KR900700864A - 스테레오리소그래픽 비임 프로파일링 - Google Patents

스테레오리소그래픽 비임 프로파일링

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KR900700864A
KR900700864A KR1019890702383A KR890702383A KR900700864A KR 900700864 A KR900700864 A KR 900700864A KR 1019890702383 A KR1019890702383 A KR 1019890702383A KR 890702383 A KR890702383 A KR 890702383A KR 900700864 A KR900700864 A KR 900700864A
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토마스 스펜스 스튜어트
타노프 해리
알큐스트 토마스
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원본미기재
3디 시스템즈 인코오퍼레이티드
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Abstract

내용없음

Description

스테레오리소그래픽 비임 프로파일링
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1,2 및 3도는 스테레오리소그래피의 방법을 실행하는데 이용된 기본개념을 설명하는 흐름도.

Claims (75)

  1. 비임의 소정크기 부분의 세기를 상기 비임이 측정수단에서 반사될 때 측정하는 수단 및; 상기 비임 다음의 광로에 거의 수직인 표면을 따라 상기 소정 크기부분 또는 모든 부분의 비임세기를 측정하기 위하여 상기 비임 다음의 광로로부터 상기 측정수단의 상대적 수직 변위를 변화시키는 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 비임을 프로필하는 장치.
  2. 다음 비임으 광로에 거의 수직인 표면을 따라 상기 비임의 미리 선택된 크기부분의 세기를 측정하는 단계; 및 상기 비임의 나머지 부분에 대한 측정단계를 반복하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 비임을 프로필 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 비임의 존재를 감지하는 센서수단; 비임을 위치 결정하는 주사수단; 비임 프로필 수단 및 비임이 상기 센서수단에 포인트될 때 상기 센서수단의 겉보기 위치를 포함하는 정보를 제공하는 위치 독출수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면에 비임 투사 위치를 결정하는 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제5항에 있어서,상기 비임이 전자방출 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제5항에 있어서, 상기 비임이 평행 광비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제5항에 있어서,상기 비임이 전자비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제5항에 있어서, 상기 센서수단이 전자방출에 감지되는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제5항에 있어서, 상기 센서수단이 전자방출에 감지되는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제5항에 있어서, 비임을 포지션하는 상기 주사 수단이 컴퓨터 제어하의 2개의 회전 미러로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제5항에 있어서, 비임을 포지션하는 상기 주사 수단이 2개의 선형 포지션 모터인 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 비임의 존재를 감지하는 센서수단 비임을 포지션하는 주사수단; 및 비임이 상기 센서수단에 포인트된때 상기 센서수단의 겉보기 위치를 포함하는 정보를 제공하는 비임 프로필 수단 및 위치 돌출수단을 사용하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면에 비임투사위치를 결정하는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제14항에 있어서, 상기 비임이 전자방출 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제14항에 있어서, 상기 비임이 평행 광비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제14항에 있어서, 상기 비임이 전자비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제14항에 있어서, 상기 센서수단이 전자방출에 감지되는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제14항에 있어서, 상기 센서수단이 전자방출에 감지되는 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제14항에 있어서, 비임을 포지션하는 상기 주사 수단이 컴퓨터 제어하의 2개의 회전 미러로 구성되는특징으로 하는 방법.
