KR950006428A - 패턴 결함 검사 방법 및 그 장치 - Google Patents
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Abstract
피검사체의 참조 화상데이타에서 패턴 에지 방향을 검출하고, 이 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터로 참조 화상 데이터를 미분 처리하고, 또한 피검사체를 촬상하여 얻어지는 검사화상 데이터를 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터로 미분 처리한다. 이 미분 처리에 따라 얻어지는 각 미분 데이터와 검사 화상 데이터를 비교하여 이들 데이터 간의 차이로부터 피검사체 상의 패턴 결함을 검출한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래의 패턴 결함 검사 장치의 구성도.
제2A도는 x방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제2B도는 y방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제2C도는 +45°방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제2D도는 -45°방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제3도는 에지부, 코너부, 균일부를 나타내는 검사 화상 데이터를 도시한 도면.
제4도는 에지부의 검사 화상 데이터를 도시한도면.
제5도는 결함없는 원화(原畵)를 도시한 도면.
제6도는 원화의 각 미분값을 도시한 도면.
제7도는 결함있는 원화를 도시한 도면.
제8도는 원화의 각 미분값을 도시한 도면.
제9A도는 좌표가 어긋난 경우의 균일부의 결합 검출 결과를 도시한 도면.
제9B도는 좌표가 어긋난 경우의 에지부의 결합 검출 결과를 도시한 도면.
제10A도는 좌표가 어긋난 경우의 코너부의 결합 검출 결과를 도시한 도면.
제10B도는 좌표 어긋남으로 결함의 있는 경우의 코너부의 결합 검출 결과를 도시한 도면.
제11도는 본 발명의 전제가 되는 패턴 결함 검사 장치의 구성도.
제12도는 각 미분 방향의 미분 결과를 도시한 도면.
제13A도는 에지부의 미분 방향 및 미분값을 도시한 도면.
제13B도는 코너부의 미분 방향 및 미분값을 도시한 도면.
제13C도는 균일부의 미분 방향 및 미분값을 도시한 도면.
제14A도는 정상 코너부의 비교 결과를 도시한 도면.
제14B도는 결함있는 코너부의 비교 결과를 도시한 도면.
제15도는 본 발명의 한 실시예에 따른 패턴 결함 검사 장치의 구성도.
제16A도는 +22.5°방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제16B도는 +67.5°방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제16C도는 -22.5°방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제16D도는 -67.5°방향의 미분 파라메터를 도시한 도면.
제17도는 에지부, 코너부, 균일부를 도시한 참조 화상 데이터를 도시하는 도면.
제18도는 참조 화상데이타에서의 에지부, 코너부, 균일부의 농담(濃淡)치를 도시한 도면.
제21도는 결함있는 검사 화상 데이터를 도시한 도면.
제22도는 결함있는 검사 화상 데이터에서의 에지부, 코너부, 균일부의 농담치를 도시한 도면.
제23도는 참조 화상 데이타의 에지 방향을 도시한 도면.
제24A도는 무결함인 검사 화상 데이터의 미분값을 도시한 도면.
제24B도는 결함있는 검사 화상 데이터의 미분값을 도시한 도면.
제25A도는 참조 화상 데이터의 에지 방향의 미분값을 도시한 도면.
제25B도는 참조 화상 데이터의 주변 화소의 미분값을 도시한 도면.
제25C도는 참조 화상 데이터의 인접 화소의 미분값을 도시한 도면.
제26A도는 무결함인 에지 방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제26B도는 무결함인 주변 화소의 감산 결과를 도시한 도면.
제26C도는 무결함인 인접방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제27A도는 결함있는 에지 방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제27B도는 결함있는 주변 화소의 감산 결과를 도시한 도면.
제27C도는 결함있는 인접 방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제28도는 참조 화상 데이타의 에지 방향을 도시한 도면.
제29A도는 무결함인 검사 화상 데이터의 미분값을 도시한 도면.
제29B도는 결함있는 검사 화상 데이터의 미분값을 도시한 도면.
제30A도는 참조 화상 데이타의 미분값을 도시한 도면.
제30B도는 참조 화상 데이타의 주변 화소의 미분값을 도시한 도면.
