Claims (30)
조직화된 사용롤의 표면패턴을 금속판 또는 조각의 표면에 전달하도록 적어도 하나의 사용롤이 조직화된 사용롤인 적어도 한쌍의 사용롤을 써서 금속판 또는 조각을 냉간 축소 압연함 으로써 금속판 또는 조작을 생산하는 방법에 있어서, 조직화된 사용롤의 상기 패턴은 주위에 테두리가 있는 자국 형태의 2차원적 결정적인 반점 패턴으로 이루어짐을 특징으로 하는 금속판 또는 조각 생산방법.A method of producing a metal plate or fabric by cold-rolling a metal plate or piece using at least one pair of use rolls in which the at least one use roll is an organized use roll so as to transfer the surface pattern of the organized use roll to the surface of the metal plate or piece. The method of claim 1, wherein the pattern of the organized roll is formed in a two-dimensional, deterministic spot pattern in the form of a border with a circumference.
제1항에 있어서, 반점이 전자비임과 같은 고에너지 비임을 통해서 얻어짐을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the spot is obtained through a high energy beam such as an electron beam.
제1항 또는 2항에 있어서, 냉각축소밀에서 조직화된 사용롤의 거칠기가 0.4~8.0㎛, 선호적으로 1.0~3.5㎛임을 특징으로 하는 방법.The method according to claim 1 or 2, characterized in that the roughness of the used rolls organized in the cold mill is 0.4 to 8.0 mu m, preferably 1.0 to 3.5 mu m.
제1~3항 중 어느 한 항에 있어서, 테두리의 높이에 대한 폭의 비가 적어도 2, 선호적으로 적어도 3임을 특징으로 하는 방법.4. The method according to claim 1, wherein the ratio of the width to the height of the edge is at least two, preferably at least three.
제4항에 있어서, 자국의 깊이에 대한 자국지름의 비가 4 이상임을 특징으로 하는 방법.5. The method of claim 4, wherein the ratio of the track diameter to the depth of the track is four or more.
제1~5항 중 어느 한 항에 있어서, 인접하는 두 자국 사이의 거리가 50~550㎛, 선호적으로는 130~320㎛이고 깊이는 5~50㎛, 선호적으로는 8~30㎛임을 특징으로 하는 방법.The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the distance between two adjacent marks is 50 to 550 탆, preferably 130 to 320 탆 and depth is 5 to 50 탆, preferably 8 to 30 탆. How to feature.
제1~6항 중 어느 한 항에 있어서, 자국 내부직경이 20~250㎛, 선호적으로는 50~180㎛이고 테두리의 폭은 4~400㎛, 선호적으로는 10~75㎛이고 테두리의 높이는 2~50㎛, 선호적으로는 5~35㎛임을 특징으로 하는 방법.The process according to any one of claims 1 to 6, wherein the mark has an inner diameter of 20 to 250 μm, preferably 50 to 180 μm and a width of the edge of 4 to 400 μm, preferably 10 to 75 μm. Height is 2 ~ 50㎛, preferably 5 ~ 35㎛ characterized in that the method.
제1~7항 중 어느 한 항에 있어서, 냉간 축소 압연이후 금속판 또는 조각이 적어도 한쌍의 사용롤로 템퍼압연하고, 템퍼밀의 조직화된 사용롤의 표면패턴을 판이나 조각의 표면에 전달하기 위해서 사용롤 중 적어도 하나가 조직화된 사용롤이며, 템퍼틸의 사용롤의 상기 패턴은 주위에 테두리를 가진 분화구 형태의 2차원적인 결정적 반전패턴임을 특징으로 하는 방법.The use roll according to any one of claims 1 to 7, wherein, after cold reduction rolling, the metal plate or piece is temper rolled into at least one pair of use rolls, and the rolls for transferring the surface pattern of the organized use rolls of the temper mill to the surface of the plate or piece. Wherein at least one of the use rolls is a structured use roll, wherein the pattern of use rolls of temperyl is a two-dimensional deterministic reversal pattern in the form of craters having a border around.
제8항에 있어서, 템퍼밀에서 조직화된 사용롤의 거칠기가 0.4~8.0㎛, 선호적으로 1.6~6.0㎛임을 특징으로 하는 방법.9. A method according to claim 8, characterized in that the roughness of the used rolls organized in the temper mill is 0.4-8.0 [mu] m, preferably 1.6-6.0 [mu] m.
