KR20240046028A - 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법 - Google Patents

점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법 Download PDF

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기요타카 쓰쓰미
소라 미치시타
신야 야마모토
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 연질인 점착제층을 갖는 대형의 적층 필름을 효율 좋게 제조하는 데 적합한 적층 필름의 제조 방법을 제공한다.
[해결수단] 본 발명의 제조 방법은, 준비 공정과 외형 가공 공정을 포함한다. 준비 공정에서는, 캐리어 필름(C)과, 필름층(10)과, 원점착제층(20)과, 필름층(30)을 두께 방향(H)으로 순차적으로 구비하는 장척의 워크 필름(W)을 준비한다. 외형 가공 공정에서는, 워크 필름(W)을 흐름 방향(D1)으로 주행시키면서, 복수의 갈바노 스캐너(S)를 구비하는 레이저 가공 장치에 의해, 워크 필름(W)에 대해서 필름층(30)측으로부터 레이저광을 조사하여, 필름층(10) 상에서 원점착제층(20)과 필름층(30)을 절단한다. 이 공정에서는, 워크 필름(W)의 폭 방향(D2)으로 이어지도록 워크 필름(W)에 설정되는, 갈바노 스캐너(S)와 동수의 주사 영역(R)과, 갈바노 스캐너(S)를 일대일로 대응시켜, 각 갈바노 스캐너(S)에 의해 하나의 주사 영역(R) 내에서 레이저광을 주사한다.

Description

점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법{METHOD FOR PRODUCING LAMINATED FILM HAVING PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER}
본 발명은, 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
디스플레이 패널은, 예를 들어, 화소 패널, 편광 필름, 터치 패널 및 커버 필름 등의 요소를 포함하는 적층 구조를 갖는다. 그와 같은 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 적층 구조에 포함되는 요소끼리의 접합을 위해서, 예를 들어, 광학적으로 투명한 점착 시트(광학 점착 시트)가 이용된다. 광학 점착 시트는, 예를 들어, 동 시트의 양면이 박리 라이너로 피복된 형태(점착제층을 갖는 적층 필름의 형태)로 제조된다.
한편, 예를 들어 스마트폰용 및 태블릿 단말용으로, 반복 절곡 가능(폴더블)한 디스플레이 패널의 개발이 진행되고 있다. 폴더블 디스플레이 패널은, 구체적으로는, 굴곡 형상과 플랫한 비굴곡 형상 사이에서, 반복 변형 가능하다. 이와 같은 폴더블 디스플레이 패널에서는, 적층 구조 중의 각 요소가, 반복 절곡 가능하게 제작되어 있고, 그와 같은 요소 사이의 접합에 얇은 광학 점착 시트가 이용되고 있다. 폴더블 디스플레이 패널 등 플렉시블 디바이스용의 광학 점착 시트에 대해서는, 예를 들어 하기의 특허문헌 1에 기재되어 있다.
일본 특허공개 2018-111754호 공보
플렉시블 디바이스용의 점착 시트는, 종래, 예를 들어 다음과 같이 하여 제조된다.
우선, 도 7A에 나타내는 바와 같이, 장척(長尺)의 원반 필름으로서의 적층 필름(90)을 준비한다. 적층 필름(90)은, 박리 라이너(91)와, 점착제층(92)과, 박리 라이너(93)를, 두께 방향(H)으로 이 순서로 갖는다. 박리 라이너(91)는, 점착제층(92)의 일방면에 박리 가능하게 접하고 있다. 박리 라이너(93)는, 점착제층(92)의 타방면에 박리 가능하게 접하고 있다. 이와 같은 적층 필름(90)이, 캐리어 필름(도시 생략) 상에 지지된 상태에서, 제조 라인을 흐르게 된다.
다음에, 도 7B에 나타내는 바와 같이, 적층 필름(90)의 점착제층(92)에 대한 프레스 가공에 의해, 복수의 매엽상(枚葉狀)의 광학 점착 시트(92A)를 형성한다(외형 가공 공정). 프레스 가공에서는, 롤투롤 방식으로 프레스 가공 가능한 프레스 가공기를 이용한다. 구체적으로는, 프레스 가공에서는, 적층 필름(90)에 대해서, 가공 칼날(도시 생략)을, 박리 라이너(93)측으로부터 박리 라이너(91)에 이를 때까지 밀어 넣는다. 이것에 의해, 소정의 평면시 형상의 광학 점착 시트(92A)를 형성한다. 본 공정에서는, 점착제층(92)에 있어서의 광학 점착 시트(92A) 주위에는, 주위부(92a)가 형성된다. 박리 라이너(93)도 프레스 가공되어, 점착제층(92)과 동일한 평면시 형상의 박리 라이너(93A)가 형성되고, 박리 라이너(93A) 주위에 주위부(93a)가 형성된다. 또한, 본 공정에서는, 도 8에 나타내는 바와 같이, 적층 필름(90)에 있어서 절단 홈(95)이 형성된다. 절단 홈(95)은, 점착제층(92) 및 박리 라이너(93)에 침입하는 가공 칼날이, 점착제층(92) 및 박리 라이너(93)를 면방향(D)으로 압압(押壓)하는 것에 의해, 형성된다. 박리 라이너(91) 상에서 이웃하는 광학 점착 시트(92A) 및 주위부(92a)의 단연부(端緣部)(E, E)는, 서로 대향한다.
이와 같은 외형 가공 공정 후, 도 7C에 나타내는 바와 같이, 박리 라이너(91) 상으로부터 주위부(92a, 93a)(도 7B)를 제거한다(제거 공정). 이 후, 도 7D에 나타내는 바와 같이, 장척의 박리 라이너(91)가 매엽상의 박리 라이너(91A)로 절단된다. 이것에 의해, 점착제층을 갖는 매엽상의 적층 필름(박리 라이너(91A)/광학 점착 시트(92A)/박리 라이너(93A))이 얻어진다.
플렉시블 디바이스용의 광학 점착 시트에는, 디바이스 굴곡 시의 피착체에의 충분한 추종성과, 우수한 응력 완화성을 갖도록, 고도로 연질일 것이 요구된다. 그렇지만, 전술한 제조 방법에서는, 점착제층(92)이 연질일수록, 외형 가공 공정(도 7B) 후에, 박리 라이너(91) 상에서 이웃하는 광학 점착 시트(92A) 및 주위부(92a)의 단연부(E, E)가, 도 8에 있어서 일점쇄선으로 나타내는 바와 같이, 각각 바깥쪽으로 부풀어오르도록 변형되기 쉽다. 구체적으로는, 프레스 가공 시의 가공 칼날의 침입에 의해 사이가 벌어진 단연부(E, E)는, 원래의 위치로 복귀하도록 변형되기 쉽다(복귀적 변형).
이와 같은 단연부(E)의 변형은, 이웃하는 단연부(E, E)끼리가 접촉하여 부착되는 것(블로킹)의 원인이 된다. 단연부(E, E) 사이에 블로킹이 생기면, 제거 공정(도 7C)에 있어서, 주위부(92a, 93a)를 적절히 제거할 수 없다. 단연부(E, E) 사이의 블로킹은, 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 보류(步留)를 저하시킨다.
전술한 제조 방법의 외형 가공 공정에서는, 프레스 가공 대신에 레이저 가공하는 것도 생각할 수 있다. 도 9는, 종래의 롤투롤 방식의 레이저 가공기의 일례로서의 레이저 가공기(200)를 나타낸다.
