KR880000215A - 시이트(sheet)상 물체의 플라즈마 처리장치 - Google Patents

시이트(sheet)상 물체의 플라즈마 처리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR880000215A
KR880000215A KR870004997A KR870004997A KR880000215A KR 880000215 A KR880000215 A KR 880000215A KR 870004997 A KR870004997 A KR 870004997A KR 870004997 A KR870004997 A KR 870004997A KR 880000215 A KR880000215 A KR 880000215A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
sheet
plasma processing
processing apparatus
discharge electrode
discharge
Prior art date
Application number
KR870004997A
Other languages
English (en)
Inventor
모도야스 고야마
히데도시 데라오까
다까오 아까끼
신지 야마구찌
이쓰기 사까모도
아끼라 낭바
이사오 오까가끼
Original Assignee
나까므라 히사오
가부시끼 가이샤 구라래
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP13406786A external-priority patent/JPS62289233A/ja
Priority claimed from JP13557986A external-priority patent/JPS62294437A/ja
Application filed by 나까므라 히사오, 가부시끼 가이샤 구라래 filed Critical 나까므라 히사오
Publication of KR880000215A publication Critical patent/KR880000215A/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/10—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by electric discharge treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

시이트(sheet)상 물체의 플라즈마 처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 이발명의 제 1 실시예를 표시하는 개량 구성도. 제 2 도는 제 1 도의 종단면도. 제 3 도는 회전축을 명시하는 우단부의 종단면도.

Claims (13)

  1. 진공용기를 관통하는 회전축에 고정되어서 회전하며 그 외주면에 시이트상 물체를 따라가게하는 드럼형상의 제 1 방전전극과, 이 제 1 방전전극에 대향하는 제 2 방전전극을 진공용기 내부에 설치한 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치로서 상기 진공용기가 상기 양방전전극을 접속하는 전기회로로부터 전기적으로 절연되고 상기 제 1 방전전극에서의드럼원통부와 상기 회전축간에 양자간을 전기적으로 절연하는 절연부재가 설치되어 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기회로중 제 1 방전전극에 접근되는 도체가 상기 회전축 내에 삽입되어 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 방전전극이 냉각매체가 유통하는 냉각통로를 구비하고 이 냉각통로가 상기 회전축내에 삽입된 상기도체를 냉각하는 냉각매체의 냉각통로에 직렬로 접속되어 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 방전전극이 냉각매체가 유통하는 냉각통로를 구비하고 이 냉각 통로가 상기 회전축내부에 설치된 냉각통로에 절연체로된 연결관을 통하여 연통되어 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 방전극은 그 드럼의 내부공간이 플라즈마 처리가스를 함유하는 가스공급원에 연결되어서 상기 진공용기의 내부공간 압력보다도 높은 압력에 유지되어 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 방전극은 그 드럼의 내부공간이 대기에 접속되어 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 방전전극은 그 드럼의 내부공간이 밀폐되어있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 방전전극은 그 측면부가 절연부재로 덮혀있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 2제방전전극은 그것을 구성하는 복수개의 봉전극이 서로 평행하는 동시에 제 1 드럼상 전극의 외주면을 덮는 가상원통 주면상에 연이어 위치하고 각 봉전전극의 양단에서 지지부재에 의하여 지지한 농형구조로 구성되어 절연재를 통하여 진공용기내에 지지되어 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    농형구조를 구성하는 봉전극이 그 내부에 냉각매체가 통과하는 냉매통로가 있으며 지지부재가 상기 각 봉전극의 냉매통로의 각 입구측 및 각 출구측을 각각 병렬로 연결하는 냉각로를 구성하고 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  11. 제 9 항에 있어서,
    농형구조를 구성하는 봉전극이 그 내부에 냉각매체가 통과하는 냉매통로가 있으며 지지부재가 상기 각봉전극의 냉매통로를 순차직렬로 연결하는 냉각로를 구성하고 있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  12. 제11항에 있어서,
    각 봉전극의 냉매통로에 연통하는 냉매의 공급구 및 배출구가 지지부재에 치설되어있는 시이트상 물체의 플라즈마 처리장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 공급구 및 배출구는 진공용기를 관통하여 설치된 공급. 배출관에 절연재료로된 접속관을 통하여 접속되어 있는 시이트상물체의 플라즈마 처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR870004997A 1986-06-10 1987-05-20 시이트(sheet)상 물체의 플라즈마 처리장치 KR880000215A (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP134067 1986-06-10
JP13406786A JPS62289233A (ja) 1986-06-10 1986-06-10 シ−ト状物のプラズマ処理装置
JP135579 1986-06-11
JP13557986A JPS62294437A (ja) 1986-06-11 1986-06-11 シ−ト状物のプラズマ処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR880000215A true KR880000215A (ko) 1988-03-24

