KR20230042458A - An image display device including an optical laminate and an optical film of the optical laminate - Google Patents
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Abstract
이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량이 현저하게 억제된 광학 적층체가 제공된다. 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체는, 광학 필름과, 광학 필름의 일방의 측에 박리 가능하게 임시 부착된 표면 보호 필름과, 광학 필름의 다른 일방의 측에 배치된 점착제층과, 점착제층에 박리 가능하게 임시 부착된 세퍼레이터를 갖는다. 광학 적층체는, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 표면 보호 필름의 하단은 상단보다 외측으로 연장되어 있고, 표면 보호 필름을 이형으로부터 박리할 때의 박리 개시점으로부터 박리 방향으로 1 ㎜ 이간된 위치의 박리 방향과 직교하는 방향에 있어서, 광학 적층체의 외연을 잇는 직선의 길이는 2 ㎜ 이상이고, 표면 보호 필름의 굽힘 하중은 0.5 g 이하이다.An optical laminated body in which peeling failure at the time of peeling a surface protection film from a release processing part was remarkably suppressed. An optical laminate according to an embodiment of the present invention comprises an optical film, a surface protection film temporarily attached to one side of the optical film so that exfoliation is possible, an adhesive layer disposed on the other side of the optical film, and an adhesive layer. has a separator temporarily attached to it so that it can be peeled off. The optical layered body has a release shape other than rectangular. The lower end of the surface protection film extends outward from the upper end, and in the direction orthogonal to the peeling direction at a position separated by 1 mm in the peeling direction from the peeling start point when peeling the surface protection film from the mold release, in the optical laminate The length of the straight line connecting the outer edges is 2 mm or more, and the bending load of the surface protection film is 0.5 g or less.
Description
본 발명은 광학 적층체 및 그 광학 적층체의 광학 필름을 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an image display device including an optical laminate and an optical film of the optical laminate.
휴대 전화, 노트형 퍼스널 컴퓨터 등의 화상 표시 장치에는, 화상 표시를 실현하고, 및/또는 당해 화상 표시의 성능을 높이기 위해서, 다양한 광학 적층체 (예를 들어, 편광판) 가 사용되고 있다. 대표적으로는, 광학 적층체에는 최외층으로서 점착제층이 형성되어, 광학 적층체의 화상 표시 셀에 대한 첩합이 가능하게 되어 있다. 실용적으로는, 당해 점착제층에는 세퍼레이터가 박리 가능하게 임시 부착되어, 실사용까지의 동안에 점착제층을 보호하고 있다. 또한, 실용적으로는, 광학 적층체의 점착제층과 반대측에는 표면 보호 필름이 박리 가능하게 임시 부착되어, 제조 공정 및 수송 등에 있어서 광학 적층체를 보호하고 있다. 최근, 광학 필름을 직사각형 이외의 것으로 가공하는 것 (이형 가공 : 예를 들어, 구석부의 R 형상의 모따기, 노치 및/또는 관통공의 형성) 이 요망되는 경우가 있다. 그러나, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리하면, 박리 불량이 발생되는 경우가 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION Various optical laminates (for example, polarizing plates) are used in image display devices such as mobile phones and notebook computers in order to realize image display and/or improve the performance of the image display. Typically, the pressure-sensitive adhesive layer is formed as the outermost layer in the optical layered body, and bonding to the image display cell of the optical layered body is possible. Practically, a separator is temporarily attached to the pressure-sensitive adhesive layer so as to be peelable, and the pressure-sensitive adhesive layer is protected until actual use. Further, practically, a surface protection film is temporarily attached to the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer of the optical laminate so as to be peelable, and the optical laminate is protected in the manufacturing process and transportation. In recent years, processing of an optical film into a shape other than a rectangle (release processing: for example, formation of R-shaped chamfers, notches, and/or through holes in corners) has been desired in some cases. However, when the surface protection film is peeled off from the release processing part, peeling defects may occur.
본 발명의 주된 목적은, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량이 현저하게 억제된 광학 적층체를 제공하는 것에 있다.The main objective of this invention is providing the optical laminated body in which peeling defect at the time of peeling a surface protection film from a mold release processing part was suppressed remarkably.
본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체는, 광학 필름과, 그 광학 필름의 일방의 측에 박리 가능하게 임시 부착된 표면 보호 필름과, 그 광학 필름의 다른 일방의 측에 배치된 점착제층과, 그 점착제층에 박리 가능하게 임시 부착된 세퍼레이터를 갖는다. 그 광학 적층체는, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 그 표면 보호 필름의 하단은 상단보다 외측으로 연장되어 있고, 그 표면 보호 필름을 그 이형으로부터 박리할 때의 박리 개시점으로부터 박리 방향으로 1 ㎜ 이간된 위치의 그 박리 방향과 직교하는 방향에 있어서, 그 광학 적층체의 외연을 잇는 직선의 길이는 2 ㎜ 이상이고, 그 표면 보호 필름의 굽힘 하중은 0.5 g 이하이다.An optical laminate according to an embodiment of the present invention includes an optical film, a surface protection film temporarily attached to one side of the optical film so that exfoliation is possible, and an adhesive layer disposed on the other side of the optical film, A separator is temporarily attached to the pressure-sensitive adhesive layer so that peeling is possible. The optical layered body has a release shape other than a rectangle. The lower end of the surface protection film extends outward from the upper end, and in a direction orthogonal to the peeling direction at a position separated by 1 mm in the peeling direction from the peeling start point when peeling the surface protective film from the release, The length of a straight line connecting the outer edge of the optical layered body is 2 mm or more, and the bending load of the surface protection film is 0.5 g or less.
일 실시형태에 있어서는, 상기 이형은 구석부의 R 형상의 모따기를 포함한다.In one embodiment, the mold release includes an R-shaped chamfer of a corner portion.
일 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름을 박리할 때의 계기 박리력은 1.0 N 이하이다.In one embodiment, the instrument peel force when peeling the surface protection film is 1.0 N or less.
일 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름의 두께는 80 ㎛ 이하이다.In one embodiment, the surface protection film has a thickness of 80 μm or less.
일 실시형태에 있어서는, 연장 길이는 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이다.In one embodiment, the extension length is 1 μm to 50 μm.
일 실시형태에 있어서는, 상기 광학 필름은 편광자를 포함한다.In one embodiment, the optical film includes a polarizer.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는, 상기한 광학 적층체의 상기 광학 필름을 포함한다.According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. This image display device contains the said optical film of the said optical laminated body.
본 발명의 실시형태에 의하면, 표면 보호 필름과 광학 필름과 세퍼레이터를 가지며, 또한, 이형 가공부를 갖는 광학 적층체에 있어서, 표면 보호 필름의 하단이 상단보다 외측으로 연장되며, 또한, 그 표면 보호 필름을 이형 가공부로부터 박리할 때의 박리 개시점으로부터 박리 방향으로 1 ㎜ 이간된 위치의 박리 방향과 직교하는 방향에 있어서, 광학 적층체의 외연을 잇는 직선의 길이를 2 ㎜ 이상으로 했을 때, 표면 보호 필름의 굽힘 하중을 0.5 g 이하로 함으로써, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량이 현저하게 억제된 광학 적층체를 실현할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, in an optical laminate having a surface protection film, an optical film, and a separator, and having a release processing part, the lower end of the surface protection film extends outward than the upper end, and the surface protection film When the length of a straight line connecting the outer edge of the optical laminate is 2 mm or more in the direction orthogonal to the peeling direction at a position separated by 1 mm in the peeling direction from the peeling start point at the time of peeling from the release processing part, the surface By setting the bending load of the protective film to 0.5 g or less, it is possible to realize an optical layered body in which the peeling defect at the time of peeling the surface protection film from the release processing part is remarkably suppressed.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 광학 적층체의 개략 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체에 있어서의 이형 또는 이형 가공부의 일례를 설명하는 개략 평면도이다.
도 3 은, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체에 있어서의 이형 또는 이형 가공부의 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 4 는, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체에 있어서의 이형 또는 이형 가공부의 추가적인 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 5 는, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체에 있어서의 이형 또는 이형 가공부와 박리 특성의 관계를 설명하기 위한 개략도이다.
도 6 은, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체에 사용될 수 있는 표면 보호 필름의 굽힘 하중의 측정 방법을 설명하기 위한 개략도이다.1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic plan view illustrating an example of a mold release or mold release processing part in an optical laminate according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic plan view illustrating a modified example of a mold release or mold release processing part in an optical laminate according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic plan view illustrating a further modified example of a mold release or mold release processing part in an optical laminate according to an embodiment of the present invention.