제30C도는 참조 화상 데이타의 인접 방향의 미분값을 도시한 도면.
제31A도는 무결함인 에지 방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제31B도는 무결함인 주변 화소의 감산 결과를 도시한 도면.
제31C도는 무결함인 인접 방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제32A도는 결함있는 에지 방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제32B도는 결함있는 주변 화소의 감산 결과를 도시한 도면.
제32C도는 결함있는 인접 방향의 감산 결과를 도시한 도면.
제33A도는 무결함인 검사 화상 데이타의 에지방향을 도시한 도면.
제33B도는 무결함인 결함있는 검사 화상 데이타의 에지 방향을 도시한 도면.
제34A도는 무결함인 검사 화상 데이타의 미분값을 도시한 도면.
제34B도는 결함이 있는 검사 화상 데이타의 미분값을 도시한 도면.
제35A도는 참조 화상 데이타의 에지 방향의 미분값을 도시한 도면.
제35B도는 참조 화상 데이타의 주변 화소의 미분값을 도시한 도면.
제35C도는 참조 화상 데이타의 인접 화소의 미분값을 도시한 도면.
제36도는 무결함인 감산 결과를 도시한 도면.
제37도는 무결함인 감산 결과를 도시한 도면.
제38A도는 x방향의 다른 비문 오퍼레이터를 도시한 도면.
제38B도는 y방향의 다른 비문 오퍼레이터를 도시한 도면.
제38C는 +45°방향의 다른 미분 오퍼레이터를 도시한 도면.
제38D는 -45°방향의 다른 미분 오퍼레이터를 도시한 도면.
Claims (12)
- 패턴 결함 검사 방법에 있어서, 피검사체의 패턴 결함 검출용의 참조 화상 데이타에 있어서의 패턴 에지방향을 검출하는 제1스텝과, 이 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데이타를 미분 처리하고, 또한 상기 피검사체를 촬상하여 얻어지는 검사 화상 데이타를 상기 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터에 의해 미분 처리하는 제2스텝과, 이 제2스텝의 미분 처리에 의해 얻어지는 각 미분 데이타를 비교하여, 이들 데이터간의 차이로부터 상기 피검사체 상의 패턴 결함을 검출하는 제3스텝으로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 방법.
- 패턴 결함 검사 장치에 있어서, 피검사체를 촬상하여 검사 화상 데이타를 작성하는 촬상 수단과, 상기 피검사체에 대한 패턴 결함 검사용의 참조 화상 데이타를 작성하는 참조 화상 작성 수단과, 상기 참조 화상 데이타에 있어서의 패턴 에지 방향을 검출하는 에지 방향 검출수단과, 이 패턴 에지 방향을 따른 방향의 미분 파라메터에 의해 상기 검사 화상 데이타를 미분 처리하는 제1에지 방향 미분 수단과, 상기 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데이타를 미분 처리하는 제2에지 방향 미분 수단과, 상기 참조 화상 데이터에 대한 상기 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터에 의한 주변 화소의 미분 처리, 또한 상기 참조 화상 데이타에 대한 상기 패턴 에지 방향에 인접한 방향의 미분 파라메터에 의한 미분 처리를 행하는 미분 처리수단과, 상기 제1에지 방향 미분 수단에 의해 얻어지는 미분 데이터와, 상기 제2에지 방향 미분 수단에 의해 얻어지는 미분 데이터, 또는 상기 미분 처리 수단에 의해 얻어지는 미분 데이터 중 적어도 어느쪽인가 한쪽의 미분 데이터와의 차이에 기초하여 상기 피검사체의 패턴 결함을 검출하는 판정수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 에지 방향 검출 수단은 서로 직교하는 x방향 및 y방향, 이 x방향에 대하여 ±45°방향의 각 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데이터를 미분 처리하고, 이 미분 처리에 따라 얻어지는 각 미분값중 최소치가 되는 미분 방향을 패턴 에지 방향으로 구하는 기능으로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 미분 처리 수단은 미분값을 구하는 화소 주변의 각 화소에 대하여 상기 에지 방향 검출 수단에 의해 검출된 상기 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데아타를 각 미분 처리하는 주변 화소 에지 방향 미분 회로와, 이 주변 화소 에지 방향 미분 회로에 의해 구해진 상기 주변화소의 각 미분값중 절대값의 최대치를 검출하는 제1최대치 검출 회로로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사장치.