레이저 가공기(200)는, 가공 스테이지(210)와, 갠트리 장치(220)와, 레이저 헤드(230)와, 발진기(240)를 구비하는 갠트리식의 레이저 가공기이다. 갠트리 장치(220)는, 한 쌍의 가이드(221)와, 제1 가동 유닛(222)과, 제2 가동 유닛(223)을 구비한다. 제1 가동 유닛(222)은, 각 가이드(221)에 대해서, 워크 필름의 흐름 방향(D1)에 슬라이드 가능하게 장착되어 있다. 제2 가동 유닛(223)은, 제1 가동 유닛(222)에 대해서, 워크 필름의 폭 방향(D2)으로 슬라이드 가능하게 장착되어 있다. 레이저 헤드(230)는, 제2 가동 유닛(223)에 고정되어 있다. 갠트리 장치(220)에 의해, 가공 스테이지(210)의 상방에 있어서, 레이저 헤드(230)가 흐름 방향(D1) 및 폭 방향(D2)으로 이동 가능하다. 또한, 발진기(240)에서는, 레이저광이 발생된다. 당해 레이저광은, 소정의 광로(도 9에서는 모식적으로 점선으로 나타낸다)에 의해 레이저 헤드(230)로 유도되어, 레이저 헤드(230)로부터 가공 스테이지(210)측으로 조사된다.
이와 같은 레이저 가공기(200)에 의한 외형 가공 공정에서는, 워크 필름으로서의 적층 필름(90)이 가공 스테이지(210) 상을 흐름 방향(D1)으로 흐르게 되면서, 적층 필름(90)에 대해서 레이저 헤드(230)로부터 레이저광이 조사된다. 레이저 헤드(230)는, 갠트리 장치(220)에 의해 위치 제어된다. 구체적으로는, 적층 필름(90)에 있어서의 레이저광의 조사 스폿이 절단 예정 라인을 따라가도록, 갠트리 장치(220)에 의해, 레이저 헤드(230)가 흐름 방향(D1) 및 폭 방향(D2)으로 필요에 따라서 이동된다. 즉, 갠트리 장치(220)에 의해, 적층 필름(90)에 대해서 레이저광이 주사된다. 이와 같은 레이저 가공에 의해, 적층 필름(90)에 있어서 복수의 매엽상의 광학 점착 시트(92A)(도 7B)가 순차적으로 형성된다.
이와 같은 종래의 레이저 가공에 있어서는, 적층 필름(90)에 대한 레이저 조사 개소의 주사는, 전술한 바와 같이, 단일의 레이저 헤드(230)를 갠트리 장치(220)에 의해 이동시키는 것에 의해 실시된다. 그러나, 갠트리 장치(220)의 가동 유닛(222, 223)은, 무거우므로, 레이저 헤드(230)를 고속으로 이동시키는 데 적합하지 않다. 즉, 갠트리식의 레이저 가공기(200)에 의한 레이저 가공은, 레이저 조사 개소의 고속으로의 주사에 적합하지 않다. 그 때문에, 당해 레이저 가공에서는, 워크 필름의 폭 방향(D2)의 치수가 커서 제조 목적물(점착제층을 갖는 적층 필름)이 클수록, 워크 필름의 흐름 방향(D1)의 속도(반송 속도)를 저하시킬 필요가 있다. 이것은, 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 효율을 저하시킨다. 더하여, 갠트리식의 레이저 가공기(200)는, 비교적 큰 갠트리 장치(220)가 필요하기 때문에, 제조 라인을 대형화시킨다.
본 발명은, 연질인 점착제층을 갖는 대형의 적층 필름을 효율 좋게 제조하는 데 적합한 적층 필름의 제조 방법을 제공한다.
본 발명[1]은, 캐리어 필름과, 제1 필름층과, 원(原)점착제층과, 제2 필름층을 두께 방향으로 이 순서로 구비하는 장척의 워크 필름을 준비하는 준비 공정과, 상기 워크 필름을 길이 방향으로 주행시키면서, 복수의 갈바노 스캐너를 구비하는 레이저 가공 장치에 의해, 상기 워크 필름에 대해서 상기 제2 필름층측으로부터 레이저광을 조사하여, 상기 제1 필름층 상에서 상기 원점착제층 및 상기 제2 필름층을 절단하는, 외형 가공 공정을 포함하고, 상기 외형 가공 공정에서는, 상기 워크 필름의 폭 방향으로 이어지도록 당해 워크 필름에 설정되는, 상기 갈바노 스캐너와 동수의 주사 영역과, 상기 복수의 갈바노 스캐너를 일대일로 대응시켜, 각 갈바노 스캐너에 의해 하나의 주사 영역 내에서 레이저광을 주사하는, 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법을 포함한다.
본 제조방법의 외형 가공 공정에서는, 상기와 같이, 레이저광의 조사에 의해, 워크 필름에 있어서의 제1 필름층 상의 원점착제층이 절단된다. 이것에 의해, 원점착제층에 있어서, 소정의 평면시 형상의 개편화된 점착제층과, 당해 점착제층 주위의 주위부가 형성된다. 원점착제층에 대해서 레이저광이 조사된 부분에서는, 원점착제층의 재료가 증발하여 제거된다. 즉, 외형 가공 공정에서는, 원점착제층의 부분적 제거에 의해, 당해 원점착제층에 있어서, 점착제층과 주위부가 띄워져 형성된다. 원점착제층은 프레스 칼날의 밀어 넣기에 의해 점착제층과 주위부로 절단되는 것은 아니기 때문에, 점착제층과 주위부에 있어서 전술한 복귀적 변형이 생기지 않는다. 이와 같은 외형 가공 공정은, 점착제층이 연질이기 때문에 변형되기 쉬운 경우여도, 점착제층과 주위부 사이에서 전술한 블로킹이 생기는 것을 억제하는 데 적합하다.
또한, 본 제조방법의 외형 가공 공정에서는, 상기와 같이, 복수의 갈바노 스캐너를 이용한다. 워크 필름에는, 동 필름의 폭 방향으로 이어지도록 복수의 주사 영역이 설정된다. 갈바노 스캐너의 수와 주사 영역의 수는 동일하며, 갈바노 스캐너와 주사 영역을 일대일로 대응시킨다. 그리고, 각 갈바노 스캐너에 의해 하나의 주사 영역 내에서 레이저광을 주사한다. 이와 같은 외형 가공 공정에서는, 갠트리 장치에 의해 레이저광을 주사할 필요가 없다. 그 때문에, 동 공정은, 워크 필름에 대한 고속 가공을 실현하는 데 적합하고, 따라서, 워크 필름의 높은 반송 속도를 확보하는 데 적합하다. 더하여, 외형 가공 공정에서는, 복수의 주사 영역이 워크 필름의 폭 방향으로 이어진다. 그 때문에, 동 공정은, 워크 필름이 폭이 크고 당해 워크 필름에 있어서 대형의 적층 필름을 형성하는 경우여도, 워크 필름의 반송 속도의 저하를 억제하는 데 적합하다. 이와 같은 외형 가공 공정을 포함하는 본 제조방법은, 점착제층을 갖는 적층 필름을 효율 좋게 제조하는 데 적합하다.
이상과 같이, 본 제조방법은, 연질인 점착제층을 갖는 대형의 적층 필름을 효율 좋게 제조하는 데 적합하다.
본 발명[2]는, 상기 레이저 가공 장치가, 상기 워크 필름을 흡인 가능한 가공 스테이지를 구비하고, 상기 외형 가공 공정에서는, 상기 워크 필름을 상기 가공 스테이지에서 흡인하면서 당해 가공 스테이지 상을 슬라이드 주행시키는, 상기 [1]에 기재된 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법을 포함한다.
이와 같은 구성은, 외형 가공 공정에 있어서, 워크 필름의 원점착제층에 대해서 레이저광의 초점을 고정밀도로 맞추는 데 바람직하고, 따라서, 원점착제층을 고정밀도로 절단하는 데 바람직하다.
본 발명[3]은, 상기 외형 가공 공정에서는, 상기 워크 필름의 폭 방향에 있어서의 상기 복수의 갈바노 스캐너의 위치가 고정되어 있는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법을 포함한다.
이와 같은 구성에서는, 외형 가공 공정에 있어서, 갈바노 스캐너를 워크 필름에 대해서 폭 방향 및/또는 흐름 방향으로 병진 이동시키기 위한 갠트리 장치 등의 가동 장치가 필요하지 않다. 그와 같은 가동 장치가 불필요한 것은, 외형 가공 공정에 있어서, 원점착제층을 고정밀도로 절단하는 데 바람직하다. 더하여, 가동 장치가 불필요한 것은, 본 제법 방법을 실시하는 제조 라인의 공간 절약화, 및, 제조 비용의 저감에 도움이 된다.
