KR970031123A - 고출력 레이저 다이오드 - Google Patents

고출력 레이저 다이오드 Download PDF

Info

Publication number
KR970031123A
KR970031123A KR1019950042601A KR19950042601A KR970031123A KR 970031123 A KR970031123 A KR 970031123A KR 1019950042601 A KR1019950042601 A KR 1019950042601A KR 19950042601 A KR19950042601 A KR 19950042601A KR 970031123 A KR970031123 A KR 970031123A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
optical waveguide
ridge
semiconductor substrate
cladding layer
Prior art date
Application number
KR1019950042601A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0155513B1 (ko
Inventor
박경현
장동훈
이중기
박철순
조호성
Original Assignee
양승택
한국전자통신연구원
이준
한국전기통신공사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 양승택, 한국전자통신연구원, 이준, 한국전기통신공사 filed Critical 양승택
Priority to KR1019950042601A priority Critical patent/KR0155513B1/ko
Publication of KR970031123A publication Critical patent/KR970031123A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0155513B1 publication Critical patent/KR0155513B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/20Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
    • H01S5/22Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure
    • H01S5/2202Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure by making a groove in the upper laser structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/30Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/34Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

본 발명은 고출력 레이저 다이오드에 관한 것으로서, 상부 및 하부 표면을 갖는 제 1 도전형의 반도체 기판과, 상기 반도체 기판의 상부 표면에 형성된 제 1 도전형의 제 1 클래드층과, 상기 제 1 클래드층의 상부에 불순물이 도핑되지 않고 형성된 제 1 광도파로층과, 상기 제 1 광도파로드층의 상부에 불순물이 도핑되지 않은 상기 제 1 광도파로층 보다 광굴절률이 큰 물질이 양자우물 구조로 형성된 활성층과, 상기 활성층의 상부에 불순물이 도핑되지 않은 상기 활성층 보다 광굴절률이 작은 상기 제 1 광도파로층과 동일한 물질로 형성된 제 2 클래드층과, 상기 제 2 광도파로층 상부에 소정 폭을 갖고 길이 방향으로 길게 형성되며 광굴절률이 제 2 광도파로 보다 작은 서브 릿지와, 상기 서브 릿지의 상부에 서브 릿지 보다 좁은 폭을 갖고 길이 방향으로 길게 형성된 제 2 도전형의 제 2 클래드층과, 상기 제 2 클래드층의 상부에 형성된 불순물이 고농도로 도핑된 제 2 도전형의 오믹접촉층과, 상기 반도체 기판의 하부 표면과 상기 릿지의 오믹접촉층에 형성된 제 1 및 제 2 도전형 전극을 포함한다. 따라서, 고출력 동작시 공진기 내의 광출력 밀도를 낮게하여 고차 모드 발생에 의한 방사 패턴의 변화를 방지하여 레이저 다이오드 모듈에서 출력되는 광량과 광출력의 안정도를 향상시킬 수 있다.

Description

고출력 레이저 다이오드
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2 도는 본 발명에 따른 고출력 레이저 다이오드의 사시도.

Claims (5)

  1. 상부 및 하부 표면을 갖는 제 1 도전형의 반도체 기판과, 상기 반도체 기판의 상부 표면에 형성된 제 1 도전형의 제 1 클래드층과, 상기 제 1 클래드층의 상부에 불순물이 도핑되지 않고 형성된 제 1 광도파로층과, 상기 제 1 광도파로드층의 상부에 불순물이 도핑되지 않은 상기 제 1 광도파로층 보다 광굴절률이 큰 물질이 양자우물 구조로 형성된 활성층과, 상기 활성층의 상부에 불순물이 도핑되지 않은 상기 활성층 보다 광굴절률이 작은 상기 제 1 광도파로층과 동일한 물질로 형성된 제 2 클래드층과, 상기 제 2 광도파로층 상부에 소정 폭을 갖고 길이 방향으로 길게 형성되며 광굴절률이 제 2 광도파로 보다 작은 서브 릿지와, 상기 서브 릿지의 상부에 서브 릿지 보다 좁은 폭을 갖고 길이 방향으로 길게 형성된 제 2 도전형의 제 2 클래드층과, 상기 제 2 클래드층의 상부에 형성된 불순물이 고농도로 도핑된 제 2 도전형의 오믹접촉층과, 상기 반도체 기판의 하부 표면과 상기 릿지의 오믹접촉층에 형성된 제 1 및 제 2 도전형 전극을 포함하는 고출력 레이저 다이오드.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 반도체 기판 상부의 상기 서브 릿지와 대응하도록 동일한 폭을 가지며 길이 방향으로 길게 형성된 그루브를 더 포함하는 고출력 레이저 다이오드.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 그루브는 상기 서브 릿지와 동일한 폭을 갖는 고출력 레이저 다이오드.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 서브 릿지는 상기 제 2 광도파로층 보다 얇은 두께를 갖는 고출력 레이저 다이오드.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 서브 릿지는 광굴절률이 제 2 클래드층과 같거나 제 2 광도파로층 보다 작은 고출력 레이저 다이오드.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950042601A 1995-11-21 1995-11-21 고출력 레이저 다이오드 KR0155513B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950042601A KR0155513B1 (ko) 1995-11-21 1995-11-21 고출력 레이저 다이오드

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950042601A KR0155513B1 (ko) 1995-11-21 1995-11-21 고출력 레이저 다이오드

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970031123A true KR970031123A (ko) 1997-06-26
KR0155513B1 KR0155513B1 (ko) 1998-12-01

Family

ID=19435003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950042601A KR0155513B1 (ko) 1995-11-21 1995-11-21 고출력 레이저 다이오드

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0155513B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101274206B1 (ko) * 2006-02-21 2013-06-14 삼성전자주식회사 리지 구조를 가지는 반도체 레이저 다이오드

Also Published As

Publication number Publication date
KR0155513B1 (ko) 1998-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4658402A (en) Optical bistable semiconductor laser producing lasing light in direction normal to semiconductor layers
KR870001687A (ko) 반도체 레이저
KR860006851A (ko) 반도체 레이저
US4348763A (en) Multiple stripe leaky mode laser
KR890011152A (ko) 반도체 레이저 장치 및 그 제조방법
KR970031123A (ko) 고출력 레이저 다이오드
US4771433A (en) Semiconductor laser device
KR950012951A (ko) 반도체 레이저 장치
JPH0555701A (ja) 波長可変型半導体レーザ装置
KR970054969A (ko) 고출력 레이저 다이오드
KR19980018320A (ko) 발광다이오드 및 그 제조방법
US4520485A (en) Semiconductor device
KR960043385A (ko) 반도체 레이저 다이오드
JPS62291987A (ja) 光集積化素子
KR920011003A (ko) 화합물 반도체 레이저
JPS62214687A (ja) 半導体レ−ザの構造
KR970031121A (ko) 횡모드 조절 고출력 레이저 다이오드 및 그의 제조방법(laser diode and method of fabricating thereof)
KR970054979A (ko) 광변조 수직공진형 표면방출 반도체 레이저
KR970004186A (ko) 레이저 다이오드
JPS6058689A (ja) 半導体レ−ザ
KR930015212A (ko) 이중헤테로 구조를 갖는 반도체 레이저
JPS6332983A (ja) 半導体レ−ザ
KR970013538A (ko) 반도체 레이저 다이오드
KR930015217A (ko) 반도체 레이저 다이오드의 구조 및 제조방법
JPH07106694A (ja) 半導体レーザー

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070702

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee