KR20230003126A - Coloring composition, film, color filter, solid-state imaging device and image display device - Google Patents

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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

착색제와, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물과, 에폭시기를 갖는 화합물을 포함하는 착색 조성물이며, 에폭시기를 갖는 화합물은, 식 (EP-1)로 나타나는 기를 갖는 화합물 Ep를 포함하고, 착색 조성물의 전고형분 중에 착색제를 40질량% 이상 함유하는 착색 조성물. 상술한 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 막, 상술한 막을 포함하는 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치.

Figure pct00075
A coloring composition containing a coloring agent, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, and a compound having an epoxy group, wherein the compound having an epoxy group includes a compound Ep having a group represented by formula (EP-1), The coloring composition containing 40 mass % or more of a coloring agent in solid content. A film obtained by using the coloring composition described above, a color filter containing the film, a solid-state imaging device, and an image display device.
Figure pct00075

Description

착색 조성물, 막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치Coloring composition, film, color filter, solid-state imaging device and image display device

본 발명은, 착색제를 포함하는 착색 조성물에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 착색 조성물을 이용한 막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a coloring composition containing a coloring agent. Moreover, this invention relates to the film|membrane using a coloring composition, a color filter, a solid-state image sensor, and an image display apparatus.

최근, 디지털 카메라, 카메라 장착 휴대 전화 등의 보급으로부터, 전하 결합 소자(CCD) 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 수요가 크게 늘고 있다. 디스플레이나 광학 소자의 키 디바이스로서 컬러 필터가 사용되고 있다. 컬러 필터는, 통상, 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소를 구비하고 있으며, 투과광을 3원색으로 분해하는 역할을 하고 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] In recent years, demand for solid-state imaging devices such as charge-coupled device (CCD) image sensors has greatly increased due to the spread of digital cameras, camera-equipped mobile phones, and the like. Color filters are used as key devices for displays or optical elements. A color filter usually has pixels of three primary colors of red, green, and blue, and serves to decompose transmitted light into three primary colors.

컬러 필터의 각 색의 화소는, 염료 등의 착색제를 포함하는 착색 조성물을 이용하여 제조되어 있다.Pixels of each color of the color filter are manufactured using a coloring composition containing a coloring agent such as dye.

특허문헌 1에는, 착색제와, 바인더 수지와, 광중합 개시제와, 광중합성 화합물과, 에폭시 화합물을 포함하는 착색 조성물을 이용하여 컬러 필터의 착색 화소를 형성하는 것이 기재되어 있다. 실시예에서는, 에폭시 화합물로서 2,2'-비스(하이드록시메틸)-1-뷰탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시란일)사이클로헥세인 부가물, 소비톨의 글리시딜에터화 에폭시 화합물이 이용되고 있다.Patent Literature 1 describes forming colored pixels of a color filter using a coloring composition containing a coloring agent, a binder resin, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable compound, and an epoxy compound. In the examples, as the epoxy compound, 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2'-bis(hydroxymethyl)-1-butanol, glycy of sorbitol A dietherified epoxy compound is used.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2020-030234호Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-030234

최근에는, 컬러 필터 등에 이용되는 막은, 보다 박막화가 요망되고 있다. 원하는 분광 성능을 유지하면서 박막화를 달성하기 위해서는, 막형성에 이용하는 착색 조성물 중의 착색제의 농도를 높이는 것이 필요하다.In recent years, a film used for a color filter or the like has been desired to be made thinner. In order to achieve thin film formation while maintaining desired spectral performance, it is necessary to increase the concentration of the coloring agent in the coloring composition used for film formation.

그러나, 착색 조성물 중의 착색제 농도를 높이면 상대적으로 착색제 이외의 성분의 함유량이 적어지기 때문에, 경화성이 부족한 경향이 있다. 이 때문에, 착색 조성물을 이용하여 포토리소그래피법으로 화소를 형성함에 있어서, 착색 조성물 중의 착색제 농도를 높임에 따라, 노광 후의 착색 조성물층을 현상하여 미노광부를 현상 제거할 때에, 노광부의 착색 조성물층에도 현상액이 침투하여 팽윤하기 쉬워져, 그 결과, 얻어지는 화소의 측벽에 요철이 발생하여 화소의 패턴 직선성이 뒤떨어지기 쉬운 경향이 있었다. 여기에서, 화소의 패턴 직선성이 뒤떨어진다는 것은, 화소를 상방으로부터 관찰했을 때에, 화소의 측벽에 큰 요철(울퉁불퉁함)이 확인되어, 직선상이 아닌 것을 말한다.However, when the concentration of the coloring agent in the coloring composition is increased, the content of components other than the coloring agent is relatively reduced, so the curability tends to be insufficient. For this reason, in forming a pixel by the photolithography method using a coloring composition, by increasing the concentration of the coloring agent in the coloring composition, when developing the colored composition layer after exposure to develop and remove the unexposed portion, the colored composition layer of the exposed portion is also The developing solution permeates and swells easily, and as a result, there is a tendency that unevenness occurs on the sidewall of the resultant pixel, and the pattern linearity of the pixel tends to be poor. Here, poor pattern linearity of a pixel means that when the pixel is observed from above, large unevenness (unevenness) is observed on the side wall of the pixel, and is not linear.

또, 본 발명자가 특허문헌 1에 기재된 착색 조성물에 대하여 검토한 결과, 이 착색 조성물이더라도, 얻어지는 화소의 패턴 직선성에 대하여 개선의 여지가 있는 것을 알 수 있었다.Moreover, as a result of examining the coloring composition described in Patent Document 1 by the present inventors, it was found that even with this coloring composition, there is room for improvement with respect to the pattern linearity of the pixel obtained.

따라서, 본 발명의 목적은, 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있는 착색 조성물을 제공하는 것에 있다. 또, 착색 조성물을 이용한 막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치를 제공하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a coloring composition capable of forming a pixel excellent in pattern linearity. Moreover, it is providing the film|membrane using a coloring composition, a color filter, a solid-state image sensor, and an image display apparatus.

본 발명자의 검토에 의하면, 이하의 구성으로 함으로써 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 따라서, 본 발명은 이하를 제공한다.According to the study of the present inventor, it was found that the above object can be achieved by setting it as the following structure, and came to complete the present invention. Accordingly, the present invention provides the following.

<1> 착색제와, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물과, 에폭시기를 갖는 화합물을 포함하는 착색 조성물이며,<1> A coloring composition containing a colorant, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, and a compound having an epoxy group,

상기 에폭시기를 갖는 화합물은, 식 (EP-1)로 나타나는 기를 갖는 화합물 Ep를 포함하고,The compound having an epoxy group includes a compound Ep having a group represented by formula (EP-1),

상기 착색 조성물의 전고형분 중에 상기 착색제를 40질량% 이상 함유하는, 착색 조성물;Coloring composition containing 40 mass % or more of the said coloring agent in the total solids of the said coloring composition;

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

식 중, L1EP는, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화 수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기를 나타내고, 파선은 연결손을 나타낸다.In formula, L 1EP represents the aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and the broken line represents a connecting hand.

<2> 상기 화합물 Ep는 글리시딜에터기를 갖는, <1>에 기재된 착색 조성물.<2> The coloring composition according to <1>, wherein the compound Ep has a glycidyl ether group.

<3> 상기 식 (EP-1)의 L1EP는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기인, <1> 또는 <2>에 기재된 착색 조성물.<3> The coloring composition according to <1> or <2>, wherein L 1EP in the formula (EP-1) is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.

<4> 상기 식 (EP-1)의 L1EP는 글리시딜에터기를 치환기로서 갖는 방향족 탄화 수소기인, <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<4> The coloring composition according to any one of <1> to <3>, wherein L 1EP in the formula (EP-1) is an aromatic hydrocarbon group having a glycidyl ether group as a substituent.

<5> 상기 화합물 Ep는 상기 식 (EP-1)로 나타나는 기를 2개 이상 갖는, <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<5> The coloring composition according to any one of <1> to <4>, wherein the compound Ep has two or more groups represented by the formula (EP-1).

<6> 상기 화합물 Ep의 분자량이 250~2500인, <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<6> The colored composition according to any one of <1> to <5>, wherein the compound Ep has a molecular weight of 250 to 2500.

<7> 상기 화합물 Ep의 에폭시기가(價)가 5mmol/g 이상인, <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<7> The colored composition according to any one of <1> to <6>, wherein the compound Ep has an epoxy value of 5 mmol/g or more.

<8> 상기 착색제는 염료를 포함하는, <1> 내지 <7> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<8> The coloring composition according to any one of <1> to <7>, in which the coloring agent contains a dye.

<9> 상기 염료는 잔텐 색소 구조를 갖는 화합물인, <8>에 기재된 착색 조성물.<9> The coloring composition according to <8>, wherein the dye is a compound having a xanthene dye structure.

<10> 산기를 갖는 수지를 더 포함하는, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<10> The colored composition according to any one of <1> to <9>, further comprising a resin having an acid group.

<11> 광중합 개시제를 더 포함하는, <1> 내지 <10> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<11> The colored composition according to any one of <1> to <10>, further comprising a photopolymerization initiator.

<12> <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 막.<12> A film obtained by using the coloring composition according to any one of <1> to <11>.

<13> <12>에 기재된 막을 포함하는 컬러 필터.<13> A color filter comprising the film according to <12>.

<14> <12>에 기재된 막을 포함하는 고체 촬상 소자.<14> A solid-state imaging device including the film according to <12>.

<15> <12>에 기재된 막을 포함하는 화상 표시 장치.<15> An image display device comprising the film according to <12>.

본 발명에 의하면, 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있는 착색 조성물을 제공할 수 있다. 또, 착색 조성물을 이용한 막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coloring composition which can form the pixel excellent in pattern linearity can be provided. Moreover, a film|membrane using a coloring composition, a color filter, a solid-state image sensor, and an image display apparatus can be provided.

이하에 있어서, 본 발명의 내용에 대하여 상세하게 설명한다.Below, the content of this invention is demonstrated in detail.

본 명세서에 있어서, "~"란 그 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 의미로 사용된다.In this specification, "-" is used by the meaning which includes the numerical value described before and after that as a lower limit value and an upper limit value.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하고 있지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 기(원자단)와 함께 치환기를 갖는 기(원자단)도 포함한다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함한다.In the notation of a group (atomic group) in this specification, the notation that does not describe substitution and unsubstitution includes a group (atomic group) having a substituent as well as a group (atomic group) having no substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서에 있어서 "노광"이란, 특별히 설명하지 않는 한, 광을 이용한 노광뿐만 아니라, 전자선, 이온빔 등의 입자선을 이용한 묘화도 노광에 포함시킨다. 또, 노광에 이용되는 광으로서는, 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV광), X선, 전자선 등의 활성광선 또는 방사선을 들 수 있다.In this specification, "exposure" includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified. Further, examples of light used for exposure include bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), active rays such as X-rays and electron beams, or radiation.

본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타내고, "(메트)아크릴"은, 아크릴 및 메타크릴의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타내며, "(메트)아크릴로일"은, 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타낸다.In the present specification, “(meth)acrylate” represents either or both of acrylate and methacrylate, and “(meth)acryl” represents both acryl and methacryl or either of them. and "(meth)acryloyl" represents either or both of acryloyl and methacryloyl.

본 명세서에 있어서, 구조식 중의 Me는 메틸기를 나타내고, Et는 에틸기를 나타내며, Bu는 뷰틸기를 나타내고, Ph는 페닐기를 나타낸다.In the present specification, Me in the structural formula represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, and Ph represents a phenyl group.

본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, GPC(젤 퍼미에이션 크로마토그래피)법에 의하여 측정한 폴리스타이렌 환산값이다.In this specification, a weight average molecular weight and a number average molecular weight are polystyrene conversion values measured by the GPC (Gel Permeation Chromatography) method.

본 명세서에 있어서, 전고형분이란, 조성물의 전체 성분으로부터 용제를 제외한 성분의 총질량을 말한다.In this specification, the total solid content refers to the total mass of components excluding the solvent from all components of the composition.

본 명세서에 있어서, 안료란, 용제에 대하여 용해되기 어려운 색재를 의미한다.In this specification, a pigment means a color material that is difficult to dissolve with respect to a solvent.

본 명세서에 있어서, 염료란, 용제에 대하여 용해되기 쉬운 색재를 의미한다.In this specification, a dye means a color material that is easily dissolved with respect to a solvent.

본 명세서에 있어서 "공정"이라는 용어는, 독립적인 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우이더라도 그 공정의 소기 작용이 달성되면, 본 용어에 포함된다.In the present specification, the term "process" is included in the term not only as an independent process, but also when the scavenging action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes.

<착색 조성물><Coloring composition>

본 발명의 착색 조성물은, 착색제와, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물과, 에폭시기를 갖는 화합물을 포함하는 착색 조성물이며,The coloring composition of the present invention is a coloring composition containing a coloring agent, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, and a compound having an epoxy group,

상기 에폭시기를 갖는 화합물은, 식 (EP-1)로 나타나는 기를 갖는 화합물 Ep를 포함하고,The compound having an epoxy group includes a compound Ep having a group represented by formula (EP-1),

상기 착색 조성물의 전고형분 중에 착색제를 40질량% 이상 함유하는 것을 특징으로 한다.It is characterized by containing 40% by mass or more of a colorant in the total solids of the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 착색 조성물의 전고형분 중에 착색제를 40질량% 이상 함유하고 있음에도 불구하고, 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있다. 이와 같은 효과가 얻어지는 이유는 이하에 의한 것이라고 추측된다.The coloring composition of the present invention can form a pixel excellent in pattern linearity in spite of containing 40% by mass or more of the coloring agent in the total solid content of the coloring composition. The reason why such an effect is obtained is estimated to be based on the following.

화합물 Ep가 갖는 식 (EP-1)로 나타나는 기는, 에폭시기의 α위가 메틸렌기이기 때문에, 에폭시기 근방의 입체 장해가 작고, 에폭시기의 반응성이 높다고 추측된다. 이 때문에, 가교율이 높은 막을 형성할 수 있다고 추측된다.In the group represented by the formula (EP-1) of the compound Ep, since the α-position of the epoxy group is a methylene group, it is estimated that the steric hindrance in the vicinity of the epoxy group is small and the reactivity of the epoxy group is high. For this reason, it is estimated that a film|membrane with a high crosslinking rate can be formed.

또, 일반적으로, 에폭시기를 갖는 화합물에 있어서는, 경화 반응 시에 에폭시기가 개환하여 2급 알코올이 생성된다. 식 (EP-1)로 나타나는 기에 있어서는, 에폭시기의 β위가 L1EP로 나타나는 기, 즉, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화 수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기이기 때문에, 생성되는 2급 알코올의 산성도가 낮다고 추측된다. 이 때문에, 계 내에서의 염 교환을 일으키기 어렵고, 가교물의 이온성이 저하되기 때문에 막의 흡수성을 저하시킬 수 있음으로써, 막의 팽윤을 억제할 수 있었다고 추측된다.Moreover, in general, in the compound which has an epoxy group, the epoxy group ring-opens at the time of hardening reaction, and a secondary alcohol is produced|generated. In the group represented by formula (EP-1), since the β-position of the epoxy group is a group represented by L 1EP , that is, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, a secondary generated. It is assumed that the acidity of the alcohol is low. For this reason, salt exchange in the system is difficult to occur, and since the ionicity of the crosslinked product is lowered, it is estimated that swelling of the membrane can be suppressed by reducing the water absorption of the membrane.

이와 같은 이유에 의하여, 본 발명의 착색 조성물은, 착색 조성물의 전고형분 중에 착색제를 40질량% 이상 함유하고 있음에도 불구하고, 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있었다고 추측된다.For this reason, it is estimated that the coloring composition of the present invention was able to form a pixel excellent in pattern linearity even though the coloring composition contained 40% by mass or more of the coloring agent in the total solid content of the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 컬러 필터용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있다. 구체적으로는, 컬러 필터의 착색 화소 형성용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있다. 착색 화소로서는, 적색 화소, 녹색 화소, 청색 화소, 마젠타색 화소, 사이안색 화소 및 황색 화소 등을 들 수 있다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 국제 공개공보 제2019/102887호에 기재된 화소 구성에도 적합하게 사용할 수 있다. 이하, 본 발명의 착색 조성물에 이용되는 각 성분에 대하여 설명한다.The coloring composition of this invention can be used suitably as a coloring composition for color filters. Specifically, it can be suitably used as a coloring composition for forming colored pixels of a color filter. Examples of colored pixels include red pixels, green pixels, blue pixels, magenta pixels, cyan pixels and yellow pixels. Moreover, the coloring composition of this invention can be used suitably also for the pixel structure described in international publication 2019/102887. Hereinafter, each component used in the coloring composition of the present invention is described.

<<착색제>><<Colorant>>

본 발명의 착색 조성물은, 착색제를 함유한다. 착색제로서는, 안료 및 염료를 들 수 있다. 본 발명의 착색 조성물에 포함되는 착색제는, 염료를 포함하는 것이 바람직하다. 염료를 포함하는 착색제를 이용한 착색 조성물은, 착색제로서 안료만을 이용한 착색 조성물에 비하여, 현상 시에 팽윤하기 쉬운 경향이 있고, 얻어지는 화소의 패턴 직선성이 뒤떨어지기 쉬운 경향이 있었지만, 본 발명에 의하면, 착색제로서 염료를 포함하는 것을 이용한 경우이더라도, 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있기 때문에, 염료를 이용한 경우에 있어서 특히 본 발명의 효과가 현저하다.The coloring composition of this invention contains a coloring agent. As a coloring agent, a pigment and dye are mentioned. It is preferable that the coloring agent contained in the coloring composition of this invention contains dye. Compared to a coloring composition using only a pigment as a coloring agent, a coloring composition using a coloring agent containing a dye tends to swell easily during development and tends to be inferior in pattern linearity of the obtained pixel, but according to the present invention, Even when a dye containing a dye is used as the coloring agent, since pixels having excellent pattern linearity can be formed, the effect of the present invention is particularly remarkable when a dye is used.

본 발명의 착색 조성물에 있어서는, 착색제로서는 염료만을 이용해도 되지만, 포토리소그래피법으로 패턴(화소)을 형성했을 때에 있어서, 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있다는 이유에서 안료와 염료를 병용하는 것이 바람직하다.In the coloring composition of the present invention, only a dye may be used as the coloring agent, but when a pattern (pixel) is formed by the photolithography method, it is preferable to use a pigment and a dye together for the reason that generation of development residue can be suppressed. .

(염료)(dyes)

염료로서는, 트라이아릴메테인 색소 구조, 잔텐 색소 구조, 안트라퀴논 색소 구조, 사이아닌 색소 구조, 스쿠아릴륨 색소 구조, 퀴노프탈론 색소 구조, 프탈로사이아닌 색소 구조, 서브 프탈로사이아닌 색소 구조, 아조 색소 구조, 피라졸로트라이아졸 색소 구조, 다이피로메텐 색소 구조, 아이소인돌린 색소 구조, 싸이아졸 색소 구조, 벤즈이미다졸온 색소 구조, 페린온 색소 구조, 피롤로피롤 색소 구조, 다이케토피롤로피롤 색소 구조, 다이임모늄 색소 구조, 나프탈로사이아닌 색소 구조, 릴렌 색소 구조, 다이벤조퓨란온 색소 구조, 메로사이아닌 색소 구조, 크로코늄 색소 구조 및 옥소놀 색소 구조로부터 선택되는 색소 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 트라이아릴메테인 색소 구조, 잔텐 색소 구조, 안트라퀴논 색소 구조, 사이아닌 색소 구조, 스쿠아릴륨 색소 구조, 퀴노프탈론 색소 구조, 프탈로사이아닌 색소 구조, 서브 프탈로사이아닌 색소 구조, 아조 색소 구조, 싸이아졸 색소 구조, 피라졸로트라이아졸 색소 구조 및 다이피로메텐 색소 구조로부터 선택되는 색소 구조를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 트라이아릴메테인 색소 구조, 잔텐 색소 구조, 사이아닌 색소 구조 및 스쿠아릴륨 색소 구조로부터 선택되는 색소 구조를 갖는 화합물인 것이 더 바람직하고, 트라이아릴메테인 색소 구조 또는 잔텐 색소 구조를 갖는 화합물인 것이 보다 한층 바람직하며, 잔텐 색소 구조를 갖는 화합물인 것이 특히 바람직하다.As dyes, triarylmethane dye structure, xanthene dye structure, anthraquinone dye structure, cyanine dye structure, squarylium dye structure, quinophthalone dye structure, phthalocyanine dye structure, subphthalocyanine dye structure , azo pigment structure, pyrazolotriazole pigment structure, dipyrromethene pigment structure, isoindoline pigment structure, thiazole pigment structure, benzimidazolone pigment structure, perrinone pigment structure, pyrrolopyrrole pigment structure, diketopy A pigment structure selected from a rolopyrrole pigment structure, a diimmonium pigment structure, a naphthalocyanine pigment structure, a rylene pigment structure, a dibenzofuranone pigment structure, a merocyanine pigment structure, a croconium pigment structure, and an oxonol pigment structure. It is preferably a compound having a triarylmethane pigment structure, a xanthene pigment structure, an anthraquinone pigment structure, a cyanine pigment structure, a squarylium pigment structure, a quinophthalone pigment structure, a phthalocyanine pigment structure, and a subphthalo It is more preferably a compound having a pigment structure selected from a cyanine pigment structure, an azo pigment structure, a thiazole pigment structure, a pyrazolotriazole pigment structure, and a dipyrromethene pigment structure, and a triarylmethane pigment structure and a xanthene pigment structure. , It is more preferably a compound having a pigment structure selected from a cyanine pigment structure and a squarylium pigment structure, more preferably a compound having a triarylmethane pigment structure or a xanthene pigment structure, and having a xanthene pigment structure Compounds are particularly preferred.

염료의 25℃의 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트 100g에 대한 염료의 용해량은, 0.01g 이상인 것이 바람직하고, 0.5g 이상인 것이 보다 바람직하며, 1g 이상인 것이 더 바람직하다.The amount of dye dissolved in 100 g of propylene glycol methyl ether acetate at 25°C is preferably 0.01 g or more, more preferably 0.5 g or more, and even more preferably 1 g or more.

본 발명에서 이용되는 염료는, 양이온 및 음이온을 포함하는 화학 구조를 갖는 염료인 것이 바람직하다. 이와 같은 화학 구조를 갖는 염료는, 친수성이 높은 경향이 있고, 현상 시에 막이 팽윤하기 쉬운 경향이 있지만, 본 발명에 의하면, 이와 같은 화학 구조를 갖는 염료를 이용한 경우이더라도, 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있다. 이하, 양이온 및 음이온을 포함하는 화학 구조를 갖는 염료를 "염료 A"라고도 한다. 또, 염료 A의 양이온을 "양이온 AX+"라고 한다. 또, 염료 A의 음이온을 "음이온 AZ-"라고 한다.The dye used in the present invention is preferably a dye having a chemical structure containing a cation and an anion. A dye having such a chemical structure tends to have high hydrophilicity and tends to swell the film during development, but according to the present invention, even when a dye having such a chemical structure is used, a pixel having excellent pattern linearity can form Hereinafter, a dye having a chemical structure including a cation and an anion is also referred to as “dye A”. In addition, the cation of dye A is referred to as "cation AX + ". In addition, the anion of dye A is called "anion AZ - ".

염료 A에 있어서, 음이온 AZ-는, 양이온 AX+의 분자 외에 존재하고 있어도 된다. "음이온 AZ-는 양이온 AX+의 분자 외에 존재하고 있다"란, 음이온 AZ-가, 양이온 AX+와 공유 결합을 통하여 결합하고 있지 않고, 양이온 AX+와는 독립적인 구조 단위로서 존재하고 있는 상태를 말한다. 상기와 같은 염료 A의 형태로서는, 예를 들면, 염을 들 수 있다. 이하, 양이온의 분자 외에 존재하는 음이온을 상대 음이온이라고도 한다. 염료 A에 있어서, 음이온 AZ-는, 양이온 AX+와 공유 결합을 통하여 결합하고 있는 것이 바람직하다. 즉, 염료 A의 형태는, 분자 내 염(양성(兩性) 이온이라고도 한다.)인 것이 바람직하다.In the dye A, the anion AZ - may exist outside the molecule of the cation AX + . "The anion AZ - exists outside the molecule of the cation AX + " refers to a state in which the anion AZ - is not covalently bonded to the cation AX + and exists as a structural unit independent of the cation AX + . As a form of the above dye A, a salt is mentioned, for example. Hereinafter, an anion existing outside the molecule of a cation is also referred to as a counter anion. In the dye A, the anion AZ - is preferably bonded to the cation AX + via a covalent bond. That is, the form of dye A is preferably an intramolecular salt (also referred to as zwitterion).

음이온 AZ-의 종류로서는, 불소 음이온, 염소 음이온, 브로민 음이온, 아이오딘 음이온, 사이안화물 이온, 과염소산 음이온, 카복실산 음이온, 설폰산 음이온, 인 원자를 포함하는 음이온, 이미드 음이온, 메타이드 음이온, 보레이트 음이온, SbF6 - 등을 들 수 있으며, 이미드 음이온, 메타이드 음이온 및 보레이트 음이온인 것이 바람직하고, 이미드 음이온 및 메타이드 음이온인 것이 보다 바람직하며, 저구핵성이라는 이유에서 이미드 음이온인 것이 더 바람직하다. 이미드 음이온으로서는, 비스(설폰일)이미드 음이온이 바람직하다. 메타이드 음이온으로서는, 트리스(설폰일)메타이드 음이온이 바람직하다. 보레이트 음이온으로서는, 테트라아릴보레이트 음이온, 테트라사이아노보레이트 음이온, 테트라플루오로보레이트 음이온 등을 들 수 있다.Examples of the anion AZ - include fluorine anion, chlorine anion, bromine anion, iodine anion, cyanide ion, perchlorate anion, carboxylic acid anion, sulfonic acid anion, phosphorus-containing anion, imide anion, and methide anion. , borate anion, SbF 6 - and the like, preferably imide anion, methide anion and borate anion, more preferably imide anion and methide anion, and because of low nucleophilicity, imide anion it is more preferable As the imide anion, a bis(sulfonyl)imide anion is preferable. As the methide anion, tris(sulfonyl)methide anion is preferable. Examples of borate anions include tetraarylborate anions, tetracyanoborate anions, and tetrafluoroborate anions.

양이온 AX+의 종류로서는, 예를 들면, 잔텐 색소 구조를 갖는 양이온, 트라이아릴메테인 색소 구조를 갖는 양이온, 사이아닌 색소 구조를 갖는 양이온, 및 스쿠아릴륨 색소 구조를 갖는 양이온을 들 수 있다. 양이온 AX+는, 잔텐 색소 구조를 갖는 양이온, 또는 트라이아릴메테인 색소 구조를 갖는 양이온인 것이 바람직하고, 본 발명의 효과가 보다 현저하게 얻어지기 쉽다는 이유에서, 잔텐 색소 구조를 갖는 양이온인 것이 보다 바람직하다.Examples of the type of cation AX + include a cation having a xanthene dye structure, a cation having a triarylmethane dye structure, a cation having a cyanine dye structure, and a cation having a squarylium dye structure. The cation AX + is preferably a cation having a xanthene dye structure or a cation having a triarylmethane dye structure, and for the reason that the effect of the present invention is more remarkably obtainable, it is a cation having a xanthene dye structure more preferable

잔텐 색소 구조의 양이온 AX+를 갖는 염료로서는, 하기 식 (J)로 나타나는 화합물을 들 수 있다.As a dye which has cation AX + of a xanthene dye structure, the compound represented by the following formula (J) is mentioned.

식 (J)Formula (J)

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (J) 중, R81, R82, R83 및 R84는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 나타내고, R85는, 각각 독립적으로 치환기를 나타내며, m은, 0~5의 정수를 나타낸다. Z는, 상대 음이온을 나타낸다. Z가 존재하지 않는 경우는, R81~R85 중 적어도 하나가 음이온을 포함한다.In formula (J), R 81 , R 82 , R 83 and R 84 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, R 85 each independently represents a substituent, and m represents an integer of 0 to 5 indicate Z represents a counter anion. When Z does not exist, at least one of R 81 to R 85 contains an anion.

식 (J)에 있어서의 R81~R85가 취할 수 있는 치환기는, 후술하는 치환기 T로 든 기나, 중합성기를 들 수 있다. 식 (J) 중의 R81과 R82, R83과 R84, 및 m이 2 이상인 경우의 R85끼리는, 각각 독립적으로, 서로 결합하여 5원, 6원 혹은 7원의 포화환, 또는 5원, 6원 혹은 7원의 불포화환을 형성하고 있어도 된다. 형성하는 환으로서는, 예를 들면, 피롤환, 퓨란환, 싸이오펜환, 피라졸환, 이미다졸환, 트라이아졸환, 옥사졸환, 싸이아졸환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 사이클로펜텐환, 사이클로헥센환, 벤젠환, 피리딘환, 피라진환, 피리다진환을 들 수 있으며, 바람직하게는, 벤젠환, 피리딘환을 들 수 있다. 형성되는 환이, 추가로 치환 가능한 기인 경우에는, R81~R85로서 설명한 치환기로 치환되어 있어도 되고, 2개 이상의 치환기로 치환되어 있는 경우에는, 그들의 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.Substituents that R 81 to R 85 in the formula (J) can take include groups listed as substituent T described later and polymerizable groups. R 81 and R 82 , R 83 and R 84 , and R 85 when m is 2 or more in the formula (J) are each independently bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered saturated ring, or a 5-membered saturated ring , 6-membered or 7-membered unsaturated ring may be formed. Examples of the ring to be formed include a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a cyclopentene ring, and a cyclopentene ring. A hexene ring, a benzene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, and a pyridazine ring are mentioned, Preferably, a benzene ring and a pyridine ring are mentioned. When the ring formed is a group that can be further substituted, it may be substituted with the substituents described as R 81 to R 85 , or when it is substituted with two or more substituents, these substituents may be the same or different.

식 (J)에 있어서, Z는, 상대 음이온을 나타낸다. 상대 음이온으로서는, 불소 음이온, 염소 음이온, 브로민 음이온, 아이오딘 음이온, 사이안화물 이온, 과염소산 음이온, 카복실산 음이온, 설폰산 음이온, 인 원자를 포함하는 음이온, 이미드 음이온, 메타이드 음이온, 보레이트 음이온, SbF6 - 등을 들 수 있으며, 이미드 음이온, 메타이드 음이온 및 보레이트 음이온이 바람직하고, 이미드 음이온 및 메타이드 음이온이 보다 바람직하며, 이미드 음이온이 더 바람직하다. 이미드 음이온으로서는, 비스(설폰일)이미드 음이온이 바람직하다. 메타이드 음이온으로서는, 트리스(설폰일)메타이드 음이온이 바람직하다. 보레이트 음이온으로서는, 테트라아릴보레이트 음이온, 테트라사이아노보레이트 음이온, 테트라플루오로보레이트 음이온 등을 들 수 있다. 상대 음이온의 분자량은, 100~1000이 바람직하고, 200~500이 보다 바람직하다.In formula (J), Z represents a counter anion. As the counter anion, fluorine anion, chlorine anion, bromine anion, iodine anion, cyanide ion, perchlorate anion, carboxylic acid anion, sulfonic acid anion, phosphorus-containing anion, imide anion, methide anion, borate anion , SbF 6 - and the like, and imide anion, methide anion and borate anion are preferred, imide anion and methide anion are more preferred, and imide anion is still more preferred. As the imide anion, a bis(sulfonyl)imide anion is preferable. As the methide anion, tris(sulfonyl)methide anion is preferable. Examples of borate anions include tetraarylborate anions, tetracyanoborate anions, and tetrafluoroborate anions. 100-1000 are preferable and, as for the molecular weight of a counter anion, 200-500 are more preferable.

식 (J)에 있어서, R81~R85 중 적어도 하나가 음이온을 포함하는 경우, 음이온으로서는, 카복실산 음이온, 설폰산 음이온, 인 원자를 포함하는 음이온, 이미드 음이온, 메타이드 음이온 및 보레이트 음이온이 바람직하고, 이미드 음이온, 메타이드 음이온 및 보레이트 음이온이 보다 바람직하며, 이미드 음이온 및 메타이드 음이온이 더 바람직하고, 이미드 음이온이 특히 바람직하다. 이미드 음이온으로서는, 비스(설폰일)이미드 음이온이 바람직하다. 메타이드 음이온으로서는, 트리스(설폰일)메타이드 음이온이 바람직하다. 구체적으로는, R81~R85 중 적어도 하나가, 하기 식 (AZ-1)로 나타나는 부분 구조를 포함하는 기이거나, 하기 식 (AZ-2)로 나타나는 부분 구조를 포함하는 기인 것이 바람직하고, 식 (AZ-1)로 나타나는 부분 구조를 포함하는 기인 것이 보다 바람직하다.In Formula (J), when at least one of R 81 to R 85 contains an anion, the anion includes a carboxylic acid anion, a sulfonic acid anion, an anion containing a phosphorus atom, an imide anion, a methide anion, and a borate anion. Preferred are imide anions, methide anions and borate anions, more preferably imide anions and methide anions, and particularly preferably imide anions. As the imide anion, a bis(sulfonyl)imide anion is preferable. As the methide anion, tris(sulfonyl)methide anion is preferable. Specifically, it is preferable that at least one of R 81 to R 85 is a group containing a partial structure represented by the following formula (AZ-1) or a group containing a partial structure represented by the following formula (AZ-2); It is more preferable that it is a group containing the partial structure represented by Formula (AZ-1).

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

상기 식 중의 파선(波線)은 다른 원자 또는 원자단과의 결합손을 나타낸다.A broken line in the above formula represents a bond with another atom or group of atoms.

R81~R85 중 적어도 하나가 음이온을 포함하는 경우, R81~R85 중 적어도 하나가 식 (P-1)로 치환된 구조인 것도 바람직하다.When at least one of R 81 to R 85 contains an anion, a structure in which at least one of R 81 to R 85 is substituted by formula (P-1) is also preferable.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (P-1) 중, L1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, 단결합인 것이 바람직하다. L1이 나타내는 2가의 연결기로서는, 탄소수 1~6의 알킬렌기, 탄소수 6~12의 아릴렌기, -O-, -S-, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 기 등을 들 수 있다. L2는, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. G는, 탄소 원자 또는 질소 원자를 나타낸다. n1은, G가 탄소 원자인 경우 2를 나타내고, G가 질소 원자인 경우 1을 나타낸다. R6은, 불소 원자를 포함하는 알킬기 또는 불소 원자를 포함하는 아릴기를 나타낸다. n1이 2인 경우, 2개의 R6은 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R6이 나타내는 불소 원자를 포함하는 알킬기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~3이 더 바람직하다. R6이 나타내는 불소 원자를 포함하는 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~14가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 알킬기 및 불소 원자를 포함하는 아릴기는 치환기를 더 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 후술하는 치환기 T군이나 중합성기 등을 들 수 있다.In formula (P-1), L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and is preferably a single bond. Examples of the divalent linking group represented by L 1 include an alkylene group of 1 to 6 carbon atoms, an arylene group of 6 to 12 carbon atoms, a group composed of -O-, -S-, or a combination thereof. L 2 represents -SO 2 - or -CO-. G represents a carbon atom or a nitrogen atom. n1 represents 2 when G is a carbon atom, and represents 1 when G is a nitrogen atom. R 6 represents an alkyl group containing a fluorine atom or an aryl group containing a fluorine atom. When n1 is 2, two R 6 's may be the same or different. 1-10 are preferable, as for carbon number of the alkyl group containing the fluorine atom which R6 represents, 1-6 are more preferable, and 1-3 are still more preferable. As for carbon number of the aryl group containing the fluorine atom which R< 6 > represents, 6-20 are preferable, 6-14 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. The alkyl group containing a fluorine atom and the aryl group containing a fluorine atom may further have a substituent. As a substituent, the substituent T group mentioned later, a polymeric group, etc. are mentioned.

또, 잔텐 색소 구조의 양이온 AX+를 갖는 염료로서는, C. I. 애시드 레드 51, C. I. 애시드 레드 52, C. I. 애시드 레드 87, C. I. 애시드 레드 92, C. I. 애시드 레드 94, C. I. 애시드 레드 289, C. I. 애시드 레드 388, 로즈 벵갈 B(식용 적색 5호), 애시드 로다민 G, C. I. 애시드 바이올렛 9, C. I. 애시드 바이올렛 9, C. I. 애시드 바이올렛 30 등도 들 수 있다.In addition, as dyes having a cation AX + of the xanthene dye structure, CI Acid Red 51, CI Acid Red 52, CI Acid Red 87, CI Acid Red 92, CI Acid Red 94, CI Acid Red 289, CI Acid Red 388, Rose Bengal B (Food Red No. 5), Acid Rhodamine G, CI Acid Violet 9, CI Acid Violet 9, CI Acid Violet 30 and the like.

트라이아릴메테인 색소 구조의 양이온 AX+를 갖는 염료로서는, 하기 식 (TP)로 나타나는 화합물을 들 수 있다.As a dye which has cation AX + of the triarylmethane dye structure, the compound represented by the following formula (TP) is mentioned.

식 (TP)Expression (TP)

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

식 (TP) 중, Rtp1~Rtp4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. Rtp5는, 수소 원자, 알킬기, 아릴기 또는 NRtp9Rtp10(Rtp9 및 Rtp10은 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다)을 나타낸다. Rtp6, Rtp7 및 Rtp8은, 치환기를 나타낸다. a, b 및 c는, 0~4의 정수를 나타낸다. a, b 및 c가 2 이상인 경우, Rtp6끼리, Rtp7끼리 및 Rtp8끼리는, 각각 연결되어 환을 형성해도 된다. Z는 상대 음이온을 나타낸다. Z가 존재하지 않는 경우는, Rtp1~Rtp8 중 적어도 하나가 음이온을 포함한다.In Formula (TP), Rtp 1 to Rtp 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Rtp 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or NRtp 9 Rtp 10 (Rtp 9 and Rtp 10 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group). Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 represent substituents. a, b and c represent the integer of 0-4. When a, b, and c are 2 or more, Rtp 6 members, Rtp 7 members, and Rtp 8 members may be connected to each other to form a ring. Z represents a counter anion. When Z does not exist, at least one of Rtp 1 to Rtp 8 contains an anion.

Rtp1~Rtp4는 수소 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기 및 페닐기가 바람직하다. Rtp5는, 수소 원자 또는 NRtp9Rtp10이 바람직하고, NRtp9Rtp10이 특히 바람직하다. Rtp9 및 Rtp10은, 수소 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 혹은 분기의 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. Rtp6, Rtp7 및 Rtp8이 나타내는 치환기는, 후술하는 치환기 T군으로 든 기나 중합성기를 들 수 있다.Rtp 1 to Rtp 4 are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a phenyl group. Rtp 5 is preferably a hydrogen atom or NRtp 9 Rtp 10 , and particularly preferably NRtp 9 Rtp 10 . Rtp 9 and Rtp 10 are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. Substituents represented by Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 include groups listed in substituent T group described later and polymerizable groups.

식 (TP)에 있어서, Z는 상대 음이온을 나타낸다. Z가 존재하지 않는 경우는, Rtp1~Rtp8 중 적어도 하나가 음이온을 포함한다. 상대 음이온으로서는, 상술한 식 (J)로 설명한 상대 음이온을 들 수 있다. 또, 식 (TP)에 있어서, Rtp1~Rtp8 중 적어도 하나가 음이온을 포함하는 경우, 음이온으로서는, 상술한 식 (J)로 설명한 음이온을 들 수 있다.In the formula (TP), Z represents a counter anion. When Z does not exist, at least one of Rtp 1 to Rtp 8 contains an anion. As a counter anion, the counter anion demonstrated by the formula (J) mentioned above is mentioned. Further, in the formula (TP), when at least one of Rtp 1 to Rtp 8 contains an anion, examples of the anion include the anion described in the above formula (J).

