KR950014366A - 금속시트재의 표면처리장치 - Google Patents

금속시트재의 표면처리장치 Download PDF

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KR950014366A
KR950014366A KR1019930025485A KR930025485A KR950014366A KR 950014366 A KR950014366 A KR 950014366A KR 1019930025485 A KR1019930025485 A KR 1019930025485A KR 930025485 A KR930025485 A KR 930025485A KR 950014366 A KR950014366 A KR 950014366A
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metal sheet
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KR1019930025485A
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Inventor
김중호
Original Assignee
조희재
금성마이크로닉스 주식회사
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Abstract

본 발명은 금속시트재를 에칭함에 있어서, 감광액이 도포되어 미노광부와 노광부가 선택적으로 현상된 금속시트재의 하부면을 에칭하는 1차에칭공정과, 상기 1차 에칭공정에서 금속시트재의 하부면에 묻어있는 에칭액을 씻어내는 수세공정과, 상기 수세공정에서 에칭액이 수세된 금속시트재의 상·하부면을 에칭하여 1차 에칭공정에서 남아있는 부분을 제거하는 2차 에칭공정으로 이루어져 금속시트재의 표면처리공정을 간단히하고 매우 정교하게 표면처리를 하는 금속시트재의 표면처리장치에 관한 것이다.

Description

금속시트재의 표면처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래의 금속시트제 제조공정도.
제2도는 제1도에 도시된 도포공정의 상세도.
제3도는 종래의 제조공정에 따라 제조된 섀도우 마스크를 나타낸 도면.
제4도는 본 발명에 따른 금속시트재의 제조공정도.
제5도는 제4도에 도시된 1차 에칭공정에 사용되는 장치를 나타낸 도면.

Claims (4)

  1. 금속시트재를 에칭함에 있어서, 감광액이 도포되어 미노광부와 노광부가 선택적으로 현상된 금속시트재의 하부면을 에칭하는 1차 에칭공정과, 상기 1차 에칭공정에서 금속시트재의 하부면에 묻어있는 에칭액을 씻어내는 수세공정과, 상기 수세공정에서 에칭액이 수세된 금속시트재의 상·하부면을 에칭하여 1차 에칭공정에서 남아있는 부분을 제거하는 2차 에칭공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 금속시트재의 표면처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 1차 에칭공정에서의 에칭깊이는 금속시트재 두께의 40~80%로 에칭하는 것을 특징으로 하는 금속시트재의 표면처리장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 1차 에칭공정의 장치는 금속시트재의 폭에 해당된 길이를 가지고 금속시트재의 상부면에 밀착되게 설치된 복수개의 고정로라와 에칭액의 상부면에 묻지않도록 설치된 부식방지판과 금속시트재의 하부폭에 설치되어 에칭액을 분사하는 분사노출 및 복수개의 분사봉으로 구성된 것을 특징으로 하는 금속시트재의 표면처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 2차 에칭공정에서의 에칭깊이는 소재 두께의 20~60%로 에칭하는 것을 특징으로 하는 금속시트재의 표면처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US11706968B2 (en) 2015-07-17 2023-07-18 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask base, metal mask and method for producing metal mask

Cited By (6)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US11111585B2 (en) 2015-07-17 2021-09-07 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition
KR20220053686A (ko) * 2015-07-17 2022-04-29 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크용 기재의 제조 방법, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 메탈 마스크용 기재, 및, 증착용 메탈 마스크
US11453940B2 (en) 2015-07-17 2022-09-27 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask substrate for vapor deposition, metal mask for vapor deposition, production method for metal mask substrate for vapor deposition, and production method for metal mask for vapor deposition
US11706968B2 (en) 2015-07-17 2023-07-18 Toppan Printing Co., Ltd. Metal mask base, metal mask and method for producing metal mask
US11746423B2 (en) 2015-07-17 2023-09-05 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition

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