KR930002393B1

KR930002393B1 - Magnetic transducer head

Info

Publication number: KR930002393B1
Application number: KR1019850002622A
Authority: KR
Inventors: 마꼬또 구보따; 다쯔오 구무라
Original assignee: 소니 가부시끼가이샤; 오오가 노리오
Priority date: 1984-06-18
Filing date: 1985-04-18
Publication date: 1993-03-30
Also published as: JPH0475566B2; CA1234626A; KR860000629A; JPS613311A

Abstract

내용 없음.No content.

Description

자기 헤드Magnetic head

제1도는 종래의 자기헤드의 사시도.1 is a perspective view of a conventional magnetic head.

제2도는 제1도의 자기헤드의 자기테이프 접촉면을 도시하는 평면도.2 is a plan view showing a magnetic tape contact surface of the magnetic head of FIG.

제3도는 본 발명의 실시예인 자기헤드의 사시도.3 is a perspective view of a magnetic head which is an embodiment of the present invention.

제4도는 제3도의 자기헤드의 자기테이프 접촉면을 도시하는 평면도.4 is a plan view showing a magnetic tape contact surface of the magnetic head of FIG.

제5도 내지 제12도는 제3도의 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시하는 사시도.5 to 12 are perspective views sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of FIG.

제13도는 본 발명의 다른 실시예인 자기헤드의 사시도.13 is a perspective view of a magnetic head according to another embodiment of the present invention.

제14도는 제13도의 자기헤드 접촉면을 도시하는 평면도.FIG. 14 is a plan view showing the magnetic head contact surface of FIG.

제15도 내지 제22도는 제13도의 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시하는 사시도.15 to 22 are perspective views sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head shown in FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

11,12 : 자기코어 반쪽부재 15,16,20 : 비자성재11,12: magnetic core half member 15,16,20: nonmagnetic material

17a,17b,18a,18b : 비자성 고경도막 19a,19b : 강자성 금속박막17a, 17b, 18a, 18b: nonmagnetic high hardness film 19a, 19b: ferromagnetic metal thin film

g : 자기갭 51,52 : 자기코어 반쪽부재g: Magnetic gap 51,52: Magnetic core half member

55,56,60 : 비자성재 57,58 : 비자성 고경도막55,56,60: nonmagnetic material 57,58: nonmagnetic hard film

59 : 강자성 금속박막59: ferromagnetic metal thin film

본 발명은 강자성 산화물 재료와 강자성 금속재료의 복합자성 재료로 이루어진 자기헤드에 관한 것이다. 최근, 예를들어 VTR(비데오 테이프 레코더)을 사용하여 자기기록 매체인 자기테이프에 신호의 고밀도기록이 행해지도록 됨에 따라 자기테이프로서 잔류자속밀도 Br과 항자력 Hc가 함께 높은 메탈테이프등이 사용되어 오고 있다.The present invention relates to a magnetic head made of a composite magnetic material of ferromagnetic oxide material and ferromagnetic metal material. Recently, as high density recording of signals is performed on magnetic tape, which is a magnetic recording medium, for example, using a VTR (video tape recorder), metal tapes having high residual magnetic flux density Br and coercive force Hc have been used as magnetic tapes. have.

그런데, 이 메탈테이프등의 높은 항자력 Hc을 가지는 자기테이프에 신호를 고밀도로 자기기록함에 있어서는 자기갭에서 발생하는 자계의 강도가 높고, 더우기 좁은 트랙폭의 자기헤드를 사용할 필요가 있다.By the way, when magnetically recording signals at high density on magnetic tapes having a high coercive force Hc such as metal tapes, it is necessary to use a magnetic head having a high track strength and a narrow track width.

여기서, 이와같은 자기헤드로서는 제1도에 사시도가 도시되어 있는 바와 같은 자기헤드가 제안되고 있다.Here, as such a magnetic head, a magnetic head such as a perspective view shown in FIG. 1 is proposed.

이 자기헤드는 자기코어 반쪽부재(1,2)가 강자성 산화물의 Mn-Zn 페라이트등으로 형성되고, 자기갭(g)측의 페라이트 돌기부(3,4)와 이 돌기부(3,4)가 굴곡한 한측부에 용융충전된 유리의 비자성재(5,6)를 이은 평면상에는, 스퍼터링등에 의해 센더스트등의 강자성 금속박막(7a,7b)이 피착형성되어 있다. 또 피착형성된 이 강자성 금속박막(7a,7b)상에는 유리의 비자성재(8)가 용융충전되어 있다.The magnetic head has a magnetic core half member (1, 2) formed of ferromagnetic oxide Mn-Zn ferrite or the like, and the ferrite protrusions (3,4) and the protrusions (3,4) on the magnetic gap g side are bent. Ferromagnetic metal thin films 7a and 7b such as sender are deposited by sputtering or the like on a plane connected to the nonmagnetic materials 5 and 6 of glass melt-filled on one side thereof. The nonmagnetic material 8 of glass is melt-charged on the deposited ferromagnetic metal thin films 7a and 7b.

상기 자기헤드는 이와같이 강자성 산화물 재료와 강자성 금속재료와의 복합자성 재료로 이루어지고, 자기갭(g)이 고투자율을 가지는 상기 강자성 금속박막(7a,7b)에 의해 형성되어 있는 것으로, 헤드의 자기저항이 작고, 자기갭(g)에서 발생되는 자계의 강도가 높게 되어 있고, 또 형성되는 금속박막(7a,7b)의 두께를 제어하는 것으로 트랙협소화가 용이하게 행해지기 때문에 메탈테이프등에 고밀도를 자기기억하기에 적합한헤드로 되어 있다.The magnetic head is composed of a ferromagnetic oxide material and a ferromagnetic metal material, and the magnetic head g is formed by the ferromagnetic metal thin films 7a and 7b having a high magnetic permeability. The resistance is small, the strength of the magnetic field generated in the magnetic gap g is high, and the track narrowing is easily performed by controlling the thickness of the metal thin films 7a and 7b formed. It's a good head to remember.

그런데, 상기 자기헤드에서는 자기테이프 접촉면을 제2도에 도시하는 바와 같이, 강자성 금속박막(7a,7b)이 피착되는 페라이트 돌기부(3,4)의 계면부에 예를들어 5 내지 10㎛ 정도의 두께의 변질층(9)이 생기게 된다. 이 변질층(9)는 다음과 같은 이유에 의해 형성되게 된다.However, in the magnetic head, as shown in FIG. 2, the magnetic tape contact surface is formed at, for example, about 5 to 10 mu m at the interface portion of the ferrite protrusions 3 and 4 to which the ferromagnetic metal thin films 7a and 7b are deposited. The thickness altered layer 9 is produced. This altered layer 9 is formed for the following reason.

