KR850000819A - 액상 이산화 황 중에서의 리튬염의 용해도 조절방법 - Google Patents

액상 이산화 황 중에서의 리튬염의 용해도 조절방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

액상 이산화 황 중에서의 리튬염의 용해도 조절방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (20)

  1. 용해도 조절부가제 부재하의 용매시스템에 용해되는 양보다 과량의 리튬염;과 리튬염의 용해도를 증가시키기에 효과적인 양의, 금속양이온 착화합물, 4급암모늄양이온 및 유기포스포늄양이온 중에서 선택한 양이온을 최소한 하나 함유하는 염으로 이루어진 용해도 조절부가제를, 이산화황을 주성분으로 하는 비-수성용매 시스템에 용해시킴을 특징으로 하여, 비-수성용매 시스템중에서의 리튬염의 용해도를 조절하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 기술한 리튬염의 양이 용해도 조절부가제 존재하에서 용매시스템을 거의 포화시키기에 효과적인 양인 방법.
  3. 제1항에 있어서, 기술한 용해도 조절부가제의 양이 리튬염의 용해도를 최소한 2배로 하기에 효과적인 양인 방법.
  4. 제1항에 있어서, 기술한 용매시스템이 대체로 순수한 이산화황인 방법.
  5. 제1항에 있어서, 기술한 용해도 조절부가제가 사용된 온도 및 압력에서 리터당 최소한 약 0.1당량의 기술한 용매시스템중에서의 용해도를 갖는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 기술한 리튬염 및 용해도 조절부가제가 통상의 음이온을 함유하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 기술한 양이온을 Mn(2,2'-디피리딜)3 ++및 Mn(1,10-페난트롤린)3 ++중에서 선택하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 기술한 용해도 조절부가제가 다음 일반식의 4급암모늄인 방법.
    상기 식에서, R1,R2,R3및 R4는 각기 탄소수 1 내지 20의 하이드로카빌그룹 중에서 선택하고, X-는 퍼클로레이트, 테트라플루오로보레이트, 헥사플루오로포스페이트, 디티오나이트, 설페이트, 포스페이트, 클로라이드, 브로마이드, 요다이드 및 플루오라이드 중에서 선택한다.
  9. 제8항에 있어서, R1,R2,R3및 R4는 각기 탄소수 1 내지 10의 알킬그룹중에서 선택하고, X-는 퍼클로레이트, 테트라플루오로보레이트, 헥사플루오로포스페이트, 디티오나이트 및 설페이트 중에서 선택하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 기술한 용해도 조절부가제가 다음 일반식의 포스포늄염인 방법.
    상기 식에서, R1,R2,R3및 R4는 각기 탄소수 1 내지 20의 하이드로카빌그룹중에서 선택하고, X-는 퍼클로레이트, 테트라플루오로보레이트, 헥사플루오로포스페이트, 디티오나이트, 설페이트, 포스페이트, 클로라이드, 브로마이드, 요다이드 및 플루오로라이드중에서 선택한다.
  11. 제1항에 있어서, 기술한 리튬염을 리튬 퍼클로레이트, 리튬 디티오나이트, 리튬 설페이트, 리튬 테트라플루오로보레이트 및 리튬 헥사플루오로포스페이트중에서 선택하는 방법.
  12. 용해도 조절부가제 부재하의 용매시스템에 용해되는 양보다 과량의 리튬염; 과 리튬염의 용해도를 증가시키기에 효과적인 양의, 금속양이온 착화합물, 4급암모늄양이온 및 유기포스포늄양이온 중에서 선택한 양이온을 최소한 하나 함유하는 염으로 이루어진 용해도 조절부가제를, 이산화황을 주성분으로 하는 비-수성용매 시스템에 용해시켜 제조한 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 기술한 리튬염의 양이 용해도 조절부가제 존재하에서 용매시스템을 거의 포화시키기에 효과적인 양인 조성물.
  14. 제12항에 있어서, 기술한 용해도 조절부가제의 양이 리튬염의 용해도를 최소 2배로 하기에 효과적인 양인 조성물.
  15. 제12항에 있어서, 기술한 용매시스템이 대체로 순수한 이산화황인 조성물.
  16. 제12항에 있어서, 기술한 양이온을 Mn(2,2'-디피리딜)3 ++및 Mn(1,10-페난트롤린)3 ++중에서 선택한 조성물.
  17. 제12항에 있어서, 기술한 용해도 조절부가제가 다음 일반식의 4급암모늄인 조성물.
    상기 식에서, R1,R2,R3및 R4는 각기 탄소수 1 내지 20의 하이드로카빌그룹 중에서 선택하고, X-는 퍼클로레이트, 테트라플루오로보레이트, 헥사플루오로포스페이트, 디티오나이트, 설페이트, 포스페이트, 클로라이드, 브로마이드, 요다이드 및 플루오라이드 중에서 선택한다.
  18. 제12항에 있어서, 기술한 용해도 조절부가제가 다음 일반식의 포스포늄염인 조성물.
    상기 식에서, R1,R2,R3및 R4는 각기 탄소수 1 내지 20의 하이드로카빌그룹에서 선택하고 X-는 퍼클로레이트, 테트라플루오로보레이트, 헥사플루오로포스페이트, 디티오나이트, 설페이트, 포스페이트, 클로라이드, 브로마이드, 요다이드 및 플루오라이드 중에서 선택한다.
  19. 제12항에 있어서, 기술한 리튬염을 리튬 퍼클로레이트, 리튬 디티오나이트, 리튬 테트라플루오로보레이트, 및 리튬헥사플루오로포스페이트 중에서 선택한 조성물.
  20. 용해도 조절부가제 부재하의 용매시스템에 용해되는 양보다 과량의 리튬염; 과 리튬염의 용해도를 증가시키기에 효과적이 양의 금속양이온 착화합물, 4급암모늄양이온 및 유기포스포늄 양이온 중에서 선택한 양이온을 최소한 하나 함유하는 염으로 이루어진 용해도 조절부가제를, 이산화황을 주성분으로 하는 비-수성용매 시스템에 용해시켜 제조한 조성물을 함유하는 전해질, 리튬음극 및 양극집전장치로 구성된 전기화학 전지.
    ※참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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