Fig. 5 is a schematic diagram for explaining the relationship between a mold release or a mold release processing part and peeling characteristics in an optical laminate according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram for explaining a method for measuring a bending load of a surface protection film that can be used for an optical laminate according to an embodiment of the present invention.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시형태에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태에는 한정되지 않는다. 또한, 보기 쉽게 하기 위해서 도면은 모식적으로 나타내어져 있고, 또한, 도면에 있어서의 길이, 폭, 두께 등의 비율, 그리고 각도 등은 실제와는 상이하다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although specific embodiment of this invention is described with reference to drawings, this invention is not limited to these embodiment. In addition, the drawings are shown schematically for ease of viewing, and the ratios of length, width, thickness, etc., angles, etc. in the drawings are different from those in reality.
A. 광학 적층체A. Optical stack
A-1. 광학 적층체의 개략A-1. Outline of optical stack
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 광학 적층체의 개략 단면도이다. 도시예의 광학 적층체 (100) 는, 광학 필름 (10) 과, 광학 필름 (10) 의 일방의 측에 박리 가능하게 임시 부착된 표면 보호 필름 (20) 과, 광학 필름 (10) 의 다른 일방의 측에 배치된 점착제층 (30) 과, 점착제층 (30) 에 박리 가능하게 임시 부착된 세퍼레이터 (40) 를 갖는다. 광학 적층체가 화상 표시 장치에 적용되었을 경우, 대표적으로는, 세퍼레이터 (40) 가 화상 표시 셀측에 배치된다. 광학 적층체 (실질적으로는, 광학 필름) 의 실제의 사용시에는 세퍼레이터 (40) 는 박리 제거되고, 점착제층 (30) 은, 광학 적층체 (실질적으로는, 광학 필름) 를 화상 표시 장치 (실질적으로는, 화상 표시 셀) 에 첩합하기 위해서 사용될 수 있다. 표면 보호 필름 (20) 은, 대표적으로는, 기재 (21) 와 점착제층 (22) 을 갖는다. 또한, 점착제층 (30) 과 구별하기 위해서, 표면 보호 필름의 점착제층 (22) 을「PF 점착제층」이라고 칭하는 경우가 있다. 표면 보호 필름 (20) 도 또한, 광학 적층체의 실제의 사용시에는 박리 제거된다.1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to an embodiment of the present invention. The optical
본 발명의 실시형태에 있어서는, 광학 적층체는, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 본 명세서에 있어서「직사각형 이외의 이형을 갖는다」란, 광학 적층체를 평면에서 보았을 때의 형상이 직사각형 이외의 형상을 갖는 것을 말한다. 이형은, 대표적으로는, 이형 가공된 이형 가공부이다. 따라서,「직사각형 이외의 이형을 갖는 광학 적층체」(이하,「이형 광학 적층체」라고 칭하는 경우가 있다) 는, 이형 광학 적층체 전체 (즉, 광학 적층체를 평면에서 보았을 때의 형상을 규정하는 외연) 가 직사각형 이외인 경우뿐만 아니라, 직사각형의 광학 적층체의 외연으로부터 내방으로 이간된 부분에 이형 가공부가 형성되어 있는 경우도 포함한다. 이와 같은 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리하고자 하면 박리 불량이 발생되기 쉬운 바, 본 발명의 실시형태에 의하면, 그와 같은 박리 불량을 현저하게 억제할 수 있다. 이형 (이형 가공부) 으로는, 예를 들어 도 2 에 나타내는 바와 같이, 구석부를 R 형상으로 모따기한 것, 관통공, 평면에서 보았을 경우에 오목부가 되는 절삭 가공부를 들 수 있다. 오목부의 대표예로는, 선형 (船形) 에 근사한 형상 (도시 생략), 직사각형, 배스 튜브 형상에 근사한 R 형상, V 자 노치, U 자 노치를 들 수 있다. 이형 (이형 가공부) 의 다른 예로는, 도 3 및 도 4 에 나타내는 바와 같이, 자동차의 미터 패널에 대응한 형상을 들 수 있다. 당해 형상은, 외연이 미터 바늘의 회전 방향을 따른 원호상으로 형성되며, 또한, 외연이 면 방향 내방으로 볼록한 V 자 형상 (R 상을 포함한다) 을 이루는 부위를 포함한다. 말할 것도 없이, 이형 (이형 가공부) 의 형상은 도시예에 한정되지 않는다. 예를 들어, 관통공의 형상은, 도시예의 대략 원형 이외에 목적에 따라서 임의의 적절한 형상 (예를 들어, 타원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 팔각형) 이 채용될 수 있다. 또, 관통공은, 목적에 따라서 임의의 적절한 위치에 형성된다. 관통공은, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 직사각 형상의 광학 적층체의 길이 방향 단부의 대략 중앙부에 형성되어 있어도 되고, 길이 방향 단부의 소정의 위치에 형성되어 있어도 되며, 광학 적층체의 구석부에 형성되어 있어도 되고 ; 도시하고 있지 않지만, 직사각 형상의 광학 적층체의 폭 방향 단부에 형성되어 있어도 되고 ; 도 3 또는 도 4 에 나타내는 바와 같이, 이형 광학 적층체의 중앙부에 형성되어 있어도 된다. 관통공을 복수 형성해도 된다. 또한, 도시예의 형상을 목적에 따라서 적절히 조합해도 된다. 예를 들어, 도 3 또는 도 4 의 이형 광학 적층체의 외연의 임의의 적절한 위치에 V 자 노치 및/또는 U 자 노치를 형성해도 된다. 이와 같은 이형 광학 적층체는, 자동차의 미터 패널, 스마트 폰, 태블릿형 PC 또는 스마트 워치 등의 화상 표시 장치에 바람직하게 사용될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the optical laminate has a release shape other than a rectangle. In the present specification, "having a non-rectangular shape" means that the optical layered body has a shape other than a rectangular shape when viewed in a plan view. The mold release is typically a mold release processing part subjected to mold release processing. Therefore, the "optical layered body having a release shape other than rectangular" (hereinafter sometimes referred to as "released optical layered body") is the entire release optical layered body (ie, the shape when the optical layered body is viewed in a planar shape is defined Not only the case where the outer edge to be) is other than a rectangle, but also the case where the mold release processing part is formed in a part spaced inward from the outer edge of the rectangular optical laminate is also included. If peeling of the surface protection film from such a release processing part is likely to cause peeling defects, according to the embodiment of the present invention, such peeling defects can be remarkably suppressed. As a release (release process part), as shown in FIG. 2, for example, what chamfered the corner part into R shape, a through hole, and the cutting part which becomes a concave part in planar view are mentioned. Representative examples of the concave portion include a shape approximating a ship shape (not shown), a rectangle, an R shape approximating a bath tube shape, a V-shaped notch, and a U-shaped notch. As another example of the release (release processing part), as shown in FIGS. 3 and 4 , a shape corresponding to a meter panel of an automobile is exemplified. The shape includes a region in which the outer edge is formed in an arc shape along the direction of rotation of the meter needle, and the outer edge forms a V-shape (including an R phase) convex inward in the plane direction. Needless to say, the shape of the release (release processing part) is not limited to the illustrated example. For example, the shape of the through hole may be any suitable shape (eg, elliptical, triangular, quadrangular, pentagonal, hexagonal, octagonal) depending on the purpose other than the approximate circular shape shown in the illustrated example. In addition, the through hole is formed at an arbitrary appropriate position depending on the purpose. As shown in FIG. 2 , the through hole may be formed in a substantially central portion of the longitudinal end of the rectangular optical laminate, or may be formed in a predetermined position of the longitudinal end, or at a corner of the optical laminate. may be formed; Although not shown, it may be formed in the width direction edge part of a rectangular optical laminated body; As shown in Fig. 3 or Fig. 4, it may be formed in the central part of the release optical laminate. A plurality of through holes may be formed. Moreover, you may combine the shape of an illustration suitably according to the objective. For example, a V-shaped notch and/or a U-shaped notch may be formed at an arbitrary appropriate position on the outer edge of the release optical laminate of FIG. 3 or FIG. 4 . Such a release optical laminate can be suitably used for an image display device such as a meter panel of a vehicle, a smart phone, a tablet type PC, or a smart watch.