즉, 금속박막(7a,7b)이 예를들어 스퍼터링에 의해 상기 페라이트 돌기부(3,4)에 피착형성되면 이 페라이트 계면은 금속과 접촉한 상태에서 300 내지 700℃의 고온에 놓이게 된다. 이에 의해, 페라이트를 구성하는 산소원자가 300 내지 500℃의 평형상태로 향해 확산을 시작하게 되고, 페라이트중의 산소원자는 예를들면 센더스트막중의 Al, Si, Fe와 결합되게 된다. 이때문에 페라이트 표면부가 환원경향으로 되고 저산소상태로 되므로 상기 변질층(9)이 페라이트 돌기부(3,4)의 계면부에 형성되게 된다.That is, when the metal thin films 7a and 7b are deposited on the ferrite protrusions 3 and 4 by, for example, sputtering, the ferrite interface is placed at a high temperature of 300 to 700 ° C in contact with the metal. As a result, the oxygen atoms constituting the ferrite start to diffuse toward an equilibrium state of 300 to 500 ° C., and the oxygen atoms in the ferrite are combined with Al, Si, Fe in the sender film, for example. For this reason, since the ferrite surface portion is reduced and is in a low oxygen state, the altered layer 9 is formed at the interface portion of the ferrite protrusions 3 and 4.

또, 예를들면 센더스트의 열팽창계수는 130 내지 160×10^-7/℃이고, 페라이트의 열팽창계수는 50% 정도다른 90 내지 110×10^-7/℃이므로, 센더스트막의 막두께가 두껍게 됨에 따라 페라이트와 센더스트 계면의 응력레벨은 높은 것으로 된다. 따라서, 이 응력에 의한 찌그러짐이 가해진 상태에서 스퍼터링후의 냉각이나 후공정에서의 유리 융착에 의한 가열이 행해지면 페라이트 계면부의 산소의 이동은 더욱 가속되게 된다.For example, the thermal expansion coefficient of the sender is 130 to 160 × 10 ⁻⁷ / ° C., and the thermal expansion coefficient of ferrite is about 90% to 110 × 10 ⁻⁷ / ° C., which is about 50% different, resulting in a thick film thickness of the sender film. Therefore, the stress level at the ferrite and sender interface becomes high. Therefore, when the crushing caused by this stress is applied and the heating by sputtering cooling or glass fusion in a later step is performed, the movement of oxygen in the ferrite interface portion is further accelerated.

이와같은 변질층(9)이 상기 페라이트 돌기부(3,4)의 계면부에 형성되면 계면부의 자기저항의 증대로 페라이트의 연자성 특성이 열화되게 되고 자기헤드의 기록재생출력의 저하를 초래하게 된다.If such a deteriorated layer 9 is formed at the interface of the ferrite protrusions 3 and 4, the magnetic resistance of the interface is increased, resulting in deterioration of the soft magnetic properties of the ferrite and deterioration of the recording / reproducing output of the magnetic head. .

여기서, 본 발명은 이와 같은 실정에 비추어 제안된 것으로서, 강자성 산화물 재료와 강자성 금속재료의 복합자성재료로 이루어진 자기헤드로, 강자성 산화물의 계면부에 변질층이 형성되지 않고, 자기특성의 열화가 방지되는 자기헤드를 제공하는 것을 목적으로 한다.Here, the present invention has been proposed in view of the above situation, and is a magnetic head made of a composite magnetic material of ferromagnetic oxide material and ferromagnetic metal material, and a deterioration layer of the ferromagnetic oxide is not formed, and deterioration of magnetic properties is prevented. It is an object to provide a magnetic head.

이 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 자기헤드는 강자성 산화물로 된 자기코어 반쪽부재짝의 접합면에 진공박막 형성기술로 강자성 금속박막을 형성하고, 이 자기코어 반쪽부재짝을 맞대어 자기갭을 형성하여 이루어진 자기헤드에 있어서, 상기 자기갭 형성면과 상기 강자성 금속박막 형성면이 소요각도로 경사해 있고, 또 상기 강자성 산화물과 상기 강자성 금속박막과의 사이에 비자성 고경도막이 배치되어 있는 것을 특징으로 하고, 강자성 산화물 계면부에 변질층이 형성되지 않고 자기헤드의 자기특성의 열화가 방지된다.In order to achieve this object, the magnetic head of the present invention forms a ferromagnetic metal thin film on the junction surface of the magnetic core half member pairs of ferromagnetic oxide by vacuum thin film formation technology, and forms a magnetic gap by facing the magnetic core half member pairs. In the magnetic head comprising: the magnetic gap forming surface and the ferromagnetic metal thin film forming surface are inclined at a required angle, and a nonmagnetic high hardness film is disposed between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film. No deterioration layer is formed in the ferromagnetic oxide interface, and deterioration of magnetic properties of the magnetic head is prevented.

이하 본 발명의 실시예를 도면에 기초하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

제3도 및 제4도에 있어서, 상기 자기헤드의 구성을 설명하면 자기코어 반쪽부재(11,12)는 강자성 산화물의 Mn-Zn 페라이트등으로 형성되고, 자기갭(g)측에 형성된 페라이트의 돌기부(13,14)의 2단계로 굴곡한 한측부에는 유리가 비자성재(15,16)로서 용융충전되어 있다. 또, 이 돌기부(13)의 다른 측부로 되는 경사면(13a)과 비자성재(15)를 잇는 평면상 및 돌기부(14)의 다른 측부로 되는 경사면(l4a)과 비자성재(16)를 잇는 평면상에는 예를들어 스퍼터링에 의해 SiO₂가 300Å의 두께로 피착되어 1층째의 비자성 고경도막(17a,17b)이 형성되어 있다.3 and 4, the magnetic head half members 11 and 12 are formed of Mn-Zn ferrite or the like of ferromagnetic oxide, and the ferrite formed on the magnetic gap g side. Glass is melt-filled as nonmagnetic materials 15 and 16 at one side of the protrusions 13 and 14 which are bent in two steps. Moreover, on the plane which connects the inclined surface 13a used as the other side of this protrusion part 13, and the nonmagnetic material 15, and the plane which connects the inclined surface l4a used as the other side part of the projection part 14 and the nonmagnetic material 16, For example, SiO ₂ is deposited to a thickness of 300 kPa by sputtering, and the first nonmagnetic high hardness films 17a and 17b are formed.

또 이 비자성 고경도막(17a,17b)상에는 2층째의 비자성 고경도막(18a,18b)로서 예를들면 Cr이 스퍼터링등에 의해 300Å의 두께로 피착되어 있다. 그리고, 2층째의 비자성 고경도막(18a,18b)상에는 고투자율합금의 센더스트 등으로 된 강자성 금속박막(19a,19b)이 스퍼터링 등의 진공박막 형성기술을 이용하여 피착형성되어 있다. 또 피착형성된 강자성 금속박막(19a,19b)상에는 유리가 비자성재(20)로서 용융충전되어있고, 이 강자성 금속박막(19a,19b)에 의해서만 자기갭(g)이 형성되어 있다.Cr is deposited on the nonmagnetic high hardness films 17a and 17b as the second layer of nonmagnetic high hardness films 18a and 18b to have a thickness of 300 kPa, for example, by sputtering or the like. On the second layer of nonmagnetic high hardness films 18a and 18b, ferromagnetic metal films 19a and 19b, which are made of sender of high permeability alloy, are deposited using a vacuum thin film formation technique such as sputtering. On the deposited ferromagnetic metal thin films 19a and 19b, glass is melt-filled as the nonmagnetic material 20, and the magnetic gap g is formed only by the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b.