  22. 제14항에 있어서,비임을 포지션하는 상기 주사 수단이 2개의 선형 포지션 모터인 것을 특징으로 하는 방법.
  23. 반응비임에 응하는 적어도 하나의 센서수단; 및 비임 프로필 수단으로 구성되는 포토폴리머 양단의 반응 비임의 트레이스(trace)이 경화깊이를 결정하는 것을 특징으로 하는 장치.
  24. 비임의 비임세기 프로필을 얻는 단계; 및 상기 비임 세기 프로필에 기하여 경화깊이를 계산하는 단계로 구성되는 것을 특징으로하는 포토폴리머 양단의 반응 비임의 트레이스의 경화깊이를 결정하는 방법.
  25. 반응 비임에 응하는 적어도 하나의 센서수단; 및 비임 프로필 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면상에 반응 비임의 초점을 결정하는 장치.
  26. 비임의 비임 세기 프로필을 얻는 단계; 및 상기 비임세기 프로필에 기하여 초점을 계산하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면상 반응비임의 초점을 결정하는 방법.
  27. 비임에 응하는 적어도 하나의 센서수단; 및 비임 프로필 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 투사비임 전력측정장치.
  28. 비임의 비임세기 프로필을 얻는 단계; 및 상기 비임세기 프로필에 기하여 전력을 계산하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 투사 비임 전력측정방법.
  29. 물체를 형성하는 연속 인접박말을 결정화하기 위해 위킹 매체의 지정된 표면에 소정방식으로 동작하는 반응수단에 노출될 때 결정화할 수 있는 워킹 매체로부터 3차원 물체를 생성하기 위한 스트레오리소그래픽 장치를 측정하고 정규화하는 장치에 있어서, (a)지정표면에 의해 정해지는 평면내에 소정위치에 위치될 수 있으며, 반응수단이 상기 센서수단에 포인트될 때를 감지하는 적어도 하나의 센서수단; (b)포지션 수단 정보에 응하여 반응수단을 포지션하는 표지션수단; (c)상기 센서수단에 포인트되는 반응수단을 감지하는 상기 센서 수단에 응하여 지정된 표면에 의해 정해지는 평면내의 소정위치에 대응하는 위치수단 정보를 기억하는 메모리 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  30. 제29항에 있어서, (d)상기 위치수단 정보의 선형내삽을 실행하며, 상기 포지션수단을 관리하기 위해 중간위치 순단정보를 제공할 수 있는 프로세서 수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  31. 제30항에 있어서, 반응수단이 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  32. 제31항에 있어서, 반응수단이 전자방사 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  33. 제32항에 있어서, 반응수단이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  34. 제29항에 있어서, 워킹 매체가 포토폴리머액체인 것을 특징으로 하는 장치.
  35. 물체를 형성하는 연속 인접박막을 결정화하는 워킹매체의 지정된 표면에 소정방식으로 동작하는 반응수단에 노출될 때 결정화될 수 있는 워킹 매체로부터 3차원 물체를 생성하는 스트레오리소 그래픽 장치를 측정하고 정규화하는 방법에 있어서, (a)지정된 표면에 의해 정해지는 평면내의 소정위치에 적어도 하나의 센서수단을 포지션하는 단계; (b)상기 센서수단에 반응수단을 포지션하는 단계; 및 (c)반응수단이 상기 센서수단에 포인트되는 시점에서 상기 센서 수단이 위치에 대응하는 위치수단 정보를 메모리 수단에 기록하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  36. 제35항에 있어서, (d)반응수단이 상기 센서수단에 포인트되는 시점에서 상기 센서수단의 위치에 대응하는 상기 위치수단 정보의 선행내삽에 응하여 반응수단을 포지션하는 단계를 더포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  37. 제36항에 있어서, 반응수단이 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  38. 제37항에 있어서, 반응수단이 전자방출 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  39. 제38항에 있어서, 반응수단이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  40. 제36항에 있어서, 워킹매체가 포토폴리머 액체인 것을 특징으로 하는 방법.
  41. 물체를 형성하는 연속 인접박막을 결정화하는 워킹매체의 지정된 표면에 소정방식으로 동작하는 반응수단에 노출될 때 결정화될 수 있는 유체매체로부터 3차원 물체를 생성하는 스트레오리소그래픽 장치를 측정하고 정규화하는 방법에 있어서, (a)지정된 표면에 대응하는 평면내의 소정위치에 적어도 센서를 포지션하는 단계; (b)센서에 의해 검출될 수 있는 반응수단을 주사하는 단계; (c)센서에 의해 반응수단이 검출될 때 반응수단의 위치정보를 발생하는 단계; (d) 센서 각각에 대한 반응수단의 위치정보와 센서의 소정위치를 비교한 단계; 및 (e)물체를 구성하기 위한 반응수단을 포지션하는데 사용되는 반응수단 위치정보 대 소정 센서위치의 표를 발생하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  42. 제41항에 있어서, 상기 유체매체는 액체 포토폴리머 가능 수지인 것을 특징으로 하는 방법.