(치환기 T군)(substituent group T)

치환기 T군으로서, 다음의 기를 들 수 있다. 알킬기(바람직하게는 탄소수 1~30의 알킬기), 알켄일기(바람직하게는 탄소수 2~30의 알켄일기), 알카인일기(바람직하게는 탄소수 2~30의 알카인일기), 아릴기(바람직하게는 탄소수 6~30의 아릴기), 아미노기(바람직하게는 탄소수 0~30의 아미노기), 알콕시기(바람직하게는 탄소수 1~30의 알콕시기), 아릴옥시기(바람직하게는 탄소수 6~30의 아릴옥시기), 헤테로아릴옥시기, 아실기(바람직하게는 탄소수 1~30의 아실기), 알콕시카보닐기(바람직하게는 탄소수 2~30의 알콕시카보닐기), 아릴옥시카보닐기(바람직하게는 탄소수 7~30의 아릴옥시카보닐기), 아실옥시기(바람직하게는 탄소수 2~30의 아실옥시기), 아실아미노기(바람직하게는 탄소수 2~30의 아실아미노기), 알콕시카보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 2~30의 알콕시카보닐아미노기), 아릴옥시카보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 7~30의 아릴옥시카보닐아미노기), 설파모일기(바람직하게는 탄소수 0~30의 설파모일기), 카바모일기(바람직하게는 탄소수 1~30의 카바모일기), 알킬싸이오기(바람직하게는 탄소수 1~30의 알킬싸이오기), 아릴싸이오기(바람직하게는 탄소수 6~30의 아릴싸이오기), 헤테로아릴싸이오기(바람직하게는 탄소수 1~30), 알킬설폰일기(바람직하게는 탄소수 1~30), 아릴설폰일기(바람직하게는 탄소수 6~30), 헤테로아릴설폰일기(바람직하게는 탄소수 1~30), 알킬설핀일기(바람직하게는 탄소수 1~30), 아릴설핀일기(바람직하게는 탄소수 6~30), 헤테로아릴설핀일기(바람직하게는 탄소수 1~30), 유레이도기(바람직하게는 탄소수 1~30), 하이드록시기, 카복실기, 설포기, 인산기, 카복실산 아마이드기, 설폰산 아마이드기, 이미드산기, 머캅토기, 할로젠 원자, 사이아노기, 알킬설피노기, 아릴설피노기, 하이드라지노기, 이미노기, 헤테로아릴기(바람직하게는 탄소수 1~30). 이들 기는, 추가로 치환 가능한 기인 경우, 치환기를 더 가져도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기 T로서 설명한 기, 중합성기 등을 들 수 있다.As the substituent group T, the following groups are exemplified. An alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), an alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms), an alkynyl group (preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms), an aryl group (preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms) is an aryl group having 6 to 30 carbon atoms), an amino group (preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), an aryloxy group (preferably having 6 to 30 carbon atoms) aryloxy group), heteroaryloxy group, an acyl group (preferably an acyl group having 1 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms), an aryloxycarbonyl group (preferably an acyl group having 2 to 30 carbon atoms) An aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 30 carbon atoms), an acylamino group (preferably an acylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonylamino group (preferably an acyloxy group having 2 to 30 carbon atoms) is an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms), a sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms), A carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms), an alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms), an arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 30 carbon atoms) , Heteroarylthio group (preferably 1 to 30 carbon atoms), alkylsulfonyl group (preferably 1 to 30 carbon atoms), arylsulfonyl group (preferably 6 to 30 carbon atoms), heteroarylsulfonyl group (preferably carbon atoms 1 to 30), alkyl sulfinyl group (preferably 1 to 30 carbon atoms), aryl sulfinyl group (preferably 6 to 30 carbon atoms), heteroaryl sulfinyl group (preferably 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably is 1 to 30 carbon atoms), a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, an imide acid group, a mercapto group, a halogen atom, a cyano group, an alkyl sulfino group, an aryl sulfino group , hydrazino group, imino group, heteroaryl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms). These groups may further have a substituent in the case of a group capable of being further substituted. Examples of the substituent include the group described as the above-mentioned substituent T, a polymerizable group, and the like.

중합성기로서는, 바이닐기, 알릴기, (메트)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합 함유기, 에폭시기, 옥세탄일기 등을 들 수 있다.Examples of the polymerizable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups such as vinyl, allyl, and (meth)acryloyl groups, epoxy groups, and oxetanyl groups.

염료(바람직하게는 염료 A)는, 가교 밀도가 높고, 각종 성능이 우수한 막이 얻어지기 쉽다는 이유에서 중합성기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The dye (preferably dye A) is preferably a compound having a polymerizable group for the reason that a crosslinking density is high and a film excellent in various performances is easy to be obtained.

또, 염료(바람직하게는 염료 A)는, 현상 시의 잔사의 발생을 저감하기 쉽다는 이유에서 색소 다량체인 것도 바람직하다. 색소 다량체란, 1분자 중에, 색소 구조를 2 이상 갖는 색소 화합물이며, 색소 구조를 3 이상 갖는 것이 바람직하다. 상한은, 특별히 한정은 없지만, 100 이하로 할 수도 있다. 1분자 중에 갖는 색소 구조는, 동일한 색소 구조여도 되고, 상이한 색소 구조여도 된다.Further, the dye (preferably dye A) is also preferably a dye multimer for the reason that it is easy to reduce generation of residues during development. The dye multimer is a dye compound having two or more dye structures in one molecule, and those having three or more dye structures are preferable. The upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less. The dye structure contained in one molecule may be the same dye structure or a different dye structure.

색소 다량체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 2000~50000이 바람직하다. 하한은, 3000 이상이 보다 바람직하며, 6000 이상이 더 바람직하다. 상한은, 30000 이하가 보다 바람직하며, 20000 이하가 더 바람직하다.As for the weight average molecular weight (Mw) of a dye multimer, 2000-50000 are preferable. 3000 or more are more preferable, and, as for a minimum, 6000 or more are still more preferable. As for an upper limit, 30000 or less are more preferable, and 20000 or less are still more preferable.

색소 다량체의 구조로서는, 국제 공개공보 제2016/208524호의 단락 번호 0047~0103에 기재된 색소 다량체 (A)~(D)를 들 수 있다. 색소 다량체로서는, 후술하는 식 (A)로 나타나는 반복 단위를 갖는 색소 다량체 및 후술하는 식 (D)로 나타나는 색소 다량체인 것이 바람직하다. 이하, 식 (A)로 나타나는 반복 단위를 갖는 색소 다량체를 색소 다량체 (A)라고도 한다. 또, 식 (D)로 나타나는 색소 다량체를 색소 다량체 (D)라고도 한다.As a structure of a dye multimer, Paragraph No. 0047 of International Publication No. 2016/208524 - the dye multimer (A) of 0103 - (D) are mentioned. As the dye multimer, a dye multimer having a repeating unit represented by the formula (A) described later and a dye multimer represented by the formula (D) described later are preferable. Hereinafter, a dye multimer having a repeating unit represented by Formula (A) is also referred to as a dye multimer (A). Moreover, the dye multimer represented by Formula (D) is also called a dye multimer (D).

색소 다량체 (A)는, 식 (A)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 식 (A)로 나타나는 반복 단위의 비율은, 색소 다량체 (A)를 구성하는 전체 반복 단위의 10질량% 이상이 바람직하고, 20질량% 이상이 보다 바람직하며, 30질량% 이상이 더 바람직하고, 50질량% 이상이 특히 바람직하다. 상한은, 100질량% 이하로 할 수도 있고, 95질량% 이하로 할 수도 있다.It is preferable that a dye multimer (A) contains the repeating unit represented by Formula (A). The ratio of the repeating unit represented by the formula (A) is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and still more preferably 30% by mass or more of all the repeating units constituting the dye multimer (A). , 50% by mass or more is particularly preferred. The upper limit may be 100% by mass or less, and may be 95% by mass or less.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

식 (A) 중, X1은 반복 단위의 주쇄를 나타내고, L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, D1은 색소 화합물 유래의 구조를 나타낸다.In formula (A), X 1 represents the main chain of the repeating unit, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and D 1 represents a structure derived from a dye compound.

식 (A)의 X1이 나타내는 반복 단위의 주쇄로서는, 중합 반응으로 형성되는 연결기 등을 들 수 있으며, (메트)아크릴로일기, 스타이렌기, 바이닐기 또는 에터기를 갖는 화합물 유래의 주쇄인 것이 바람직하다. 연결기의 구체예로서는, 국제 공개공보 제2016/208524호의 단락 번호 0049에 기재된 (XX-1)~(XX-30)으로 나타나는 연결기를 들 수 있다.Examples of the main chain of the repeating unit represented by X 1 in the formula (A) include a linking group formed by a polymerization reaction, and the main chain derived from a compound having a (meth)acryloyl group, a styrene group, a vinyl group or an ether group desirable. As a specific example of a linking group, the linking group represented by (XX-1) - (XX-30) of Paragraph No. 0049 of International Publication No. 2016/208524 is mentioned.

L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. L1이 나타내는 2가의 연결기로서는, 탄소수 1~30의 알킬렌기, 탄소수 6~30의 아릴렌기, 복소환기, -CH=CH-, -O-, -S-, -C(=O)-, -COO-, -NR-, -CONR-, -OCO-, -SO-, -SO2- 및 이들을 2개 이상 연결하여 형성되는 연결기를 들 수 있다. 여기에서, R은, 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 또는 헤테로아릴기를 나타낸다.L 1 represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group represented by L 1 include an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group, -CH=CH-, -O-, -S-, -C(=O)-, -COO-, -NR-, -CONR-, -OCO-, -SO-, -SO 2 - and a linking group formed by connecting two or more of these. Here, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.

알킬렌기의 탄소수는, 1~30이 바람직하다. 상한은, 25 이하가 보다 바람직하며, 20 이하가 더 바람직하다. 하한은, 2 이상이 보다 바람직하며, 3 이상이 더 바람직하다. 알킬렌기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 알킬렌기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 치환기 T군으로 설명한 기를 들 수 있다.As for carbon number of an alkylene group, 1-30 are preferable. As for an upper limit, 25 or less are more preferable, and 20 or less are still more preferable. As for a lower limit, 2 or more are more preferable and 3 or more are still more preferable. The alkylene group may be straight-chain, branched or cyclic. The alkylene group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include groups described in the substituent T group.

아릴렌기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다. 아릴렌기는 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 치환기 T군으로 설명한 기를 들 수 있다.6-20 are preferable and, as for carbon number of an arylene group, 6-12 are more preferable. The arylene group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include groups described in the substituent T group.

복소환기는, 5원환 또는 6원환이 바람직하다. 복소환기가 갖는 헤테로 원자는, 산소 원자, 질소 원자 및 황 원자가 바람직하다. 복소환기가 갖는 헤테로 원자의 수는, 1~3개가 바람직하다. 복소환기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 치환기 T군으로 설명한 기를 들 수 있다.The heterocyclic group has a preferable 5- or 6-membered ring. As for the hetero atom which a heterocyclic group has, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom are preferable. As for the number of hetero atoms which a heterocyclic group has, 1-3 are preferable. The heterocyclic group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include groups described in the substituent T group.

D1이 나타내는 색소 화합물 유래의 구조로서는, 트라이아릴메테인 색소 구조, 잔텐 색소 구조, 안트라퀴논 색소 구조, 사이아닌 색소 구조, 스쿠아릴륨 색소 구조, 퀴노프탈론 색소 구조, 프탈로사이아닌 색소 구조, 서브 프탈로사이아닌 색소 구조, 아조 색소 구조, 피라졸로트라이아졸 색소 구조, 다이피로메텐 색소 구조, 아이소인돌린 색소 구조, 싸이아졸 색소 구조, 벤즈이미다졸온 색소 구조, 페린온 색소 구조, 피롤로피롤 색소 구조, 다이케토피롤로피롤 색소 구조, 다이임모늄 색소 구조, 나프탈로사이아닌 색소 구조, 릴렌 색소 구조, 다이벤조퓨란온 색소 구조, 메로사이아닌 색소 구조, 크로코늄 색소 구조 및 옥소놀 색소 구조로부터 선택되는 색소 구조를 갖는 화합물로부터 수소 원자를 1개 이상 제거한 잔기 등을 들 수 있다. D1이 나타내는 색소 화합물 유래의 구조로서는, 상기 식 (J)로 나타나는 화합물 유래의 구조 또는, 상기 식 (TP)로 나타나는 화합물 유래의 구조인 것이 바람직하다.As the structure derived from the pigment compound represented by D 1 , a triarylmethane pigment structure, a xanthene pigment structure, an anthraquinone pigment structure, a cyanine pigment structure, a squarylium pigment structure, a quinophthalone pigment structure, and a phthalocyanine pigment structure. , subphthalocyanine pigment structure, azo pigment structure, pyrazolotriazole pigment structure, dipyrromethene pigment structure, isoindoline pigment structure, thiazole pigment structure, benzimidazolone pigment structure, perrinone pigment structure, blood Rolopyrrole pigment structure, diketopyrrolopyrrole pigment structure, diimmonium pigment structure, naphthalocyanine pigment structure, rylene pigment structure, dibenzofuranone pigment structure, merocyanine pigment structure, croconium pigment structure and oxonol and residues obtained by removing one or more hydrogen atoms from a compound having a dye structure selected from dye structures. The structure derived from the dye compound represented by D 1 is preferably a structure derived from a compound represented by the formula (J) or a structure derived from a compound represented by the formula (TP).