[도 1] 본 발명의 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법의 일 실시형태의 공정을 나타낸다. 도 1A는 적층 필름을 준비하는 공정을 나타내고, 도 1B는 외형 가공 공정을 나타내고, 도 1C는 제거 공정을 나타내고, 도 1D는 절단 공정을 나타낸다.
[도 2] 외형 가공 공정을 나타내는 사시도이다.
[도 3] 외형 가공 공정을 나타내는 단면도이다.
[도 4] 외형 가공 공정을 나타내는 평면도이다.
[도 5] 레이저 가공 유닛의 내부 구성의 모식도이다.
[도 6] 갈바노 스캐너의 일례의 사시도이다.
[도 7] 점착제층을 갖는 적층 필름의 종래의 제조 방법의 일례를 나타낸다. 도 7A는 적층 필름을 준비하는 공정을 나타내고, 도 7B는 외형 가공 공정을 나타내고, 도 7C는 제거 공정을 나타내고, 도 7D는 절단 공정을 나타낸다.
[도 8] 도 7B에 나타내는 외형 가공 공정의 절단 개소의 부분 확대 단면 모식도이다.
[도 9] 종래의 레이저 가공 장치의 일례를 나타낸다.
본 발명의 일 실시형태의 적층 필름의 제조 방법은, 점착제층을 갖는 매엽상의 적층 필름의 롤투롤 방식으로의 제조 방법이다. 본 제조방법은, 도 1A 내지 도 1D에 나타내는 바와 같이, 준비 공정(도 1A)과, 외형 가공 공정(도 1B)과, 제거 공정(도 1C)과, 절단 공정(도 1D)을 포함한다.
준비 공정에서는, 도 1A에 나타내는 바와 같이, 장척의 원반 필름으로서의 적층 필름(X)을 준비한다. 본 제조방법을 실시하는 제조 라인에 있어서, 적층 필름(X)은, 캐리어 필름(C) 상에 준비된다.
적층 필름(X)은, 필름층(10)(제1 필름층)과, 원점착제층(20)과, 필름층(30)(제2 필름층)을, 두께 방향(H)으로 이 순서로 구비한다. 원점착제층(20)은, 제1면(20a)과, 당해 제1면(20a)과는 반대의 제2면(20b)을 갖는다. 필름층(10)은 제1면(20a)에 접하고 있다. 필름층(30)은 제2면(20b)에 접하고 있다. 적층 필름(X)은, 두께 방향(H)과 직교하는 면방향으로 펼쳐진다.
캐리어 필름(C)은, 두께 방향(H)의 일방측에 점착면을 갖는 편면 점착 필름이다. 캐리어 필름(C) 및 적층 필름(X)은, 워크 필름(W)을 형성한다. 워크 필름(W)에 있어서, 캐리어 필름(C)의 점착면이 적층 필름(X)의 필름층(10)측에 첩합(貼合)되어 있다. 워크 필름(W)은, 구체적으로는, 캐리어 필름(C)과, 필름층(10)과, 원점착제층(20)과, 필름층(30)을 두께 방향(H)으로 이 순서로 구비한다. 또한, 캐리어 필름(C)은, 본 실시형태에서는, 워크 필름(W)의 흐름 방향(D1)(도 2)과 직교하는 폭 방향(D2)(도 2, 도 3)에 있어서, 적층 필름(X)보다도 폭이 넓다. 적층 필름(X)은, 캐리어 필름(C) 상에 있어서, 폭 방향(D2)의 중앙 위치에 배치된다. 적층 필름(X)의 폭(폭 방향(D2)의 길이)은, 예를 들어 200mm 이상, 바람직하게는 280mm 이상, 보다 바람직하게는 400mm 이상이며, 또한, 예를 들어 1200mm 이하, 바람직하게는 1000mm 이하, 보다 바람직하게는 800mm 이하이다. 이와 같은 워크 필름(W)이, 제조 라인을 흐르게 된다.
필름층(10)은, 예를 들어, 박리 라이너, 기능성 광학 필름, 또는 기재 필름(지지 필름)이다.
박리 라이너의 재료로서는, 예를 들어, 폴리에스터, 폴리올레핀, 및 폴리카보네이트를 들 수 있다. 폴리에스터로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 및 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트를 들 수 있다. 폴리올레핀으로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 및 사이클로올레핀 폴리머(COP)를 들 수 있다. 박리 라이너로서의 필름층(10)은, 원점착제층(20)의 제1면(20a)에 박리 가능하게 접하고 있다. 그와 같은 필름층(10)의 표면(원점착제층(20)측의 표면)은, 바람직하게는 박리 처리되어 있다. 박리 처리로서는, 예를 들어, 실리콘 박리 처리 및 불소 박리 처리를 들 수 있다. 박리 라이너의 두께는, 점착제층에 대한 보호 기능을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 20μm 이상, 더 바람직하게는 30μm 이상이다. 박리 라이너의 두께는, 적층 필름(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 200μm 이하, 보다 바람직하게는 150μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하이다.
기능성 광학 필름으로서는, 예를 들어, 편광 필름 및 위상차 필름을 들 수 있다. 기능성 광학 필름은, 패널 보강재 등의 다른 광학 필름이어도 된다. 필름층(10)이 기능성 광학 필름인 경우, 그와 같은 필름층(10)에 대해, 원점착제층(20)의 제1면(20a)은 접합되어 있다. 기능성 광학 필름으로서의 필름층(10)과, 원점착제층(20)은, 점착제층 부가 기능성 광학 필름을 형성한다.
편광 필름으로서는, 예를 들어, 2색성 물질에 의한 염색 처리와 그 후의 연신 처리를 거친 친수성 고분자 필름을 들 수 있다. 2색성 물질로서는, 예를 들어, 아이오딘 및 2색성 염료를 들 수 있다. 친수성 고분자 필름으로서는, 예를 들어, 폴리바이닐 알코올(PVA) 필름, 부분 폼알화 PVA 필름, 및, 에틸렌·아세트산 바이닐 공중합체의 부분 비누화 필름을 들 수 있다. 편광 필름으로서는, 폴리엔 배향 필름도 들 수 있다. 폴리엔 배향 필름의 재료로서는, 예를 들어, PVA의 탈수 처리물, 및, 폴리염화 바이닐의 탈염산 처리물을 들 수 있다. 편광 필름은, 두께 방향의 일방면 및/또는 타방면에, 접착제를 개재시켜 접합된 보호 필름을 갖고 있어도 된다. 편광 필름의 두께는, 편광 필름의 기능, 강도 및 내구성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 20μm 이상이다. 편광 필름의 두께는, 적층 필름(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 500μm 이하, 보다 바람직하게는 300μm 이하이다.
위상차 필름으로서는, 예를 들어, λ/2 파장 필름 및 λ/4 파장 필름, 및 시야각 보상 필름을 들 수 있다. 위상차 필름의 재료로서는, 예를 들어, 연신 처리에 의해 복굴절화된 고분자 필름을 들 수 있다. 고분자 필름으로서는, 예를 들어, 셀룰로스 필름 및 폴리에스터 필름을 들 수 있다. 셀룰로스 필름으로서는, 예를 들어 트라이아세틸셀룰로스 필름을 들 수 있다. 폴리에스터 필름으로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름, 및 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트 필름을 들 수 있다. 위상차 필름으로서는, 셀룰로스 필름 등의 기재와, 당해 기재 상의 액정성 폴리머 등 액정 화합물의 배향층을 구비하는 필름도 들 수 있다. 위상차 필름의 두께는, 위상차 필름의 기능 및 강도를 확보하는 관점에서, 바람직하게는 1μm 이상, 보다 바람직하게는 2μm 이상이다. 위상차 필름의 두께는, 적층 필름(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 80μm 이하이다.
기재 필름의 재료로서는, 예를 들어, 박리 라이너의 재료로서 상기한 재료를 들 수 있다. 필름층(10)이 기재 필름인 경우, 그와 같은 필름층(10)에 대해, 원점착제층(20)의 제1면(20a)은 접합되어 있다. 기재 필름으로서의 필름층(10)과, 원점착제층(20)은, 편면 점착 시트를 형성한다. 기재 필름의 두께는, 기재로서의 강도를 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 20μm 이상, 더 바람직하게는 30μm 이상이다. 기재 필름의 두께는, 적층 필름(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 200μm 이하, 보다 바람직하게는 150μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하이다.
원점착제층(20)은, 점착제 조성물로부터 형성되어 있다. 점착제 조성물은, 베이스 폴리머를 포함한다. 베이스 폴리머는, 점착성을 발현시키는 점착 성분이다. 베이스 폴리머로서는, 예를 들어, 아크릴 폴리머, 폴리유레테인 폴리머, 폴리아마이드 폴리머, 및 폴리바이닐 에터 폴리머를 들 수 있다. 베이스 폴리머는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 원점착제층(20)에 있어서의 양호한 투명성 및 점착성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머로서는, 바람직하게는 아크릴 폴리머가 이용된다.
아크릴 폴리머는, (메트)아크릴산 에스터를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이다. 「(메트)아크릴」은, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다. (메트)아크릴산 에스터로서는, 바람직하게는, (메트)아크릴산 알킬 에스터가 이용되고, 보다 바람직하게는, 알킬기의 탄소수가 1∼20인 (메트)아크릴산 알킬 에스터가 이용된다. (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-뷰틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 아이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 아이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 아이소데실, (메트)아크릴산 운데실, 및 (메트)아크릴산 도데실을 들 수 있다.
모노머 성분은, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 공중합성 모노머를 포함해도 된다. 공중합성 모노머로서는, 예를 들어, 극성기를 갖는 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머로서는, 예를 들어, 하이드록시기 함유 모노머, 질소 원자 함유환을 갖는 모노머, 및 카복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머는, 아크릴 폴리머에의 가교점의 도입, 아크릴 폴리머의 응집력의 확보 등, 아크릴 폴리머의 개질에 도움이 된다. 하이드록시기 함유 모노머로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, 및 (메트)아크릴산 2-하이드록시뷰틸을 들 수 있다. 질소 원자 함유환을 갖는 모노머로서는, 예를 들어, N-바이닐-2-피롤리돈, N-메틸바이닐피롤리돈, N-바이닐피리딘, N-바이닐피페리돈, N-바이닐이미다졸, 및 N-(메트)아크릴로일-2-피롤리돈을 들 수 있다.
베이스 폴리머는, 바람직하게는, 가교 구조를 갖는다. 베이스 폴리머에의 가교 구조의 도입 방법으로서는, 다음의 제1 방법 및 제2 방법을 들 수 있다. 제1 방법에서는, 가교제와 반응 가능한 작용기를 갖는 베이스 폴리머와 가교제를 점착제 조성물에 배합하여, 베이스 폴리머와 가교제를 점착제층 중에서 반응시킨다. 제2 방법에서는, 베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분에 가교제로서의 다작용 모노머를 포함시켜, 당해 모노머 성분의 중합에 의해, 폴리머쇄에 분지 구조(가교 구조)가 도입된 베이스 폴리머를 형성한다. 이들 방법은, 병용되어도 된다.
상기 제1 방법에서 이용되는 가교제로서는, 예를 들어, 베이스 폴리머에 포함되는 작용기(하이드록시기 및 카복시기 등)와 반응하는 화합물을 들 수 있다. 그와 같은 가교제로서는, 예를 들어, 아이소사이아네이트 가교제, 과산화물 가교제, 및 에폭시 가교제를 들 수 있다. 가교제는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
상기 제2 방법에서는, 우선, 베이스 폴리머를 형성하기 위한 단작용 모노머를 중합시키고(예비중합), 이것에 의해 부분 중합물(저중합도의 중합물과 미반응의 모노머의 혼합물)을 함유하는 프리폴리머 조성물을 조제한다. 다음에, 프리폴리머 조성물에 가교제로서의 다작용 모노머를 첨가한 후, 부분 중합물과 다작용 모노머를 중합시킨다(본중합). 다작용 모노머로서는, 예를 들어, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 1분자 중에 2개 이상 함유하는 다작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 다작용 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어, 에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 및, 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
베이스 폴리머는, 전술한 모노머 성분을 중합시키는 것에 의해 형성할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예를 들어, 용액 중합, 무용제에서의 광중합(예를 들어 UV 중합), 괴상 중합, 및 유화 중합을 들 수 있다. 용액 중합의 용매로서는, 예를 들어, 아세트산 에틸 및 톨루엔이 이용된다. 또한, 중합의 개시제로서는, 예를 들어, 열중합 개시제 또는 광중합 개시제가 이용된다.
베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 원점착제층(20)에 있어서의 응집력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 10만 이상, 보다 바람직하게는 30만 이상, 더 바람직하게는 50만 이상이다. 동 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 500만 이하, 보다 바람직하게는 300만 이하, 더 바람직하게는 200만 이하이다. 베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래프(GPC)에 의해 측정하여 폴리스타이렌 환산에 의해 산출된다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 원점착제층(20)의 부드러움을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 0℃ 이하, 보다 바람직하게는 -10℃ 이하, 더 바람직하게는 -20℃ 이하이다. 동 유리 전이 온도는, 예를 들어 -80℃ 이상이다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)에 대해서는, 하기의 Fox의 식에 기초하여 구해지는 유리 전이 온도(이론치)를 이용할 수 있다. Fox의 식은, 폴리머의 유리 전이 온도 Tg와, 당해 폴리머를 구성하는 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tgi의 관계식이다. 하기의 Fox의 식에 있어서, Tg는 폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타내고, Wi는 당해 폴리머를 구성하는 모노머 i의 중량 분율을 나타내고, Tgi는, 모노머 i로부터 형성되는 호모폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타낸다. 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는 문헌치를 이용할 수 있다. 예를 들어, 「Polymer Handbook」(제4판, John Wiley & Sons, Inc., 1999년)에는, 각종의 호모폴리머의 유리 전이 온도가 들어져 있다. 한편, 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는, 일본 특허공개 2007-51271호 공보에 구체적으로 기재되어 있는 방법에 의해 구하는 것도 가능하다.
Fox의 식 1/(273＋Tg)=Σ[Wi/(273＋Tgi)]
점착제 조성물은, 필요에 따라서 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들어, 용제, 실레인 커플링제, 자외선 흡수제, 점착 부여제, 연화제, 및 산화 방지제를 들 수 있다. 용제로서는, 예를 들어, 아크릴 폴리머의 중합 시에 필요에 따라서 이용되는 중합 용매, 및, 중합 후에 중합 반응 용액에 첨가되는 용제를 들 수 있다. 당해 용제로서는, 예를 들어, 아세트산 에틸 및 톨루엔이 이용된다.
원점착제층(20)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 더 바람직하게는 1% 이하이다. 원점착제층(20)의 헤이즈는, JIS K7136(2000년)에 준거하여, 헤이즈 미터를 사용하여 측정할 수 있다. 헤이즈 미터로서는, 예를 들어, 닛폰 덴쇼쿠 공업사제의 「NDH2000」, 및, 무라카미 색채기술연구소사제의 「HM-150형」을 들 수 있다.
원점착제층(20)의 25℃에서의 전단 저장 탄성률은, 원점착제층(20)의 응집력을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10kPa 이상, 보다 바람직하게는 15kPa 이상, 더 바람직하게는 20kPa 이상, 특히 바람직하게는 25kPa 이상이다. 원점착제층(20)의 25℃에서의 전단 저장 탄성률은, 플렉시블 디스플레이 패널 용도의 광학 점착 시트에 요구되는 부드러움을 원점착제층(20)에 있어서 실현하는 관점에서, 바람직하게는 1000kPa 이하, 보다 바람직하게는 700kPa 이하, 더 바람직하게는 500kPa 이하, 특히 바람직하게는 300kPa 이하이다. 전단 저장 탄성률의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 원점착제층(20)에 있어서의 베이스 폴리머의 종류의 선택, 분자량의 조정, 배합량의 조정, 유리 전이 온도의 조정, 및 가교도의 조정을 들 수 있다. 전단 저장 탄성률의 조정 방법으로서는, 원점착제층(20)에 있어서의 베이스 폴리머 이외의 성분의 선택 및 배합량의 조정도 들 수 있다. 점착제층의 전단 저장 탄성률은, 동적 점탄성 측정에 의해 구해진다. 동 측정은, Rheometric Scientific사제의 동적 점탄성 측정 장치 「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」에 의해 실시할 수 있다. 동 측정에서는, 측정 모드를 전단 모드로 하고, 측정 온도 범위를 -40℃∼100℃로 하고, 승온 속도를 5℃/분으로 하고, 주파수를 1Hz로 한다.
필름층(30)은, 본 실시형태에서는, 박리 라이너이다. 박리 라이너의 재료로서는, 예를 들어, 폴리에스터, 폴리올레핀, 및 폴리카보네이트를 들 수 있다. 구체적으로는, 필름층(10)에 관해서 상기한 박리 라이너의 재료를 들 수 있다. 박리 라이너로서의 필름층(30)은, 원점착제층(20)의 제2면(20b)에 박리 가능하게 접하고 있다. 그와 같은 필름층(30)의 표면(원점착제층(20)측의 표면)은, 바람직하게는 박리 처리되어 있다. 박리 처리로서는, 예를 들어, 실리콘 박리 처리 및 불소 박리 처리를 들 수 있다. 필름층(30)의 두께는, 예를 들어 10μm 이상이며, 또한, 예를 들어 200μm 이하이다.
적층 필름(X)은, 예를 들어 다음과 같이 하여 제조할 수 있다. 우선, 전술한 점착제 조성물을 필름층(10) 상에 도포하여 도막을 형성한다. 다음에, 필름층(10) 상의 도막 상에 필름층(30)을 첩합한다. 다음에, 필름층(10, 30) 사이의 도막을 건조시키고, 또한, 필요에 따라서 도막에 대해서 광 조사한다. 이것에 의해, 필름층(10, 30) 사이에 원점착제층(20)을 형성한다. 점착제 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들어, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비어 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어 나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 및 다이 코팅을 들 수 있다. 도막의 건조 온도는, 예를 들어 50℃∼200℃이다. 건조 시간은, 예를 들어 5초∼20분이다.
외형 가공 공정에서는, 도 1B에 나타내는 바와 같이, 워크 필름(W)에 대한 레이저 가공을 실시한다. 구체적으로는, 복수의 갈바노 스캐너를 구비하는 레이저 가공 장치에 의해, 워크 필름(W)에 대해서 필름층(30)측으로부터 레이저광(L)을 조사하여, 필름층(10) 상에서 원점착제층(20) 및 필름층(30)을 절단한다. 이것에 의해, 원점착제층(20)에 있어서, 개편화된 점착제층(21)과, 점착제층(21) 주위의 주위부(22)가 형성된다. 또한, 필름층(30)에 있어서, 점착제층(21) 상의 필름(31)과, 필름(31) 주위의 주위부(32)가 형성된다. 필름층(10)에는, 하프컷 홈(10a)이 형성된다. 하프컷 홈(10a)은, 점착제층(21)의 단연(21a)을 따라 형성된다. 본 실시형태에서는, 복수의 갈바노 스캐너를 구비하는 레이저 가공 장치로서, 도 2 내지 도 4에 나타내는 바와 같은 레이저 가공 장치(100)를 이용한다.
레이저 가공 장치(100)는, 본 실시형태에서는, 가공 스테이지(110)와, 복수의 레이저 가공 유닛(120)과, 제어부(도시 생략)를 구비한다. 도 2 내지 도 4는, 레이저 가공 장치(100)가 4대의 레이저 가공 유닛(120A, 120B, 120C, 120D)을 구비하는 경우를 예시적으로 도시한다.
가공 스테이지(110)는, 제조 라인을 흐르는 워크 필름(W)을 지지하는 스테이지이다. 가공 스테이지(110)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 지지 테이블(111)과, 흡인로(112)를 갖는다. 지지 테이블(111)은, 가공 스테이지(110)에 있어서, 워크 필름(W)에 대한 지지면을 형성한다. 지지 테이블(111)은, 당해 지지 테이블(111)을 두께 방향(H)으로 관통하는 복수의 흡인공(111a)을 갖는다. 흡인로(112)는, 가공 스테이지(110) 내에 형성된 공간이다. 흡인로(112)는, 지지 테이블(111)의 하방에 위치한다. 지지 테이블(111)의 각 흡인공(111a)은, 흡인로(112)와 연통한다. 흡인로(112)는, 감압 펌프(도시 생략)의 흡인로와 연결되어 있다. 감압 펌프의 가동에 의해, 흡인로(112)는 감압된다. 감압 펌프는, 제어부에 의한 제어에 따라, 가동 상태와 비가동 상태를 선택 가능하다. 지지 테이블(111) 상에 워크 필름(W)이 있는 경우, 흡인로(112)가 감압되는 것에 의해, 워크 필름(W)은 가공 스테이지(110)의 지지 테이블(111)에 대해서 흡인된다.
가공 스테이지(110)의 제조 라인 상류측에는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 한 쌍의 닙 롤러(N1, N1)가 배치되어 있다. 한 쌍의 닙 롤러(N1, N1)에 의해 워크 필름(W)을 끼운 상태에서 각 닙 롤러(N1)를 일정 속도로 회전시키는 것에 의해, 워크 필름(W)을 유도하여 가공 스테이지(110)를 향해 보낸다. 한편, 가공 스테이지(110)의 제조 라인 하류측에는, 한 쌍의 닙 롤러(N2, N2)가 배치되어 있다. 한 쌍의 닙 롤러(N2, N2)에 의해 워크 필름(W)을 끼운 상태에서 각 닙 롤러(N2)를 일정 속도로 회전시키는 것에 의해, 워크 필름(W)을 유도하여 닙 롤러(N2, N2)보다 하류측을 향하여 보낸다. 닙 롤러(N1, N1)와 닙 롤러(N2, N2)에 의해, 워크 필름(W)은, 가공 스테이지(110)의 지지 스테이지(111) 상을 동 필름의 길이 방향(흐름 방향(D1))으로 흐르게 된다. 이 상태에 있어서 가공 스테이지(110)의 흡인로(112)가 감압되는 것에 의해, 워크 필름(W)은, 가공 스테이지(110)에 흡인되면서, 가공 스테이지(110) 상을 슬라이드 주행한다.
레이저 가공 유닛(120)은, 도 5에 모식적으로 나타내는 바와 같이, 광체(筐體)(121)와, 레이저 광원(122)과, 빔 익스팬더(123)와, 가동 렌즈(124)와, 집광 렌즈(125)와, 갈바노 스캐너(S)를 구비한다. 레이저 광원(122), 빔 익스팬더(123), 가동 렌즈(124), 집광 렌즈(125), 및 갈바노 스캐너(S)는, 광체(121) 내에 수용되어 있다. 광체(121)는 레이저광 출사구(도시 생략)를 갖는다.
레이저 광원(122)은, 레이저광(L)을 발진한다. 레이저 광원(122)으로서는, 예를 들어, 기체 레이저 광원, 고체 레이저 광원, 및 반도체 레이저 광원을 들 수 있다. 기체 레이저 광원으로서는, 예를 들어, 적외역의 파장을 갖는 레이저광을 펄스 발진하는 레이저 광원을 들 수 있다. 그와 같은 레이저 광원으로서는, 예를 들어, CO 레이저 광원(5μm) 및 CO2 레이저 광원(9.3∼10.6μm)을 들 수 있다(괄호 내의 수치는 레이저 광원으로부터의 레이저광의 파장을 나타낸다. 레이저 광원에 관해서 이하 동일). 기체 레이저 광원으로서는, 엑시머 레이저 광원도 들 수 있다. 엑시머 레이저 광원으로서는, 예를 들어, F2 엑시머 레이저 광원(157nm), ArF 엑시머 레이저 광원(193nm), KrF 엑시머 레이저 광원(248nm), 및 XeCl 엑시머 레이저 광원(308nm)을 들 수 있다. 고체 레이저 광원으로서는, 예를 들어, Nd:YAG 레이저 광원(1064nm)을 들 수 있다. 반도체 레이저 광원으로서는, 예를 들어, 파장 405nm의 반도체 레이저 광원을 들 수 있다.
빔 익스팬더(123)는, 레이저광(L)의 빔 사이즈를 조정하는 광학 부품이다. 빔 익스팬더(123)과 가동 렌즈(124) 사이에는, 다른 광학 부품이 배치되어도 된다. 다른 광학 부품으로서는, 예를 들어, 콜리메이터 렌즈 및 호모지나이저를 들 수 있다.
가동 렌즈(124)는, 레이저광(L)의 광축 방향으로 변위 가능한 렌즈이다. 가동 렌즈(124)가 광축 방향으로 변위하는 것에 의해, 집광 렌즈(125)로 집광되는 레이저광(L)의 초점의 위치(워크 필름(W)에서의 초점의 위치)가 변동된다. 가동 렌즈(124)는, 제어부에 의한 제어에 따라, 광축 방향의 위치를 조절 가능하다(가동 렌즈(124)의 위치 제어).
집광 렌즈(125)를 통과한 레이저광(L)은, 갈바노 스캐너(S)에서 반사된다. 갈바노 스캐너(S)는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 갈바노 미러(126)(제1 갈바노 미러)와, 갈바노 모터(127)(제1 갈바노 모터)와, 갈바노 미러(128)(제2 갈바노 미러)와, 갈바노 모터(129)(제2 갈바노 모터)를 구비한다.
갈바노 미러(126)는, 레이저광(L)을 반사 가능한 미러면(126a)을 갖는다. 갈바노 모터(127)는, 갈바노 미러(126)에 연결된 모터 축심(127a)을 갖는다. 모터 축심(127a)은, 제1 방향으로 연장된다. 제1 방향은, 바람직하게는, 워크 필름(W)의 흐름 방향(D1) 및 폭 방향(D2)의 각각과 직교하는 방향이다. 갈바노 모터(127)는, 갈바노 미러(126)의 미러면(126a)이 향하는 방향(제1 미러면 방향)을, 모터 축심(127a)을 따라 연장되는 회전축 주위로 요동시킬 수 있다. 갈바노 모터(127)는, 제어부에 의한 제어에 따라, 갈바노 미러(126)에 있어서의 제1 미러면 방향을 제어 가능하다.
갈바노 미러(128)는, 레이저광(L)을 반사 가능한 미러면(128a)을 갖는다. 갈바노 모터(129)는, 갈바노 미러(128)에 연결된 모터 축심(129a)을 갖는다. 모터 축심(129a)은, 제2 방향으로 연장된다. 제2 방향은, 제1 방향과 교차한다. 제2 방향은, 바람직하게는, 제1 방향과 직교한다. 제2 방향은, 바람직하게는, 폭 방향(D2)이다. 갈바노 모터(129)는, 갈바노 미러(128)의 미러면(128a)이 향하는 방향(제2 미러면 방향)을, 모터 축심(129a)을 따라 연장되는 회전축 주위로 요동시킬 수 있다. 갈바노 모터(129)는, 제어부에 의한 제어에 따라, 갈바노 미러(128)에 있어서의 제2 미러면 방향을 제어 가능하다.
갈바노 스캐너(S)에 있어서, 레이저광(L)은, 갈바노 미러(126)의 미러면(126a)과, 갈바노 미러(128)의 미러면(128a)에서 순차적으로 반사된다. 이 레이저광(L)은, 광체(121)의 레이저광 출사구를 통과한 후, 가공 스테이지(110) 상의 워크 필름(W)에 조사된다.
본 공정에 있어서, 워크 필름(W)에는, 워크 필름(W)의 폭 방향(D2)으로 이어지도록 복수의 주사 영역(R)(도 3 및 도 4에 나타낸다)이 설정된다. 복수의 주사 영역(R)은, 구체적으로는, 워크 필름(W)에 있어서의 적층 필름(X)을 폭 방향(D2)으로 복수로 분할하도록 설정된다. 레이저 가공 유닛(120)(갈바노 스캐너(S)를 구비한다)의 수와 주사 영역(R)의 수는, 동일하다. 즉, 갈바노 스캐너(S)의 수와 주사 영역(R)의 수는 동일하다. 도 3 및 도 4는, 워크 필름(W)의 폭 방향으로 이어지도록 4개의 주사 영역(R1, R2, R3, R4)이 설정되는 경우를 예시적으로 도시한다(도 3에서는, 갈바노 스캐너(S) 및 레이저 가공 유닛(120)을 모식적으로 나타낸다). 주사 영역 R1은, 레이저 가공 유닛 120A의 갈바노 스캐너(S)와 대응지어진다. 주사 영역 R2는, 레이저 가공 유닛 120B의 갈바노 스캐너(S)와 대응지어진다. 주사 영역 R3은, 레이저 가공 유닛 120C의 갈바노 스캐너(S)와 대응지어진다. 주사 영역 R4는, 레이저 가공 유닛(120D)의 갈바노 스캐너(S)와 대응지어진다. 즉, 갈바노 스캐너(S)와 주사 영역(R)은 일대일로 대응지어져 있다.
주사 영역 R의 폭 방향(D2)의 길이는, 예를 들어 30mm 이상, 바람직하게는 50mm 이상, 보다 바람직하게는 100mm 이상이며, 또한, 예를 들어 300mm 이하, 바람직하게는 250mm 이하, 보다 바람직하게는 200mm 이하이다. 4개의 주사 영역(R)에 있어서의 폭 방향(D2)의 길이는, 서로 모두 동일해도 되고, 일부가 상이해도 되고, 서로 모두 상이해도 된다.
각 레이저 가공 유닛(120)에 있어서, 레이저광(L)은, 갈바노 모터(127, 129)의 제1·제2 미러면 방향의 제어에 의해, 워크 필름(W)에 대해서 주사된다. 구체적으로는, 레이저 가공 유닛(120)으로부터의 레이저광(L)의 워크 필름(W) 상의 조사 스폿이, 워크 필름(W)에 있어서의 절단 예정 라인을 따라가도록, 갈바노 모터(127, 129)의 제1·제2 미러면 방향의 제어에 의해, 흐름 방향(D1) 및 면방향(D2)으로 주사된다. 각 레이저 가공 유닛(120)에 있어서, 레이저광(L)은, 갈바노 스캐너(S)의 실질적으로 직하를 중심으로 하는 소정의 범위(주사 에리어) 내를 주사된다. 또한, 주사되는 레이저광(L)에 있어서, 워크 필름(W)에 대한 입사각(동 필름의 표면의 법선 방향과 레이저광(L)의 광축 방향이 형성하는 각도)의 변화에 상관없이 조사 스폿의 사이즈(스폿 직경)가 같게 되도록, 제1·제2 미러면 방향에 따라서 가동 렌즈(124)는 위치 제어된다.
도 4는, 레이저 가공 유닛(120)마다의 레이저광(L)의 주사 에리어(AR)의 배치의 일례를 나타낸다. 도 4에서는, 레이저 가공 유닛 120A의 주사 에리어 AR1과, 레이저 가공 유닛 120B의 주사 에리어 AR2와, 레이저 가공 유닛 120C의 주사 에리어 AR3과, 레이저 가공 유닛 120D의 주사 에리어 AR4가, 흐름 방향(D1)에 있어서 간격을 띄워 이 순서로 나열되고, 또한, 폭 방향(D2)에 있어서 간격을 띄우지 않고 이 순서로 나열된다. 복수의 주사 에리어(AR)가 폭 방향(D2)에 있어서 간격을 띄우지 않고 나열되는 것에 의해, 워크 필름(W)에 대한 외형 가공을 폭 방향(D2)으로 간단(間斷) 없이 실시할 수 있다. 본 실시형태에서는, 각 주사 에리어(AR)가 이와 같은 배치가 되도록, 각 레이저 가공 유닛(120)은 배치되어 있다. 각 레이저 가공 유닛(120)은, 예를 들어, 레이저 가공 장치(100)의 소정의 프레임부에 연결되어 있다. 이것에 의해, 워크 필름(W)의 흐름 방향(D1) 및 폭 방향(D2)에 있어서의 복수의 레이저 가공 유닛(120)의 위치가 고정된다. 즉, 워크 필름(W)의 흐름 방향(D1) 및 폭 방향(D2)에 있어서의 복수의 갈바노 스캐너(S)의 위치가 고정된다. 또한, 복수의 주사 에리어(AR)도 고정된다. 복수의 주사 에리어(AR)는, 흐름 방향(D1)에 있어서 간격을 띄우지 않고 나열되어도 된다. 복수의 주사 에리어(AR)가 흐름 방향(D1)에 있어서 간격을 띄우지 않고 나열되도록, 레이저 가공 장치(100)에 있어서 복수의 레이저 가공 유닛(120)이 배치되어도 된다.
레이저 가공 장치(100)에 있어서는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 워크 필름(W)에 있어서의 길이 방향의 일정 영역은, 우선, 주사 에리어 AR1에서 레이저 가공을 받고, 다음에 주사 에리어 AR2에서 레이저 가공을 받고, 다음에 주사 에리어 AR3에서 레이저 가공을 받고, 다음에 주사 에리어 AR4에서 레이저 가공을 받는다. 본 실시형태에서는, 예를 들어, 다음과 같다.
주사 에리어 AR1에서는, 본 실시형태에서는 구형(矩形)의 절단 예정 라인(도시 생략)에 있어서의 점 P1로부터 점 P2까지의 부분 라인(제1 절단 예정 부분 라인)이 주사 에리어 AR1을 통과하는 동안에, 레이저 가공 유닛 120A로부터의 레이저광(L)의 조사 스폿이, 제1 절단 예정 부분 라인을 점 P1로부터 점 P2까지 따라가도록, 주사된다(제1 주사). 이것에 의해, 워크 필름(W)에 절단 라인 T1이 형성된다.
주사 에리어 AR2에서는, 절단 예정 라인에 있어서의 점 P1로부터 점 P3까지의 부분 라인(제2 절단 예정 부분 라인)이 주사 에리어 AR2를 통과하는 동안에, 레이저 가공 유닛 120B로부터의 레이저광(L)의 조사 스폿이, 제2 절단 예정 부분 라인을 점 P1로부터 점 P3까지 또는 점 P3으로부터 점 P1까지 따라가도록, 주사된다(제2 주사). 이것에 의해, 절단 라인 T1과 점 P1에서 이어지는 절단 라인 T2가 워크 필름(W)에 형성된다. 또한, 주사 에리어 AR2에서는, 절단 예정 라인에 있어서의 점 P2로부터 점 P4까지의 부분 라인(제3 절단 예정 부분 라인)이 주사 에리어 AR2를 통과하는 동안에, 레이저 가공 유닛 120B로부터의 레이저광(L)의 조사 스폿이, 제3 절단 예정 부분 라인을 점 P2로부터 점 P4까지 또는 점 P2로부터 점 P4까지 따라가도록, 주사된다(제3 주사). 이것에 의해, 절단 라인 T1과 점 P2에서 이어지는 절단 라인 T3이 워크 필름(W)에 형성된다.
주사 에리어 AR3에서는, 절단 예정 라인에 있어서의 점 P3으로부터 점 P5까지의 부분 라인(제4 절단 예정 부분 라인)이 주사 에리어 AR3을 통과하는 동안에, 레이저 가공 유닛 120C로부터의 레이저광(L)의 조사 스폿이, 제4 절단 예정 부분 라인을 점 P3으로부터 점 P5까지 또는 점 P5로부터 점 P3까지 따라가도록, 주사된다(제4 주사). 이것에 의해, 절단 라인 T2와 점 P3에서 이어지는 절단 라인 T4가 워크 필름(W)에 형성된다. 주사 에리어 AR3에서는, 절단 예정 라인에 있어서의 점 P4로부터 점 P6까지의 부분 라인(제5 절단 예정 부분 라인)이 주사 에리어 AR3을 통과하는 동안에, 레이저 가공 유닛 120C로부터의 레이저광(L)의 조사 스폿이, 제5 절단 예정 부분 라인을 점 P4로부터 점 P6까지 또는 점 P6으로부터 점 P4까지 따라가도록, 주사된다(제5 주사). 이것에 의해, 절단 라인 T3과 점 P4에서 이어지는 절단 라인 T5가 워크 필름(W)에 형성된다.
주사 에리어 AR4에서는, 절단 예정 라인에 있어서의 점 P5로부터 점 P6까지의 부분 라인(제6 절단 예정 부분 라인)이 주사 에리어 AR4를 통과하는 동안에, 레이저 가공 유닛 120D로부터의 레이저광(L)의 조사 스폿이, 제6 절단 예정 부분 라인을 점 P5로부터 점 P6까지 따라가도록, 주사된다(제6 주사). 이것에 의해, 워크 필름(W)에 절단 라인 T6이 형성된다. 절단 라인 T6은, 절단 라인 T4와 점 P5에서 이어지고, 또한, 절단 라인 T5와 점 P6에서 연결된다.
제1∼제6 주사의 각각에서는, 구체적으로는, 워크 필름(W)의 반송 속도(벡터)와 레이저광(L)의 주사 속도(벡터)의 합성 속도(벡터)에 의해 정해지는 조사 스폿의 위치가, 주사 에리어(AR)를 통과하는 절단 예정 부분 라인을 따라가도록, 제어부에 의해 갈바노 스캐너(S)(갈바노 모터(127, 129))가 제어된다.
이상과 같은 외형 가공 공정에 있어서, 레이저광(L)으로서 예를 들어 CO2 레이저를 이용하는 경우, 레이저광(L)의 펄스 폭은 예를 들어 0.5∼50μ초이고, 레이저광(L)의 펄스의 주파수는 예를 들어 1∼200kHz이며, 레이저광(L)의 출력은 예를 들어 2∼250W이고, 레이저광(L)의 스폿 직경은 예를 들어 50∼200μm이다. 레이저광(L)으로서 예를 들어 단펄스 레이저를 이용하는 경우는, 레이저광(L)의 펄스 폭은 예를 들어 0.2∼1000피코초이고, 레이저광(L)의 펄스의 주파수는 예를 들어 0.1∼1000MHz이며, 레이저광(L)의 출력은 예를 들어 2∼250W이고, 레이저광(L)의 스폿 직경은 예를 들어 5∼100μm이다.
다음에, 제거 공정에서는, 도 1C에 나타내는 바와 같이, 필름층(10) 상으로부터 주위부(22, 32)(도 1B)를 제거한다.
다음에, 절단 공정에서는, 도 1D에 나타내는 바와 같이, 필름층(10)이, 매엽상의 필름(11)으로 절단된다. 절단 방법으로서는, 예를 들어, 레이저 가공에 의한 절단, 및, 프레스 가공에 의한 절단을 들 수 있다.
이상과 같이 하여, 적층 필름(Y)(점착제층을 갖는 적층 필름)을 제조할 수 있다. 필름(31)을 점착제층(21)으로부터 박리한 후, 점착제층(21)에 다른 필름을 첩합해도 된다.