이형이 R 형상을 포함하는 경우, 그 곡률 반경은, 예를 들어 0.2 ㎜ 이상이고, 또 예를 들어 1 ㎜ 이상이며, 또 예를 들어 2 ㎜ 이상이고, 또 예를 들어 3 ㎜ 이상이고, 또 예를 들어 5 ㎜ 이상이고, 또 예를 들어 10 ㎜ 이상이다. 한편, 곡률 반경은, 예를 들어 30 ㎜ 이하이고, 또 예를 들어 25 ㎜ 이하이며, 또 예를 들어 20 ㎜ 이하이고, 또 예를 들어 15 ㎜ 이하이고, 또 예를 들어 10 ㎜ 이하이다. 이형이 구석부를 R 형상으로 모따기한 것인 경우, 당해 구석부의 곡률 반경은, 예를 들어 3 ㎛ ∼ 30 ㎛ 이고, 또 예를 들어 5 ㎛ ∼ 25 ㎛ 이며, 또 예를 들어 10 ㎛ ∼ 25 ㎛ 이다. 당해 구석부의 곡률 반경은, 예를 들어 5 ㎛ ∼ 15 ㎛ 여도 된다. 이와 같은 곡률 반경의 이형 가공부를 갖는 광학 적층체에 있어서, 본 발명의 실시형태에 의한 효과가 현저할 수 있다. 또한, 이형이 R 형상을 포함하는 경우, 복수의 R 형상을 포함해도 된다. 또, 1 개의 R 형상은, 복수의 곡률의 조합이어도 된다.When the release shape includes an R shape, the radius of curvature is, for example, 0.2 mm or more, and, for example, 1 mm or more, and, for example, 2 mm or more, and, for example, 3 mm or more, and For example, it is 5 mm or more, and for example, it is 10 mm or more. On the other hand, the radius of curvature is, for example, 30 mm or less, and for example, 25 mm or less, and for example, 20 mm or less, and for example, 15 mm or less, and for example, 10 mm or less. When the mold release is a corner portion chamfered in a R shape, the radius of curvature of the corner portion is, for example, 3 μm to 30 μm, and, for example, 5 μm to 25 μm, and, for example, 10 μm to 25 μm. am. The radius of curvature of the corner portion may be, for example, 5 μm to 15 μm. In an optical laminate having a mold release processing portion having such a radius of curvature, the effect of the embodiment of the present invention may be remarkable. In addition, when the mold release includes an R shape, it may also include a plurality of R shapes. Also, one R shape may be a combination of a plurality of curvatures.
본 발명의 실시형태에 있어서는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 표면 보호 필름 (20) 의 하단은 상단보다 외측으로 연장되어 있다. 따라서, 표면 보호 필름의 단면 형상은, 상바닥이 하바닥보다 짧은 사다리꼴 형상일 수 있다. 본 발명자들은, 이형 가공에 기인하여 표면 보호 필름에 이와 같은 연장 부분이 형성되고, 당해 연장 부분이 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 특성에 영향을 줄 수 있는 것을 알아내었다. 또한, 본 발명자들은, 광학 적층체의 구성과 연장 부분과 표면 보호 필름의 박리 특성의 관계에 대해서 예의 검토한 결과, 후술하는 표면 보호 필름의 굽힘 하중을 소정치 이하로 설정함으로써, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량을 현저하게 억제할 수 있는 것을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 또한, 실질적으로는 도 1 에 나타내는 바와 같이, 표면 보호 필름의 상단에 대해서 PF 점착제층 (22) 의 하단까지가 외측으로 연장되어 있다. 따라서, 본 명세서에 있어서「연장 길이 L」은, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 표면 보호 필름의 상단을 기점으로 하여 PF 점착제층 (22) 의 하단의 연장 길이를 의미한다. 연장 길이 L 은, 예를 들어 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이고, 또 예를 들어 5 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이며, 또 예를 들어 20 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이고, 또 예를 들어 24 ㎛ ∼ 48 ㎛ 이고, 또 예를 들어 27 ㎛ ∼ 46 ㎛ 이다.In embodiment of this invention, as shown in FIG. 1, the lower end of the
이형 가공은, 임의의 적절한 양식에 의해서 행해질 수 있다. 구체예로는, 레이저광 조사, 엔드 밀에 의한 절삭 가공, 톰슨날이나 피나클 (등록 상표) 날에 의한 타발 가공을 들 수 있다. 도 1 에 나타내는 바와 같은 연장 부분은, 예를 들어, 광학 적층체의 표면 보호 필름측으로부터 레이저광 조사함으로써, 또 예를 들어, 광학 적층체의 세퍼레이터를 위로 하여 엔드 밀에 의해서 절삭 가공함으로써 형성될 수 있다.The mold release process can be performed by any appropriate mode. Specific examples include laser beam irradiation, cutting with an end mill, and punching with a Thompson blade or Pinnacle (registered trademark) blade. The extension part as shown in FIG. 1 is formed, for example, by irradiating a laser beam from the surface protection film side of the optical laminate, or by cutting with an end mill, for example, with the separator of the optical laminate facing upward. can
본 발명의 실시형태에 있어서는, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 표면 보호 필름을 이형 가공부로부터 박리할 때의 박리 개시점으로부터 박리 방향으로 1 ㎜ 이간된 위치의 박리 방향과 직교하는 방향에 있어서, 광학 적층체의 외연을 잇는 직선 AB 의 길이는 2 ㎜ 이상이다. 직선 AB 의 길이는, 예를 들어 3 ㎜ 이상이고, 또 예를 들어 4 ㎜ 이상이며, 또 예를 들어 5 ㎜ 이상이고, 또 예를 들어 6 ㎜ 이상이다. 한편, 직선 AB 의 길이는, 예를 들어 100 ㎜ 이하이고, 또 예를 들어 50 ㎜ 이하이며, 또 예를 들어 30 ㎜ 이하이고, 또 예를 들어 20 ㎜ 이하이고, 또 예를 들어 18 ㎜ 이하이고, 또 예를 들어 15 ㎜ 이하이다. 직선 AB 의 길이는, 예를 들어 5.5 ㎛ ∼ 9.5 ㎛ 여도 되고, 또 예를 들어 5.8 ㎛ ∼ 9.0 ㎛ 여도 된다. 직선 AB 의 길이가 소정치 이상이라는 것은, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 계기를 확보하는 것이 곤란한 것을 의미한다. 예를 들어, 도 3 및 도 4 에 나타내는 바와 같은 이형 광학 적층체는, 표면 보호 필름 박리시에, 박리에 소요되는 힘 즉 응력이 분산되기 때문에, 박리가 매우 곤란해진다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 이와 같은 구성이어도, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 용이하게 또한 박리 불량을 발생시키지 않고 박리할 수 있다.In the embodiment of the present invention, as shown in Fig. 5, in the direction orthogonal to the peeling direction at a position spaced apart by 1 mm in the peeling direction from the peeling start point at the time of peeling the surface protection film from the release processing part, optical The length of straight line AB connecting the outer edges of the laminate is 2 mm or more. The length of straight line AB is, for example, 3 mm or more, and is, for example, 4 mm or more, and is, for example, 5 mm or more, and is, for example, 6 mm or more. On the other hand, the length of straight line AB is, for example, 100 mm or less, for example 50 mm or less, for example 30 mm or less, for example 20 mm or less, and for example 18 mm or less and, for example, 15 mm or less. The length of the straight line AB may be, for example, 5.5 μm to 9.5 μm, or, for example, 5.8 μm to 9.0 μm. That the length of straight line AB is more than a predetermined value means that it is difficult to ensure an opportunity at the time of peeling a surface protection film from a mold release processing part. For example, the release optical laminate as shown in FIGS. 3 and 4 becomes extremely difficult to peel because the force required for peeling, that is, the stress, is dispersed during peeling of the surface protection film. According to embodiment of this invention, even if it is such a structure, a surface protection film can be peeled from a mold release processing part easily and without generating peeling defect.