색소 다량체 (A)는, 식 (A)로 나타나는 반복 단위 외에, 다른 반복 단위를 포함하고 있어도 된다. 다른 반복 단위는, 중합성기나 산기 등의 관능기를 포함하고 있어도 되고, 이들 관능기를 포함하고 있지 않아도 된다. 중합성기로서는, 바이닐기, (메트)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합 함유기 등을 들 수 있다. 산기로서는, 카복실기, 설포기, 인산기를 들 수 있다.Dye multimer (A) may contain other repeating units other than the repeating unit represented by Formula (A). The other repeating unit may contain functional groups such as polymerizable groups and acid groups, or may not contain these functional groups. Examples of the polymerizable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups such as a vinyl group and a (meth)acryloyl group. As an acidic group, a carboxyl group, a sulfo group, and a phosphoric acid group are mentioned.

중합성기를 갖는 반복 단위의 비율은, 색소 다량체 (A)를 구성하는 전체 반복 단위의 0~50질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 1질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 35질량% 이하가 바람직하고, 30질량% 이하가 보다 바람직하다.It is preferable that the ratio of the repeating unit which has a polymeric group is 0-50 mass % of all the repeating units which comprise a dye multimer (A). 1 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 3 mass % or more is more preferable. 35 mass % or less is preferable and, as for an upper limit, 30 mass % or less is more preferable.

산기를 갖는 반복 단위의 비율은, 색소 다량체 (A)를 구성하는 전체 반복 단위의 0~50질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 1질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 35질량% 이하가 바람직하고, 30질량% 이하가 보다 바람직하다.It is preferable that the ratio of the repeating unit which has an acidic radical is 0-50 mass % of all the repeating units which comprise a dye multimer (A). 1 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 3 mass % or more is more preferable. 35 mass % or less is preferable and, as for an upper limit, 30 mass % or less is more preferable.

색소 다량체 (D)는, 식 (D)로 나타나는 것이 바람직하다.It is preferable that a dye multimer (D) is represented by Formula (D).

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (D) 중, L4는 (n+k)가의 연결기를 나타내고, L41 및 L42는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, D4는 색소 화합물 유래의 구조를 나타내고, P4는 치환기를 나타낸다; n은 2~15를 나타내고, k는 0~13을 나타내며, n+k는 2~15이다. n개의 D4는 서로 상이해도 되고, 동일해도 된다. k가 2 이상인 경우, 복수의 P4는 서로 상이해도 되고, 동일해도 된다.In formula (D), L 4 represents a (n+k) valent linking group, L 41 and L 42 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and D 4 represents a structure derived from a dye compound; P 4 represents a substituent; n represents 2 to 15, k represents 0 to 13, and n+k is 2 to 15. n D 4 's may be different from each other or may be the same. When k is 2 or more, a plurality of P 4 may be mutually different or the same.

n은 2~14가 바람직하고, 2~8이 보다 바람직하며, 2~7이 특히 바람직하고, 2~6이 한층 바람직하다. k는 1~13이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하며, 1~8이 보다 더 바람직하고, 1~7이 특히 바람직하며, 1~6이 한층 바람직하다.2-14 are preferable, as for n, 2-8 are more preferable, 2-7 are especially preferable, and 2-6 are still more preferable. As for k, 1-13 are preferable, 1-10 are more preferable, 1-8 are still more preferable, 1-7 are especially preferable, and 1-6 are still more preferable.

L41, L42는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. 2가의 연결기로서는, 1에서 100개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 50개까지의 산소 원자, 1개에서 200개까지의 수소 원자, 및 0개에서 20개까지의 황 원자로 성립되는 기가 포함되고, 무치환이거나 치환기를 더 갖고 있어도 된다. 2가의 연결기는, 구체적인 예로서, 하기의 구조 단위 또는 이하의 구조 단위가 2 이상 조합되어 구성되는 기를 들 수 있다.L 41 and L 42 each independently represent a single bond or a divalent linking group. As the divalent linking group, 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 to 20 atoms A group consisting of sulfur atoms up to is included, and may be unsubstituted or may further have a substituent. Specific examples of the divalent linking group include the following structural units or groups constituted by a combination of two or more of the following structural units.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

L4가 나타내는 (n+k)가의 연결기로서는, 1에서 100개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 50개까지의 산소 원자, 1개에서 200개까지의 수소 원자, 및 0개에서 20개까지의 황 원자로 성립되는 기가 포함된다. (n+k)가의 연결기로서는, 하기의 구조 단위 또는 이하의 구조 단위가 2 이상 조합되어 구성되는 기(환 구조를 형성하고 있어도 된다)를 들 수 있다.The (n+k) valent linking group represented by L 4 includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, and 1 to 200 hydrogen atoms. atoms, and groups consisting of 0 to 20 sulfur atoms. Examples of the (n+k) valent linking group include the following structural units or groups formed by combining two or more of the following structural units (which may form a ring structure).

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(n+k)가의 연결기의 구체예로서는, 국제 공개공보 제2016/208524호의 단락 번호 0084에 기재된 연결기를 들 수 있다.As a specific example of the (n+k) valent linking group, the linking group of Paragraph No. 0084 of International Publication No. 2016/208524 is mentioned.

D4가 나타내는 색소 화합물 유래의 구조로서는, 트라이아릴메테인 색소 구조, 잔텐 색소 구조, 안트라퀴논 색소 구조, 사이아닌 색소 구조, 스쿠아릴륨 색소 구조, 퀴노프탈론 색소 구조, 프탈로사이아닌 색소 구조, 서브 프탈로사이아닌 색소 구조, 아조 색소 구조, 피라졸로트라이아졸 색소 구조, 다이피로메텐 색소 구조, 아이소인돌린 색소 구조, 싸이아졸 색소 구조, 벤즈이미다졸온 색소 구조, 페린온 색소 구조, 피롤로피롤 색소 구조, 다이케토피롤로피롤 색소 구조, 다이임모늄 색소 구조, 나프탈로사이아닌 색소 구조, 릴렌 색소 구조, 다이벤조퓨란온 색소 구조, 메로사이아닌 색소 구조, 크로코늄 색소 구조 및 옥소놀 색소 구조로부터 선택되는 색소 구조를 갖는 화합물로부터 수소 원자를 1개 이상 제거한 잔기 등을 들 수 있다. D4가 나타내는 색소 화합물 유래의 구조로서는, 상기 식 (J)로 나타나는 화합물 유래의 구조 또는, 상기 식 (TP)로 나타나는 화합물 유래의 구조인 것이 바람직하다.As the structure derived from the pigment compound represented by D 4 , a triarylmethane pigment structure, a xanthene pigment structure, an anthraquinone pigment structure, a cyanine pigment structure, a squarylium pigment structure, a quinophthalone pigment structure, and a phthalocyanine pigment structure. , subphthalocyanine pigment structure, azo pigment structure, pyrazolotriazole pigment structure, dipyrromethene pigment structure, isoindoline pigment structure, thiazole pigment structure, benzimidazolone pigment structure, perrinone pigment structure, blood Rolopyrrole pigment structure, diketopyrrolopyrrole pigment structure, diimmonium pigment structure, naphthalocyanine pigment structure, rylene pigment structure, dibenzofuranone pigment structure, merocyanine pigment structure, croconium pigment structure and oxonol and residues obtained by removing one or more hydrogen atoms from a compound having a dye structure selected from dye structures. The structure derived from the dye compound represented by D 4 is preferably a structure derived from a compound represented by the formula (J) or a structure derived from a compound represented by the formula (TP).

P4가 나타내는 치환기로서는, 산기, 중합성기 등을 들 수 있다. 또, P4가 나타내는 치환기는, 반복 단위를 갖는 1가의 폴리머쇄여도 된다. 반복 단위를 갖는 1가의 폴리머쇄는, 바이닐 화합물 유래의 반복 단위를 갖는 1가의 폴리머쇄가 바람직하다. k가 2 이상인 경우, k개의 P4는, 동일해도 되고, 상이해도 된다.Examples of the substituent represented by P 4 include an acid group and a polymerizable group. Further, the substituent represented by P 4 may be a monovalent polymer chain having a repeating unit. The monovalent polymer chain having a repeating unit is preferably a monovalent polymer chain having a repeating unit derived from a vinyl compound. When k is 2 or more, k pieces of P 4 may be the same or different.

(안료)(Pigment)

안료로서는, 무기 안료, 유기 안료 중 어느 것이어도 되지만 유기 안료인 것이 바람직하다. 또, 안료에는, 무기 안료 또는 유기-무기 안료의 일부를 유기 발색단(團)으로 치환한 재료를 이용할 수도 있다. 무기 안료나 유기-무기 안료를 유기 발색단으로 치환함으로써, 색상 설계를 하기 쉽게 할 수 있다.As a pigment, although any of an inorganic pigment and an organic pigment may be sufficient, it is preferable that it is an organic pigment. Further, as the pigment, a material in which a part of an inorganic pigment or an organic-inorganic pigment is substituted with an organic chromophore may be used. By replacing inorganic pigments or organic-inorganic pigments with organic chromophores, color design can be easily performed.

유기 안료로서는, 프탈로사이아닌 안료, 다이옥사진 안료, 퀴나크리돈 안료, 안트라퀴논 안료, 페릴렌 안료, 아조 안료, 아조메타인 안료, 아조메타인 안료, 다이케토피롤로피롤 안료, 피롤로피롤 안료, 아이소인돌린 안료, 퀴노프탈론 안료, 트라이아릴메테인 안료, 잔텐 안료, 사이아닌 안료, 퀴놀린 안료, 프테리딘 안료 등을 들 수 있다.Examples of organic pigments include phthalocyanine pigments, dioxazine pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, perylene pigments, azo pigments, azomethine pigments, azomethine pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, and pyrrolopyrroles. pigments, isoindoline pigments, quinophthalone pigments, triarylmethane pigments, xanthene pigments, cyanine pigments, quinoline pigments, pteridine pigments, and the like.

안료의 평균 1차 입자경은, 1~200nm가 바람직하다. 하한은 5nm 이상이 바람직하고, 10nm 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 180nm 이하가 바람직하고, 150nm 이하가 보다 바람직하며, 100nm 이하가 더 바람직하다. 안료의 평균 1차 입자경이 상기 범위이면, 착색 조성물 중에 있어서의 안료의 분산 안정성이 양호하다. 또한, 본 발명에 있어서, 안료의 1차 입자경은, 안료의 1차 입자를 투과형 전자 현미경에 의하여 관찰하여, 얻어진 화상 사진으로부터 구할 수 있다. 구체적으로는, 안료의 1차 입자의 투영 면적을 구하고, 그에 대응하는 원상당 직경을 안료의 1차 입자경으로서 산출한다. 또, 본 발명에 있어서의 평균 1차 입자경은, 400개의 안료의 1차 입자에 대한 1차 입자경의 산술 평균값으로 한다. 또, 안료의 1차 입자란, 응집이 없는 독립적인 입자를 말한다.As for the average primary particle diameter of a pigment, 1-200 nm is preferable. 5 nm or more is preferable and, as for a minimum, 10 nm or more is more preferable. The upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and still more preferably 100 nm or less. When the average primary particle size of the pigment is within the above range, the dispersion stability of the pigment in the coloring composition is good. In addition, in this invention, the primary particle diameter of a pigment can be calculated|required from the image photograph obtained by observing the primary particle of a pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the equivalent circle diameter corresponding to the projected area is calculated as the primary particle diameter of the pigment. The average primary particle size in the present invention is the arithmetic mean value of the primary particle size of 400 pigment primary particles. In addition, the primary particle of a pigment refers to an independent particle without aggregation.

25℃의 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트 100g에 대한 안료의 용해량은, 0.01g 미만인 것이 바람직하고, 0.005g 미만인 것이 보다 바람직하며, 0.001g 미만인 것이 더 바람직하다.The dissolution amount of the pigment per 100 g of propylene glycol methyl ether acetate at 25°C is preferably less than 0.01 g, more preferably less than 0.005 g, still more preferably less than 0.001 g.

안료로서는, 황색 안료, 오렌지색 안료, 적색 안료, 녹색 안료, 자색 안료, 청색 안료 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 예를 들면, 이하를 들 수 있다.As a pigment, a yellow pigment, an orange pigment, a red pigment, a green pigment, a purple pigment, a blue pigment, etc. are mentioned. As these specific examples, the following is mentioned, for example.

컬러 인덱스(C. I.) Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214, 215, 228, 231, 232(메타인계), 233(퀴놀린계), 234(아미노케톤계), 235(아미노케톤계), 236(아미노케톤계) 등(이상, 황색 안료),Color Index (C.I.) Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35 :1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94 ,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137 , 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176 , 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214, 215, 228, 231, 232 (methane), 233 (quinoline), 234 (aminoketone ), 235 (amino ketone), 236 (amino ketone), etc. (above, yellow pigment),

C. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 등(이상, 오렌지색 안료),C. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 Etc. (ideal, orange pigment),

C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 269, 270, 272, 279, 291, 294(잔텐계, Organo Ultramarine, Bluish Red), 295(모노아조계), 296(다이아조계), 297(아미노케톤계) 등(이상, 적색 안료),C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4 , 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3 , 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184 , 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 269, 270, 272, 279, 291 , 294 (Xanthene, Organo Ultramarine, Bluish Red), 295 (monoazo), 296 (diazo), 297 (amino ketone), etc. (above, red pigment),

C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64(프탈로사이아닌계), 65(프탈로사이아닌계), 66(프탈로사이아닌계) 등(이상, 녹색 안료),C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64 (phthalocyanine-based), 65 (phthalocyanine-based), 66 (phthalocyanine-based), etc. (above, green pigment),

C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60(트라이아릴메테인계), 61(잔텐계) 등(이상, 자색 안료),C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60 (triarylmethane-based), 61 (xanthene-based), etc. (above, purple pigment),

C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87(모노아조계), 88(메타인계) 등(이상, 청색 안료).C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87 (monoazo ), 88 (methane-based), etc. (above, blue pigment).

