KR20230086821A - 열처리로의 급배기 장치 - Google Patents

열처리로의 급배기 장치 Download PDF

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KR20230086821A
KR20230086821A KR1020210172698A KR20210172698A KR20230086821A KR 20230086821 A KR20230086821 A KR 20230086821A KR 1020210172698 A KR1020210172698 A KR 1020210172698A KR 20210172698 A KR20210172698 A KR 20210172698A KR 20230086821 A KR20230086821 A KR 20230086821A
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chamber
heat treatment
treatment furnace
exhaust
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사토루 나카니시
하재욱
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(주) 한국제이텍트써모시스템
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Abstract

열처리로의 급배기 장치에 관하여 개시한다. 본 발명은, 기판의 가열 건조를 위해 기판을 수용하는 챔버를 구비하고, 상기 챔버 내부에는 복수의 히터 유닛들을 실장하여 상기 히터 유닛들로부터 발생되는 열을 통해 기판을 가열하거나 건조 시키고, 상기 챔버 내의 온도 분위기를 조성하기 위해 프로세스 가스를 공급하는 급기부 및 상기 챔버 내부에 누적되는 파티클을 배출시키기 위하여 상기 챔버 내 고온 기류를 하는 배기부를 포함하는 열처리로의 급배기 장치에 있어서, 상기 챔버내 배기 기류를 외부로 배기 시키기 위해 상기 챔버의 일측에 구비되는 배기 덕트; 및상기 배기 덕트를 경유하도록 배치되어 상기 챔버의 내부로 가스를 공급하는 급기관;을 포함하여 구성될 수 있다.

Description

열처리로의 급배기 장치{Heat treatment furnace supply and exhaust device}
본 발명은 열처리로의 급배기 장치에 관한 것으로 더 상세하게는 챔버내 고온의 배기 기류를 회수하여 급기 가스의 온도를 상승시킨 후 히터를 통해 챔버 내부로 공급하도록 유도하도록 하여 히터의 설계 용량을 줄이고, 소비전력을 저감시키는 열처리로의 급배기 장치에 관한 것이다.
디스플레이 디바이스를 구성하는 글라스 기판은 챔버로 이루어지는 열처리로에 투입한 후 열처리 공정을 통해 제조하게 되는데, 기판 제품의 자체 성능 저하를 막고 제품 불량율을 낮추어 고품질 고수율의 기판을 제조하기 위하여, 열처리 시 각 공정마다 온도 조건을 만족시키도록 설계되어 있다. 또한, 완제품의 수율 향상을 위해서는 열처리 시 기판의 면내 편차가 적을수록 좋기 때문에 보다 고성능의 열처리로가 요구되고 있어, 열처리로에 관한 지속적인 개선이 이루어지고 있다. 기판을 제조하는데 있어서 온도 관리와 온도 균일도는 양품의 기판 품질과 수율 유지를 위해 반드시 필요하다. 예를 들면, 열처리 오븐을 통한 기판 제조 공정에서는 기판 표면에 유기물층이 형성되어 일정량의 수분을 포함할 수 있기 때문에 수분을 증발시키는 건조 공정을 필요로 하고 있다. 글라스 기판 제조 공정에서는 기판 표면에 감광막을 코팅하기 전에 세정공정을 거치고 세정공정 후에는 수분을 제거하기 위한 가열 건조 공정을 수행하고 있으며, 이와 관련하여, 국내등록특허공보 10-1238560 및 국내공개특허공보 10-2013-0028322에는 'LCD 글라스 오븐 챔버'가 제안되어 있다.
한편, 열처리로를 통해 디스플레이 디바이스에 적용되는 기판을 제조하기 위해서는 각 공정 마다 온도 조건을 세팅하여 제어하도록 되어 있는데, 온도를 승온시키기 위한 메인 히터로서 IR 방식의 히터(plate heater, kanthal선이 내장된 quartz 봉 형상의 heater 등)를 구비하여 구성되며, 부가적으로 챔버 내의 온도 분위기 조성과 누적되는 분진 등의 파티클을 배출시키기 위하여 챔버에 CDA, N2 등의 가스를 공급하는 급기 및 배기 계통을 구비하고 있으며, 가스 공급시 온도 편차를 제어하여 정해진 공정 조건에 부합하는 온도로 공급하도록 되어 있다. 그러나, 기존의 열처리로에 적용되고 있는 급배기 장치에 따르면, 급기의 경우, 열처리로가 설치되는 공장 내에서 약 20℃ 내외의 상온 상태의 가스를 공급받아 인-라인 히터를 통해 공정 온도 조건에 적합한 온도까지 승온 후 챔버 내부에 공급하도록 되어 있고, 배기의 경우, 챔버내 고온의 기류를 덕트를 통해 외부로 방출하도록 되어 있다.
따라서, 기존 열처리로의 급배기 장치는, 급기의 경우, 20℃ 내외의 상온 상태의 가스를 인-라인 히터를 통해 공정 온도 조건에 적합한 온도까지 승온 후 챔버 내부에 공급하도록 되어 있어 챔버 내에 급기 가스 온도를 상승시키기 위한 인-라인 히터의 충분한 용량 확보 설계가 요구되고 있고, 이로 인해 비례적으로 소비 전력이 과다하게 투입되고 소비되는 문제가 있다. 이에 따라, 본 발명은, 기존 열처리로의 급배기 장치의 구조 변경을 통해, 배기시 버려지는 챔버내 고온의 배기 기류를 회수하여 급기 가스의 온도를 상승시킨 후 인-라인 히터를 통해 챔버 내부로 공급하도록 함으로써, 급기 가스 승온을 위한 히터의 설계 용량을 줄이고, 소비전력을 저감시키는 새로운 열처리로의 급배기 장치를 제안하고자 한다.
특허문헌 1. 국내 등록특허공보 제10-1238560호(공고일2013년02월28일)
특허문헌 2. 국내 등록특허공보 제10-0722154호(공고일2007년05월28일)
특허문헌 3. 국내 공개특허공보 제10-2013-0028322호(공개일2013년03월19일)
본 발명에서 해결하고자 하는 기술적 과제 중 하나는, 배기 과정에서 버려지는 배기 폐열을 열교환기를 통해 회수하여 챔버 급기 가스 온도를 상승시키는 열처리로의 급배기 장치를 제공하는데 있다.
본 발명에서 해결하고자 하는 기술적 과제 중 하나는, 열처리로의 인-라인 히터의 용량 저감 설계 및 소비전력을 저감시키는 열처리로의 급배기 장치를 제공하는데 있다.
본 발명에서 해결하고자 하는 기술적 과제 중 하나는, 열교환기를 챔버 내부 배기 덕트 공간 내에 설치하여 열손실을 줄이고, 급기 인-라인 히터의 소비전력을 더 낮추는 열처리로의 급배기 장치를 제공하는데 있다.
상기 목적들은, 본 발명에 따르면, 기판의 가열 건조를 위해 기판을 수용하는 챔버를 구비하고, 상기 챔버 내부에는 복수의 히터 유닛들을 실장하여 상기 히터 유닛들로부터 발생되는 열을 통해 기판을 가열하거나 건조 시키고, 상기 챔버 내의 온도 분위기를 조성하기 위해 프로세스 가스를 공급하는 급기부 및 상기 챔버 내부에 누적되는 파티클을 배출시키기 위하여 상기 챔버 내 고온 기류를 하는 배기부를 포함하는 열처리로의 급배기 장치에 있어서, 상기 챔버내 배기 기류를 외부로 배기 시키기 위해 상기 챔버의 일측에 구비되는 배기 덕트; 및 상기 배기 덕트를 경유하도록 배치되어 상기 챔버의 내부로 가스를 공급하는 급기관;을 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 챔버의 내부에 열교환기를 매입형으로 배치하여 구성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 배기 덕트의 내부에 열교환기를 매입형으로 배치하여 구성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 열교환기가 핀형 또는 플레이트형 열교환기 중에서 선택된 어느 하나를 배치하여 구성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 급기관이 상기 열교환기에 매입형으로 설치하여 구성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 급기관의 일단에는 가스 히터를 구비하여 구성될 수 있다.
본 발명은, 열교환기를 사용하여 배기 폐열 회수를 통해 챔버 급기 가스 온도를 상승시키는 효과가 있다.
또한, 본 발명은, 열처리로의 인-라인 히터의 용량 저감 설계 및 소비전력을 저감시키는 열처리로의 급배기 장치를 제공하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은, 열교환기를 챔버 내부 배기 덕트 공간 내에 설치하여 열손실을 줄이고, 급기 인-라인 히터의 소비전력을 낮추는 열처리로의 급배기 장치를 제공하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은, 열교환기를 사용하여 배기 폐열 회수를 통해 챔버 내 급기 가스 온도를 신속하게 상승시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 열처리로의 전체 구조를 보인 예시이다.
도 2는 열처리로의 정면을 보인 예시이다.
도 3은 열처리로의 평면을 보인 예시이다.
도 4는 열처리로의 일측면을 보인 예시이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 나타낸 예시이다.
도 6은 도 5의 A부를 확대도로 나타낸 예시이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 발췌하여 나타낸 것으로 급배기 상태를 나타낸 예시이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 일측면도로 나타낸 예시이다.
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 구성하는 열교환기의 예시이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 '열처리로의 급배기 장치'를 설명한다.
도 1은 열처리로의 전체 외관을 보인 예시이다. 도 2는 열처리로의 정면을 보인 예시이다. 도 3은 열처리로의 평면을 보인 예시이다. 도 4는 열처리로의 측면을 보인 예시이다.
도 1 내지 도 4에 도시된 도면은 열처리로(100)의 전체 구조를 보인 것으로 챔버(200)로 이루어지는 열처리로(100)의 예시이다.
열처리로(100)는 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 기판을 열처리 하기 위하여 열처리 대상 기판을 챔버(200) 안에 마련된 각단에 넣거나 열처리 공정이 완료된 기판을 챔버(200)로부터 반출하기 위해 후면부에는 도어부(110)를, 전면부에는 셔터부(120)를 각각 구비할 수 있다.
또한, 열처리로(100)는 가열 또는 건조를 필요로하는 기판을 수용하는 챔버(200)를 구비하고, 챔버(200) 내에는 발열체로 이루어지는 복수의 히터 유닛(300)들을 실장하여 그 히터 유닛(300)들로부터 발생되는 열로 기판을 가열하거나 수분을 증발 건조 시키도록 구성된다.
그리고, 열처리로(100)는 챔버(200)의 일측으로 프로세스 가스를 포함하는 유체를 유입시키는 급기구 및 챔버(200)내 유체를 배기시키는 배기구를 구비하고, 챔버(200)를 지지하고 받쳐주는 러그들을 포함하는 프레임 및 히터 유닛(300)의 발열선을 접속시켜 전류를 통전시키는 다수의 부스바들이 접속된 도전부를 포함하여 구성되고 있다.
그리고, 도 1 및 도 4에서, 미설명 부호 '210'과 '220'은 챔버(200)의 '내외부 케이싱'이다. 그리고, 미설명 부호 '230'은 챔버(200)에 냉각 기류를 형성하여 챔버(200)의 내부에 구성된 냉각 기류 유도로를 통해 챔버를 균일한 온도 분포로 냉각시키는 '냉각 재킷'이다. 미설명 부호 '240'은 피드 스루들을 돌출시켜 이를 통해 챔버내(200)로 전원을 공급하는 '전원공급부'이다.
참고로, 도 1 및 도 4에 도시된 바와 같은, 열처리로를 구성하는 기본적인 구성들, 예를 들면, 챔버의 구조 및 히터 유닛, 그리고 히터 유닛에 전원을 공급하는 부스바를 포함하는 도전부 및 전원공급부의 구성은 본 발명과 직접 관련이 없다. 다만, 프로세스 가스(N2 등)의 급기 및 배기 계통이 본 발명의 급배기 장치와 관련될 수 있다. 그리고, 열처리로의 기본적인 해당 구성들은 본 발명의 요지와 무관하고 공지된 구성들이므로 본 발명의 구성 및 동작 설명에서 생략하는 것으로 한다.
