KR960037002A - Source gas constant temperature shower device - Google Patents

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KR960037002A
KR960037002A KR1019950007853A KR19950007853A KR960037002A KR 960037002 A KR960037002 A KR 960037002A KR 1019950007853 A KR1019950007853 A KR 1019950007853A KR 19950007853 A KR19950007853 A KR 19950007853A KR 960037002 A KR960037002 A KR 960037002A
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KR
South Korea
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source gas
temperature
temperature control
shower
showering
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Application number
KR1019950007853A
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Korean (ko)
Inventor
석창길
강순석
우제호
이복규
김순동
배남진
박상준
최영길
김상호
Original Assignee
김상호
주식회사 아펙스
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Publication date
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Abstract

본 발명은 외부로부터 소스개스를 공급받아 샤워링하는 샤워 헤드; 상기 샤워 헤드를 통하여 샤워링되는 소스개스의 온도를 측정하는 온도측정수단; 상기 샤워 헤드를 통과하여 샤워링되는 소스개스의 온도를 조절하는 온도조절 매개체의 흐름을 조절하는 유량 조절수단; 및 상기 온도측정수단에서 측정되는 소스개스의 온도와 임의로 설정한 온도를 비교하여 상기 샤워링되는 소스개스가 예정된 온도를 일정하게 유지하도록 상기 유량 조절수단을 제어하는 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치에 관한 것으로, 외부 온도변화에 따른, 특히 웨이퍼와의 간격 변화에 따라 변동하는 온도변화에 따른 샤워 헤드의 온도변화, 즉 샤워링되는 소스개스의 온도변화를 최소화할 수 있어 샤워 헤드 내에서 박막이 형성된다든지, 유기금속개스와 같은 소스개스가 분리되는 현상 및 예상치 않은 부산물의 발생과 파티클의 발생을 방지할 수 있다.The present invention provides a shower head for receiving the source gas from the outside shower; Temperature measuring means for measuring a temperature of a source gas showered through the shower head; Flow rate adjusting means for adjusting the flow of the temperature control medium for adjusting the temperature of the source gas showered through the shower head; And controlling means for controlling the flow rate adjusting means so that the showered source gas maintains a predetermined temperature by comparing the temperature of the source gas measured by the temperature measuring means with a predetermined temperature. It relates to a constant temperature showering device of the source gas, it is possible to minimize the temperature change of the shower head according to the temperature change that changes according to the external temperature change, in particular the change of the gap with the wafer, that is, the temperature change of the source gas that is showered It is possible to prevent the formation of a thin film in the shower head, the separation of the source gas such as organometallic gas, the generation of unexpected by-products and the generation of particles.

Description

소스개스의 정온 샤워링 장치Source gas constant temperature shower device

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음As this is a public information case, the full text was not included.

제1도는 본 발명에 따른 정온 샤워링 장치의 구성도, 제2도는 일반적인 정온 샤워 헤드의 단면도, 제3A도 및 제3B도는 본 발명에 적용하기에 바람직한 정온 샤워 헤드의 단면도 및 평면도, 제4A도는 2차 샤워링부의 평면도, 제4B도는 제4A도의 A-A 단면도, 제5도는 제4B도의 상세도, 제6A도 및 제6B도는 온도조절부의 단면도 및 평면도.1 is a block diagram of a constant temperature shower head according to the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of a general constant temperature shower head, Figures 3A and 3B is a cross-sectional view and a plan view of a preferred constant temperature shower head, 4A 4A is a plan view of the secondary shower ring, FIG. 4B is a cross-sectional view of FIG. 4A, FIG. 5 is a detail view of FIG. 4B, and FIGs. 6A and 6B are a sectional view and a plan view of the temperature control unit.

Claims (8)