Family

ID=26468253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR870004997A KR880000215A (ko) 1986-06-10 1987-05-20 시이트(sheet)상 물체의 플라즈마 처리장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4803332A (ko)
EP (1) EP0249198B1 (ko)
KR (1) KR880000215A (ko)
CN (1) CN1015614B (ko)
DE (1) DE3788160T2 (ko)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3629000C1 (de) * 1986-08-27 1987-10-29 Nukem Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Ausbilden einer Schicht durch plasmachemischen Prozess
DE3713178A1 (de) * 1987-04-17 1988-11-03 Bayer Ag Verfahren zur herstellung eines verbundsystems aus einem gummielastischen material und einer polyurethanschaumstoff-schicht
US4912296A (en) * 1988-11-14 1990-03-27 Schlienger Max P Rotatable plasma torch
JP3206095B2 (ja) * 1991-04-12 2001-09-04 株式会社ブリヂストン 表面処理方法及びその装置
US5391855A (en) * 1991-08-01 1995-02-21 Komoto Tech, Inc. Apparatus for atmospheric plasma treatment of a sheet-like structure
US5399832A (en) * 1991-08-05 1995-03-21 Kimoto Co., Ltd. Process and apparatus for using atmospheric-pressure plasma reactions
JP3204801B2 (ja) * 1993-06-18 2001-09-04 富士写真フイルム株式会社 真空グロー放電処理装置及び処理方法
US5653811A (en) 1995-07-19 1997-08-05 Chan; Chung System for the plasma treatment of large area substrates
US5945012A (en) * 1997-02-18 1999-08-31 Silicon Genesis Corporation Tumbling barrel plasma processor
WO1999004411A1 (en) * 1997-07-14 1999-01-28 The University Of Tennessee Research Corporation Plasma treater systems and treatment methods
US6106659A (en) * 1997-07-14 2000-08-22 The University Of Tennessee Research Corporation Treater systems and methods for generating moderate-to-high-pressure plasma discharges for treating materials and related treated materials
US6274459B1 (en) 1998-02-17 2001-08-14 Silicon Genesis Corporation Method for non mass selected ion implant profile control
US6146462A (en) * 1998-05-08 2000-11-14 Astenjohnson, Inc. Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same
US6458723B1 (en) 1999-06-24 2002-10-01 Silicon Genesis Corporation High temperature implant apparatus
KR100320197B1 (ko) * 1999-08-21 2002-01-10 구자홍 직류전원 플라즈마중합 연속처리장치
JP2005235448A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Pearl Kogyo Co Ltd プラズマ処理方法及びその装置
US7666766B2 (en) * 2005-09-27 2010-02-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film formation apparatus, method for forming film, and method for manufacturing photoelectric conversion device
US20070204957A1 (en) * 2006-03-01 2007-09-06 Braymen Steven D Plasma processing of large workpieces
EP2198675B1 (en) * 2007-09-07 2013-03-13 Philips Intellectual Property & Standards GmbH Electrode device for gas discharge sources and method of operating a gas discharge source having this electrode device
WO2009031059A1 (en) * 2007-09-07 2009-03-12 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Rotating wheel electrode device for gas discharge sources comprising wheel cover for high power operation
US8152954B2 (en) * 2007-10-12 2012-04-10 Lam Research Corporation Showerhead electrode assemblies and plasma processing chambers incorporating the same
KR101268242B1 (ko) * 2010-03-08 2013-05-31 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 표면 처리 장치
CN106961779B (zh) * 2017-05-11 2024-02-02 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种带有定转电极组的等离子体引发聚合装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1327939A (fr) * 1962-04-13 1963-05-24 Commissariat Energie Atomique Procédé de décapage et appareil de mise en oeuvre dudit procédé
US3308045A (en) * 1962-10-16 1967-03-07 Monsanto Co Process and apparatus for treating plastics
US3502845A (en) * 1964-08-26 1970-03-24 Grace W R & Co Apparatus for perforating film by electrical discharge
US3477902A (en) * 1965-10-14 1969-11-11 Radiation Res Corp Process for making tires by exposure to an ionized gas and treatment with resorcinol-formaldehyde/latex composition and the product
DE2556228A1 (de) * 1975-12-13 1977-06-16 Hoechst Ag Coronaeinrichtung
US3998718A (en) * 1976-02-18 1976-12-21 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Ion milling apparatus
US4292384A (en) * 1977-09-30 1981-09-29 Horizons Research Incorporated Gaseous plasma developing and etching process employing low voltage DC generation
US4334144A (en) * 1980-04-07 1982-06-08 Ezio Ferrarini Corona effect surface treatment apparatus for sheet
JPS57195750A (en) * 1981-05-29 1982-12-01 Shin Etsu Chem Co Ltd Vacuum treatment apparatus
US4507539A (en) * 1982-01-06 1985-03-26 Sando Iron Works Co., Ltd. Method for continuous treatment of a cloth with the use of low-temperature plasma and an apparatus therefor
US4511419A (en) * 1982-04-23 1985-04-16 Firma Erwin Kampf Gmbh & Co. Method and device for laminating foils
US4456570A (en) * 1982-07-26 1984-06-26 Ethyl Corporation Treatment of perforated film
KR890002565B1 (ko) * 1982-10-08 1989-07-18 도오요오 보오세끼 가부시끼가이샤 고접착성 폴리올레핀 성형물의 제조방법
JPS5986634A (ja) * 1982-11-10 1984-05-18 Shin Etsu Chem Co Ltd プラスチツク成形品の表面改質方法
JPS60149441A (ja) * 1984-01-17 1985-08-06 Kuraray Co Ltd プラズマ処理方法
JPS60151032A (ja) * 1984-01-20 1985-08-08 Hitachi Ltd 真空連続処理装置
US4659899A (en) * 1984-10-24 1987-04-21 The Perkin-Elmer Corporation Vacuum-compatible air-cooled plasma device

