KR840008844A - 광중합성 라미레이트 - Google Patents

광중합성 라미레이트 Download PDF

Info

Publication number
KR840008844A
KR840008844A KR1019840002472A KR840002472A KR840008844A KR 840008844 A KR840008844 A KR 840008844A KR 1019840002472 A KR1019840002472 A KR 1019840002472A KR 840002472 A KR840002472 A KR 840002472A KR 840008844 A KR840008844 A KR 840008844A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
laminate
integer
weight
layer
photopolymerizable
Prior art date
Application number
KR1019840002472A
Other languages
English (en)
Other versions
KR860001398B1 (ko
Inventor
히데오(외 2) 아이
Original Assignee
세고마오미
아사히 가세이 고교 가부시끼 가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=13718455&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR840008844(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 세고마오미, 아사히 가세이 고교 가부시끼 가이샤 filed Critical 세고마오미
Publication of KR840008844A publication Critical patent/KR840008844A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR860001398B1 publication Critical patent/KR860001398B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/025—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

광중합성 라미레이트
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (14)

  1. 광중합성층의 전체 무게를 기준으로 하여, 비닐 중합체 또는 비닐 공중합체로 이루어진 결합제 5 내지 95무게％, 다음 일반식(Ａ),(Ｂ) 및(Ｃ)로 표시되는 광중합성 불포화 화합물중 최소한 한 화합물 적어도 50무게％가 함유된 단량체 성분 95 내지 5무게％, 및 광중합 개시제 0.01 내지 30무게％가 함유되어 있는 광중합성층 및 지지층으로 구성됨을 특징으로 하는 광중합성 라미네이트:
    위의 일반식에서,n은 0 또는 그이상의 정수이며;m은 3 내지 10의 정수이며; R1은 수소 또는 메틸이며; X는 2가의 C1ㅡ8지방족 탄화수소 그룹,
    (여기서 R3는 C1-4알킬그룹이고,p는 1내지 10의 정수이며q및r은 각각 1내지 4의 정수임)이며; R2는 C1-6알킬그룹 또는 CH2-O-R4는 페닐, 아릴그룹 또는 C1-6알킬그룹임)이며; Y는 2가의 C2-6탄화수수 그룹이며; Z는
    또는
    (여기서t는 2내지 10의 정수이고,x는 1내지 30의 정수이며, Z1은
    또는
    임)이며 ;
    W는[여기서 W1은
    (여기서 W2는 3가의 C3-10알킬그룹임)또는
    임]이다.
  2. 제1항에 있어서, X가(여기서k는 1내지 6의 정수임)인 라미네이트.
  3. 제1항에 있어서, Y가(여기서s는 2내지 8의 정수임.
    중에 선택된 라미네이트.
  4. 제1항에 있어서, R2가 탄소수 1 내지 4인 알칼인 라미네이트.
  5. 제1항에 있어서, R2가 메탈인 라미네이트.
  6. 제1항에 있어서, Z가인 라미네이트.
  7. 제1항에 있어서, W1이인 라미네이트.
  8. 제1항에 있어서, 광중합성층에 비닐 중합체 또는 비닐 중합체 또는 비닐 공중합체 20 내지 80무게％ 단량체 성분 80 내지 20무게％ 및 광중합 개시제 0.1 내지 15무게％가 함유된 라미네이트.
  9. 제1항에 있어서, 지지층이 활성광을 거의 전할수 있는 투명필름인 라미네이트.
  10. 제1항에 있어서, 지지층이 광중합성층을 용해 또는 분산시킬 수 있는 용매에 용해 또는 분산시킬수 있는 물질인 라미네이트.
  11. 제1항에 있어서, 광중합성층의 두께가 5㎛ 내지 150㎛인 라미네이트.
  12. 제1항에 있어서, 결합제가 다음 일반식(Ｄ)로 표시되는 단량체의 중합체 또는 공중합체인 라미네이트:
    위의 일반식에서, V1은 할로겐 또는 메틸이고; V2는 페닐(여기서 R5는 수소 또는 탄소수 1내지 10인 알킬그룹임),또는 비닐임.
  13. 제1항에 있어서, 결합제의 무게 평균 분자량이 20,000 내지 500,000인 라미네이트.
  14. 제1항에 있어서, 보호층이 광중 합성층의 표면에 존재하는 라미네이트.
    ※ 참고사항 : 최초출원내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019840002472A 1983-05-09 1984-05-07 광중합성 라미레이트 KR860001398B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP83-80445 1983-05-09
JP80445 1983-05-09
JP58080445A JPS59204837A (ja) 1983-05-09 1983-05-09 光重合性積層体及びそれを用いたレジスト像形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR840008844A true KR840008844A (ko) 1984-12-19
KR860001398B1 KR860001398B1 (ko) 1986-09-22

Family

ID=13718455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019840002472A KR860001398B1 (ko) 1983-05-09 1984-05-07 광중합성 라미레이트

