KR100226164B1 (ko) | 1999-10-15 |
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