Also Published As

Publication number Publication date
US4803332A (en) 1989-02-07
DE3788160T2 (de) 1994-03-31
CN1015614B (zh) 1992-02-26
EP0249198A3 (en) 1990-03-14
DE3788160D1 (de) 1993-12-23
EP0249198B1 (en) 1993-11-18
EP0249198A2 (en) 1987-12-16
CN87104097A (zh) 1988-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR880000215A (ko) 시이트(sheet)상 물체의 플라즈마 처리장치
US5008087A (en) Ozone generator apparatus and method
KR870010942A (ko) 플라즈마표면처리장치 및 방법
KR910012328A (ko) 플라즈마 처리장치
US10958191B2 (en) Electrostatic motor
RU97116199A (ru) Измерительное устройство для измерения скоростных и статических давлений на летательном аппарате
US1255973A (en) Engine.
KR920002473A (ko) 유체를 처리하기 위한 방법 및 장치
FR2428936A1 (fr) Dispositif de mise sous vide destine a produire un vide isolant autour de l'enroulement supraconducteur d'un rotor
NO175700C (no) Fremgangsmåte og elektrodesystem for oppvarming av media som strömmer gjennom et isolert rör
US2561739A (en) Rotary welding transformer structure
KR860000405A (ko) 플라즈마 처리 방법 및 장치
ES415916A1 (es) Un aparato electrico que utiliza refrigerante fluido para un miembro rotativo alrededor de un eje de rotacion.
US3550970A (en) Leakage-free sealing
GB1279146A (en) Plasma generating apparatus
RU2116959C1 (ru) Генератор озона
JPH11157808A (ja) オゾン発生装置
RU2159735C1 (ru) Генератор озона
US2029098A (en) X-ray tube mount
JPS5826799B2 (ja) 誘導加熱炉
SU947029A1 (ru) Электрогазодинамическое устройство
SU482498A1 (ru) Устройство дл жидкостной обработки шкур
JPS62294437A (ja) シ−ト状物のプラズマ処理装置
KR890017781A (ko) 드라이에칭장치
RU93010909A (ru) Электродный водонагреватель

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
J2X1 Appeal (before the patent court)

Free format text: APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL