KR910009712A - 세펨 화합물 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

세펨 화합물 및 이의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 이의 약제학적으로 허용가능한 염.
    상기식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노 그룹이며, R2는 수소 또는 유기 그룹이고, R3는 수소, 저급 알킬, 하이드록시(저급)알킬, 보호된 하이드록시(저급)알킬, 아미노(저급)알킬, 보호된 아미노(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬, N,N-디(저급)알킬카바모일(저급)알킬, 또는 아미노 보호그룹이며, R4는 수소, 저급 알킬, 카복시, 보호된 카복시, 아미노, 보호된 아미노 또는 카바모일이고, Z는 N 또는 CH이다.
  2. 제1항에 있어서, R2가 수소, 저급 알킬, 저급 알케닐, 하이드록시(저급)알킬, 보호된 하이드록시(저급)알킬, 카복시(저급)알킬, 보호된 카복시(저급)알킬 또는 하이드록시 보호그룹인 화합물.
  3. 제2항에 있어서, R1이 아미노 또는 아실아미노이고, R2가 수소, 저급 알킬, 저급 알케닐, 하이드록시(저급)알킬, 아실옥시(저급)알킬, 카복시(저급)알킬, 에스테르화된 카복시(저급)알킬 또는 아실 그룹이며, R3가 수소, 저급 알킬, 하이드록시(저급)알킬, 아실옥시(저급)알킬, 아미노(저급)알킬, 아실아미노(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬, N,N-디(저급)알킬카바모일(저급)알킬 또는 아실 그룹이고 R4가 수소, 저급 알킬, 카복시, 에스테르화된 카복시, 아미노, 아실아미노 또는 카바모일인 화합물.
  4. 제3항에 있어서, R1이 아미노이고, R2가 수소, 저급 알킬, 저급 알케닐, 하이드록시(저급)알킬, 카복시(저급)알킬 또는 저급 알카노일이며, R3는 수소, 저급 알킬, 하이드록시(저급)알킬, 아미노(저급)알킬, 저급알카노일아미노(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬, N,N-디(저급)알킬카바모일(저급)알킬 또는 N,N-디(저급)알킬카바모일이고 R4가 수소, 저급 알킬, 카복시,저급 알콕시카보닐, 아미노, 저급 알카노일아미노 또는 카바모일인 화합물.
  5. (1) 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 아미노 그룹에서의 이의 반응성 유도체 또는이의 염을 일반식(Ⅲ)의 화합물 또는 카복시 그룹에서의 이의 반응성 유도체 또는 이의 염과 반응시켜 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 수득하거나, (2) 일반식(Ia)의 화합물 또는 이의 염을 아미노 보호그룹 제거반응시켜 일반식(Ib)의 화합물 또는 이의 염을 수득하거나 또는 (3) 일반식(Ic)의 화합물 또는 이의 염을 하이드록시 보호그룹 제거반응시켜 일반식(Id)의 화합물 또는 이의 염을 수득함을 특징으로하여, 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노 그룹이며, R2는 수소 또는 유기 그룹이고, R3는 수소, 저급 알킬, 하이드록시(저급)알킬, 보호된 하이드록시(저급)알킬, 아미노(저급)알킬, 보호된 아미노(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬, N,N-디(저급)알킬카바모일(저급)알킬, 또는 아미노 보호그룹이며, R4는 수소, 저급 알킬, 카복시, 보호된 카복시, 아미노, 보호된 아미노 또는 카바모일이고, Z는 N 또는 CH이고,는 보호된 아미노(저급)알킬이며,는 아미노(저급)알킬이고,는 하이드록시 보호그룹이다.
  6. 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 이의 염.
    상기식에서, R3는 수소, 저급 알킬, 하이드록시(저급)알킬, 보호된 하이드록시(저급)알킬, 아미노(저급)알킬, 보호된 아미노(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬, N,N-디(저급)알킬카바모일(저급)알킬, 또는 아미노 보호그룹이며, R4는 수소, 저급 알킬, 카복시, 보호된 카복시, 아미노, 보호된 아미노 또는 카바모일이다.
  7. (1) 일반식(Ⅵ)의 화합물 또는 이의 염을 아미노 보호그룹 및 카복시 그룹 제거반응시켜 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 이의 염을 수득하거나, 또는 (2) 일반식(Ⅱa)의 화합물 또는 이의 염을 아미노 보호그룹 제거반응시켜 일반식(Ⅱb)의 화합물 또는 이의 염을 수득함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서, R3는 수소, 저급 알킬, 하이드록시(저급)알킬, 보호된 하이드록시(저급)알킬, 아미노(저급)알킬, 보호된 아미노(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬, N,N-디(저급)알킬카바모일(저급)알킬, 또는 아미노 보호그룹이며, R4는 수소, 저급 알킬, 카복시, 보호된 카복시, 아미노, 보호된 아미노 또는 카바모일이고 R5는 보호된 아미노 그룹이며, R6는 보호된 카복시 그룹이고, Y는 산 잔기이며,는 이미노 보호그룹이다.
  8. 약제학적으로 허용가능한 담체와 함께 활성성분으로서 제1항에 따른 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염을 포함하는 약제학적 조성물.
  9. 사람 또는 동물에게 제1항에 따른 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염을 투여함을 특징으로 하여 감염성 질환을 치료하는 방법.
  10. 항미생물체로 사용하기 위한 제1항의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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