본 발명의 실시형태에 있어서는, 표면 보호 필름의 굽힘 하중은 0.5 g 이하이다. 표면 보호 필름의 굽힘 하중이 0.5 g 이하이면, 박리가 곤란한 형상을 갖는 이형 가공부여도, 당해 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량을 현저하게 억제할 수 있다. 표면 보호 필름은 상기와 같이 기재와 점착제층을 갖는 바, 기재 두께, 점착제층 두께, 전체 두께, 기재의 탄성률, 점착제층의 탄성률 등을 개별적으로 조정해도, 박리 불량을 포괄적으로 억제할 수 없다. 즉, 표면 보호 필름의 각 구성 요소를 개별적으로 변화시켜도, 어떠한 경우에 박리 불량이 억제되고, 어떠한 경우에 박리 불량이 발생되는지에 대해서, 명확한 상관 관계는 얻어지지 않는다. 본 발명자들은, 표면 보호 필름의 굽힘 하중을 0.5 g 이하로 함으로써, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량을 포괄적으로 억제할 수 있는 것을 알아내었다. 또한, 굽힘 하중은, 아래와 같이 하여 측정될 수 있다. 도 6 에 나타내는 바와 같이, 단면 コ 자형의 지그를 준비하고, 칭량대로부터 30 ㎜ 이간된 위치에 칭량대를 덮도록 하여 설치한다. 표면 보호 필름을 JIS K 7139-A1 의 덤벨형 다목적 시험편 (전체 길이 150 ㎜) 으로 타발한 샘플을 정확히 절반으로 접어 칭량대에 재치 (載置) 하고, 표면 보호 필름이 원래의 형상으로 복원하려고 할 때에 상부의 지그에 의해서 복원이 제한되는 것에 기인하여 칭량대에 가해지는 하중이 굽힘 하중으로서 측정될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the bending load of the surface protection film is 0.5 g or less. If the bending load of the surface protection film is 0.5 g or less, peeling failure at the time of peeling the surface protection film from the mold release process part can be remarkably suppressed even if it is a release processing part having a shape in which peeling is difficult. Since the surface protection film has the base material and the pressure-sensitive adhesive layer as described above, even if the thickness of the base material, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, the total thickness, the elastic modulus of the base material, the elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer, etc. are individually adjusted, peeling failure cannot be comprehensively suppressed. That is, even if each constituent element of a surface protection film is changed individually, a clear correlation cannot be obtained about in what case the peeling defect is suppressed and in what case the peeling defect arises. The inventors of the present invention found that peeling defects at the time of peeling the surface protection film from the release processing part could be suppressed comprehensively by setting the bending load of the surface protection film to 0.5 g or less. In addition, bending load can be measured as follows. As shown in Fig. 6, a cross-sectional C-shaped jig is prepared and installed at a position separated from the weighing table by 30 mm so as to cover the weighing table. A sample from which the surface protection film is punched out with a dumbbell-shaped multipurpose test piece (total length 150 mm) of JIS K 7139-A1 is folded exactly in half and placed on a weighing table, and the surface protection film tries to restore its original shape. The load applied to the weighing table due to the limitation of restoration by the upper jig at the time may be measured as a bending load.
표면 보호 필름의 굽힘 하중은, 예를 들어 0.5 g 이하이고, 또 예를 들어 0.3 g 이하이며, 또 예를 들어 0.2 g 이하이고, 또 예를 들어 0.1 g 이하이고, 또 예를 들어 0.07 g 이하이고, 또 예를 들어 0.05 g 이하이고, 또 예를 들어 0.04 g 이하이고, 또 예를 들어 0.03 g 이하이다. 굽힘 하중의 하한은, 예를 들어 0.005 g 일 수 있다. 표면 보호 필름의 굽힘 하중이 이와 같은 범위이면, 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량을 극히 양호하게 방지할 수 있다.The bending load of the surface protection film is, for example, 0.5 g or less, and for example, 0.3 g or less, and for example, 0.2 g or less, and for example, 0.1 g or less, and for example, 0.07 g or less. , and for example, 0.05 g or less, and for example, 0.04 g or less, and for example, 0.03 g or less. The lower limit of the bending load may be, for example, 0.005 g. If the bending load of the surface protection film is within such a range, peeling defects at the time of peeling the surface protection film can be extremely well prevented.
본 발명의 실시형태에 있어서는, 표면 보호 필름을 박리할 때의 계기 박리력은, 예를 들어 1.0 N 이하이고, 또 예를 들어 0.9 N 이하이며, 또 예를 들어 0.8 N 이하이고, 또 예를 들어 0.7 N 이하이고, 또 예를 들어 0.6 N 이하이고, 또 예를 들어 0.5 N 이하이다. 계기 박리력의 하한은, 예를 들어 0.05 N 일 수 있다. 계기 박리력이 이와 같은 범위이면, 표면 보호 필름을 용이하게 박리할 수 있어, 박리 불량을 현저하게 억제할 수 있다. 계기 박리력은, 예를 들어, JIS Z 0237 에 준하여 측정될 수 있다. 구체적으로는, 시험 샘플 (광학 적층체) 의 표면 보호 필름 표면에, 박리 방향을 따라서 픽업 테이프를 첩부하고, 당해 픽업 테이프를 사용하여 인장 방향 90°에서 박리했을 때의 박리력이, 계기 박리력으로서 측정될 수 있다. 픽업 테이프의 폭은 예를 들어 10 ㎜ 일 수 있고, 인장 속도는 예를 들어 300 ㎜/분일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the instrument peel force at the time of peeling the surface protection film is, for example, 1.0 N or less, and for example, 0.9 N or less, and for example, 0.8 N or less, and for example For example, it is 0.7 N or less, and for example, it is 0.6 N or less, and it is, for example, 0.5 N or less. The lower limit of the meter peel force may be, for example, 0.05 N. If the instrument peeling force is within such a range, the surface protection film can be easily peeled, and peeling defects can be remarkably suppressed. The meter peel force can be measured according to JIS Z 0237, for example. Specifically, a pick-up tape was affixed to the surface of the surface protection film of the test sample (optical laminate) along the peeling direction, and the peeling force when peeled at 90° in the tensile direction using the pick-up tape was the instrument peeling force. can be measured as The width of the pick-up tape may be eg 10 mm, and the pulling speed may be eg 300 mm/min.
A-2. 광학 필름A-2. optical film
광학 필름 (10) 은, 단일층으로 구성되는 필름이어도 되고, 적층체여도 된다. 단일층으로 구성되는 광학 필름의 구체예로는, 윈도우 필름, 편광자, 위상차 필름을 들 수 있다. 적층체로서 구성되는 광학 필름의 구체예로는, 편광판 (대표적으로는, 편광자와 보호 필름의 적층체), 터치 패널용 도전성 필름, 표면 처리 필름, 그리고, 이들 단일층으로 구성되는 광학 필름 및/또는 적층체로서 구성되는 광학 필름을 목적에 따라서 적절히 적층한 적층체 (예를 들어, 반사 방지용 원 편광판, 터치 패널용 도전층 형성 편광판) 를 들 수 있다.The
A-3. 표면 보호 필름A-3. surface protection film
표면 보호 필름 (20) 은, 상기와 같이, 대표적으로는 기재 (21) 와 PF 점착제층 (22) 을 갖는다. 기재 (21) 는, 상기 원하는 굽힘 하중을 실현할 수 있는 한에 있어서 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다. 구성 재료의 구체예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌나프탈레이트 (PEN), 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT) 등의 폴리에스테르계 폴리머 ; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머 ; 폴리카보네이트계 폴리머 ; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴계 폴리머 ; 폴리노르보르넨 등의 시클로올레핀계 폴리머 ; 를 들 수 있다. 이것들은, 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 바람직하게는 폴리에스테르계 폴리머이고, 그 중에서도, 광학 특성 (예를 들어, 투명성), 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차폐성, 등방성, 가요성, 치수 안정성 등의 특성이 우수한 것을 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 점탄성이 지나치게 강하지 않은 폴리에스테르 필름은, 상기 원하는 굽힘 하중의 실현이 용이할 수 있다. 폴리에스테르 필름의 특성은, 폴리카르복실산 성분 및 폴리올 성분의 종류, 조합 등을 조정함으로써 제어할 수 있다. 예를 들어, 기재의 구성 재료로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 폴리부틸렌테레프탈레이트를 조합하여 사용해도 된다.The
기재의 구성 재료의 다른 예로는, 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 폴리머 ; 염화비닐계 폴리머 ; 나일론 6, 나일론 6,6, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머 ; 이미드계 폴리머 ; 술폰계 폴리머 ; 폴리에테르술폰계 폴리머 ; 폴리에테르에테르케톤계 폴리머 ; 폴리페닐렌술파이드계 폴리머 ; 비닐알코올계 폴리머 ; 염화비닐리덴계 폴리머 ; 비닐부티랄계 폴리머 ; 아릴레이트계 폴리머 ; 폴리옥시메틸렌계 폴리머 ; 에폭시계 폴리머를 들 수 있다. 이것들은, 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Other examples of the constituent material of the substrate include styrenic polymers such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer; Vinyl chloride type polymer; amide polymers such as nylon 6, nylon 6,6, and aromatic polyamide; Imide type polymer; sulfone-based polymers; polyether sulfone polymers; polyether ether ketone polymers; polyphenylene sulfide polymers; vinyl alcohol-based polymers; Vinylidene chloride type polymer; vinyl butyral polymers; arylate-based polymers; Polyoxymethylene type polymer; Epoxy-type polymers are exemplified. These may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.
일 실시형태에 있어서는, 기재는, 수지층/접착층/수지층의 적층 구조를 갖고 있어도 된다. 수지층의 구성 재료는, 기재의 구성 재료로서 상기에서 설명한 것을 들 수 있다. 접착층의 구성 재료로는, 접착제, 점착제, 앵커 코트제를 들 수 있다. 접착층은, 접착제층 또는 점착제층과 앵커 코트층의 적층 구조를 갖고 있어도 된다. 2 개의 수지층 사이에 소정의 특성 (예를 들어, 탄성률) 을 갖는 접착층을 개재시킴으로써, 목적에 따른 원하는 정도로 탄성률 (예를 들어, 인장 탄성률) 을 작게 할 수 있다. 결과적으로, 상기 원하는 굽힘 하중의 실현이 용이할 수 있다.In one embodiment, the substrate may have a laminated structure of resin layer/adhesive layer/resin layer. As for the constituent material of the resin layer, those described above as constituent materials of the base material are exemplified. Examples of the constituent materials of the adhesive layer include adhesives, pressure-sensitive adhesives, and anchor coat agents. The adhesive layer may have a laminated structure of an adhesive layer or an adhesive layer and an anchor coat layer. By interposing an adhesive layer having a predetermined characteristic (eg, elastic modulus) between the two resin layers, the elastic modulus (eg, tensile elastic modulus) can be reduced to a desired level depending on the purpose. As a result, realization of the desired bending load can be facilitated.
기재 (21) 의 인장 탄성률은, 예를 들어 2.3 × 109 ㎩ 이하이고, 바람직하게는 1.5 × 109 ㎩ 이하이며, 보다 바람직하게는 1.3 × 109 ㎩ 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.0 × 107 ㎩ ∼ 1.3 × 109 ㎩ 이고, 특히 바람직하게는 1.0 × 108 ㎩ ∼ 1.3 × 109 ㎩ 이다. 기재의 인장 탄성률이 이와 같은 범위이면, 상기 원하는 굽힘 하중의 실현이 용이할 수 있다. 또한, 인장 탄성률은, JIS K 7161 에 준거하여 측정된다.The tensile modulus of elasticity of the
기재의 두께는, 예를 들어 20 ㎛ ∼ 70 ㎛ 이고, 또 예를 들어 25 ㎛ ∼ 60 ㎛ 이며, 또 예를 들어 25 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이다. 기재의 두께가 이와 같은 범위이면, 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량을 극히 양호하게 방지할 수 있다.The thickness of the substrate is, for example, 20 μm to 70 μm, further, for example, 25 μm to 60 μm, and further, for example, 25 μm to 50 μm. If the thickness of the base material is within such a range, peeling defects at the time of peeling the surface protection film can be extremely well prevented.
PF 점착제층 (22) 으로는, 상기 원하는 굽힘 하중을 실현할 수 있는 한에 있어서 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 구체예로는, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제를 들 수 있다. 점착제의 베이스 수지를 형성하는 모노머의 종류, 수, 조합 및 배합비, 그리고, 가교제의 배합량, 반응 온도, 반응 시간 등을 조정함으로써, 목적에 따른 원하는 특성을 갖는 점착제를 조제할 수 있다. 점착제의 베이스 수지는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 베이스 수지는 바람직하게는 아크릴 수지이다 (즉, PF 점착제층은, 바람직하게는 아크릴계 점착제로 구성된다). PF 점착제층을 구성하는 점착제는, 베이스 수지가 활성 수소 함유 관능기 (예를 들어, 수산기) 를 갖는 폴리머를 포함한다는 특징을 갖는다. 이와 같은 베이스 수지이면, 원하는 저장 탄성률을 갖는 PF 점착제층이 얻어질 수 있다. PF 점착제층을 구성하는 점착제의 상세한 것은, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2018-123281호에 기재되어 있고, 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용되어 있다.As the
PF 점착제층 (22) 의 두께는, 예를 들어 5 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이고, 또 예를 들어 10 ㎛ ∼ 40 ㎛ 이며, 또 예를 들어 10 ㎛ ∼ 30 ㎛ 이다. PF 점착제층의 두께가 이와 같은 범위이면, 상기 원하는 굽힘 하중의 실현이 용이할 수 있다.The thickness of the
PF 점착제층 (22) 의 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 G' 는, 예를 들어 0.5 × 106 (㎩) ∼ 3.0 × 106 (㎩) 일 수 있다. 저장 탄성률이 이와 같은 범위이면, 상기 원하는 굽힘 하중의 실현이 용이할 수 있다. 또한, 점착성과 박리성의 밸런스가 우수한 점착제층 (결과적으로, 표면 보호 필름) 을 얻을 수 있다. 또한, 저장 탄성률은, 예를 들어, 동적 점탄성 측정으로부터 구할 수 있다.The storage elastic modulus G' of the
표면 보호 필름 (20) 의 두께는, 예를 들어 80 ㎛ 이하이고, 또 예를 들어 30 ㎛ ∼ 80 ㎛ 이며, 또 예를 들어 35 ㎛ ∼ 70 ㎛ 이고, 또 예를 들어 40 ㎛ ∼ 60 ㎛ 이다. 표면 보호 필름의 두께가 이와 같은 범위이면, 상기 원하는 굽힘 하중의 실현이 용이할 수 있다. 또, 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량을 극히 양호하게 방지할 수 있다. 또한, 표면 보호 필름의 두께란, 기재와 PF 점착제층의 합계 두께를 말한다.The thickness of the
A-4. 점착제층A-4. adhesive layer
점착제층 (30) 으로는, 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 점착제층을 구성하는 점착제의 구체예로는, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제를 들 수 있다. 점착제의 베이스 수지를 형성하는 모노머의 종류, 수, 조합 및 배합비, 그리고, 가교제의 배합량, 반응 온도, 반응 시간 등을 조정함으로써, 목적에 따른 원하는 특성을 갖는 점착제를 조제할 수 있다. 점착제의 베이스 수지는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 투명성, 가공성 및 내구성 등의 관점에서, 아크릴계 점착제가 바람직하다. 점착제층을 구성하는 점착제의 상세한 것은, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2014-115468호에 기재되어 있고, 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용되어 있다. 점착제층 (30) 의 두께는, 예를 들어 10 ㎛ ∼ 100 ㎛ 일 수 있다. 점착제층 (30) 의 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 G' 는, 예를 들어 1.0 × 104 (㎩) ∼ 1.0 × 106 (㎩) 일 수 있다.As the pressure-
A-5. 세퍼레이터A-5. separator
세퍼레이터 (40) 로는, 임의의 적절한 세퍼레이터가 채용될 수 있다. 구체예로는, 박리제에 의해서 표면 코트된 플라스틱 필름, 부직포 또는 종이를 들 수 있다. 박리제의 구체예로는, 실리콘계 박리제, 불소계 박리제, 장사슬 알킬아크릴레이트계 박리제를 들 수 있다. 플라스틱 필름의 구체예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름을 들 수 있다. 세퍼레이터의 두께는, 예를 들어 10 ㎛ ∼ 100 ㎛ 일 수 있다.As the
B. 화상 표시 장치B. Image display device
본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체 (실질적으로는, 광학 필름) 는, 화상 표시 장치에 바람직하게 적용될 수 있다. 따라서, 광학 적층체 (실질적으로는, 광학 필름) 를 포함하는 화상 표시 장치도 또한, 본 발명의 실시형태에 포함된다. 화상 표시 장치는, 대표적으로는, 화상 표시 셀과, 화상 표시 셀에 점착제층을 개재하여 첩합된 광학 필름을 포함한다. 화상 표시 장치로는, 예를 들어, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로루미네선스 (EL) 표시 장치, 양자 도트 표시 장치를 들 수 있다.An optical laminate (substantially an optical film) according to an embodiment of the present invention can be suitably applied to an image display device. Therefore, an image display device including an optical laminate (substantially an optical film) is also included in the embodiments of the present invention. An image display device typically includes an image display cell and an optical film bonded to the image display cell via an adhesive layer. As an image display device, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence (EL) display device, and a quantum dot display device are mentioned, for example.
실시예Example
이하, 실시예에 의해서 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에는 한정되지 않는다. 실시예에 있어서의 평가 항목은 아래와 같다. 또, 특별히 명기하지 않는 경우에는, 실시예에 있어서의「부」및「％」는 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples, but the present invention is not limited to these examples. Evaluation items in Examples are as follows. In addition, "part" and "%" in an Example are based on weight unless otherwise specified.
(1) 연장 길이 L(1) Extension length L
실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체의 단면을 주사형 전자 현미경으로 촬상하고, 얻어진 화상으로부터 측정하였다.Cross sections of optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples were imaged with a scanning electron microscope and measured from the obtained images.
(2) 표면 보호 필름의 굽힘 하중(2) Bending load of surface protection film
도 6 에 나타내는 바와 같이, 단면 コ 자형의 지그를 준비하고, 칭량대로부터 30 ㎜ 이간된 위치에 설치하였다. 실시예 및 비교예에서 사용한 표면 보호 필름을 JIS K 7139-A1 의 덤벨형 다목적 시험편 (전체 길이 150 ㎜) 으로 타발한 샘플로 하였다. 이 샘플을 정확히 절반으로 접어 칭량대에 재치하고, 샘플 (표면 보호 필름) 이 원래의 형상으로 복원하려고 할 때에 칭량대에 가해지는 하중을 굽힘 하중으로서 측정하였다.As shown in Fig. 6, a cross-sectional U-shaped jig was prepared and installed at a position separated by 30 mm from the weighing table. The surface protection film used in Examples and Comparative Examples was made into a sample punched out with a dumbbell-shaped multi-purpose test piece (total length 150 mm) of JIS K 7139-A1. This sample was folded exactly in half and placed on a weighing table, and the load applied to the weighing table when the sample (surface protection film) tried to return to its original shape was measured as a bending load.