또한, 상기 접합면 즉 자기갭(g)의 형성면은 소정의 방위각도로 경사하고 있고, 방위각 기록이 행해지도록 되어 있다.The joining surface, that is, the forming surface of the magnetic gap g, is inclined at a predetermined azimuth angle, and azimuth recording is performed.

또, 자기갭(g)의 형성면과 상기 강자성 금속박막(19a,19b)의 형성면과는 소요각도로 경사해 있고, 이실시예에서는 경사각 θ가 예를들어 45°로 되어 있다. 이 경사각 θ는 20°내지 80°정도로 선정하는 것이 좋고, 이에 의해 크로스토크가 방지되고, 또 자기테이프 접촉면의 내마모성이 향상되게 된다.Incidentally, the formation surface of the magnetic gap g and the formation surfaces of the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b are inclined at a required angle. In this embodiment, the inclination angle θ is, for example, 45 °. The inclination angle θ is preferably set to about 20 ° to 80 °, thereby preventing crosstalk and improving the wear resistance of the magnetic tape contact surface.

이와같이 구성된 상기 자기헤드에서는 페라이트의 돌기부(13,14)의 경사면(13a,14b)상에 2층의 비자성고경도막(17a,l8a 및 l7b,18b)을 통하여 스퍼터링 등으로 강자성 금속박막(19a,19b)이 피착형성되게 된다.In the magnetic head configured as described above, the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b are sputtered on the inclined surfaces 13a and 14b of the projections 13 and 14 of the ferrite through two layers of non-magnetic hard films 17a, l8a and l7b, 18b. 19b) is to be deposited.

이 때문에 스퍼터링시의 고온에 놓여도 상기 비자성 고경도막(17a,18a 및 17b,18b)에 의해 페라이트중의 산소원자의 강자성 금속박막(19a,19b)중에의 확산이 방지되게 되고, 페라이트의 경사면(l3a,l4a)부에 전술한 변질층이 형성되게 된다.For this reason, the diffusion of oxygen atoms in the ferrite into the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b is prevented by the nonmagnetic high hardness films 17a, 18a, 17b, and 18b even at high temperatures during sputtering. The deterioration layer described above is formed in (l3a, l4a).

따라서, 강자성 금속박막(19a,19b)과 자기회로적으로 결합하는 상기 경사면(13a,14a)부 근방의 연자성특성이 열화하지 않고, 자기헤드의 기록재생출력의 저하가 방지되게 된다.Therefore, the soft magnetic characteristics near the inclined surfaces 13a and 14a, which are magnetically coupled to the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b, do not deteriorate, and the reduction in the recording / reproducing output of the magnetic head is prevented.

상기 자기헤드의 재생출력을 종래의 자기헤드와 비교하면 예를들어 1 내지 7MHz의 신호에 관해 3dB의 출력레벨의 상승이 실험으로 나타나 있다.When the regenerative output of the magnetic head is compared with the conventional magnetic head, for example, an increase of an output level of 3 dB for a signal of 1 to 7 MHz is shown experimentally.

그리고, 스퍼터링시에 상기 변질층이 형성되지 않으므로 스퍼터링 온도나 스퍼터링 속도를 완화하는 조건으로 관리할 수 있고 제조하기 쉬운 자기헤드로 되어 있다.And since the said deterioration layer is not formed at the time of sputtering, it becomes a magnetic head which can be managed on the conditions which relieve sputtering temperature and sputtering speed, and is easy to manufacture.

또, 페라이트와 강자성 금속박막(19a,19b)의 예를들면 센더스트와의 열팽창계수의 차에 의한 열응력은 상기 비자성 고경도막(l7a,18a 및 17b,18b)에 의해 분산되도록 되기 때문에 스퍼터링후의 냉각시나 후공정에서의 유리융착에 의한 가열시에 있어서도 상기 강자성 금속박막(19a,19b)에 금이나 갈라짐이 생기는것과 같은 것은 없다. 이것에 의해 더우기 자기특성의 향상이 도모된다.In addition, the sputtering of the ferrite and the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b, for example, because the thermal stress due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the sender is dispersed by the nonmagnetic high hardness films l7a, 18a, 17b, and 18b. There is no such thing as cracking or cracking in the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b even during the subsequent cooling or heating by glass fusion in a later step. This further improves the magnetic characteristics.

여기서 1층째의 상기 비자성 고경도막(17a,17b)으로서는 SiO₂, Ta₂O₃, Al₂O₃, Cr₂O₃, SiO 또는 고융점유리등의 산화물을 이용할 수 있다. 2층째의 상기 비자성 고경도막(18a,18b)으로서는 Cr이외에 Ti, Si등의 고경도 금속을 이용할 수 있다. 이 2층째의 비자성 고경도막(18a,l8b)은 피착되는 강자성 금속박막(19a,l9b)에 대하여 결합을 좋게 하는 작용이 있다.Here, as the first layer of the nonmagnetic high-hardness film (17a, 17b) it can be used an oxide such as _{_{_{SiO 2, Ta 2 O 3,}}} Al 2 O 3, Cr 2 O 3, SiO , or high-melting-point glass. As the nonmagnetic high hardness films 18a and 18b of the second layer, in addition to Cr, high hardness metals such as Ti and Si can be used. The nonmagnetic high hardness films 18a and 8b of the second layer have an effect of better bonding to the ferromagnetic metal thin films 19a and 9b to be deposited.

또, 1층째의 상기 비자성 고경도막(17a,17b)의 막두깨(d₁) 및 2층째의 상기 비자성 고경도막(18a,18b)의 막두께(d₂)는 각각 50 내지 2000Å 정도로 선정할 수 있다. 상기 자기헤드에서는 강자성 금속박막(19a,19b)의 형성면이 자기갭(g)의 형성면에 대하여 소요각도로 경사하고 있으므로 비탕막 즉 상기 비자성 고경도막(17a,18a 및 17b,18b)의 막두께(d₁+d₂)가 어느정도의 두께라도 의사갭이 형성되는 것은 아니다. 다만, 이 막두께(d_l+d₂)가 너무 두꺼운 것은 자기회로상 바람직하지 못하다.The film dukkae (d ₁₎ and the second layer wherein the non-magnetic high-hardness coating film thickness of the _{(18a, 18b) (d 2} ) are each selected to about 50 to about 2000Å of the nonmagnetic high-hardness coating film of the first layer (17a, 17b) can do. In the magnetic head, the formation surfaces of the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b are inclined at a necessary angle with respect to the formation surface of the magnetic gap g, so that the non-ferrous films, i.e., the non-magnetic high hardness films 17a, 18a, 17b and 18b, No matter how thick the film thickness d ₁ + d ₂ is, a pseudo gap is not formed. However, it is not preferable for the magnetic circuit that this film thickness (d _l + d ₂ ) is too thick.