한편, 기존의 열처리로의 급배기 장치는, 급기의 경우, 20℃ 내외의 상온 상태의 가스를 인-라인 히터를 통해 공정 온도 조건에 적합한 온도까지 히터를 통해 강제 승온시킨 후 챔버 내부에 공급하도록 되어 있어 챔버 내에 급기 가스 온도를 상승시키기 위한 인-라인 히터의 용량을 충분히 확보하는 설계가 요구되고 있고, 이로 인해 히터의 용량이 과다하게 비대해지며, 비례적으로 소비 전력이 과다하게 투입되고 소비되는 문제가 있다.
이에 따라, 본 발명은, 기존 열처리로의 급배기 장치 구조 변경을 통해, 배기 과정에서 버려지는 챔버내 고온의 배기 기류를 회수하여 급기 가스의 온도를 상승시킨 후 인-라인 히터를 통해 챔버 내부로 공급하도록 함으로써, 급기 가스 승온을 위한 히터의 설계 용량을 줄이고, 소비전력을 저감시키는 새로운 열처리로의 급배기 장치를 제시한다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 나타낸 예시이다. 도 6은 도 5의 A부를 확대도로 나타낸 예시이다. 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 발췌하여 나타낸 것으로 급배기 상태를 나타낸 예시이다. 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 일측면도로 나타낸 예시이다. 도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 열처리로의 급배기 장치를 구성하는 열교환기의 예시이다.
본 발명에 따른 열처리로의 급배기 장치는, 도 5 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 외부에서 기판(미도시)이 투입되고, 이 기판의 가열 건조를 위해 기판을 수용하는 챔버(200)를 구비하고, 상기 챔버 (200) 내부에는 복수의 히터 유닛(300)들을 실장하여 상기 히터 유닛(300)들로부터 발생되는 열을 통해 기판을 가열하거나 건조 시키고, 상기 챔버(200) 내의 온도 분위기를 조성하기 위해 프로세스 가스를 공급하는 급기부(350) 및 상기 챔버 내부에 누적되는 파티클을 배출시키기 위하여 챔버(200) 내 고온 기류를 하는 배기부를 포함하여 구성될 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 열처리로의 급배기 장치는, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 챔버(200)내 배기 기류를 외부로 배기 시키기 위해 상기 챔버(200)의 일측에는 배기 덕트(400)를 구비하여 구성될 수 있다.
그리고, 열처리로의 급배기 장치는, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 배기 덕트(400)를 경유하도록 배치되어 상기 챔버(200)의 내부로 가스를 공급하는 급기관(410)을 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 본 발명에 따른 열처리로의 급배기 장치는, 도 5에 도시된 바와 같이, 열처리로(100)의 사각 평면을 기준으로 각 모서리 방향에 4개소에 각각 배치하여 구성될 수 있으며, 이들은 다수의 유로 덕트(미도시)를 통해 상통하도록 연결하여 구성될 수 있다.
그리고, 프로세스 가스를 공급하는 급기관(410)은, 도 8에 도시된 바와 같이, 다수의 급기 포트(411)들을 포함하여 구성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 열처리로의 급배기 장치는, 챔버(200)의 내부에 열교환기(420)를 매입형으로 배치하여 구성될 수 있다.
이렇게, 챔버(200)의 내부에 열교환기(420)를 매입형으로 배치하여 구성하는 경우, 챔버(200)의 내부 고온 기류에 의해 열교환기(420)를 통한 열교환 성능을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 열처리로의 급배기 장치는, 도 7에 도시된 바와 같이,배기 덕트(400)의 내부에 열교환기(420)를 매입형으로 배치하여 구성될 수 있다. 도 7을 참조하면, 배기 덕트(400)의 내부에 열교환기(420)가 매입형으로 배치되어 구성된 예로 나타나 있다.
이렇게, 배기 덕트(400)의 내부에 열교환기(420)를 매입형으로 배치하여 구성하는 경우, 배기 덕트(4000를 따라 배기되는 챔버(200)의 내부 고온 기류가 열교환기(420)와 열교환되어 버려지는 배기 가스에 포함된 고온의 폐열을 열교환기(420)를 통해 회수하여 급기관(410)을 통해 챔버(200) 내부로 공급하는 프로세스 가스(N2)의 공급 온도를 별도의 가열 없이 승온시켜 공급할 수 있게 된다.
그리고, 열처리로의 급배기 장치는, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 배기 덕트(400)를 경유하도록 배치되어 상기 챔버(200)의 내부로 가스를 공급하는 급기관(410)을 포함하여 구성될 수 있다.
즉, 본 발명에 따른, 열처리로의 급배기 장치는, 챔버(200)의 내부고 프로세스 가스를 공급하는 급기관(410)이 배기 덕트(400)를 경유하도록 구성되어 있으므로, 배기 과정에서 고온의 배기 가스의 폐열이 열교환기(420)를 통해 회수되고, 열교환기(420)를 통해 회수된 열은 프로세스 가스의 공급 시 급기관(410)을 승온시켜 공급 가스의 공급 온도를 별도의 에너지원을 사용하거나 가열 수단 없이 열교환기(420)를 통해 승온시켜 공급할 수 있게 된다.
한편, 본 발명에 따르면, 열교환기(420)는 챔버(200)의 내부, 특히 배기 덕트(400)에 설치하는 것이 바람직할 수 있다.
즉, 비교 도면으로 나타내지는 않았으나 예를 들면, 열교환기(420)를 챔버(200)의 외부에 별도의 유닛으로 구성하는 경우에는 열교환기 표면을 통한 열손실과 챔버(200)에서 열교환기(420)로 배기 기류 이동시 배관 표면을 통한 열손실이 발생하게 된다. 이로 인해 배기 가스의 온도가 낮아지게 되며, 급기 가스와의 열교환 효율이 낮아지게 된다.
이와 다르게, 도 7에 도시된 바와 같이, 열교환기(420)를 챔버(200)의 내부, 특히 배기 덕트(400) 공간 내에 설치하면, 외부에 설치하는 경우에 비해 열손실을 현저히 줄일 수 있으며, 급기 인-라인 히터의 소비전력을 더 낮출 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른, 열처리로의 급배기 장치는, 열교환기(420)로서 바람직하게는 도 9에 도시된 바와 같이, 핀형의 열교환기를 선택하여 사용하는 것이 바람직할 수 있다.
도 9를 참조하면, 핀형 열교환기(420)에 급기관(410)이 매입형으로 배치되어 있고, 이를 통해 챔버(200)에서 필요로 하는 프로세스 가스 급기시 프로세스 가스를 승온시키는 별도의 에너지원이나 가열수단 없이 배기 폐열을 회수하는 열교환기(420)를 통해 프로세스 가스를 열교환기(420)에 배입형으로 배치된 배기관(410)을 통해 승온된 상태로 급기시킬 수 있게 된다.
따라서, 급기관(410)은 도 9에 도시된 바와 같이, 열교환기(420)에 매입형으로 설치하여 배치하는 것이 바람직하며, 이 경우 비교되는 유사 배치 형식에 비해 급기관(410)을 통해 공급하는 프로세스 가스의 열교환 성능을 효과적으로 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 즉, 본 발명에 따른, 열처리로의 급배기 장치는, 도 8에 도시된 바와 같이, 급기관(410)의 일단에는 프로세스 가스를 직접 승온시키기 위한 가스 히터(430)를 구비하여 구성될 수 있다.