제1~9항 중 어느 항에 있어서, 냉간축소밀 및/또는 템퍼밀에서 사용롤 둘다가 2차원적인 결정적 반점패턴인 표면패턴으로된 조직화를 받음을 특징으로 하는 방법.10. The method according to any one of claims 1 to 9, wherein both the rolls used in cold milling and / or tempering mills are subjected to organization with a surface pattern which is a two-dimensional critical spot pattern.
제1~10항 중 어느 항에 있어서, 냉간축소밀 및/또는 템퍼밀에서 조직화된 사용롤의 패턴의 형상이 규칙적인 육각형의 단위격자를 형성함을 특징으로 하는 방법.The method according to any one of claims 1 to 10, wherein the shape of the pattern of the used rolls organized in the cold shrink mill and / or the temper mill forms a regular hexagonal unit grid.
냉간축소밀에서 사용롤 중 적어도 하나가 주위에 테두리가 있는 분화구 형태의 2차원적인 결정적 반점패턴으로 이루어진 표면패턴으로된 조직을 가짐을 특징으로 하는 적어도 한쌍의 사용롤을 가진 냉각축소밀을 포함하여 금속판 또는 조각을 생산하는 장치.Including cold rolling mills having at least one pair of rolls used, characterized in that at least one of the rolls used in the cold mill has a surface pattern consisting of a two-dimensional deterministic spot pattern in the shape of a crater with a border around it. Device for producing metal plates or pieces.
제12항에 있어서, 냉각축소밀이 몇단계의 압연공정을 수행하는 한 스탠드의 사용롤을 포함하는 가역적밀이어서 2차원적인 결정적 반점패턴으로 구성된 표면패턴으로된 조직을 가진 적어도 하나의 조직화된 사용롤로 마지막 단계의 축소공정 이전에 사용롤이 변경됨을 특징으로 하는 장치.13. The at least one organized use of claim 12, wherein the cold shrink mill is a reversible mill comprising a use roll of one stand performing several rolling processes, with at least one organized use having a surface patterned structure consisting of two-dimensional critical spot patterns. Apparatus characterized in that the rolls used are changed before the reduction process of the last step.
제12항에 있어서, 냉각축소 압연밀이 몇 개의 스탠드를 포함하는 탠덤밀이고 단지 마지막 스탠드만이 2차원 결정적 반전패턴으로 이루어진 표면조직을 가진 하나 이상의 조직화된 사용롤을 포함하여 한 시이퀸스로 축소작업이 수행됨을 특징으로 하는 장치.13. The system of claim 12, wherein the cold reduction mill is a tandem mill comprising several stands and only the last stand is reduced to one sequence including one or more organized use rolls having a surface structure consisting of a two-dimensional deterministic inversion pattern. Device characterized in that the work is performed.
제12~14항 중 어느 항에 있어서, 장치가 적어도 한쌍의 사용롤을 가진 템퍼 압연밀을 포함하고 템퍼밀의 사용롤 중 적어도 하나가 규칙적인 2차원적 결정적 반전패턴으로 이루어진 표면조직을 가지며 각 반점은 테두리를 가진 분화구 형태임을 특징으로 하는 장치.The apparatus according to any one of claims 12 to 14, wherein the apparatus comprises a temper rolling mill having at least a pair of use rolls and at least one of the use rolls of the temper mill has a surface structure consisting of a regular two-dimensional deterministic inversion pattern and each spot. The device is characterized in that the crater has a border.
제12~25항 중 어느 항에 있어서, 냉간축소밀 및/또는 템퍼밀에서 사용롤 둘다가 2차원적인 결정적 반점패턴으로 구성된 표면의 조직화를 받음을 특징으로 하는 장치.26. An apparatus according to any one of claims 12 to 25, wherein both rolls used in cold shrinking and / or tempering mills are subject to the organization of surfaces consisting of two-dimensional deterministic spot patterns.
규칙적인 2차원 결정적 반점패턴으로 구성된 표면조직을 가지며, 각 반점을 피크를 둘러싸는 자국형태를 가지며 높은 파장이 동력 스펙트럼에서 존재하지 않음을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.A metal plate or piece having a surface structure consisting of a regular two-dimensional deterministic spot pattern, each spot having a trailing shape surrounding the peak, and wherein no high wavelength is present in the power spectrum.
