KR970004059A - 횡형 트랜지스터 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 횡형 트랜지스터 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 채널 스토퍼의 농도 조절을 가능케하여 트랜지스터의 크기를 줄일 수 있도록 채널 스토퍼를 에미터와 콜렉터 사이에 형성한 횡형 트랜지스터를 제공하기 위하여, 에미터층 및 콜렉터층과 산화막을 덮도록 감광막을 덮고 현상한 후 에미터층 부분의 가운데에 제1도전형 불순물을 고농도로 이온 주입하여 p+형 에미터층을 형성하는 단계와, 이미 형성한 감광액 패턴을 마스크로 하여 산화막을 식각한 후 제2도전형 불순물을 이온 주입하여 채널 스토퍼를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 실시예에 따라 형성한 횡형 트랜지스터의 단면도이고, 제4도는 상기 제3도의 평면도이고, 제5의 (가)~(바)는 본 발명의 실시예에 따른 형성한 횡형 트랜지스터의 제조방법의 순서를 나타낸 단면도이다.
Claims (5)
- 제1도전형 반도체 기판, 상기 기판에 형성되어 있는 제2도전형의 베이스 영역, 상기 베이스 영역에 형성되어 있는 제2도전형의 에미터 영역, 상기 에미터 영역의 양쪽에 상기 에미터 영역과 분리되어 형성되어 있는 제1도전형의 콜렉터 영역, 상기 에미터 영역의 중앙에 형성되어 있으며 상기 에미터 영역 보다 고농도인 제1도전형의 고농도 에미터 영역, 상기 베이스 영역과 상기 기판의 접합부와 상기 콜렉터 영역 사이의 상기 베이스 영역에 형성되어 있는 제2도전형의 제1채널 스토퍼, 상기 고농도 에미터 영역 상부에 형성되어 있는 제2도전형의 제2채널 스토퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 횡형 트랜지스터.
- 제1항에 있어서, 상기 기판의 상부에 섬 모양으로 형성되어 있는 제2도전형 매입층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 횡형 트랜지스터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1도전형은 p형이고, 상기 제2도전형은 n형인 것을 특징으로 하는 횡형 트랜지스터.
- 제1도전형 반도체 기판에 제2도전형 불순물을 고농도로 확산시켜 매입층을 형성하는 단계와, 상기 매입층의 상부에 제2도전형 에피층을 형성하고, 제1도전형 반도체 기판에 제1도전형 불순물을 고농도로 확산시켜 절연층을 형성하는 단계와, 상기 제2도전형 에피층과 상기 절연층의 상부에 산화막을 형성한 다음 식각한 후,제1도전형 불순물을 이온 주입하여 횡형 pnp트랜지스터의 에미터층 및 콜렉터층을 형성하는 단계와, 상기 에미터층 및 콜렉터층과 산화막을 덮도록 감광막을 덮고 현상한 후 에미터층 부분의 가운데에 제1도전형 불순물을 고농도로 이온 주입하여 고농도 제1도전형 에미터층을 형성하는 단계와, 이미 형성한 감광액 패턴을 마스크로 하여 산화막을 식각한 후 제2도전형 불순물을 이온 주입하여 채널 스토퍼를 형성하는 단계와, 상기 감광막을 없애고 산화막을 전면 도포한 후, 다시 사진 식각하여 제2도전형의 베이스 영역을 형성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 횡형 트랜지스터의 제조 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 제1도전형은 p형이고, 상기 제2도전형은 n형인 것을 특징으로 하는 횡형 트랜지스터 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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1995
- 1995-06-12 KR KR1019950015445A patent/KR0175378B1/ko not_active IP Right Cessation
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