여기서, 급기관(410)에 설치되는 가스 히터(430)의 설계 용량은, 급기시 열교환기(430)를 통해 프로세스 가스의 온도 상승 작용을 얻을 수 있으므로, 가스 히터(430)의 설계 용량을 기존에 비해 현저히 낮추어 설계할 수 있고, 이를 통해 가스 히터(430)의 부피를 줄일 수 있어 전체 열처리로(100)의 설계 자유도가 증가되고, 저전력화와 에너지의 저소비화가 가능한 열처리로(100)의 설계가 가능하다.
이와 같이, 본 발명은, 챔버내 고온의 배기 기류를 회수하여 급기 가스의 온도를 상승시킨 후 히터를 통해 챔버 내부로 공급하도록 유도하도록 하여 히터의 설계 용량을 줄이고, 소비전력을 저감시키는 열처리로의 급배기 장치를 제공할 수 있는 유리한 이점이 있다.
또한, 본 발명은, 열교환기를 사용하여 배기 폐열 회수를 통해 챔버 급기 가스 온도를 상승시키는 열처리로의 급배기 장치를 설계할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명은, 열처리로의 인-라인 히터의 용량 저감 설계 및 소비전력을 저감시키는 열처리로의 급배기 장치를 설계할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명은, 열교환기를 챔버 내부 배기 덕트 공간 내에 설치하여 열손실을 줄이고, 급기 인-라인 히터의 소비전력을 낮추는 열처리로의 급배기 장치를 설계할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명은, 열교환기를 사용하여 배기 폐열 회수를 통한 챔버 급기 가스 온도를 저에너지 사용으로 빠른 시간안에 상승시킬 수 있는 유리한 이점이 있다.
이상, 설명한 바와 같이, 본 발명은 도면에 도시된 일 실시 예를 참고로 설명되었으나 실시 예로 한정되지 않으며 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 수정 및 변형하여 실시할 수 있으며 수정과 변형이 이루어진 것은 본 발명의 기술 사상에 포함된다.
100: 열처리로 110: 셔터부
120: 도어부 200: 챔버
210: 챔버의 내부 케이싱 220: 챔버의 외부 케이싱
230: 냉각 재킷 240: 전원공급부
300: 히터 유닛 350: 급기부
400: 배기 덕트 410: 급기관
411: 급기 포트 420: 열교환기
430: 가스 히터

Claims (6)

  1. 기판의 가열 건조를 위해 기판을 수용하는 챔버를 구비하고, 상기 챔버 내부에는 복수의 히터 유닛들을 실장하여 상기 히터 유닛들로부터 발생되는 열을 통해 기판을 가열하거나 건조 시키고, 상기 챔버 내의 온도 분위기를 조성하기 위해 프로세스 가스를 공급하는 급기부 및 상기 챔버 내부에 누적되는 파티클을 배출시키기 위하여 상기 챔버 내 고온 기류를 하는 배기부를 포함하는 열처리로의 급배기 장치에 있어서,
    상기 챔버내 배기 기류를 외부로 배기 시키기 위해 상기 챔버의 일측에 구비되는 배기 덕트; 및
    상기 배기 덕트를 경유하도록 배치되어 상기 챔버의 내부로 가스를 공급하는 급기관;을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 열처리로의 급배기 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 챔버의 내부에 열교환기가 매입형으로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 열처리로의 급배기 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 배기 덕트의 내부에 열교환기가 매입형으로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 열처리로의 급배기 장치.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 열교환기가 핀형 또는 플레이트형 열교환기 중에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 열처리로의 급배기 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 급기관이 상기 열교환기에 매입형으로 설치된 것을 특징으로 하는 열처리로의 급배기 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 급기관의 일단에 구비되는 가스 히터를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 열처리로의 급배기 장치.







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KR100722154B1 (ko) 2005-08-16 2007-05-28 주식회사 제우스 밀폐가 개선된 ｌｃｄ 글라스 기판용 오븐챔버
KR101238560B1 (ko) 2012-11-29 2013-02-28 주식회사 디엠텍 Lcd 글라스 오븐챔버
KR20130028322A (ko) 2011-09-09 2013-03-19 주식회사 아이비원 스틸 히터를 이용한 챔버 타입 글라스 건조장치

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