  43. 제41항에 있어서, 상기 반응수단이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  44. 비임과 접촉할 때 결정화를 할 수 있는 매체에 반응비임을 공급함으로써 3차원 파트를 생성하는 장치를 측정하는 장치에 있어서, 비임이 통과될 수 있는 다소 소정 패스를 갖는 측정 플레이트: 상기 측정 플레이트는 비임을 검출하는 적어도 하나의 센서수단을 포함하며, 상기 센서수단은 상기 소정패스중 단하나를 통과하는 비임을 표시하는 신호를 발생할 수 있으며; 상기 소정 패스중 특정된 것을 따라 전지하는 비임에 대응하는 비임위치 정보를 기록하는 기억수단으로 구성도어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  45. 물체를 형성하는 연속 인접 고체박막을 제공하는 유체메체의 지정된 표면에 소정방식으로 동작하는 반응 수단에 노출될 때 결정화될 수 잇는 유체 메체로부터 스트레오리소그래픽에 의해 3차원 물체의 생성에 있어서 드리프트를 정정하는 장치에 있어서, (a)유체매체의 지정된 표면에 관하여 고정된 소정위치에 장착되어 있으며, 반응수단의 인가를 검출할 수 잇는 적어도 하나의 센서; (b)센서는 반응수단을 검출하고 센서의 겉보기 위치에 대응하는 것과 동일한 것에 대한 위치 정보를 공급하도록 반응수단을 관리하는 포지션 수단; (c)주어진 시점에서 포지션 수단으로부터 얻어진 포지션 정보를 기준시점과 후의 시점에서 취하여진 센서에 대한 포지션 정보간의 드리프트를 결정하기 위하여 초기시점에서 취해진 센서에서 반응수단을 관리하는 기준위치 정보와 비교하는 수단; 및 (d)드리프트에 응하여 포지션의 정보 테이블을 정정하는 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  46. 물체를 형성하는 연속 인접 고체박막을 결정화하는 유체매체의 지정된 표면에 소정방식으로 동작하는 반응수단에 노출될때 결정화될 수 있는 유체매체로부터 3차원 물체를 생성하는 스트레오리소그래픽 장치에서 드리프트를 정정하는 방법에 있어서, (a)기술시점에서, 유체메체의 지정된 표면에 관하여 고정된 소정위치에 정착된 1 또는 2이상의 센서의 의해 반응수단을 검출케하는 반응수단 포지션 정보를 결정하는 단계; (b)드리프트가 정정되는 후의 시점에서 단계(a)를 실행하는 단계; (c)상기 후시점에서 반응수단으로부터의 포지션 정보를 드리프트를 결정하는 기준시점과 비교하는 단계; 및 (d)물체의 박막을 그림에 있어서 반응수단으로 보내는 위치정보를 정정하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  47. 파트를 형성하는 인접한 고체박막을 제공하는 매체의 지정된 표면에 미리 선택된 방식으로 동작하는 반응수단에 노출될 때 결정화할수 있는 매체로부터 파트의 스테레오리소그래픽 생성에서 드리프트에러를 정정하는 장치에 있어서, (a)매체의 지정된 표면에 관하여 고정된 소정의 위치에 장착되어 있으며, 반응수단을 상기 센서수단에 공급하는 것을 검출하는 적어도 하나의 센서수단; (b)반응수단을 인가하며, 반응수단을 상기 센서수단에 인가하여 드리프트 정정에 의해 조정될 수 있는 포지션 수단; (c)상기 센서수단의 현재 겉보기 위치를 포함하는 현재 센서위치 정보를 제공할 수 있는 전류센서 위치 출력수단; (d)상기 센서수단이 종래 겉보기 위치를 포함하는 과거 센서위치 정보를 포함할 수 있는 기억수단; 및(e)상기 드리프트 정정을 결정하는 수단을 포함하는 상기 현재 센서위치 정보와 상기 과거센서 위치정보를 비교하는 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  48. 제47항에 있어서, 반응수단이 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  49. 제48항에 있어서, 반응수단이 전자방출 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  50. 제49항에 있어서, 상기 전자방출 비임이 광비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  51. 제50항에 있어서, 상기 광비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  52. 제48항에 있어서, 상기 비임이 전자 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  53. 제47항에 있어서, 상기 매체가 포토폴리머 가능한 수지인 것을 특징으로 하는 장치.
  54. 제47항에 있어서, 상기 매체가 분말인 것을 특징으로 하는 장치.
  55. 제47항에 있어서, 상기 매체가 액체인 것을 특징으로 하는 장치.
