KR940012508A - 투영 노광장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투영 노광장치의 조명계에 관한 것이다. 본 발명에 의한 투영 노광장치는 반사경, 광원, 평행광 형성렌즈, 제1파리눈 렌즈가 광 진행 경로상에 차례로 배치되고 평행광 형성렌즈와 파리눈 렌즈 사이에는 광분산 렌즈로서 그 전면이 평면이고 그 후면의 중앙부가 오목면으로 된 오목렌즈 또는 그 전면이 평면이고 그 후면의 중앙부가 다수의 작은 볼록렌즈로 된 제2파리눈 렌즈를 제1파리눈 렌즈로부터 소정거리를 두고 설치하여 제2파리눈 렌즈로 입사하는 광량이 중앙부와 주변부에서 고르게 분포되게 함으로써, 광 이용 효율을 높여 생산성 향상을 가져오게 한 것이다.

Description

투영 노광장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 투영 노광장치의 제1실시예를 나타낸 도면.
제3도는 본 발명에 의한 투영 노광장치의 제2실시예를 나타낸 도면.
제4도는 제1도와 제2도의 단면 A-A에서 광강도를 비교하여 나타낸 도면.

Claims (5)

  1. 광원과 상기 광원의 전방에 설치되어 상기 광원으로부터 나온 빛을 반사 집속하는 반사경과 상기 광원의 후방에 설치되어 상기 집속광을 평행하게 형성시키는 평행광 형성렌즈와 상기 평형광 형성렌즈의 후방의 광로상에 설치되는 제1파리눈 렌즈와; 상기 평행광 형성렌즈와 제1파리눈 렌즈 사이의 광로상에 설치되어 중앙부의 광량을 주변주로 분산시키는 광분산 렌즈를 구비하는 투영 노광장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광분산 렌즈는 그 전면이 평면으로 형성되고 그 후면의 중앙부가 오목면으로 형성된 것을 특징으로 하는 투영 노광장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 광분산 렌즈는 그 오목면이 상기 제1파리눈 렌즈로 입사되는 광을 그 주변부로 분산시키기에 적합한 소정의 곡률을 가지도록 형성되며 상기 제1파리눈 렌즈로부터 소정거리를 두고 설치되는 것을 특징으로 하는 투영 노광장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 광분산 렌즈는 그 전면이 평면으로 형성되고 그 후면의 중앙부가 다수의 볼록렌즈로 된 제2파리눈 렌즈인 것을 특징으로 하는 투영 노광장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제2파리눈 렌즈는 위상 변화 방식의 존 플레이트인 것을 특징으로 하는 투영 노광장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL194929C (nl) * 1992-10-20 2003-07-04 Samsung Electronics Co Ltd Projectiebelichtingssysteem.
US6285443B1 (en) 1993-12-13 2001-09-04 Carl-Zeiss-Stiftung Illuminating arrangement for a projection microlithographic apparatus
DE19520563A1 (de) * 1995-06-06 1996-12-12 Zeiss Carl Fa Beleuchtungseinrichtung für ein Projektions-Mikrolithographie-Gerät
CN101446773A (zh) 2001-11-07 2009-06-03 应用材料有限公司 无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机
EP1446703A2 (en) * 2001-11-07 2004-08-18 Applied Materials, Inc. Optical spot grid array printer
FR2887038A1 (fr) * 2005-06-13 2006-12-15 Thomson Licensing Sa Systeme optique et element optique correspondant
WO2006058885A1 (en) * 2004-12-01 2006-06-08 Thomson Licensing Optical system and corresponding optical element
KR100733137B1 (ko) * 2006-06-14 2007-06-28 삼성전자주식회사 웨이퍼 에지 노광 장치
JP6598833B2 (ja) * 2017-09-11 2019-10-30 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置、および物品の製造方法
CN113126188A (zh) * 2021-04-26 2021-07-16 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种曲面复眼透镜及其制备方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58147708A (ja) * 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
USRE34634E (en) * 1982-02-26 1994-06-07 Nippon Kogaku Kabushiki Kaisha Light illumination device
JPS59160134A (ja) * 1983-03-04 1984-09-10 Canon Inc 照明光学系
US4619508A (en) * 1984-04-28 1986-10-28 Nippon Kogaku K. K. Illumination optical arrangement
US4867514A (en) * 1985-11-12 1989-09-19 Hydro Fuels, Inc. Systems for deviating and (optionally) converging radiation
US4939630A (en) * 1986-09-09 1990-07-03 Nikon Corporation Illumination optical apparatus
JPH0264501A (ja) * 1988-08-30 1990-03-05 Sharp Corp マイクロレンズアレイ及びその製造方法
US5153773A (en) * 1989-06-08 1992-10-06 Canon Kabushiki Kaisha Illumination device including amplitude-division and beam movements
JP2893778B2 (ja) * 1990-01-17 1999-05-24 キヤノン株式会社 露光装置
JP3360686B2 (ja) * 1990-12-27 2002-12-24 株式会社ニコン 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
JPH05217855A (ja) * 1992-02-01 1993-08-27 Nikon Corp 露光用照明装置
US5311249A (en) * 1992-02-13 1994-05-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JP3075381B2 (ja) * 1992-02-17 2000-08-14 株式会社ニコン 投影露光装置及び転写方法
US5309198A (en) * 1992-02-25 1994-05-03 Nikon Corporation Light exposure system

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Publication number Publication date
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NL194951B (nl) 2003-04-01
US5386266A (en) 1995-01-31
KR100234357B1 (ko) 1999-12-15
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NL9301972A (nl) 1994-06-16

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