(3) 박리성 및 계기 박리력(3) Peelability and instrument peel strength
JIS Z 0237 에 준하여 측정하였다. 구체적으로는, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체의 표면 보호 필름 표면에, 박리 방향 (R 형상에 대한 접선과 직교하는 방향) 을 따라서 픽업 테이프를 첩부하고, 당해 픽업 테이프를 사용하여 인장 방향 90°에서 박리했을 때의 박리력을, 계기 박리력으로서 측정하였다. 이 측정에 있어서의 픽업 테이프로는, 닛토 전공 주식회사 제조의 폴리에스테르 점착 테이프인 No.315 를 사용하였다. 픽업 테이프의 폭은 10 ㎜ 이고, 첩합 부분의 길이는 10 ㎜ 로 하며, 인장 속도는 300 ㎜/분으로 하였다. 측정은 n = 6 에서 행하고, 명확하게 일탈한 값을 제외한 나머지의 평균치를 계기 박리력으로 하였다.It was measured according to JIS Z 0237. Specifically, a pick-up tape was affixed to the surface of the surface protection film of the optical laminate obtained in Examples and Comparative Examples along the peeling direction (direction orthogonal to the tangent to the R shape), and the pick-up tape was used in the tensile direction. The peel force when peeled at 90° was measured as an instrument peel force. As the pick-up tape in this measurement, No. 315, which is a polyester adhesive tape manufactured by Nitto Electric Co., Ltd., was used. The width of the pick-up tape was 10 mm, the length of the bonding portion was 10 mm, and the tensile speed was 300 mm/min. The measurement was performed at n = 6, and the average value of the remaining values excluding values that clearly deviated was taken as the instrument peel force.
＜제조예 1 : 아크릴계 폴리머 A1 의 조제＞<Production Example 1: Preparation of Acrylic Polymer A1>
교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 2-에틸헥실아크릴레이트 96 부 및 2-하이드록시에틸아크릴레이트 4 부를 함유하는 모노머 혼합물을 투입하였다. 또한, 이 모노머 혼합물 100 부에 대해서, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1 부를 아세트산에틸 100 부와 함께 투입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 55 ℃ 부근에 유지하고 8 시간 중합 반응을 행하여, 중량 평균 분자량 (Mw) 54 만의 아크릴계 폴리머 A1 의 용액을 조제하였다.A monomer mixture containing 96 parts of 2-ethylhexyl acrylate and 4 parts of 2-hydroxyethyl acrylate was charged into a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a condenser. Further, to 100 parts of this monomer mixture, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was introduced together with 100 parts of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced with gentle stirring to replace the flask with nitrogen. A solution of acrylic polymer A1 having a weight average molecular weight (Mw) of 540,000 was prepared by carrying out a polymerization reaction for 8 hours while maintaining the liquid temperature inside at around 55°C.
＜제조예 2 : 아크릴계 폴리머 A2 의 조제＞<Production Example 2: Preparation of acrylic polymer A2>
2-에틸헥실아크릴레이트 91 부 및 4-하이드록시부틸아크릴레이트 9 부를 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외에는 제조예 1 과 동일하게 하여, 중량 평균 분자량 (Mw) 54 만의 아크릴계 폴리머 A2 의 용액을 조제하였다.A solution of acrylic polymer A2 having a weight average molecular weight (Mw) of 540,000 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that a monomer mixture containing 91 parts of 2-ethylhexyl acrylate and 9 parts of 4-hydroxybutyl acrylate was used. .
＜제조예 3 : 점착제 조성물 PSA1 의 조제＞<Production Example 3: Preparation of pressure-sensitive adhesive composition PSA1>
제조예 1 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 A1 의 용액의 고형분 100 부에 대해서, 이소시아네이트계 가교제 (토소사 제조, 상품명「콜로네이트 HX」, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체) 5 부 및 반응성 계면 활성제 (다이이치 공업 제약사 제조, 상품명「아쿠알론 HS-10」) 0.3 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물 PSA1 의 용액을 조제하였다.With respect to 100 parts of the solid content of the solution of the acrylic polymer A1 obtained in Production Example 1, an isocyanate-based crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation, trade name "Colonate HX", isocyanurate of hexamethylene diisocyanate) 5 parts and a reactive surfactant ( A solution of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition PSA1 was prepared by blending 0.3 part of Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd., trade name "Aqualon HS-10".
＜제조예 4 : 점착제 조성물 PSA2 의 조제＞<Production Example 4: Preparation of pressure-sensitive adhesive composition PSA2>
제조예 2 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 A2 의 용액의 고형분 100 부에 대해서, 이소시아네이트계 가교제 (토소사 제조, 상품명「콜로네이트 HX」, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체) 3.5 부, 폴리에테르 변성 (옥시알킬렌 사슬을 갖는) 오르가노폴리실록산 화합물 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조, 상품명「KF-353」) 0.2 부, 및 도전제 (토쿄 화성 공업사 제조, 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 : LiTFSI) 0.15 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물 PSA2 의 용액을 조제하였다.With respect to 100 parts of the solid content of the solution of the acrylic polymer A2 obtained in Production Example 2, 3.5 parts of an isocyanate-based crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation, trade name "Colonate HX", isocyanurate of hexamethylene diisocyanate), polyether modification ( 0.2 part of an organopolysiloxane compound having an oxyalkylene chain (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., trade name "KF-353"), and a conductive agent (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide: LiTFSI) 0.15 part was blended to prepare a solution of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition PSA2.
＜제조예 5 : 점착제 조성물 PSA3 의 조제＞<Production Example 5: Preparation of pressure-sensitive adhesive composition PSA3>
제조예 2 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 A2 의 용액의 고형분 100 부에 대해서, 이소시아네이트계 가교제 (토소사 제조, 상품명「콜로네이트 L」, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 부가물) 12 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물 PSA3 의 용액을 조제하였다.12 parts of an isocyanate-based crosslinking agent (trade name "Colonate L" manufactured by Tosoh Corporation, trimethylolpropane/tolylene diisocyanate adduct) was blended with 100 parts of the solid content of the solution of the acrylic polymer A2 obtained in Production Example 2, to form an acrylic pressure-sensitive adhesive composition. A solution of PSA3 was prepared.
＜제조예 6 : 표면 보호 필름 SPV1 의 제작＞<Production Example 6: Production of surface protection film SPV1>
폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 38 ㎛) 에, 제조예 3 에서 얻어진 점착제 조성물 PSA1 을 건조 후의 두께가 10 ㎛ 가 되도록 하여 도포 및 건조시키고, 기재 (PET 필름 : 38 ㎛)/점착제층 (10 ㎛) 의 구성을 갖는 표면 보호 필름 SPV1 을 제작하였다. SPV1 의 굽힘 하중은 0.025 g 이었다.On a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 38 μm), the pressure-sensitive adhesive composition PSA1 obtained in Production Example 3 was applied and dried so that the thickness after drying was 10 μm, and the base material (PET film: 38 μm) / pressure-sensitive adhesive layer (10 [mu]m) to produce a surface protection film SPV1. The bending load of SPV1 was 0.025 g.
＜제조예 7 : 표면 보호 필름 SPV2 의 제작＞<Production Example 7: Production of surface protection film SPV2>
점착제층의 두께를 20 ㎛ 로 한 것 이외에는 제조예 6 과 동일하게 하여 표면 보호 필름 SPV2 를 제작하였다. SPV2 의 굽힘 하중은 0.027 g 이었다.Surface protection film SPV2 was produced in the same manner as in Production Example 6 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 20 µm. The bending load of SPV2 was 0.027 g.
＜제조예 8 : 표면 보호 필름 SPV3 의 제작＞<Production Example 8: Production of surface protection film SPV3>
점착제층의 두께를 30 ㎛ 로 한 것 이외에는 제조예 6 과 동일하게 하여 표면 보호 필름 SPV3 을 제작하였다. SPV3 의 굽힘 하중은 0.022 g 이었다.Surface protection film SPV3 was produced in the same manner as in Production Example 6 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 30 µm. The bending load of SPV3 was 0.022 g.
＜제조예 9 : 표면 보호 필름 SPV4 의 제작＞<Production Example 9: Production of surface protection film SPV4>
PET 필름의 두께를 50 ㎛ 로 한 것 이외에는 제조예 6 과 동일하게 하여 표면 보호 필름 SPV4 를 제작하였다. SPV4 의 굽힘 하중은 0.137 g 이었다.Surface protection film SPV4 was produced in the same manner as in Production Example 6 except that the thickness of the PET film was 50 µm. The bending load of SPV4 was 0.137 g.