그리고, 이 실시예에서는 비자성 고경도막을 2층으로 형성했지만 상기 비자성 고경도막(17a,17b) 또는 상기 비자성 고경도막(18a,18b)중 어느 한쪽만을 형성하도록 하고, 1층의 비자성 고경도막으로서도 좋다. 또, 2층으로 하는 경우는 이 실시예와 같이 산화물에 의해 형성되는 막을 1층째로 하는 것이 좋다.In this embodiment, although the nonmagnetic high hardness film is formed of two layers, only one of the nonmagnetic high hardness films 17a and 17b or the nonmagnetic high hardness films 18a and 18b is formed, and one layer of nonmagnetic It may be used as a high hardness film. In the case of using two layers, it is preferable that the first layer is formed of an oxide film as in this embodiment.

또, 상기 자기헤드에서는 상기 금속박막(19a,19b)은 자기갭(g)의 근방부에서만 형성되어 있기 때문에 금속박막(19a,19b)의 형성면적이 적어도 되고, 예를들어 스퍼터링 장치에서 일괄처리 가능한 개수를 대폭증가시켜 양산성의 향상을 도모할 수 있다. 이와같이 단위 박막형성 면적으로부터 제작가능한 자기헤드의 개수가 많고, 염가로 자기헤드를 제공할 수 있다.In the magnetic head, since the metal thin films 19a and 19b are formed only in the vicinity of the magnetic gap g, the formation area of the metal thin films 19a and 19b is at least small, for example, in a batch processing in a sputtering apparatus. A significant increase in the number can be achieved to improve productivity. In this way, the number of magnetic heads that can be manufactured from the unit thin film formation area is large, and the magnetic heads can be provided at low cost.

또, 피착형성되는 상기 금속박막(19A,19B)의 두께 t는Further, the thickness t of the metal thin films 19A and 19B to be deposited is

t=Tw Sinθt = Tw Sinθ

이면 좋으므로, 트랙폭에 상당하는 막두께를 피착형성할 필요가 없고, 헤드 제작에 요하는 시간에 단축되게된다. 여기서 Tw는 트랙폭이고, θ는 상기 금속박막 형성면과 자기갭 형성면이 이루는 각도이다.Since it is good in this case, it is not necessary to deposit and form the film thickness corresponded to track width, and it becomes short in the time required for head manufacture. Where Tw is the track width and θ is the angle between the metal thin film formation surface and the magnetic gap formation surface.

또, 자기갭(g)을 형성하는 고투자율의 상기 금속박막(19a,19b)이 자기갭(g)의 근방부에 배치되어 있는것과, 자기헤드 후부측이 접합면적이 넓은 강자성 산화물로 형성되어 있음으로써 자기저항이 작고 감도가 높은 고성능 자기헤드로 되어 있다.The metal thin films 19a and 19b having a high permeability forming the magnetic gap g are arranged in the vicinity of the magnetic gap g, and the magnetic head rear side is formed of a ferromagnetic oxide having a large junction area. It is a high performance magnetic head with small magnetic resistance and high sensitivity.

그리고, 자기갭(g)이 고투자율을 가지는 상기 강자성 금속박막(19a,19b)만으로 형성되어 있으므로 자기갭(g)으로부터 발생되는 자계의 강도가 높은 메탈테이프등의 높은 항자력 Hc를 가지는 자기테이프에 대응한, 기록재생출력이 높은 자기헤드로 되어 있다.In addition, since the magnetic gap g is formed of only the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b having a high permeability, the magnetic tape having a high coercive force Hc, such as a metal tape having a high strength of the magnetic field generated from the magnetic gap g, is applied to the magnetic tape. Correspondingly, the magnetic head has a high recording / playback output.

또한, 상기 비자성 고경도막(18a,18b)의 요철이 없는 한 평면상에 상기 금속박막(19a,19b)이 피착 형성됨으로써 예를들면 센더스트막으로 이루어진 금속박막(19a,19b)의 막구조 즉 주상점의 성장방위는 형성면 전체에 걸쳐 한방향에 평행하게 정렬한 균일한 것으로 되어 있다. 이때문에 상기 자기헤드는 자로에 따른 방향에서, 상기 금속박막(19a,19b)의 전체가 높은 투자율을 나타내게 되고 높은 기록재생출력이 얻어진다.In addition, since the metal thin films 19a and 19b are deposited on one plane without the unevenness of the nonmagnetic high hardness films 18a and 18b, for example, the film structure of the metal thin films 19a and 19b made of a sender film. In other words, the growth direction of the columnar shop is uniformly aligned in one direction over the entire formation surface. For this reason, the magnetic head exhibits a high permeability of the entire metal thin films 19a and 19b in the direction along the magnetic path, and high recording / reproducing output is obtained.

또, 상기 자기헤드의 후부측은 Mn-Zn 페라이트등의 강자성 산화물 끼리를 맞대어 접합해 놓고, 전부측의 밀착성이 나빠도 큰 접착강도를 얻을 수 있고, 원료소비율의 향상을 도모할 수가 있다. 또, 가공시에 백트랙 변동이 발생하는 것도 없고, 신뢰성이 높은 자기헤드로 되어 있다.In addition, the rear side of the magnetic head is bonded to each other by ferromagnetic oxides such as Mn-Zn ferrite, and even when the adhesion on all sides is poor, a large adhesive strength can be obtained, and the raw material consumption rate can be improved. In addition, no backtrack fluctuations occur during processing, and the magnetic head is highly reliable.

더우기, 상기 자기헤드의 자기테이프 접촉면의 대부분이 강자성 산화물로 되어 있기 때문에 높은 내마모성을 가지는 자기헤드로 되어 있다.Furthermore, since most of the magnetic tape contact surfaces of the magnetic head are made of ferromagnetic oxide, the magnetic head has high wear resistance.

여기서, 상기 금속박막(19a,19b)은 연속한 1층을 피착형성하고 있지만 절연막을 통하여 다층으로 강자성 금속박막을 피착형성하도록 해도 좋다.Here, the metal thin films 19a and 19b are formed by depositing one continuous layer, but may be formed by depositing a ferromagnetic metal thin film in multiple layers through an insulating film.