제17항에 있어서, 신장이 10%이하(테스트 Euronorm EN10002-1)임을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.18. The sheet or piece of metal according to claim 17, wherein the elongation is less than 10% (test Euronorm EN10002-1).
제17항 또는 18항에 있어서, 경도가 80 이상(Rockwell B)임을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.The metal plate or piece according to claim 17 or 18, wherein the hardness is 80 or more (Rockwell B).
제17~19항 중 어느 항에 있어서, 금속판 또는 조각의 거칠기가 0.3~2.5㎛이며 0.5~2.0㎛가 선호됨을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.20. The metal plate or piece according to any one of claims 17 to 19, wherein the roughness of the metal plate or piece is 0.3 to 2.5 mu m and 0.5 to 2.0 mu m is preferred.
제17~20항 중 어느 항에 있어서, 판 또는 조각상의 자국의 깊이에 대한 폭의 비가 2 이상이며 3이상 선호됨을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.The metal plate or piece according to any one of claims 17 to 20, characterized in that the ratio of the width to the depth of the marks on the plate or the statue is two or more and preferably three or more.
제21항에 있어서, 피크의 높이에 대한 피크의 직경의 비가 3 이상이며 4 이상이 선호됨을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.The metal plate or piece according to claim 21, wherein the ratio of the diameter of the peak to the height of the peak is at least 3 and at least 4 is preferred.
제17~22항 중 어느 항에 있어서, 두 개의 이웃하는 피크간의 거리가 50~550㎛이며 130~320㎛가 선호되며, 피크의 높이는 0~30㎛임을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.23. The metal plate or piece according to any one of claims 17 to 22, wherein the distance between two neighboring peaks is 50 to 550 mu m and 130 to 320 mu m is preferred, and the height of the peak is 0 to 30 mu m.
제17~23항 중 어느 항에 있어서, 자국의 내부직경이 20~250㎛이며 50~180㎛가 선호되며, 자국의 폭은 4~100㎛이며 10~75㎛가 선호되며, 자국의 깊이는 0~50㎛이며 5~30㎛가 선호됨을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.24. The mark of any of claims 17-23, wherein the mark has an inner diameter of 20-250 μm, preferably 50-180 μm, the width of the mark is 4-100 μm and a depth of 10-75 μm is preferred. Metal sheet or piece characterized in that 0-50 μm, with 5-30 μm being preferred.
제17~24항 중 어느 항에 있어서, 표면에 내부응력이 없음을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.The metal plate or piece according to any one of claims 17 to 24, wherein there is no internal stress on the surface.
제17~24항 중 어느 항에 있어서, 통계적 거칠기가 부분적으로 2차원 결정적 반점패턴을 포함함을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.The metal plate or piece according to any one of claims 17 to 24, wherein the statistical roughness partially comprises a two-dimensional deterministic spot pattern.
제17~24항 중 어느 항에 있어서, 단일-결정적 거칠기가 부분적으로 2차원 결정적 반점패턴을 포함함을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.The metal plate or piece according to any one of claims 17 to 24, wherein the single-crystal roughness comprises a two-dimensional crystallographic spot pattern in part.
제17~24항 중 어느 항에 있어서, 2차원 결정적 반점패턴으로 이루어진 표면을 가진 두 개의 조직분포로 된 최종 혼성조직을 가짐을 특징으로 하는 금속판 또는 조각.The metal plate or piece according to any one of claims 17 to 24, having a final hybrid structure of two tissue distributions having a surface consisting of a two-dimensional deterministic speckle pattern.
강철, 스텐레스강,알루미늄 또는 알루미늄 합금으로된 판 또는 조각을 조직화하기 위해 제1~11항 중 어느 항에 따른 방법이나 제12~16항 중 어느 항에 따른 장치의 용도.Use of the method according to any of claims 1 to 11 or the device according to any of claims 12 to 16 for the organization of plates or pieces of steel, stainless steel, aluminum or aluminum alloy.
금속 또는 유기층으로 피복될 판 또는 조각을 조직화하기 위해 제1~11항 중 어느 항에 따른 방법이나 제12~16항 중 어느 항에 따른 장치의 용도.Use of the method according to any of claims 1 to 11 or the device according to any of claims 12 to 16 for organizing plates or pieces to be covered with a metal or organic layer.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.