＜제조예 10 : 표면 보호 필름 SPV5 의 제작＞<Production Example 10: Production of Surface Protection Film SPV5>
PET 필름의 두께를 75 ㎛ 로 한 것 이외에는 제조예 6 과 동일하게 하여 표면 보호 필름 SPV5 를 제작하였다. SPV5 의 굽힘 하중은 0.624 g 이었다.Surface protection film SPV5 was produced in the same manner as in Production Example 6 except that the thickness of the PET film was 75 µm. The bending load of SPV5 was 0.624 g.
＜제조예 11 : 표면 보호 필름 SPV6 의 제작＞<Production Example 11: Production of Surface Protection Film SPV6>
점착제 조성물 PSA1 대신에 점착제 조성물 PSA2 를 사용하여 두께 15 ㎛ 의 점착제층을 형성한 것 이외에는 제조예 6 과 동일하게 하여 표면 보호 필름 SPV6 을 제작하였다. SPV6 의 굽힘 하중은 0.027 g 이었다.Surface protection film SPV6 was produced in the same manner as in Production Example 6, except that a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm was formed using PSA2 instead of PSA1. The bending load of SPV6 was 0.027 g.
＜제조예 12 : 표면 보호 필름 SPV7 의 제작＞<Production Example 12: Production of Surface Protection Film SPV7>
PET 필름의 두께를 125 ㎛ 로 한 것, 및, 점착제 조성물 PSA1 대신에 점착제 조성물 PSA3 을 사용하여 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 형성한 것 이외에는 제조예 6 과 동일하게 하여 표면 보호 필름 SPV7 을 제작하였다. SPV7 의 굽힘 하중은 3.092 g 이었다.Surface protection film SPV7 was produced in the same manner as in Production Example 6, except that the thickness of the PET film was 125 µm and a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 20 µm was formed using the pressure-sensitive adhesive composition PSA3 instead of the pressure-sensitive adhesive composition PSA1. The bending load of SPV7 was 3.092 g.
＜실시예 1＞<Example 1>
1. HC 형성 TAC 필름의 제작1. Fabrication of HC-formed TAC film
우레탄아크릴레이트를 주성분으로 하는 자외선 경화형 수지 모노머 또는 올리고머가 아세트산부틸에 용해된 수지 용액 (DIC (주) 제조, 상품명 : 유니딕 17-806, 고형분 농도 : 80 ％) 에, 그 용액 중의 고형분 100 부당, 광 중합 개시제 (BASF (주) 제조, 상품명 : IRGACURE907) 를 5 부, 및 레벨링제 (DIC (주) 제조, 상품명 : GRANDICPC4100) 를 0.1 부 첨가하였다. 당해 용액 중의 고형분 농도가 36 ％ 가 되도록, 당해 용액에 시클로펜타논과 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 45 : 55 의 비율로 첨가하여, 하드 코트층 형성 재료를 조제하였다. 이 하드 코트층 형성 재료를, 경화 후의 하드 코트층의 두께가 7 ㎛ 가 되도록 TAC 필름 (두께 : 25 ㎛) 상에 도포하여 도막을 형성하였다. 도막을 90 ℃ 에서 1 분간 건조시키고, 추가로 고압 수은 램프로 적산 광량 300 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 도막을 경화시켜 하드 코트층을 형성하여 HC 형성 TAC 필름을 제작하였다. 얻어진 HC 형성 TAC 필름에는, 비누화 처리를 실시하였다.A resin solution (manufactured by DIC Co., Ltd., trade name: Unidic 17-806, solid content concentration: 80%) in which an ultraviolet curable resin monomer or oligomer containing urethane acrylate as a main component was dissolved in butyl acetate, per 100 parts of solid content in the solution 5 parts of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF Co., Ltd., trade name: IRGACURE907) and 0.1 part of a leveling agent (manufactured by DIC Corporation, trade name: GRANDICPC4100) were added. Cyclopentanone and propylene glycol monomethyl ether were added to the solution at a ratio of 45:55 so that the solid content concentration in the solution was 36% to prepare a material for forming a hard coat layer. This hard coat layer forming material was applied onto a TAC film (thickness: 25 µm) so that the thickness of the hard coat layer after curing was 7 µm to form a coating film. The coating film was dried at 90°C for 1 minute, and further irradiated with ultraviolet rays with a cumulative light quantity of 300 mJ/cm 2 by a high-pressure mercury lamp to cure the coating film to form a hard coat layer to prepare an HC-forming TAC film. Saponification treatment was performed on the obtained HC-formed TAC film.
2. 편광판의 제작2. Fabrication of polarizer
두께 30 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을, 속도비가 상이한 롤간에 있어서, 30 ℃, 0.3 ％ 농도의 요오드 용액 중에서 1 분간 염색하면서, 3 배까지 연신하였다. 그 후, 60 ℃, 4 ％ 농도의 붕산, 10 ％ 농도의 요오드화칼륨을 함유하는 수용액 중에 0.5 분간 침지하면서 총연신 배율이 6 배까지 연신하였다. 이어서, 30 ℃, 1.5 ％ 농도의 요오드화칼륨을 함유하는 수용액 중에 10 초간 침지함으로써 세정한 후, 50 ℃ 에서 4 분간 건조를 행하고, 두께 12 ㎛ 의 편광자를 얻었다. 당해 편광자의 편면에 상기에서 얻어진 HC 형성 TAC 필름을, 다른 편면에 시클로올레핀계 수지 (COP) 필름 (닛폰 제온사 제조, 상품명「ZF14」) 을, 각각 폴리비닐알코올계 접착제에 의해서 첩합하여 편광판을 제작하였다. 또한, HC 형성 TAC 필름은, HC 가 외측 (편광자와 반대측) 이 되도록 하여 첩합하였다.A polyvinyl alcohol film having a thickness of 30 μm was stretched up to 3 times between rolls having different speed ratios while dyeing for 1 minute in a 0.3% iodine solution at 30°C. Thereafter, the film was stretched at a total draw ratio of up to 6 times while being immersed for 0.5 minutes at 60°C in an aqueous solution containing boric acid at a concentration of 4% and potassium iodide at a concentration of 10%. Next, after washing by immersing for 10 seconds in an aqueous solution containing potassium iodide at 30°C and a concentration of 1.5%, drying was performed at 50°C for 4 minutes to obtain a polarizer having a thickness of 12 μm. The HC-formed TAC film obtained above was bonded to one side of the polarizer, and a cycloolefin-based resin (COP) film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name "ZF14") was bonded to the other side with a polyvinyl alcohol-based adhesive to form a polarizing plate. produced. In addition, the HC-formed TAC film was bonded so that the HC was on the outside (opposite to the polarizer).
3. 광학 적층체의 제작3. Fabrication of the optical stack
상기에서 얻어진 편광판의 HC 표면에, 제조예 6 에서 얻어진 SPV1 을, SPV1 의 점착제층을 개재하여 첩합하였다. 한편, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (미츠비시 화학 폴리에스테르 필름 제조, 상품명「MRF38」, 세퍼레이터 필름) 의 박리 처리면에, 두께 20 ㎛ 의 아크릴계 점착제층을 형성하였다. 이어서, 상기에서 얻어진 편광판의 COP 필름측에, 세퍼레이터 필름/점착제층의 적층체의 점착제층을 첩합하였다. 이와 같이 하여, 표면 보호 필름/편광판 (광학 필름)/점착제층/세퍼레이터의 구성을 갖는 광학 적층체를 제작하였다.SPV1 obtained in Production Example 6 was bonded to the HC surface of the polarizing plate obtained above through the pressure-sensitive adhesive layer of SPV1. On the other hand, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 20 μm was formed on the release-treated surface of a polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film, trade name “MRF38”, separator film) treated with a silicone-based release agent. Next, the adhesive layer of the laminated body of a separator film/adhesive layer was bonded to the COP film side of the polarizing plate obtained above. In this way, an optical laminate having a configuration of surface protection film/polarizing plate (optical film)/adhesive layer/separator was produced.
4. 광학 적층체의 제작4. Fabrication of the optical stack
얻어진 광학 적층체를 150 ㎜ × 150 ㎜ 의 사이즈의 직사각형으로 타발하고, 그 4 구석을 R 형상으로 모따기 (이형 가공) 하였다. 이형 가공은 레이저광 조사에 의해서 행하였다. 구체적으로는, 레이저 광을 표면 보호 필름측으로부터 하기의 조건에서 조사하였다. 모따기 부분 (R 형상) 의 곡률 반경은 5 ㎜ 였다.The obtained optical layered body was punched into a rectangle having a size of 150 mm x 150 mm, and the four corners were chamfered into an R shape (release processing). The mold release process was performed by laser beam irradiation. Specifically, laser light was irradiated from the surface protection film side under the following conditions. The radius of curvature of the chamfered portion (R shape) was 5 mm.