또, 녹색 안료로서, 1분자 중의 할로젠 원자수가 평균 10~14개이고, 브로민 원자수가 평균 8~12개이며, 염소 원자수가 평균 2~5개인 할로젠화 아연 프탈로사이아닌 안료를 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 국제 공개공보 제2015/118720호에 기재된 화합물을 들 수 있다. 또, 녹색 안료로서 중국 특허출원 제106909027호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2012/102395호에 기재된 인산 에스터를 배위자로서 갖는 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2019-008014호에 기재된 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2018-180023호에 기재된 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2019-038958호에 기재된 화합물 등을 이용할 수도 있다.In addition, as a green pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5 may be used. there is. As a specific example, the compound of international publication 2015/118720 is mentioned. Further, as a green pigment, a compound described in Chinese Patent Application No. 106909027, a phthalocyanine compound having a phosphoric acid ester as a ligand described in International Publication No. 2012/102395, and a phthalocyanine described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2019-008014 An anine compound, the phthalocyanine compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-180023, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-038958, etc. can also be used.

또, 청색 안료로서, 인 원자를 갖는 알루미늄프탈로사이아닌 화합물을 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2012-247591호의 단락 번호 0022~0030, 일본 공개특허공보 2011-157478호의 단락 번호 0047에 기재된 화합물을 들 수 있다.Moreover, as a blue pigment, the aluminum phthalocyanine compound which has a phosphorus atom can also be used. As a specific example, Paragraph No. 0022 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-247591 - 0030, and the compound of Paragraph No. 0047 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-157478 are mentioned.

또, 황색 안료로서, 일본 공개특허공보 2017-201003호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-197719호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171912호의 단락 번호 0011~0062, 0137~0276에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171913호의 단락 번호 0010~0062, 0138~0295에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171914호의 단락 번호 0011~0062, 0139~0190에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171915호의 단락 번호 0010~0065, 0142~0222에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2013-054339호의 단락 번호 0011~0034에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-026228호의 단락 번호 0013~0058에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-062644호에 기재된 아이소인돌린 화합물, 일본 공개특허공보 2018-203798호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-062578호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 특허공보 제6432076호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-155881호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-111757호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-040835호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2017-197640호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2016-145282호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-085565호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-021139호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-209614호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-209435호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-181015호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-061622호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-032486호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2012-226110호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074987호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-081565호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074986호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074985호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-050420호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-031281호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공고특허공보 소48-032765호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2019-008014호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 하기 식 (QP1)로 나타나는 화합물, 하기 식 (QP2)로 나타나는 화합물, 한국 공개특허공보 제10-2014-0034963호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-095706호에 기재된 화합물, 대만 특허출원 공개공보 제201920495에 기재된 화합물, 일본 특허공보 제6607427호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2020-033525호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2020-033524호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2020-033523호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2020-033522호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2020-033521호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2020/045200호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2020/045199호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2020/045197호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2020-033521호에 기재된 퀴노프탈론 이량체를 이용할 수도 있다. 또, 이들 화합물을 다량체화한 것도, 색가 향상의 관점에서 바람직하게 이용된다.Moreover, as a yellow pigment, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-201003, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-197719, the compound of Paragraph No. 0011-0062, 0137-0276 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-171912 , Compounds described in Paragraph Nos. 0010 to 0062, 0138 to 0295 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2017-171913, Paragraph Nos. 0011 to 0062, 0139 to 0190 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-171914, Compounds described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-171915 Paragraph Nos. 0010 to 0065, 0142 to 0222, the compound described in Paragraph Nos. 0011 to 0034 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-054339, the quinophthalone compound described in Paragraph Nos. 0013 to 0058 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-026228 A nophthalone compound, an isoindoline compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-062644, a quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-203798, a quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-062578, Japan A quinophthalone compound described in Patent Publication No. 6432076, a quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-155881, a quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-111757, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-040835 A quinophthalone compound described in, a quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-197640, a quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-145282, a quinophthalone described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-085565 A compound, a quinophthalone compound described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-021139, a quinophthalone compound described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-209614, a quinophthalone compound described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-209435, Japanese Laid-Open Patent A quinophthalone compound described in Publication No. 2013-181015, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-061622 The described quinophthalone compound, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 2013-032486, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 2012-226110, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 2008-074987 , A quinophthalone compound described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-081565, a quinophthalone compound described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-074986, a quinophthalone compound described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-074985, Japanese Laid-Open Patent Publication A quinophthalone compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 2008-050420, a quinophthalone compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 2008-031281, a quinophthalone compound described in Japanese Patent Publication No. 48-032765, Japanese Patent Laid-Open No. 2019-008014 A quinophthalone compound described in, a compound represented by the following formula (QP1), a compound represented by the following formula (QP2), a compound described in Korean Unexamined Patent Publication No. 10-2014-0034963, and a compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 2017-095706 Compounds, compounds described in Taiwan Patent Application Publication No. 201920495, compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 6607427, compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2020-033525, compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2020-033524, Japanese Laid-Open Patent A compound described in Publication No. 2020-033523, a compound described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2020-033522, a compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-033521, a compound described in International Publication No. 2020/045200, International Publication No. 2020 The compound described in /045199, the compound described in International Publication No. 2020/045197, and the quinophthalone dimer described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-033521 can also be used. Moreover, what multimerized these compounds is also used preferably from a viewpoint of color value improvement.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

식 (QP1) 중, X1~X16은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타내고, Z1은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. 식 (QP1)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 일본 특허공보 제6443711호의 단락 번호 0016에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.In Formula (QP1), X 1 to X 16 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, and Z 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms. As a specific example of the compound represented by Formula (QP1), the compound described in Paragraph No. 0016 of Japanese Patent Publication No. 6443711 is mentioned.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

식 (QP2) 중, Y1~Y3은, 각각 독립적으로 할로젠 원자를 나타낸다. n, m은 0~6의 정수, p는 0~5의 정수를 나타낸다. (n+m)은 1 이상이다. 식 (QP2)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 일본 특허공보 6432077호의 단락 번호 0047~0048에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.In Formula (QP2), Y 1 to Y 3 each independently represent a halogen atom. n and m represent an integer of 0 to 6, and p represents an integer of 0 to 5. (n+m) is 1 or more. As a specific example of the compound represented by Formula (QP2), the compound described in Paragraph No. 0047 of Japanese Patent Publication 6432077 - 0048 is mentioned.

또, 황색 안료로서는, 하기 구조의 아조바비투르산 니켈 착체 안료를 이용할 수도 있다.Moreover, as a yellow pigment, the nickel azobarbiturate complex pigment of the following structure can also be used.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

적색 안료로서, 일본 공개특허공보 2017-201384호에 기재된 구조 중에 적어도 하나의 브로민 원자가 치환된 다이케토피롤로피롤 화합물, 일본 특허공보 제6248838호의 단락 번호 0016~0022에 기재된 다이케토피롤로피롤 화합물, 국제 공개공보 제2012/102399호에 기재된 다이케토피롤로피롤 화합물, 국제 공개공보 제2012/117965호에 기재된 다이케토피롤로피롤 화합물, 일본 공개특허공보 2012-229344호에 기재된 나프톨아조 화합물, 일본 특허공보 제6516119호에 기재된 적색 안료, 일본 특허공보 제6525101호에 기재된 적색 안료 등을 이용할 수도 있다. 또, 적색 안료로서, 방향족환에 대하여, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자가 결합된 기가 도입된 방향족환기가 다이케토피롤로피롤 골격에 결합한 구조를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다.As a red pigment, the diketopyrrolopyrrole compound in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in Japanese Laid-open Patent Publication No. 2017-201384, and the diketopyrrolopyrrole compound described in paragraph Nos. 0016 to 0022 of Japanese Patent Publication No. 6248838 , A diketopyrrolopyrrole compound described in International Publication No. 2012/102399, a diketopyrrolopyrrole compound described in International Publication No. 2012/117965, a naphthol azo compound described in Japanese Patent Laid-Open No. 2012-229344, Japan A red pigment described in Patent Publication No. 6516119, a red pigment described in Japanese Patent Publication No. 6525101, or the like can also be used. Further, as the red pigment, a compound having a structure in which an aromatic ring group in which a group in which an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom is bonded to an aromatic ring is introduced is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton can also be used.

염료로서 잔텐 색소 구조를 갖는 화합물(잔텐 염료) 또는 트라이아릴메테인 색소 구조를 갖는 화합물을 이용한 경우, 병용하는 안료로서는, 프탈로사이아닌 안료, 다이옥사진 안료 및 트라이아릴메테인 안료로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. 구체예로서는, C. I. Pigment Violet 23, C. I. Pigment Blue15:3, 15:4, 15:6, 16 등을 들 수 있다.When a compound having a xanthene dye structure (xanthene dye) or a compound having a triarylmethane dye structure is used as the dye, as a pigment used in combination, at least one selected from phthalocyanine pigments, dioxazine pigments, and triarylmethane pigments It is preferable that it is 1 type. Specific examples include C. I. Pigment Violet 23, C. I. Pigment Blue 15:3, 15:4, 15:6, and 16.

또, 착색제로서 일본 공표특허공보 2020-504758호에 기재된 다이아릴메테인 화합물을 이용할 수도 있다.Moreover, as a coloring agent, the diarylmethane compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2020-504758 can also be used.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 착색제의 함유량은, 40질량% 이상이며, 50질량% 이상인 것이 바람직하고, 60질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 80질량% 이하인 것이 바람직하고, 75질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The content of the coloring agent in the total solids of the coloring composition is 40% by mass or more, preferably 50% by mass or more, and more preferably 60% by mass or more. It is preferable that it is 80 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 75 mass % or less.

본 발명의 착색 조성물이 착색제로서 염료를 포함하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 염료의 함유량은, 5질량% 이상인 것이 바람직하고, 8질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 10질량% 이상인 것이 더 바람직하고, 15질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상한은 80질량% 이하인 것이 바람직하고, 70질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 60질량% 이하인 것이 더 바람직하고, 50질량% 이하인 것이 보다 한층 바람직하며, 40질량% 이하인 것이 특히 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 가장 바람직하다. 또, 착색 조성물에 포함되는 착색제 중에 있어서의 염료의 함유량은, 5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 15질량% 이상인 것이 더 바람직하고, 20질량% 이상인 것이 보다 한층 바람직하며, 25질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상한은 100질량% 이하로 할 수 있고, 90질량% 이하로 할 수도 있으며, 80질량% 이하로 할 수도 있고, 70질량% 이하로 할 수도 있으며, 60질량% 이하로 할 수도 있고, 50질량% 이하로 할 수도 있다.When the coloring composition of the present invention contains a dye as a coloring agent, the content of the dye in the total solids of the coloring composition is preferably 5% by mass or more, more preferably 8% by mass or more, and still more preferably 10% by mass or more. It is preferable, and it is especially preferable that it is 15 mass % or more. The upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, even more preferably 50% by mass or less, particularly preferably 40% by mass or less, and 30% by mass It is most preferable that it is below. In addition, the content of the dye in the coloring agent contained in the coloring composition is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, still more preferably 15% by mass or more, and still more preferably 20% by mass or more. And, it is particularly preferably 25% by mass or more. The upper limit can be 100 mass% or less, 90 mass% or less, 80 mass% or less, 70 mass% or less, 60 mass% or less, 50 mass% can be made below.

본 발명의 착색 조성물이 착색제로서 안료를 포함하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 안료의 함유량은, 5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 15질량% 이상인 것이 더 바람직하고, 20질량% 이상인 것이 보다 한층 바람직하며, 25질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상한은 100질량% 이하로 할 수 있고, 90질량% 이하로 할 수도 있으며, 80질량% 이하로 할 수도 있고, 70질량% 이하로 할 수도 있으며, 60질량% 이하로 할 수도 있고, 50질량% 이하로 할 수도 있다.When the coloring composition of the present invention contains a pigment as a coloring agent, the content of the pigment in the total solids of the coloring composition is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and still more preferably 15% by mass or more. It is preferable, more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 25% by mass or more. The upper limit can be 100 mass% or less, 90 mass% or less, 80 mass% or less, 70 mass% or less, 60 mass% or less, 50 mass% can be made below.

본 발명의 착색 조성물이 착색제로서 안료와 염료를 포함하는 경우, 안료의 함유량은, 염료의 100질량부에 대하여, 10~500질량부인 것이 바람직하다. 하한은, 100질량부 이상인 것이 바람직하고, 130질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 150질량부 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 230질량부 이하인 것이 바람직하고, 200질량부 이하인 것이 보다 바람직하다.When the coloring composition of this invention contains a pigment and dye as a coloring agent, it is preferable that content of a pigment is 10-500 mass parts with respect to 100 mass parts of dyes. The lower limit is preferably 100 parts by mass or more, more preferably 130 parts by mass or more, and still more preferably 150 parts by mass or more. It is preferable that it is 230 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 200 mass parts or less.