또, 상기 돌기부(13,l4)와 비자성재(15,16)과의 계면은 방위각과는 다른 방향 예를들면 2단계로 굴곡하고 있음으로써 돌기부(13,14)의 굴곡부에 의한 자기테이프상의 인접 또는 다음 인접 트랙으로부터의 신호의 픽업량이 방위각 손실에 의해 감소되고, 크로스토크의 발생이 방지되도록 되어 있다.In addition, the interface between the protrusions 13 and l4 and the nonmagnetic materials 15 and 16 is bent in a direction different from the azimuth angle, for example, in two stages, so that the magnetic tapes are adjacent to each other by the bent portions of the protrusions 13 and 14. Alternatively, the pick-up amount of the signal from the next adjacent track is reduced by the azimuth loss, and crosstalk is prevented from occurring.

그리고, 상기 자기헤드에서는 수㎛의 트랙폭으로부터 수십㎛의 트랙폭의 넓은 범위의 트랙폭을 용이하게 형성할 수 있고, 피착형성되는 상기 금속박막(19a,19b)의 막두께를 얇게 하여 협트랙화의 자기헤드가 용이하게 얻어진다.In the magnetic head, a track width in a wide range from a track width of several micrometers to a track width of several tens of micrometers can be easily formed, and the film thickness of the metal thin films 19a and 19b to be deposited is made thin to narrow tracks. The magnetic head of the shoe is easily obtained.

다음에, 상술한 제3도에 도시하는 자기헤드의 제조공정을 제5도 내지 제12도를 기초로 하여 설명한다. 우선, 제3도에 도시하는 바와같이, 예를들면 Mn-Zn 페라이트등의 강자성 산화물 기판(30)의 길이방향의 한 모서리부에 상방이 열린 단면다각형상의 절결홈(31)을, 회전 숫돌 또는 전해 에칭등에 의해 복수개 형성한다. 즉, 상기 기판(30)의 상면(33)은 자기갭 형성면에 대응하여, 상기 절결홈(31)은 기판(30)의 자기갭 형성위치 근방부에 상당하는 부분에 형성된다.Next, the manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. 3 mentioned above is demonstrated based on FIG. 5 thru | or FIG. First, as shown in FIG. 3, for example, a notched groove 31 having a cross-sectional polygon having an open upper portion at a corner in the longitudinal direction of a ferromagnetic oxide substrate 30 such as Mn-Zn ferrite, or a grinding wheel or the like. A plurality is formed by electrolytic etching or the like. That is, the upper surface 33 of the substrate 30 corresponds to the magnetic gap formation surface, and the notch groove 31 is formed in a portion corresponding to the magnetic gap formation position of the substrate 30.

다음에, 제6도에 도시하는 바와같이, 상기 절결홈(31)에 고융점 유리(32a)를 용융충전한 후 상면(33)과 전면(34)을 평면연마한다.Next, as shown in FIG. 6, after the high melting point glass 32a is melt-filled to the notch groove 31, the upper surface 33 and the front surface 34 are ground-polished.

다음, 제7도에 도시하는 바와 같이 유리(32a)를 충전한 상기 절결홈(31)의 일부와 약간 넉넉하게 중첩하도록 상기 한 모서리부에 절결홈(31)과 인접하는 단면 V자형의 절결홈(35)을 형성한다. 이때 형성되는 절결홈(35)의 내벽면(36)에는 상기 유리(32a)의 일부가 노출하고 있다. 또, 이 내벽면(36)과 상기 상면(33)과의 교선(37)은 상기 전면(34)과 직각을 이루고 있다. 또, 이 내벽면(36)과 상면(33)이 이루는 각도는 전술의 θ 예를들어 45°로 되어 있다.Next, as shown in FIG. 7, the cut-out groove of the V-shaped cross section which adjoins the cut-out groove 31 in the one corner part so that it may slightly overlap with a part of the cut-out groove 31 which filled the glass 32a is shown. (35) is formed. At this time, a part of the glass 32a is exposed on the inner wall surface 36 of the cutout groove 35 formed. In addition, the intersection 37 between the inner wall surface 36 and the upper surface 33 forms a right angle with the front surface 34. The angle between the inner wall surface 36 and the upper surface 33 is 45 °, for example, described above.

다음에 제8도에 도시하는 바와같이 상기 기판(30)의 절결홈(35) 근방에 스퍼터링 등에 의해 예를들면 SiO₂를 300Å의 두께로 피착하고, 1층째의 비자성 고경도막(38)을 형성한다. 또, 이 비자성 고경도막(38)상에 스퍼터링등에 의해 예를들어 Cr을 300Å의 두께로 피착하고, 2층째의 비자성 고경도막(39)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 8, SiO ₂ is deposited to a thickness of 300 GPa in the vicinity of the cutout groove 35 of the substrate 30, for example, by sputtering or the like, and the first nonmagnetic high hardness film 38 is formed. Form. Further, on the nonmagnetic high hardness film 38, for example, Cr is deposited to a thickness of 300 GPa by sputtering or the like to form a second nonmagnetic high hardness film 39.

다음에 제9도에 도시하는 바와같이 상기 비자성 고경도막(39)상의 절결홈(35)근방에, 스퍼터링등의 진공박막 형성기술을 이용하여, 고투자율 합금 예를들어 센더스트를 피착하고, 강자성 금속박막(40)을 형성한다. 이때 상기 내벽면(36)상에 효율좋게 피착하도록 상기 기판(30)을 경사시켜 스퍼터링 장치내에 배치하도록 한다.Next, as shown in FIG. 9, a high permeability alloy, for example, a sender is deposited by using a vacuum thin film forming technique such as sputtering in the vicinity of the cutout groove 35 on the nonmagnetic high hardness film 39. The ferromagnetic metal thin film 40 is formed. At this time, the substrate 30 is inclined and disposed in the sputtering device so as to be deposited on the inner wall surface 36 efficiently.

다음, 제10도에 도시하는 바와 같이 상기 금속박막(40)이 피착된 상기 절결홈(35)에 상기 유리(32a)보다도 저융점의 유리(41)를 용융충전한 후 상면(33)과 전면(34)을 평행연마하여 거울면 다듬질을 행한다. 이때앞의 공정에서 피착한 상기 비자성 고경도막(38,39) 및 상기 금속박막(40)의 일부가 상기 절결홈(35)내에 남고, 이 절결홈(35)면에 강자성 금속박막(40) 및 비자성 고경도막(38a,39a)가 피착한 상태로 된다.Next, as shown in FIG. 10, after melting and filling the glass 41 having a lower melting point than the glass 32a in the cut groove 35 to which the metal thin film 40 is deposited, the upper surface 33 and the front surface (34) is polished in parallel and mirror surface finishing is performed. At this time, a portion of the non-magnetic high hardness films 38 and 39 and the metal thin film 40 deposited in the previous process remain in the notched groove 35, and the ferromagnetic metal thin film 40 is formed on the notched groove 35. And the nonmagnetic high hardness films 38a and 39a are deposited.