외부로부터 소스개스를 공급받아 샤워링하는 샤워 헤드; 상기 샤워 헤드를 통하여 샤워링되는 소스개스의 온도를 측정하는 온도측정수단; 상기 샤워 헤드를 통과하여 샤워링되는 소스개스의 온도를 조절하는 온도조절 매개체의 흐름을 조절하는 유량 조절수단; 및 상기 온도측정수단에서 측정되는 소스개스의 온도와 임의로 설정한 온도를 비교하여 상기 샤워링되는 소스개스가 예정된 온도를 일정하게 유지하도록 상기 유량 조절수단을 제어하는 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.A shower head receiving a source gas from the outside and showering the source gas; Temperature measuring means for measuring a temperature of a source gas showered through the shower head; Flow rate adjusting means for adjusting the flow of the temperature control medium for adjusting the temperature of the source gas showered through the shower head; And controlling means for controlling the flow rate adjusting means so that the showered source gas maintains a predetermined temperature by comparing the temperature of the source gas measured by the temperature measuring means with a predetermined temperature. Source gas constant temperature shower device. 제1항에 있어서, 상기 온도측정수단은 상기 샤워 헤드의 최하면으로부터 적어도 5㎜ 이내에 설치되는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.2. The apparatus of claim 1, wherein the temperature measuring means is installed within at least 5 mm from the bottom surface of the shower head. 제1항에 있어서, 상기 유량 조절수단은 상기 제어수단의 출력에 따라 내부에 공기가 흐르는 공압구동판을 개폐하는 솔레노이드 밸브; 상기 공압구동관을 통해 공급되는 공기의 공급 여부에 따라 내부에 온도조절 매개체가 흐르며 상기 샤워 헤드의 유입구나 유출구 쪽에 연결된 온도조절관을 개폐하는 뉴메틱 밸브; 및 상기 온도조절관에 설치되어, 온도조절 매개체의 유량을 정밀하게 제어하는 니들 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.According to claim 1, wherein the flow rate adjusting means is a solenoid valve for opening and closing the pneumatic drive plate through which air flows in accordance with the output of the control means; A pneumatic valve for opening and closing a temperature control pipe connected to an inlet or an outlet of the shower head through a temperature control medium therein according to whether air supplied through the pneumatic drive tube is supplied; And a needle valve installed in the temperature control pipe to precisely control the flow rate of the temperature control medium. 제1항에 있어서, 상기 유량 조절수단은 상기 제어수단의 출력에 따라 내부에 온도조절 매개체가 흐르며 상기 샤워 헤드의 유입구나 유출구 쪽에 연결된 온도조절판을 개폐하는 솔레노이드 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.The method of claim 1, wherein the flow rate adjusting means is a source gas characterized in that it comprises a solenoid valve for opening and closing the temperature control plate connected to the inlet or outlet of the shower head and the temperature control medium flows therein according to the output of the control means; Constant temperature showering device. 제1항에 있어서, 상기 샤워 헤드는 외부로부터 소스개스를 공급받는 소스개스 주입부; 소스개스를 통과시키면서 샤워링하는 다수의 미세관과, 상기 다수의 미세관이 서로서로 일정간격을 가지도록 지지하는 지지대를 구비하여, 공급받는 소스개스를 샤워링하는 제1샤워링부; 및 상기 미세관들 간에 형성되는 통로를 통하여 온도조절 매개체가 흐르도록 구성되어 상기 제1샤워링부의 온도를 일정하게 조절하는 온도조절부를 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.According to claim 1, wherein the shower head source gas inlet receiving the source gas from the outside; A first showering part having a plurality of microtubes showering while passing through the source gas, and a support for supporting the plurality of microtubes at a predetermined interval from each other, for showering the source gas supplied; And a temperature control unit configured to flow a temperature control medium through a passage formed between the microtubes so as to constantly adjust the temperature of the first showering unit. 제5항에 있어서, 상기 소스개스 주입부를 통하여 공급되는 소스개스를 샤워링하는 제2샤워링부;상기 제2샤워링부를 통하여 샤워링되는 소스개스에 반응성개스를 혼합하여 상기 제1샤워링부에 공급하도록 구성된 제1버퍼부;및 상기 제1버퍼부 소정의 반응개스를 주입시키도록 구성된 반응성개스 주입구를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.The method of claim 5, wherein the second shower to shower the source gas supplied through the source gas injection portion; Mixing the reactive gas to the source gas showered through the second shower portion supplied to the first shower portion And a reactive gas inlet configured to inject a predetermined reaction gas into the first buffer unit. 제5항에 있어서, 상기 온도조절부는 상기 제1샤워링부를 장착하는 장착부; 상기 온도조절 매개체를 상기 제1샤워링부의 미세관들간에 형성되는 통로로 주입시키도록 구성된 주입부; 및 상기 제1샤워링부의 미세관들간에 형성되는 통로를 통과한 온도조절 매개체를 배출시키도록 구성된 유출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.According to claim 5, The temperature control unit Mounting portion for mounting the first shower; An injection unit configured to inject the temperature control medium into a passage formed between the microtubes of the first showering unit; And an outlet portion configured to discharge the temperature control medium passing through a passage formed between the microtubes of the first shower portion. 제7항에 있어서, 상기 제1샤워링부는 상기 온도조절부에 장착될 때 미세관들간에 형성되는 통로로 유입되거나 유출되는 온도조절 매개체의 유압분포를 일정하게하기 위한 제2버퍼부가 온도조절 매개체가 주입되는 곳과 유출되는 곳에 각각 하나씩 형성되도록 구성된 돌출편을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 소스개스의 정온 샤워링 장치.The temperature control medium of claim 7, wherein the first shower part is configured to uniformly distribute the hydraulic distribution of the temperature control medium flowing into or out of a passage formed between the microtubes when the first showering part is mounted on the temperature control part. Source gas constant temperature showering device characterized in that it further comprises a projection piece configured to be formed one each in the place and the outflow. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
KR1019950007853A 1995-04-04 1995-04-04 Source gas constant temperature shower device KR960037002A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100423953B1 (en) * 2001-03-19 2004-03-24 디지웨이브 테크놀러지스 주식회사 Chemical Vapor Deposition Apparatus
KR100462905B1 (en) * 2001-11-29 2004-12-23 주성엔지니어링(주) manufacturing apparatus for liquid crystal display

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KR100423953B1 (en) * 2001-03-19 2004-03-24 디지웨이브 테크놀러지스 주식회사 Chemical Vapor Deposition Apparatus
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