<<에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물>><<Compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group>>

본 발명의 착색 조성물은, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물을 함유한다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다.The coloring composition of the present invention contains a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group. Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth)allyl group, and a (meth)acryloyl group.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 모노머, 프리폴리머, 올리고머 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 되지만, 모노머가 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물의 분자량은, 100~3000이 바람직하다. 상한은, 2000 이하가 보다 바람직하며, 1500 이하가 더 바람직하다. 하한은, 150 이상이 보다 바람직하며, 250 이상이 더 바람직하다.As a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, any of chemical forms such as monomers, prepolymers and oligomers may be used, but monomers are preferred. As for the molecular weight of the compound which has an ethylenically unsaturated bond-containing group, 100-3000 are preferable. As for an upper limit, 2000 or less are more preferable, and 1500 or less are still more preferable. As for a lower limit, 150 or more are more preferable, and 250 or more are still more preferable.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물은, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3개 이상 포함하는 화합물인 것이 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3~15개 포함하는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3~6개 포함하는 화합물인 것이 더 바람직하다. 또, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물은, 3~15관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하고, 3~6관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 보다 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2009-288705호의 단락 번호 0095~0108, 일본 공개특허공보 2013-029760호의 단락 번호 0227, 일본 공개특허공보 2008-292970호의 단락 번호 0254~0257, 일본 공개특허공보 2013-253224호의 단락 번호 0034~0038, 일본 공개특허공보 2012-208494호의 단락 번호 0477, 일본 공개특허공보 2017-048367호, 일본 특허공보 제6057891호, 일본 특허공보 제6031807호에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.The compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferably a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, more preferably a compound containing 3 to 15 ethylenically unsaturated bond-containing groups, It is more preferable that it is a compound containing 3-6 containing groups. Moreover, it is preferable that it is a tri- to 15-functional (meth)acrylate compound, and, as for the compound which has an ethylenically unsaturated bond-containing group, it is more preferable that it is a tri- to hexafunctional (meth)acrylate compound. As specific examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, Paragraph Nos. 0095 to 0108 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-288705, Paragraph No. 0227 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-029760, Paragraph No. 0254 to Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-292970 0257, paragraph numbers 0034 to 0038 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2013-253224, paragraph number 0477 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-208494, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2017-048367, Japanese Patent Publication No. 6057891, Japanese Patent Publication No. 6031807 The compounds described in can be mentioned, and these contents are integrated in this specification.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 다이펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA; 닛폰 가야쿠(주)제, NK 에스터 A-DPH-12E; 신나카무라 가가쿠 고교(주)제), 및 이들의 (메트)아크릴로일기가 에틸렌글라이콜 및/또는 프로필렌글라이콜 잔기를 개재하여 결합되어 있는 구조의 화합물(예를 들면, 사토머사로부터 시판되고 있는, SR454, SR499)가 바람직하다. 또, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 다이글리세린 EO(에틸렌옥사이드) 변성 (메트)아크릴레이트(시판품으로서는 M-460; 도아 고세이제), 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교(주)제, NK 에스터 A-TMMT), 1,6-헥세인다이올다이아크릴레이트(닛폰 가야쿠(주)제, KAYARAD HDDA), RP-1040(닛폰 가야쿠(주)제), 아로닉스 TO-2349(도아 고세이(주)제), NK 올리고 UA-7200(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), 8UH-1006, 8UH-1012(다이세이 파인 케미컬(주)제), 라이트 아크릴레이트 POB-A0(교에이샤 가가쿠(주)제) 등을 이용할 수도 있다.As the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, dipentaerythritol tri(meth)acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-320; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta(meth)acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa(meth)acrylate Late (as a commercial product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NK Ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), and their (meth)acryloyl groups are ethylene glycol and / Alternatively, a compound having a structure bonded via a propylene glycol residue (for example, SR454 and SR499 commercially available from Sartomer) is preferable. In addition, as a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth)acrylate (M-460 as a commercial product; manufactured by Toagosei), pentaerythritol tetraacrylate (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) Co., Ltd., NK Ester A-TMMT), 1,6-Hexanedioldiacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 (manufactured by Toa Kosei Co., Ltd.), NK Oligo UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) or the like can also be used.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인프로필렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인에틸렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 아이소사이아누르산 에틸렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물의 시판품으로서는, 아로닉스 M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305, M-303, M-452, M-450(도아 고세이(주)제), NK 에스터 A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30(닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane propylene oxide-modified tri(meth)acrylate, and trimethylolpropane ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate. It is also preferable to use a trifunctional (meth)acrylate compound such as a rate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate. As commercially available products of trifunctional (meth)acrylate compounds, Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305 , M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ) and the like.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물은, 산기를 더 갖고 있어도 된다. 이와 같은 화합물을 이용함으로써, 현상 시에 미노광부의 착색 조성물이 제거되기 쉬워, 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있다. 상기 화합물의 산가는, 0.1~40mgKOH/g인 것이 바람직하고, 5~30mgKOH/g인 것이 보다 바람직하다. 산기로서는, 카복실기, 설포기, 인산기 등을 들 수 있으며, 카복실기가 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기와 산기를 갖는 화합물의 시판품으로서는, 아로닉스 M-510, M-520, 아로닉스 TO-2349(도아 고세이(주)제) 등을 들 수 있다.The compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group may further have an acid group. By using such a compound, the coloring composition of the unexposed area is easily removed during development, and generation of development residue can be suppressed. It is preferable that it is 0.1-40 mgKOH/g, and, as for the acid value of the said compound, it is more preferable that it is 5-30 mgKOH/g. As an acid group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, etc. are mentioned, and a carboxyl group is preferable. As a commercial item of the compound which has an ethylenically unsaturated bond-containing group and an acid group, Aronix M-510, M-520, Aronix TO-2349 (made by Toagosei Co., Ltd.), etc. are mentioned.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 카프로락톤 구조를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 카프로락톤 구조를 갖는 화합물은, 예를 들면, 닛폰 가야쿠(주)로부터 KAYARAD DPCA 시리즈로서 시판되고 있으며, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 등을 들 수 있다.As the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a caprolactone structure can also be used. Compounds having a caprolactone structure are commercially available as the KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku Co., Ltd., and examples thereof include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 알킬렌옥시기를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 이와 같은 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기와, 에틸렌옥시기 및/또는 프로필렌옥시기를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합 함유기와 에틸렌옥시기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 에틸렌옥시기를 4~20개 갖는 3~6관능 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 더 바람직하다. 이와 같은 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 사토머사제의 에틸렌옥시기를 4개 갖는 4관능 (메트)아크릴레이트인 SR-494, 닛폰 가야쿠(주)제의 아이소뷰틸렌옥시기를 3개 갖는 3관능 (메트)아크릴레이트인 KAYARAD TPA-330 등을 들 수 있다.As the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having an alkyleneoxy group can also be used. As such a compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group is preferable, and a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group is more preferable. It is more preferable that it is a tri-hexafunctional (meth)acrylate compound which has 20 pieces. As a commercial item of such a compound, for example, SR-494, which is a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer Co., Ltd., and trifunctional trifunctional having three isobutyleneoxy groups manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TPA-330 etc. which are (meth)acrylates are mentioned.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 플루오렌 골격을 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 플루오렌 골격을 갖는 화합물의 시판품으로서는, 오그솔 EA-0200, EA-0300(오사카 가스 케미컬(주)제, 플루오렌 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머) 등을 들 수 있다.As the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a fluorene skeleton can also be used. As a commercial item of the compound which has a fluorene skeleton, Ogsol EA-0200, EA-0300 (Osaka Gas Chemical Co., Ltd. product, (meth)acrylate monomer which has a fluorene skeleton), etc. are mentioned.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 톨루엔 등의 환경 규제 물질을 실질적으로 포함하지 않는 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 화합물의 시판품으로서는, KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT(닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.As the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, it is also preferable to use a compound that does not substantially contain environmental regulating substances such as toluene. As a commercial item of such a compound, KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc. are mentioned.

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, 일본 공고특허공보 소48-041708호, 일본 공개특허공보 소51-037193호, 일본 공고특허공보 평02-032293호, 일본 공고특허공보 평02-016765호에 기재된 유레테인아크릴레이트류, 일본 공고특허공보 소58-049860호, 일본 공고특허공보 소56-017654호, 일본 공고특허공보 소62-039417호, 일본 공고특허공보 소62-039418호에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 유레테인 화합물, 일본 공개특허공보 소63-277653호, 일본 공개특허공보 소63-260909호, 일본 공개특허공보 평01-105238호에 기재된 분자 내에 아미노 구조나 설파이드 구조를 갖는 중합성 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 또, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물로서는, UA-7200(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), DPHA-40H(닛폰 가야쿠(주)제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600, LINC-202UA(교에이샤 가가쿠(주)제) 등의 시판품을 이용할 수도 있다.As a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, Japanese Patent Publication No. 48-041708, Japanese Patent Application Publication No. 51-037193, Japanese Patent Publication No. Hei 02-032293, Japanese Patent Publication No. Hei 02-016765 Urethane acrylates described, ethylene described in Japanese Publication No. 58-049860, Japanese Publication No. 56-017654, Japanese Publication No. 62-039417, Japanese Publication No. 62-039418 A urethane compound having an oxide skeleton, having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 63-277653, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 63-260909, and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 01-105238 It is also preferable to use a polymerizable compound. Moreover, as a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA- Commercially available products such as 306I, AH-600, T-600, AI-600, and LINC-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) can also be used.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물의 함유량은 0.1~50질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 0.5질량% 이상이 보다 바람직하며, 1질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은, 45질량% 이하가 보다 바람직하며, 40질량% 이하가 더 바람직하다.It is preferable that content of the compound which has an ethylenically unsaturated bond-containing group in the total solid content of a coloring composition is 0.1-50 mass %. The lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more. As for an upper limit, 45 mass % or less is more preferable, and 40 mass % or less is still more preferable.

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물은 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.In the coloring composition of the present invention, only one type of compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group may be used, or two or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<에폭시 화합물>><<Epoxy Compounds>>

본 발명의 착색 조성물은, 에폭시기를 갖는 화합물(이하, 에폭시 화합물이라고도 한다)을 함유한다. 본 발명의 착색 조성물에 이용되는 에폭시 화합물은, 식 (EP-1)로 나타나는 기를 갖는 화합물 Ep를 포함한다.The coloring composition of this invention contains the compound (henceforth an epoxy compound) which has an epoxy group. The epoxy compound used for the coloring composition of this invention contains the compound Ep which has group represented by Formula (EP-1).

화합물 Ep는, 식 (EP-1)로 나타나는 기를 2개 이상 갖는 것이 바람직하다. 상한은, 8개 이하인 것이 바람직하고, 4개 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that compound Ep has 2 or more groups represented by Formula (EP-1). It is preferable that it is 8 or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 4 or less.

화합물 Ep는, 글리시딜에터기를 포함하는 것도 바람직하다. 이 양태에 의하면, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물 등과의 상용성이 향상되고, 막의 가교 밀도를 보다 향상시켜 얻어지는 막의 내용제성을 향상시킬 수도 있다. 화합물 Ep에 있어서, 글리시딜에터기는, 식 (EP-1)로 나타나는 기와는 별도로 더 갖고 있어도 되지만, 식 (EP-1)로 나타나는 기의 L1EP가 글리시딜에터기를 포함하고 있는 것이 바람직하다.It is also preferable that compound Ep contains a glycidyl ether group. According to this embodiment, the compatibility with the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is improved, and the crosslinking density of the film can be further improved to improve the solvent resistance of the resulting film. Compound Ep WHEREIN: The glycidyl ether group may have further apart from the group represented by formula (EP-1), but L 1EP of the group represented by formula (EP-1) contains a glycidyl ether group it is desirable

화합물 Ep가 갖는 식 (EP-1)로 나타나는 기에 대하여 설명한다.The group represented by the formula (EP-1) of the compound Ep is described.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (EP-1) 중, L1EP는, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화 수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기를 나타내고, 파선은 연결손을 나타낸다.In formula (EP-1), L 1EP represents an optionally substituent aliphatic hydrocarbon group or an optionally substituent aromatic hydrocarbon group, and a broken line represents a connecting hand.

식 (EP-1)의 L1EP가 나타내는 지방족 탄화 수소기의 탄소수는 1~20인 것이 바람직하고, 1~15인 것이 보다 바람직하며, 1~10인 것이 더 바람직하고, 1~6인 것이 보다 한층 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 포화 지방족 탄화 수소기인 것이 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 직쇄, 분기 및 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기인 것이 바람직하고, 직쇄인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group represented by L 1EP in Formula (EP-1) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, still more preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6. more preferable It is preferable that an aliphatic hydrocarbon group is a saturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group may be straight-chain, branched or cyclic, but is preferably straight-chain or branched, and more preferably straight-chain.

식 (EP-1)의 L1EP가 나타내는 방향족 탄화 수소기의 탄소수는 6~20인 것이 바람직하고, 6~12인 것이 보다 바람직하며, 6~10인 것이 더 바람직하고, 6인 것이 보다 한층 바람직하다. 식 (EP-1)의 L1EP가 나타내는 방향족 탄화 수소기는, 벤젠환기인 것이 바람직하다.The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group represented by L 1EP in Formula (EP-1) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, still more preferably 6 to 10, and still more preferably 6. Do. The aromatic hydrocarbon group represented by L 1EP in Formula (EP-1) is preferably a benzene ring group.

식 (EP-1)의 L1EP가 나타내는 지방족 탄화 수소기 및 방향족 탄화 수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 에폭시기, 글리시딜기, 글리시딜에터기, 옥세탄일기, 알킬렌옥시쇄를 갖는 기 등을 들 수 있으며, 글리시딜에터기인 것이 바람직하다. 식 (EP-1)의 L1EP가 지방족 탄화 수소기인 경우는, 무치환의 지방족 탄화 수소기인 것이 바람직하다. 또, 식 (EP-1)의 L1EP가 방향족 탄화 수소기인 경우는, 무치환의 방향족 탄화 수소기여도 되고, 치환기를 갖는 방향족 탄화 수소기여도 되지만, 치환기를 갖는 방향족 탄화 수소기인 것이 바람직하다.Examples of the substituent that the aliphatic hydrocarbon group and aromatic hydrocarbon group represented by L 1EP in Formula (EP-1) may have include an epoxy group, a glycidyl group, a glycidyl ether group, an oxetanyl group, a group having an alkyleneoxy chain, and the like. are mentioned, and it is preferable that it is a glycidyl ether group. When L 1EP in formula (EP-1) is an aliphatic hydrocarbon group, it is preferably an unsubstituted aliphatic hydrocarbon group. Further, when L 1EP in the formula (EP-1) is an aromatic hydrocarbon group, it may be an unsubstituted aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group having a substituent, but it is preferably an aromatic hydrocarbon group having a substituent.