본 제조방법의 외형 가공 공정에서는, 전술한 바와 같이, 레이저광(L)의 조사에 의해, 워크 필름(W)에 있어서의 필름층(10) 상의 원점착제층(20)이 절단된다. 이것에 의해, 원점착제층(20)에 있어서, 소정의 평면시 형상의 개편화된 점착제층(21)과, 점착제층(21) 주위의 주위부(22)가 형성된다. 원점착제층(20)에 대해서 레이저광(L)이 조사된 부분에서는, 원점착제층(20)의 재료가 증발하여 제거된다. 즉, 외형 가공 공정에서는, 원점착제층(20)의 부분적 제거에 의해, 원점착제층(20)에 있어서, 점착제층(21)과 주위부(22)가 띄워져 형성된다. 원점착제층(20)은 프레스칼날의 밀어 넣기에 의해 점착제층(21)과 주위부(22)로 절단되는 것은 아니기 때문에, 점착제층(21)과 주위부(22)에 있어서 전술한 복귀적 변형이 생기지 않는다. 이와 같은 외형 가공 공정은, 점착제층(21)이 연질이기 때문에 변형되기 쉬운 경우여도, 점착제층(21)과 주위부(22) 사이에서 전술한 블로킹이 생기는 것을 억제하는 데 적합하다.
또한, 본 제조방법의 외형 가공 공정에서는, 전술한 바와 같이, 복수의 갈바노 스캐너(S)를 이용한다. 워크 필름(W)에는, 워크 필름(W)의 폭 방향(D2)으로 이어지도록 복수의 주사 영역(R)이 설정된다. 갈바노 스캐너(S)의 수와 주사 영역(R)의 수는 동일하고, 갈바노 스캐너(S)와 주사 영역(R)을 일대일로 대응시킨다. 그리고, 각 갈바노 스캐너(S)에 의해 하나의 주사 영역(R) 내에서 레이저광(L)을 주사한다. 이와 같은 외형 가공 공정에서는, 갠트리 장치에 의해 레이저광(L)을 주사할 필요가 없다. 그 때문에, 동 공정은, 워크 필름(W)에 대한 고속 가공을 실현하는 데 적합하고, 따라서, 워크 필름(W)의 높은 반송 속도를 확보하는 데 적합하다. 더하여, 외형 가공 공정에서는, 복수의 주사 영역(R)이 워크 필름(W)의 폭 방향(D2)으로 이어진다. 그 때문에, 동 공정은, 워크 필름(W)이 넓은 폭으로서 대형의 적층 필름(Y)을 형성하는 경우여도, 워크 필름(W)의 반송 속도의 저하를 억제하는 데 적합하다. 이와 같은 외형 가공 공정을 포함하는 본 제조방법은, 점착제층(21)을 갖는 적층 필름(Y)을 효율 좋게 제조하는 데 적합하다.
이상과 같이, 본 제조방법은, 연질인 점착제층(21)을 갖는 대형의 적층 필름(Y)을 효율 좋게 제조하는 데 적합하다.
본 제조방법의 외형 가공 공정에서는, 워크 필름(W)은, 가공 스테이지(110)에 흡인되면서, 가공 스테이지(110) 상을 슬라이드 주행된다. 이것은, 외형 가공 공정에 있어서, 워크 필름(W)의 원점착제층(20)에 대해서 레이저광(L)의 초점을 고정밀도로 맞추는 데 바람직하고, 따라서, 원점착제층(20)을 고정밀도로 절단하는 데 바람직하다.
본 제조방법의 외형 가공 공정에서는, 전술한 바와 같이, 레이저 가공 장치(100)에 있어서 각 갈바노 스캐너(S)의 위치가 고정된 상태에서, 레이저광(L)이 주사된다. 본 제조방법에서는, 갈바노 스캐너(S)를 워크 필름에 대해서 폭 방향 및/또는 흐름 방향으로 병진 이동시키기 위한 갠트리 장치 등의 가동 장치는, 필요하지 않다. 그와 같은 가동 장치가 불필요한 것은, 외형 가공 공정에 있어서, 원점착제층(20)을 고정밀도로 절단하는 데 바람직하다. 더하여, 가동 장치가 불필요한 것은, 본 제법 방법을 실시하는 제조 라인의 공간 절약화, 및, 제조 비용의 저감에 도움이 된다.
본 제조방법에 있어서, 레이저 가공 장치(100)에 있어서의 레이저 가공 유닛(120)의 수는 4로 한정되지 않는다. 즉, 레이저 가공 장치(100)가 구비하는 갈바노 스캐너(S)의 수는 4로 한정되지 않는다. 레이저 가공 장치(100)에 있어서의 레이저 가공 유닛(120)의 수는, 2, 3, 5, 또는, 6 이상이어도 된다. 즉, 레이저 가공 장치(100)가 구비하는 갈바노 스캐너(S)의 수는, 2, 3, 5, 또는, 6 이상이어도 된다. 갈바노 스캐너(S)의 수에 따라서, 워크 필름(W)에는, 워크 필름(W)의 폭 방향(D2)으로 이어지도록, 갈바노 스캐너(S)와 동수(2, 3, 5, 또는, 6 이상)의 주사 영역(R)이 설정된다.
레이저 가공 유닛(120)은, 레이저광(L)이 갈바노 스캐너(S) 후에 통과하는 위치에, 텔레센트릭 타입의 fθ 렌즈를 구비해도 된다(레이저 가공 유닛(120)은, 텔레센트릭 타입의 fθ 렌즈를 구비하는 경우, 집광 렌즈(125)를 구비하지 않는다). 당해 fθ 렌즈는, 레이저광(L)의 워크 필름(W)에 대한 입사각의 변화에 상관없이 레이저광(L)의 조사 스폿의 스폿 직경이 동일해지도록 하는데 도움이 된다. 레이저 가공 유닛(120)은, 그와 같은 fθ 렌즈를 구비하는 경우, 반드시 가동 렌즈(124)를 구비하지 않아도 된다. 레이저 가공 유닛(120)에 할당되는 주사 영역(R)의 폭(폭 방향(D2)의 길이)보다도 직경이 큰 텔레센트릭 타입 fθ 렌즈를 이용할 수 있는 경우, 그와 같은 fθ 렌즈를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 레이저 가공 유닛(120)에 있어서는, 텔레센트릭 타입 fθ 렌즈와 전술한 가동 렌즈(124)를 병용해도 된다.
W 워크 필름
X 적층 필름
C 캐리어 필름
H 두께 방향
D1 흐름 방향
D2 폭 방향
10 필름층(제1 필름층)
11 필름
20 원점착제층
21 점착제층
22 주위부
30 필름층(제2 필름층)
31 필름
32 주위부
100 레이저 가공 장치
110 가공 스테이지
111 지지 테이블
111a 흡인공
112 흡인로
120 레이저 가공 유닛
S 갈바노 스캐너

Claims (3)

  1. 캐리어 필름과, 제1 필름층과, 원(原)점착제층과, 제2 필름층을 두께 방향으로 이 순서로 구비하는 장척(長尺)의 워크 필름을 준비하는 준비 공정과,
    상기 워크 필름을 길이 방향으로 주행시키면서, 복수의 갈바노 스캐너를 구비하는 레이저 가공 장치에 의해, 상기 워크 필름에 대해서 상기 제2 필름층측으로부터 레이저광을 조사하여, 상기 제1 필름층 상에서 상기 원점착제층 및 상기 제2 필름층을 절단하는, 외형 가공 공정을 포함하고,
    상기 외형 가공 공정에서는, 상기 워크 필름의 폭 방향으로 이어지도록 당해 워크 필름에 설정되는, 상기 갈바노 스캐너와 동수의 주사 영역과, 상기 복수의 갈바노 스캐너를 일대일로 대응시켜, 각 갈바노 스캐너에 의해 하나의 주사 영역 내에서 레이저광을 주사하는, 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 가공 장치가, 상기 워크 필름을 흡인 가능한 가공 스테이지를 구비하고,
    상기 외형 가공 공정에서는, 상기 워크 필름을 상기 가공 스테이지에서 흡인하면서 당해 가공 스테이지 상을 슬라이드 주행시키는, 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 외형 가공 공정에서는, 상기 워크 필름의 폭 방향에 있어서의 상기 복수의 갈바노 스캐너의 위치가 고정되어 있는, 점착제층을 갖는 적층 필름의 제조 방법.
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