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4702997A (ko)
EP (1) EP0125862B1 (ko)
JP (1) JPS59204837A (ko)
KR (1) KR860001398B1 (ko)
AT (1) ATE36416T1 (ko)
DE (1) DE3473357D1 (ko)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59197401A (ja) * 1983-04-26 1984-11-09 Nippon Oil & Fats Co Ltd 光重合開始剤
DE3588111T2 (de) * 1985-06-29 1996-10-31 Asahi Chem Res Lab Kunststoffzusammensetzung für Lötschutztinte
JPS62290705A (ja) * 1986-06-10 1987-12-17 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
JP2548016B2 (ja) * 1986-09-09 1996-10-30 旭化成工業株式会社 光重合性積層体
US5019482A (en) * 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
JP2690494B2 (ja) * 1988-03-04 1997-12-10 旭化成工業株式会社 光レジスト組成物
JP2644898B2 (ja) * 1989-11-16 1997-08-25 旭化成工業株式会社 レリーフ形成用感光性樹脂組成物
JP2977265B2 (ja) * 1990-11-19 1999-11-15 旭化成工業株式会社 感光性エラストマー構成体
DE4129284A1 (de) * 1991-09-03 1993-03-04 Agfa Gevaert Ag Bilderzeugungselement mit einem fotopolymerisierbaren monomer
EP0545081B1 (en) * 1991-11-01 1998-12-23 MacDermid Imaging Technology Inc. Carboxyl-containing plasticizers in dry-film photopolymerizable compositions
TW418346B (en) * 1993-03-05 2001-01-11 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerisable compositions containing tetraacrylates
TW424172B (en) * 1995-04-19 2001-03-01 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
US6207347B1 (en) * 1998-05-29 2001-03-27 Nichigo-Morton Co. Ltd. Photoimageable composition having improved flexibility
DE10345903B4 (de) * 2003-06-25 2012-05-31 Daimler Ag Reaktive thermisch oder kombiniert thermisch und UV-initiiert härtbare Lacke, deren Verwendung sowie Verfahren zu deren Härtung
WO2005041987A1 (en) * 2003-10-29 2005-05-12 Gentis, Inc. Polymerizable emulsions for tissue engineering

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4088498A (en) * 1970-12-28 1978-05-09 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable copying composition
DE2064079C2 (de) * 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2361041C3 (de) * 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4296196A (en) * 1978-05-20 1981-10-20 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable mixture in a transfer element
DE2822190A1 (de) * 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3136818C2 (de) * 1980-09-19 1990-08-02 Hitachi Chemical Co., Ltd., Tokio/Tokyo Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske
JPS5764734A (en) * 1980-10-08 1982-04-20 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element
DE3048502A1 (de) * 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4438190A (en) * 1981-03-04 1984-03-20 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition containing unsaturated monomers and unsaturated phosphates

Also Published As

Publication number Publication date
KR860001398B1 (ko) 1986-09-22
ATE36416T1 (de) 1988-08-15
DE3473357D1 (de) 1988-09-15
EP0125862B1 (en) 1988-08-10
EP0125862A3 (en) 1985-05-08
JPS59204837A (ja) 1984-11-20
US4702997A (en) 1987-10-27
EP0125862A2 (en) 1984-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR840008844A (ko) 광중합성 라미레이트
KR920004450A (ko) 광중합성 조성물 및 이 조성물을 사용하여 제조한 광중합성 기록물질
KR890000614A (ko) 방오용 페인트
KR960010690A (ko) 올레핀 중합 촉매 및 올레핀 중합 촉매방법
KR930021588A (ko) 폴리스티렌 기제 광내식막 물질
EP0862068A3 (en) Plastic articles for medical use
KR970076084A (ko) 파지티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 반도체 장치
JPS6445406A (en) Polymerization of ethylene
KR900011793A (ko) 올레핀 중합용 촉매
KR880007665A (ko) 열가소성 수지 조성물
KR910014411A (ko) (메트)아크릴레이트 중합체를 기본으로 하는 uv-가교 결합성 물질
KR840002116A (ko) 감광성 수지조성물 및 감광성 수지조성물 적층체
SE8000541L (sv) Formmassa pa basis av en polyester och innehallande polymerisat och sampolymerisat pa basis av akrylater
KR900009935A (ko) 액정 조성물
JPS5678834A (en) Photographic sensitive material
KR930000545A (ko) 올레핀 중합용 촉매, 그 촉매를 사용하는 올레핀 중합방법 및 그 촉매용으로 사용할 수 있는 천이금속화합물
KR910003587A (ko) 자기 기록 소자
KR920009872A (ko) N-치환된 아크릴아미드 공중합체
KR910016775A (ko) 방향족비닐화합물 중합용촉매 및 방향족비닐화합물 중합체의 제조방법
KR880004728A (ko) 광경화성 적층판
KR880000823A (ko) 광중합성 조성물
KR870007447A (ko) 유기금속중합체
KR960017796A (ko) 메트아크릴산 트리플루오로에틸을 주성분으로 하는 광(光) 교차결합 가능 조성물과 그 제조방법
KR890005569A (ko) 유기금속-함유 고분자 및 이들의 용도
KR900014470A (ko) 신규 중합체 및 이들의 용도

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20030915

Year of fee payment: 18

EXPY Expiration of term