  56. 파트를 형성하는 인점된 고체박막을 제공하는 매체의 지정된 표면에 미리 선택된 방식으로 동작하는 반응수단에 노출될 때 결정화될 수 있는 매체로부터 파트의 스트레오리소그래픽 생성에서 드리프트 에러를 정정하는 방법에 있어서, (a)기준시점에서, 매체의 지정된 표면에 관하여 고정된 소정위치에 장착되며, 반응수단이 센서수단에 공급되었는지를 검출할 수 있는 적어도 하나의 센서에 반응수단을 공급하게 하고, 기억수단에 대응하는 위치정보를 결정하고 기억하는 단계; (b)상기 기준시점보다 더 늦은 시점에서 단계(a)를 실행하고 후에 대응위치 정보를 결정하는 단계; (c)상기 대응위치 정보와 상기 후 대응위치 정보를 비교함으로써 드리프트 에러 정정을 결정하는 단계 및 (d)반응 수단의 포지션을 정정하기 위해 상기 드리프트 에러정정을 이용하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  57. 제56항에 있어서, 반응수단이 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  58. 제57항에 있어서, 반응수단이 전자방출 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  59. 제58항에 있어서, 상기 전자방출 비임이 광비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  60. 제59항에 있어서, 상기 광비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  61. 제57항에 있어서, 상기 비임이 전자 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  62. 제56항에 있어서, 상기 매체가 포토폴리머 가능한 수지인 것을 특징으로 하는 방법.
  63. 제56항에 있어서, 상기 매체가 액체인 것을 특징으로 하는 방법.
  64. 비임 포지션 수단에 의하여 표면에 임의의 위치에 있어서의 드리프트를 정정하는 장치에 있어서, (a)비임을 상기 센서에 인가함을 검출하고 표면에 관해 고정된 소정위치에 장착된 적어도 하나의 센서수단; (b)비임을 상기 센서수단에 공급할 수 있는 비임 포지션 수단; (c)드리프트 정정에 의하여 조정될 수 있는 비임 포지션 수단;(d)상기 센서수단의 현재 겉보기 위치를 포함하는 현재 센서위치 정보를 제공할 수 있는 현재 센서위치 출력수단; (e)상기 센서수단의 종래 겉보기 위치를 포함하는 과거센서위치 정보를 포함할 수 있는 기억수단; 및 (f)상기 드리프트 정정을 결정하는 수단을 포함하며 상기 현재 센서 위치정보 및 상기 과거 센서위치 정보를 비교하는 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  65. 제64항에 있어서, 비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  66. 제64항에 있어서, 비임이 전자비임인 것을 특징으로 하는 장치.
  67. 제64항에 잇어서 비임이 전자 방사 비임이며, 표면이 비임의 인가에 의해 신터(sinter)될 수 있는 분말 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  68. 제64항에 있어서, 비임이 전자 방사 비임이며, 표면이 비임의 인가에 의해 용해될 수 있는 분말금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  69. 비임 포지션 수단에 의해 표면에 비임을 포지션함에 있어 드리프트를 정정하는 방법에 있어서, a)기준시점에서 표면에 대하여 고정된 소정위치에 장착되며, 비임을 이것에 공급하는 것을 검출하는 적어도 하나의 센서수단에 비임을 기하도록 하며, 상기 기준심에서 상기 센서수단의 겉보기 위치에 대응하는 메모리 수단에 위치 정보를 기억할가를 결정하는 단계; b)상기 기준시점보다 늦은 시점에서 상기 단계(a)를 실행하며, 상기 기준시점보다 더 늦은 상기 시점에서 상기 센서수단의 겉보기 위치에 대응하는 후위치 정보를 결정하는 단계; c)상기 위치정보 및 상기 후위치 정보를 비교함으로써 드리프트에러 정정을 결정하는 단계; 및 d)상기 드리프트 에러 정정을 이용하여 비임 위치수단에 의해 비임의 포지션을 보정하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 단계.
  70. 제69항에 있어서, 비임이 레이저 비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  71. 제69항에 있어서, 비임이 전자비임인 것을 특징으로 하는 방법.
  72. 제69항에 있어서, 비임이 전자 방사 비임이며, 표면이 비임을 인가함으로써 신터될 수 있는 파우더 금속으로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  73. 제69하에 있어서, 비임이 레이저 비임이며, 표면이 비임을 인가함으로써 신터될 수 있는 파우퍼 물질을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
  74. 제69항에 있어서, 비임이 레이저 비임이며, 표면이 비임을 공급함으로써 용융될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  75. 제69항에 있어서, 비임이 레이저 비임이고 표면이 비임을 공급함으로써 어베이트될 수 있는 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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