또, 권선홈측의 코어 반쪽부재를 형성하기 위하여 제10도에 도시하는 바와같이 가공을 한 강자성 산화물기판(30)에, 권선홈(42)을 형성하는 홈가공을 행하고, 제11도에 도시하는 강자성 산화물 기판(43)을 얻는다.In order to form the core half member on the winding groove side, groove processing for forming the winding groove 42 is performed on the ferromagnetic oxide substrate 30 processed as shown in FIG. A ferromagnetic oxide substrate 43 is obtained.

이 기판(43)에서, 절결홈(3l)에는 고융점 유리(32b)가 용융충전되고, 절결홈(35)에는 강자성 금속박막(40b) 및 비자성 고경도막(38b,39b)이 피착형성되어 있다.In the substrate 43, the high melting point glass 32b is melt-filled in the cutout groove 3l, and the ferromagnetic metal thin film 40b and the nonmagnetic high hardness film 38b, 39b are deposited in the cutout groove 35. have.

다음, 상기 기판(30)의 자기갭 형성면으로 되는 상면(33)과 상기 기판(43)의 자기갭 형성면으로 되는 상면(44)을 막으로 붙인 갭스페이서를 통하여 제12도에 도시하는 바와같이 맞대어 유리 융착을 행한다. 그후 기판(30)과 기판(43)을 합체시킨 블럭(45)을 이 접합면에 대하여 방위각만 경사시킨 a-a선, a'-a'선의 위치에서 슬라이싱 가공하고, 방위각으로 경사하는 자기갭을 가지는 복수개의 헤드칩을 얻을 수가 있다. 또 기판접합면에 대하여 수직으로 슬라이싱하면 보통의 헤드칩이 형성될 수 있다. 여기서 상기 갭스페이서로서는 SiO₂, ZrO₂, Ta₂O₅, Cr등을 이용할 수 있다.Next, as shown in FIG. 12, through a gap spacer in which an upper surface 33 serving as a magnetic gap forming surface of the substrate 30 and an upper surface 44 serving as a magnetic gap forming surface of the substrate 43 are covered with a film. The glass is fused together. Thereafter, the block 45 incorporating the substrate 30 and the substrate 43 is sliced at positions aa and a'-a 'where only the azimuth is inclined with respect to the joint surface, and has a magnetic gap inclined at the azimuth. A plurality of head chips can be obtained. In addition, the normal head chip can be formed by slicing perpendicularly to the substrate bonding surface. Here, as the gap spacer, SiO ₂ , ZrO ₂ , Ta ₂ O ₅ , Cr or the like can be used.

다음에, 상기 헤드칩의 자기테이프 접촉면을 원통연마하여 제3도에 도시하는 자기헤드로 한다.Next, the magnetic tape contact surface of the head chip is subjected to cylindrical polishing to form the magnetic head shown in FIG.

이 제3도의 자기헤드에 있어서, 코어 반쪽부재(11)는 상기 기판(43)을 모재로 하고 있고, 코어 반쪽부재(12)는 상기 기판(30)이 모재로 되어 있다. 또, 비자성재(15,16)는 상기 고융점 유리(32b,32a)에 각각 대응하고 비자성재(20)는 상기 저융점 유리(41)에 대응하고 있다. 그리고, 이 자기헤드의 비자성 고경도막(17a,18a 및 17b,18b)은 상기 고경도막(38b,39b 및 38a,39a)에 대응하고 있고, 또 강자성 금속박막(19a,19b)은 상기 금속박막(40b,40a)에 각각 대응하고 있다. 더우기, 상기 자기헤드의 권선구멍(25)은 상기 기판(30)에 형성된 권선홈(42)에 대응하고 있다.In the magnetic head of FIG. 3, the core half member 11 has the substrate 43 as the base material, and the core half member 12 has the substrate 30 as the base material. The nonmagnetic materials 15 and 16 correspond to the high melting point glass 32b and 32a, respectively, and the nonmagnetic material 20 corresponds to the low melting point glass 41, respectively. Nonmagnetic high hardness films 17a, 18a and 17b and 18b of the magnetic head correspond to the high hardness films 38b, 39b and 38a and 39a, and the ferromagnetic metal thin films 19a and 19b are the metal thin films. Corresponds to 40b and 40a, respectively. Moreover, the winding hole 25 of the magnetic head corresponds to the winding groove 42 formed in the substrate 30.

그런데, 자기갭 근방부에만 강자성 금속박막을 형성하는 것은 아니고, 헤드의 전면부 즉 프론트 갭 형성면에서 후부측 즉 백갭 형성면까지 연속하여 강사성 금속박막을 형성한 본 발명의 다른 실시예인 제l3도의 자기헤드에 관하여 설명한다. 그리고, 제114도에는 이 자기헤드의 자기테이프 접촉면이 도시되어 있다.However, the third embodiment, which is another embodiment of the present invention, in which the ferromagnetic metal thin film is not formed only in the vicinity of the magnetic gap but is formed continuously from the front portion of the head, that is, the front gap forming surface, to the rear side, that is, the back gap forming surface, is a third embodiment. The magnetic head of Fig. Will be described. And in FIG. 114, the magnetic tape contact surface of this magnetic head is shown.

이 자기헤드는 방위각 기록용의 자기헤드로 되어 있고, 자기코어 반쪽부재(51,52)가 강자성 산화물 예를들어 Mn-Zn 페라이트로 형성되고, 자기갭(g)측의 돌기부(53,54)는 자기헤드의 후부측까지 연속하여 형성되어 있다. 또, 이 돌기부(53,54)의 한측부는 방위각과는 다른 방향으로 예를들어 2단계로 굴곡하고 있고,이 한곡부에는 유리의 비자성재(55,56)가 후부측까지 연속하여 용융충전되어 있다.The magnetic head is a magnetic head for azimuth recording, and the magnetic core half members 51 and 52 are formed of ferromagnetic oxide, for example, Mn-Zn ferrite, and the projections 53 and 54 on the magnetic gap g side. Is continuously formed to the rear side of the magnetic head. In addition, one side of the protrusions 53 and 54 is bent in two stages, for example, in a direction different from the azimuth angle, and the non-magnetic material 55 and 56 of glass is continuously melted and filled to the rear side. have.