사용 장치 : TLSM-301 (타케이 전기 공업 주식회사 제조)Apparatus used: TLSM-301 (manufactured by Takei Electric Industry Co., Ltd.)
발진기 파장·출력 : RF 여기 CO2 레이저 (9.4 ㎛)Oscillator wavelength/output: RF excitation CO 2 laser (9.4 ㎛)
가공 속도 : 500 ㎜/초Machining speed: 500 mm/sec
패스 횟수 : 1 회Number of passes: 1 time
가공 파워 : 표 1 에 나타내는 바와 동일Machining power: same as shown in Table 1
얻어진 광학 적층체에 있어서의 표면 보호 필름은, 하단이 상단보다 외측으로 연장되어 있고, 그 연장 길이는 29.4 ㎛ 였다. 얻어진 광학 적층체를 상기 (3) 의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The lower end of the surface protection film in the obtained optical layered body extended outward than the upper end, and the extension length was 29.4 µm. The obtained optical laminate was subjected to the evaluation of (3) above. A result is shown in Table 1.
＜실시예 2 ∼ 3＞<Examples 2 to 3>
모따기 부분 (R 형상) 의 곡률 반경을 표 1 에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 이형 가공된 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체에 있어서의 표면 보호 필름은, 하단이 상단보다 외측으로 연장되어 있었다. 연장 길이를 표 1 에 나타낸다. 또한, 얻어진 광학 적층체를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except having changed the radius of curvature of the chamfer (R shape) as shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and obtained the optical laminated body which carried out the mold release process. As for the surface protection film in the obtained optical laminated body, the lower end extended outward than the upper end. The extension length is shown in Table 1. In addition, the obtained optical layered body was subjected to the same evaluation as in Example 1. A result is shown in Table 1.
＜실시예 4 ∼ 15 및 비교예 1 ∼ 6＞<Examples 4 to 15 and Comparative Examples 1 to 6>
표 1 에 나타내는 표면 보호 필름을 사용하여, 표 1 에 나타내는 모따기 부분 (R 형상) 의 곡률 반경에서 이형 가공한 것, 및, 레이저의 가공 파워를 표 1 에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 이형 가공된 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체에 있어서의 표면 보호 필름은, 하단이 상단보다 외측으로 연장되어 있었다. 연장 길이를 표 1 에 나타낸다. 또한, 얻어진 광학 적층체를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Example 1 except that the surface protection film shown in Table 1 was subjected to mold release processing at the radius of curvature of the chamfered portion (R shape) shown in Table 1, and the processing power of the laser was changed as shown in Table 1. In the same manner as above, an optical laminate subjected to release processing was obtained. As for the surface protection film in the obtained optical laminated body, the lower end extended outward than the upper end. The extension length is shown in Table 1. In addition, the obtained optical layered body was subjected to the same evaluation as in Example 1. A result is shown in Table 1.
표 1 중의 약칭은 아래와 같다. 또, 표 1 중의 각 성분의 배합량은, 폴리머 100 부에 대한 부수이다. 또한, 표 1 중의「박리 불량」이란, 픽업 테이프를 개재하여 표면 보호 필름을 박리하려고 했을 때, 표면 보호 필름이 박리되지 않고, 픽업 테이프만 박리된 상태로 되어 박리할 수 없었던 것을 의미한다.Abbreviated names in Table 1 are as follows. In addition, the compounding quantity of each component in Table 1 is the number of parts with respect to 100 parts of polymers. In addition, "defective peeling" in Table 1 means that when trying to peel the surface protection film through the pickup tape, the surface protection film did not peel, and only the pickup tape remained in a peeled state and could not be peeled.
2EHA : 2-에틸헥실아크릴레이트2EHA: 2-ethylhexyl acrylate
HEA : 2-하이드록시에틸아크릴레이트HEA: 2-hydroxyethyl acrylate
4HBA : 4-하이드록시부틸아크릴레이트4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate
C/HX : 이소시아네이트계 가교제 (토소사 제조, 상품명「콜로네이트 HX」, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체)C/HX: Isocyanate-based crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation, trade name "Colonate HX", isocyanurate of hexamethylene diisocyanate)
C/L : 이소시아네이트계 가교제 (토소사 제조, 상품명「콜로네이트 L」, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 부가물)C/L: Isocyanate-based crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation, trade name "Colonate L", trimethylolpropane/tolylene diisocyanate adduct)
아쿠알론 HS-10 : 반응성 계면 활성제 (다이이치 공업 제약사 제조, 상품명「아쿠알론 HS-10」)Aqualon HS-10: Reactive surfactant (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd., trade name "Aqualon HS-10")
KF-353 : 폴리에테르 변성 (옥시알킬렌 사슬을 갖는) 오르가노폴리실록산 화합물 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조, 상품명「KF-353」)KF-353: polyether-modified (having an oxyalkylene chain) organopolysiloxane compound (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., trade name "KF-353")
LiTFSI : 도전제 (토쿄 화성 공업사 제조, 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드)LiTFSI: conductive agent (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide)
＜평가＞＜Evaluation＞
표 1 로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 의하면, 소정의 이형 가공부를 갖는 광학 적층체에 있어서, 표면 보호 필름의 굽힘 하중을 0.5 g 이하로 함으로써, 이형 가공부로부터 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 불량을 현저하게 억제할 수 있다.As is clear from Table 1, according to the examples of the present invention, in the optical laminate having a predetermined release processing portion, the surface protection film can be peeled from the release processing portion by setting the bending load of the surface protection film to 0.5 g or less. Peeling defects at the time can be remarkably suppressed.
본 발명의 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 바람직하게 이용되고, 특히, 자동차의 인스트루먼트 패널, 스마트 폰, 태블릿형 PC 또는 스마트 워치로 대표되는 이형 가공부를 갖는 화상 표시 장치에 바람직하게 이용될 수 있다.The optical layered body of the present invention is preferably used in an image display device, and in particular, can be preferably used in an image display device having a mold release processing unit typified by an automobile instrument panel, a smart phone, a tablet PC, or a smart watch. .
10 : 광학 필름
20 : 표면 보호 필름
21 : 기재
22 : PF 점착제층
30 : 점착제층
40 : 세퍼레이터
100 : 광학 적층체10: optical film
20: surface protection film
21: materials
22: PF adhesive layer
30: adhesive layer
40: separator
100: optical laminate
Claims (7)
그 광학 적층체는, 직사각형 이외의 이형을 갖고,
그 표면 보호 필름의 하단이 상단보다 외측으로 연장되어 있으며,
그 표면 보호 필름을 그 이형으로부터 박리할 때의 박리 개시점으로부터 박리 방향으로 1 ㎜ 이간된 위치의 그 박리 방향과 직교하는 방향에 있어서, 그 광학 적층체의 외연을 잇는 직선의 길이가 2 ㎜ 이상이고,
그 표면 보호 필름의 굽힘 하중이 0.5 g 이하인, 광학 적층체.An optical film, a surface protection film temporarily attached to one side of the optical film so that peeling is possible, an adhesive layer disposed on the other side of the optical film, and a separator temporarily attached to the pressure-sensitive adhesive layer so that peeling is possible. As an optical laminate having,
The optical laminate has a release shape other than rectangular,
The lower end of the surface protection film extends outward than the upper end,
The length of a straight line connecting the outer edge of the optical layered body in a direction orthogonal to the peeling direction at a position separated by 1 mm in the peeling direction from the peeling start point at the time of peeling the surface protection film from the mold release is 2 mm or more ego,
The optical laminate whose bending load of the surface protection film is 0.5 g or less.
상기 이형이 구석부의 R 형상의 모따기를 포함하는, 광학 적층체.According to claim 1,
The optical laminated body in which the said mold release includes the R-shaped chamfer of a corner part.
상기 표면 보호 필름을 박리할 때의 계기 박리력이 1.0 N 이하인, 광학 적층체.According to claim 1 or 2,
An optical laminate having an instrument peeling force of 1.0 N or less when peeling off the surface protection film.
상기 표면 보호 필름의 두께가 80 ㎛ 이하인, 광학 적층체.According to any one of claims 1 to 3,
The optical laminated body whose thickness of the said surface protection film is 80 micrometers or less.
연장 길이가 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 인, 광학 적층체.According to any one of claims 1 to 4,
An optical laminate having an extended length of 1 μm to 50 μm.
상기 광학 필름이 편광자를 포함하는, 광학 적층체.According to any one of claims 1 to 5,
The optical layered body in which the said optical film contains a polarizer.
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