- 제2항에 있어서, 상기 미분 처리 수단은 상기 에지 방향 검출 수단에 의해 검출된 상기 패턴 에지 방향에 인접하는 방향의 각 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데이터를 각 미분 처리하는 인접 방향 미분 회로와, 이 인접 방향 미분 회로에 의해 구해진 각 미분값 중 절대값의 최대치를 검출하는 제2 최대치 검출 회로로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사장치.
- 제2항에 있어서, 상기 미분 처리 수단은 미분값을 구하는 화소 주변의 각 화소에 대하여 각 에지 방향 검출수단에 의해 검출된 상기 패턴 에지 방향을 따르는 방향의 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데이타를 각 미분 처리하는 주변 화소 에지방향 미분 회로와, 이 주변 화소 에지 방향 미분 회로에 의해 구해진 상기 주변 화소의 각 미분값 중 절대값의 최대치를 검출하는 제1최대치 검출회로와, 상기 에지 방향 검출 수단에 의해 검출된 상기 패턴 에지 방향에 인접하는 방향의 각 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데이타를 각 미분 처리하는 인접 방향 미분 회로와, 이 인접 방향 미분 회로에 의해 구해진 각 미분값 중 절대값의 최대치를 검출하는 제2최대치 검출 회로로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제6항에 있어서, 상기 인접 방향 미분 회로는 서로 직교하는 x방향 및 y방향, 이 x방향에 대하여 ±45°방향, ±22.5°방향 및 ±67.5°방향의 각 미분 파라메터로 상기 참조 화상 데이타를 미분 처리하는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 판정 수단은 상기 제1에지 방향 미분 수단에 의해 구해진 미분 데이타와, 상기 제2에지 방향 미분 수단에 의해 얻어지는 미분 데이타 또는 상기 미분 처리 수단에 의해 얻어지는 각 미분 데이타 중 적어도 어느쪽인가 한쪽의 미분 데이타와의 화소마다의 차이를 구하는 감산 회로와, 이 감산 회로에 의해 구해진 상기 화소마다의 차이의 값과 소정의 임계값을 비교하고, 상기 화소마다의 차이의 값이 상기 임계값을 초과한 상기 화소를 결함으로서 판정하는 판정 회로로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 촬상 수단에 의해 얻어진 상기 검사 화상 데이타를 복수 방향의 각 미분 파라메터에 의해 미분 처리하는 복수 방향 미분 회로와, 이 복수 방향 미분 회로에 의해 각 미분값중 최대치가 되는 미분 방향을 검출하는 최대치 방향 검출 회로와, 통상의 경우, 상기 에지 방향 검출 수단에 의해 검출된 미분 방향을 에지 패턴 방향으로서 선택하여 상기 제1에지 방향 미분 회로로 보내고, 또한 상기 에지 방향 검출 수단으로부터 에지 패턴 부정의 요지를 수신한 경우, 상기 최대치 방향 검출 회로에 의해 검출된 미분 방향을 에지 패턴 방향으로서 상기 제1에지 방향 미분 회로로 보내는 셀렉터를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 복수 방향 미분 회로는 서로 직교하는 x방향 및 y방향, 이 x방향에 대하여 ±45°방향의 각 미분 파라메터에 의해 상기 참조 화상 데이타를 미분 처리하는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 촬상 수단은 피검사체를 촬상하여 농담, 레벨의 화상 신호를 출력하는 촬상 센서와, 이 촬상 센서에서 출력된 화상 신호를 농담에 대응하는 디지털의 다진화(多化)된 검사 화상 데이타로 변환되는 A/D변환기로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 참조 화상 작성 수단은 피검사체에 형성된 패턴의 설계 데이타에 기초하여, 상기 촬상 수단에서 촬상하는 상기 피검사체의 위치 데이타에 동기하여 참조 화상 데이타를 발생하는 것을 특징으로 하는 패턴 결함 검사 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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