그리고, 돌기부(53,54)의 경사면(53a,54a)과 비자성재(55,56)를 잇는 평면상에는 스퍼터링등으로 예를들면 SiO₂가 300Å의 막두께 t₁로 피착되고 1층째의 비자성 고경도막(57)이 후부측까지 연속하여 형성되어있다. 또 이 비자성 고경도막(57)상에는 2층째의 비자성 고경도막(58)으로서, 예를들면 Cr이 스퍼터링등에의해 300Å의 막두께 t₂로 후부측까지 연속하여 피착되어 있다. 또 이 비자성 고경도막(58)상에는 스퍼터링등으로 센더스트등의 강자성 금속박막(59)이 후부측까지 연속하여 피착 형성되고, 이 금속박막(59)상에는 유리의 비자성재(60)가 똑같이 후부측까지 용융충전되어 있다.On the plane connecting the inclined surfaces 53a and 54a of the projections 53 and 54 and the nonmagnetic materials 55 and 56, for example, SiO ₂ is deposited at a film thickness t ₁ of 300 Å by a sputtering or the like. The high hardness film 57 is formed continuously to the rear side. Further, on the nonmagnetic high hardness film 57, as the second layer of nonmagnetic high hardness film 58, for example, Cr is deposited continuously to the rear side at a film thickness t ₂ of 300 kPa by sputtering or the like. On this non-magnetic high hardness film 58, a ferromagnetic metal thin film 59 such as sender is continuously deposited to the rear side by sputtering or the like, and on the metal thin film 59, the non-magnetic material 60 of glass is equally reared. It is melt-charged to the side.

상기 금속박막(59)은 자기갭 형성면에 대하여 예를들면 45°의 경사각 θ로 경사해 있고, 이 금속박막(59)에 의해서만 자기갭(g)이 형성되어 있다.The metal thin film 59 is inclined at an inclination angle θ of, for example, 45 ° with respect to the magnetic gap formation surface, and the magnetic gap g is formed only by the metal thin film 59.

이와같이 상기 자기헤드에서는 전술한 실시예와 똑같이 페라이트의 돌기부(53,54)와 강자성 금속박막(59)과의 사이에 비자성 고경도막(57,58)을 배치함으로써 상기 경사면(53a,54a)부에 페라이트의 변질층이 형성되는 일은 없다. 따라서, 상기 자기헤드에서는 상기 경사면(53a,54a)부 근방의 연자성 특성이 열화함이 없이, 자기헤드의 기록재생출력의 저하가 방지되게 된다.As described above, in the magnetic head, the inclined surfaces 53a and 54a are formed by disposing nonmagnetic high hardness films 57 and 58 between the ferrite protrusions 53 and 54 and the ferromagnetic metal thin film 59. The altered layer of ferrite is not formed. Therefore, in the magnetic head, deterioration in the recording / reproducing output of the magnetic head is prevented without deterioration in the soft magnetic characteristics near the inclined surfaces 53a and 54a.

또, 상기 비자성 고경도막(57,58)을 배치하여, 비자성 금속박막(59)의 금이나 갈라짐의 방지를 행할 수가있다.In addition, the nonmagnetic high hardness films 57 and 58 can be arranged to prevent cracking or cracking of the nonmagnetic metal thin film 59.

다음에, 상기 자기헤드의 제조공정을 제15도 내지 제22도를 기초로 하여 설명한다.Next, the manufacturing process of the magnetic head will be described based on FIGS. 15 to 22. FIG.

우선, 제15도에 도시하는 바와같이, 페라이트등의 강자성 산화물 기판(70)의 상면부에 회전 숫돌을 이용하여 상방이 열린 단면 다각형상의 홈(71)을 상면부를 가로질러 절삭하여 복수개 형성한다.First, as shown in FIG. 15, a plurality of grooves 71 of cross-sectional polygonal shape, which are open upwards, are cut across the upper surface portion by using a grindstone in the upper surface portion of the ferromagnetic oxide substrate 70 such as ferrite.

다음에, 제16도이 도시하는 바와같이 상기 홈(7l)에 고융점 유리(72)를 용융충전한 후 평면연마가공을 행한다.Next, as shown in FIG. 16, the high melting point glass 72 is melt-filled into the groove 7l and then subjected to planar polishing.

다음에, 제17도에 도시하는 바와같이 상기 홈(71)의 일부와 약간 넉넉하게 중첩하여 상기 홈(71)과 인접한 단면 V자형의 홈(73)을 복수개 형성한다. 이 홈(73)의 내벽면의 경사각도는 상면에 대하여 예를들면 45°로 되어있다.Next, as shown in FIG. 17, a plurality of grooves 73 having a V-shaped cross section adjacent to the grooves 71 are formed by overlapping a part of the grooves 71 slightly enough. The inclination angle of the inner wall surface of this groove 73 is 45 degrees with respect to the upper surface, for example.

다음, 제18도에 도시하는 바와같이 상기 기간(70)의 상면부에 스퍼터링 등으로써 예를들면 SiO₂를 300Å의 두께로 피착하고, 1층째의 비자성 고경도막(74)을 형성한다. 더우기, 이 비자성 고경도막(74)상에, 스퍼터링등으로 예를들면 Cr을 300Å의 두께로 피착하고, 2층째의 비자성 고경도막(75)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 18, SiO ₂ is deposited to a thickness of 300 kPa, for example, by sputtering or the like on the upper surface of the period 70 to form the first nonmagnetic high hardness film 74. As shown in FIG. Furthermore, on this nonmagnetic high hardness film 74, Cr is deposited to a thickness of 300 kPa, for example, by sputtering or the like, and a second layer of nonmagnetic high hardness film 75 is formed.

다음, 제19도에 도시하는 바와같이 상기 기판(70)의 상면부 즉 상기 비자성 고경도막(75)상에 센더스트등을 스퍼터링, 이온플레이팅, 증착등의 진공박막 형성기술을 이용하여 피착형성하고, 상기 홈(73)부에 강자성 금속박막(76)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 19, a thin film is deposited on the upper surface of the substrate 70, that is, the non-magnetic hard film 75 using vacuum thin film formation techniques such as sputtering, ion plating, and deposition. The ferromagnetic metal thin film 76 is formed in the groove 73.

다음, 홈(73)부분에 저융점 유리(77)를 용융충전하고, 제20도에 도시하는 바와 같이 상기 기판(70)의 상면부 및 전면부를 평면연마 가공한다.Next, the low-melting-point glass 77 is melt-filled in the groove 73, and the top and front surfaces of the substrate 70 are subjected to planar polishing as shown in FIG.

또, 권선홈측의 코어 반쪽부재를 형성하기 위하여 제20도에 도시하는 바와같이 가공을 한 상기 기판(70)에 권선홈(78)을 형성하는 홈가공을 행하고, 제21도에 도시하는 강자성 산화물 기판(79)을 얻는다.Further, in order to form the core half member on the winding groove side, groove processing is performed to form the winding groove 78 in the substrate 70 processed as shown in FIG. 20, and the ferromagnetic oxide shown in FIG. The substrate 79 is obtained.

다음에 제22도에 도시하는 바와 같이 상기 기판(70)과 상기 기판(79)을 상기 금속박막(70)이 피착된 측의 평면부가 마주보도록 하여 갭스페이서를 통하여 맞대고 유리를 이용하여 융착접합하여 블럭(80)으로 한다.Next, as shown in FIG. 22, the substrate 70 and the substrate 79 are faced to each other with the flat portion on the side where the metal thin film 70 is deposited to face each other through a gap spacer, and fusion-bonded using glass. A block 80 is used.

다음, 상기 블럭(80)을 b-b선, b'-b'선의 위치에서 슬라이싱 가공하여 복수개의 헤드칩을 얻을 수가 있다.Next, the block 80 can be sliced at positions b-b and b'-b 'to obtain a plurality of head chips.

그후, 상기 헤드칩의 자기테이프 접촉면을 원통연마하여 제13도에 도시한 자기헤드로 된다.Thereafter, the magnetic tape contact surface of the head chip is cylindrically ground to obtain the magnetic head shown in FIG.

여기서, 이 자기헤드의 코어 반쪽부재(51)는 상기 기판(79)을 모재로 하고 있고, 코어 반쪽부재(52)는 상기 기판(70)을 모재로 하고 있다. 또, 비자성 고경도막(57,58)은 상기 고경도막(74,75)에 대응하고 있다. 더우기, 강자성 금속박막(59)은 상기 금속박막(76)에 대응하고, 비자성재(55,56)는 상기 고융점 유리(72)에 대응하고, 비자성재(60)는 상기 저융점 유리(77)에 대응하고 있다. 또 권선구멍(65)은 상기 권선홈(78)에 대응하고 있다.Here, the core half member 51 of the magnetic head has the substrate 79 as the base material, and the core half member 52 has the substrate 70 as the base material. The nonmagnetic high hardness films 57 and 58 correspond to the high hardness films 74 and 75. Furthermore, the ferromagnetic metal thin film 59 corresponds to the metal thin film 76, the nonmagnetic materials 55 and 56 correspond to the high melting point glass 72, and the nonmagnetic material 60 corresponds to the low melting point glass 77. Corresponds to). The winding hole 65 corresponds to the winding groove 78.

그런데, 자기코어 반쪽부재를 형성하는 강자성 산화물로서는 Mn-Zn 페라이트외에 Ni-Zn 페라이트등을 이용해도 좋다. 또, 강자성 금속박막을 형성하는 고투자율 자성재료로서는 센더스트외에 파머로이나 비정질 합금을 이용해도 좋다.By the way, as the ferromagnetic oxide for forming the magnetic core half member, in addition to Mn-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite or the like may be used. As the high permeability magnetic material for forming the ferromagnetic metal thin film, a palmer or an amorphous alloy may be used in addition to the sender.

또, 상기 비자성 고경도막은 스퍼터링 뿐만아니라, 증착, 이온 플레이팅 등을 이용하여 형성하도록 해도좋다.The nonmagnetic high hardness film may be formed not only by sputtering but also by vapor deposition, ion plating, or the like.

이상의 설명으로부터 명백한 바와 같이 본 발명에 의하면, 강자성 산화물로 된 자기코어 반쪽부재의 접합면과는 경사하도록 상기 접합면 근방에 강자성 금속박막을 형성하고 있고, 또 강자성 산화물과 강자성 금속박막과의 사이에 비자성 고경도막을 배치하고 있다. 이 때문에 강자성 금속박막을 피착하는 예를들어 스퍼터링시의 고온에 놓여도 상기 비자성 고경도막에 의해 강자성 산화물중의 산소원자의 확산이 저지되기 때문에 강자성 산화물 계면부에 저산소상태의 변질층이 형성되지 않는다. 따라서, 강자성 산화물의 연자성 특성이 열화함이 없고, 자기헤드의 기록재생출력이 저하되지 않게 된다.As apparent from the above description, according to the present invention, a ferromagnetic metal thin film is formed in the vicinity of the joint surface so as to be inclined with the joint surface of the magnetic core half member made of ferromagnetic oxide, and between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film. A nonmagnetic hard film is disposed. Therefore, even when the ferromagnetic metal thin film is deposited, for example, at a high temperature during sputtering, diffusion of oxygen atoms in the ferromagnetic oxide is prevented by the nonmagnetic high hardness film, so that a low oxygen denatured layer is not formed at the ferromagnetic oxide interface. Do not. Therefore, the soft magnetic characteristics of the ferromagnetic oxide do not deteriorate, and the recording / reproducing output of the magnetic head does not deteriorate.

또, 이와같이 스퍼터링시에 상기 변질층이 형성되지 않으므로 강자성 금속박막을 피착하는 스퍼터링 온도나 스퍼터령 속도를 대충 선정할 수 있고 제조하기 쉬운 자기헤드로 되어있다,In addition, since the deterioration layer is not formed at the time of sputtering, the sputtering temperature and the sputtering speed for depositing the ferromagnetic metal thin film can be roughly selected, and the magnetic head is easy to manufacture.

또, 강자성 산화물과 강자성 금속박막과의 열팽창계수의 차에 의한 열응력은 상기 비자성 고경도막에서 확산되어 버리기 때문에 스퍼터링 종료후의 냉각시나 후공정에서의 유리융착시에 있어서도 강자성 금속박막에 금이나 갈라짐이 들어 있는 일은 없고, 상기 금속박막의 연자성 특성의 열화가 방지되게 된다. 이에 의해, 더우기 자기헤드의 자기특성이 높게 된다.In addition, the thermal stress due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film is diffused in the non-magnetic high hardness film, so that cracks or cracks are formed in the ferromagnetic metal thin film during cooling after sputtering or during glass fusion in a later step. This is not contained, and deterioration of the soft magnetic properties of the metal thin film is prevented. As a result, the magnetic characteristics of the magnetic head become high.

또, 이와같이 강자성 금속박막에의 금이나 갈라짐의 혼입이 방지되므로 스퍼터링 종료후의 냉각 조건이나 유리융착 조건을 완화한 조건에서 관리할 수 있고, 더우기 제조하기 쉬운 자기헤드로 되어 있다.In addition, since the incorporation of cracks and cracks into the ferromagnetic metal thin film is prevented in this way, the magnetic head can be managed under the conditions of relieving the cooling conditions and the glass fusion conditions after the sputtering is finished, and moreover, the magnetic head is easy to manufacture.

Claims

강자성 산화물로 된 자기코어 반쪽부재쌍의 접합면에 진공박막형성 기술로 강자성 금속박막을 형성하고, 이 자기코어 반쪽부재쌍을 맞대어 자기갭을 형성해서 이루어진 자기헤드에 있어서, 상기 자기갭 형성면과 상기 강자성 금속박막 형성면이 소요각도로 경사해 있고, 또 상기 강자성 산화물과 상기 강자성 금속박막과의 사이에 비자성 고경도막이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 자기헤드.A magnetic head formed by forming a ferromagnetic metal thin film on a junction surface of a magnetic core half member pair made of ferromagnetic oxide by a vacuum thin film forming technique, and forming a magnetic gap against the magnetic core half member pair, wherein the magnetic gap forming surface and And a nonmagnetic high hardness film disposed between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film, wherein the ferromagnetic metal thin film forming surface is inclined at a required angle.