식 (EP-1)의 L1EP는, π 상호 작용에 의한 패킹성의 향상에 의하여 경화물의 강직성을 향상시킬 수 있다는 이유에서 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기인 것이 바람직하고, 글리시딜에터기를 치환기로서 갖는 방향족 탄화 수소기인 것이 바람직하다. 또, 식 (EP-1)로 나타나는 기는, 식 (EP-2)로 나타나는 구조의 기인 것이 특히 바람직하다.L 1EP in the formula (EP-1) is preferably an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent for the reason that the rigidity of the cured product can be improved by improving the packing property by π interaction, and a glycidyl ether group It is preferable that it is an aromatic hydrocarbon group which has as a substituent. In addition, the group represented by formula (EP-1) is particularly preferably a group having a structure represented by formula (EP-2).

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

화합물 Ep로서는, 식 (EP-100)으로 나타나는 화합물 및 식 (EP-101)로 나타나는 화합물을 들 수 있다. 그중에서도, 주쇄의 분기가 적은 편이 가교에 유리하고, 가교 네트워크의 자유 체적이 크기 때문에, 막이 부드럽고 운동성이 우수하여, 안정적이고 조밀하게 분자를 채울 수 있다는 이유에서 식 (EP-100)으로 나타나는 화합물인 것이 바람직하다.As compound Ep, the compound represented by the formula (EP-100) and the compound represented by the formula (EP-101) are mentioned. Among them, the compound represented by the formula (EP-100) is a compound represented by Formula (EP-100) because the side with less branching of the main chain is more advantageous for crosslinking and the free volume of the crosslinked network is larger, so that the membrane is soft and has excellent mobility and can stably and densely pack molecules. it is desirable

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

식 (EP-100) 중, L100EP는, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화 수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기를 나타내고, A100EP는, n가의 연결기를 나타내며, n은 1 이상의 정수를 나타낸다.In the formula (EP-100), L 100EP represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, A 100EP represents an n-valent linking group, and n represents an integer of 1 or greater. .

식 (EP-101) 중, L101EP~L103EP는, 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화 수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기를 나타내고, A101EP 및 A102EP는 각각 독립적으로 2가의 연결기를 나타내며, m은 1 이상의 정수를 나타낸다.In formula (EP-101), L 101EP to L 103EP each independently represent an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and A 101EP and A 102EP each independently represent a divalent represents a linking group, and m represents an integer of 1 or greater.

식 (EP-100)의 L100EP 및 식 (EP-101)의 L101EP~L103EP는, 식 (EP-1)의 L1EP와 동일한 의미이며, 바람직한 범위도 동일하다.L 100EP in the formula (EP-100) and L 101EP to L 103EP in the formula (EP-101) have the same meaning as L 1EP in the formula (EP-1), and the preferred ranges are also the same.

식 (EP-100)의 A100EP가 나타내는 n가의 연결기로서는, 지방족 탄화 수소기, 방향족 탄화 수소기, 복소환기, -O-, -S-, -C(=O)-, -COO-, -NR-, -CONR-, -OCO-, -SO-, -SO2- 및 이들을 2개 이상 연결하여 형성되는 연결기를 들 수 있다. 여기에서, R은, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~20의 아릴기, 또는 헤테로아릴기를 나타낸다.As the n-valent linking group represented by A 100EP in formula (EP-100), an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -C(=O)-, -COO-, - NR-, -CONR-, -OCO-, -SO-, -SO 2 - and a linking group formed by linking two or more of these. Here, R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group.

지방족 탄화 수소기의 탄소수는 1~20인 것이 바람직하고, 1~15인 것이 보다 바람직하며, 1~10인 것이 더 바람직하고, 1~6인 것이 보다 한층 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 포화 지방족 탄화 수소기인 것이 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 직쇄, 분기 및 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기인 것이 바람직하고, 분기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, still more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 6. It is preferable that an aliphatic hydrocarbon group is a saturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group may be straight-chain, branched or cyclic, but is preferably straight-chain or branched, and more preferably branched.

방향족 탄화 수소기의 탄소수는 6~20인 것이 바람직하고, 6~12인 것이 보다 바람직하며, 6~10인 것이 더 바람직하고, 6인 것이 보다 한층 바람직하다.The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, still more preferably 6 to 10, and still more preferably 6.

복소환기는, 비방향족의 복소환기여도 되고, 방향족 복소환기여도 된다. 복소환기는, 5원환 또는 6원환이 바람직하다. 복소환기를 구성하는 헤테로 원자의 종류는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등을 들 수 있다. 복소환기를 구성하는 헤테로 원자의 수는 1~3이 바람직하다. 복소환기는, 단환이어도 되고, 축합환이어도 된다.The heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group. The heterocyclic group has a preferable 5- or 6-membered ring. Examples of the heteroatom constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. As for the number of hetero atoms which comprise a heterocyclic group, 1-3 are preferable. The heterocyclic group may be a monocyclic or condensed ring.

지방족 탄화 수소기, 방향족 탄화 수소기 및 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 알킬기, 아릴기, 할로젠 원자 등을 들 수 있다.The aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heterocyclic group may have a substituent. As a substituent, an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, etc. are mentioned.

식 (EP-100)의 n은 1 이상의 정수를 나타내며, 2~8인 것이 바람직하고, 2~4인 것이 보다 바람직하다.n in the formula (EP-100) represents an integer greater than or equal to 1, preferably 2 to 8, and more preferably 2 to 4.

식 (EP-101)의 A101EP 및 A102EP가 나타내는 2가의 연결기로서는, 지방족 탄화 수소기, 방향족 탄화 수소기, 복소환기, -O-, -S-, -C(=O)-, -COO-, -NR-, -CONR-, -OCO-, -SO-, -SO2- 및 이들을 2개 이상 연결하여 형성되는 연결기를 들 수 있다. 여기에서, R은, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~20의 아릴기, 또는 헤테로아릴기를 나타낸다.As the divalent linking group represented by A 101EP and A 102EP in Formula (EP-101), an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -C(=O)-, -COO -, -NR-, -CONR-, -OCO-, -SO-, -SO 2 - and a linking group formed by linking two or more of these. Here, R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group.

지방족 탄화 수소기의 탄소수는 1~20인 것이 바람직하고, 1~15인 것이 보다 바람직하며, 1~10인 것이 더 바람직하고, 1~6인 것이 보다 한층 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 포화 지방족 탄화 수소기인 것이 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 직쇄, 분기 및 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기인 것이 바람직하고, 분기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, still more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 6. It is preferable that an aliphatic hydrocarbon group is a saturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group may be straight-chain, branched or cyclic, but is preferably straight-chain or branched, and more preferably branched.

방향족 탄화 수소기의 탄소수는 6~20인 것이 바람직하고, 6~12인 것이 보다 바람직하며, 6~10인 것이 더 바람직하고, 6인 것이 보다 한층 바람직하다.The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, still more preferably 6 to 10, and still more preferably 6.

복소환기는, 비방향족의 복소환기여도 되고, 방향족 복소환기여도 된다. 복소환기는, 5원환 또는 6원환이 바람직하다. 복소환기를 구성하는 헤테로 원자의 종류는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등을 들 수 있다. 복소환기를 구성하는 헤테로 원자의 수는 1~3이 바람직하다. 복소환기는, 단환이어도 되고, 축합환이어도 된다.The heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group. The heterocyclic group has a preferable 5- or 6-membered ring. Examples of the heteroatom constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. As for the number of hetero atoms which comprise a heterocyclic group, 1-3 are preferable. The heterocyclic group may be a monocyclic or condensed ring.

지방족 탄화 수소기, 방향족 탄화 수소기 및 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 알킬기, 아릴기, 할로젠 원자 등을 들 수 있다.The aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heterocyclic group may have a substituent. As a substituent, an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, etc. are mentioned.

식 (EP-101)의 m은 1 이상의 정수를 나타내며, 2~8인 것이 바람직하고, 2~4인 것이 보다 바람직하다.m in Formula (EP-101) represents an integer greater than or equal to 1, preferably 2 to 8, and more preferably 2 to 4.

화합물 Ep의 에폭시기가는, 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성하기 쉽다는 이유에서 5mmol/g 이상인 것이 바람직하고, 7mmol/g 이상인 것이 보다 바람직하며, 8mmol/g 이상인 것이 더 바람직하다. 15mmol/g 이하인 것이 바람직하고, 13mmol/g 이하인 것이 보다 바람직하며, 12mmol/g 이하인 것이 더 바람직하다. 또한, 화합물 Ep의 에폭시기가는, 화합물 Ep에 포함되는 에폭시기의 수를, 화합물 Ep의 분자량으로 나눔으로써 산출했다.The epoxy value of the compound Ep is preferably 5 mmol/g or more, more preferably 7 mmol/g or more, and even more preferably 8 mmol/g or more, because it is easy to form a pixel with excellent pattern linearity. It is preferably 15 mmol/g or less, more preferably 13 mmol/g or less, and still more preferably 12 mmol/g or less. In addition, the epoxy group of compound Ep was calculated by dividing the number of epoxy groups contained in compound Ep by the molecular weight of compound Ep.

화합물 Ep의 분자량은, 250~5000인 것이 바람직하고, 250~2500인 것이 더 바람직하다. 또한, 화합물 Ep의 분자량의 값에 대하여, 구조식으로부터 분자량을 계산할 수 있는 경우는, 화합물 Ep의 분자량은 구조식으로부터 계산한 값이다. 한편, 화합물 Ep의 분자량을 구조식으로부터 계산할 수 없거나, 혹은, 계산이 곤란한 경우에는, GPC(젤 퍼미에이션 크로마토그래피)법에 의하여 측정한 폴리스타이렌 환산값에서의 중량 평균 분자량의 값을 이용한다.It is preferable that it is 250-5000, and, as for the molecular weight of compound Ep, it is more preferable that it is 250-2500. Regarding the value of the molecular weight of the compound Ep, when the molecular weight can be calculated from the structural formula, the molecular weight of the compound Ep is the value calculated from the structural formula. On the other hand, when the molecular weight of the compound Ep cannot be calculated from the structural formula or is difficult to calculate, the value of the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by the GPC (Gel Permeation Chromatography) method is used.

화합물 Ep의 ClogP값은, 본 발명의 효과가 보다 현저하게 얻어지기 쉽다는 이유에서 2 이상인 것이 바람직하고, 3 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, ClogP값이란, 1-옥탄올/물의 분배 계수 P의 상용대수인 LogP의 계산값이다. 화합물 Ep의 ClogP값은, ChemiBioDraw Ultra ver. 13.0.2.3021(Cambridge soft사제)을 이용하여 예측 계산하여 구했다.The ClogP value of the compound Ep is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more, because the effect of the present invention is more easily obtained. In addition, the ClogP value is a calculated value of LogP, which is a common logarithm of the partition coefficient P of 1-octanol/water. The ClogP value of compound Ep is ChemiBioDraw Ultra ver. It was determined by predictive calculation using 13.0.2.3021 (manufactured by Cambridge Soft).

화합물 Ep의 구체예로서는, 이하에 나타내는 구조의 화합물을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2014-240376호의 단락 번호 0042, 0046에 기재된 화합물도 들 수 있다. 화합물 Ep의 시판품으로서는, 쇼프리 BATG(쇼와 덴코(주)제), TEPIC-FL(닛산 가가쿠(주)제), TEPIC-VL(닛산 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다.As a specific example of compound Ep, the compound of the structure shown below is mentioned. Moreover, Paragraph No. 0042 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-240376, the compound of 0046 is also mentioned. Commercially available products of the compound Ep include Shopfree BATG (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.), TEPIC-FL (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), and TEPIC-VL (manufactured by Nissan Chemical Industries Ltd.).

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

본 발명의 착색 조성물은, 화합물 Ep 이외의 에폭시 화합물(이하, 다른 에폭시 화합물이라고도 한다)을 포함하고 있어도 된다. 다른 에폭시 화합물은, 저분자 화합물(예를 들면, 분자량 2000 미만, 나아가서는, 분자량 1000 미만)이어도 되고, 고분자 화합물(macromolecule)(예를 들면, 분자량 1000 이상, 폴리머의 경우는, 중량 평균 분자량이 1000 이상)이어도 된다. 다른 에폭시 화합물의 분자량(폴리머의 경우는 중량 평균 분자량)은, 200~100000이 바람직하고, 500~50000이 보다 바람직하다. 분자량의 상한은, 10000 이하가 바람직하고, 5000 이하가 보다 바람직하며, 3000 이하가 더 바람직하다.The coloring composition of this invention may contain epoxy compounds (henceforth another epoxy compound) other than compound Ep. The other epoxy compound may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 2000, and furthermore, a molecular weight of less than 1000), or a macromolecule (for example, a molecular weight of 1000 or more, in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000). above) may be 200-100000 are preferable and, as for the molecular weight (in the case of a polymer, weight average molecular weight) of another epoxy compound, 500-50000 are more preferable. 10000 or less are preferable, as for the upper limit of molecular weight, 5000 or less are more preferable, and 3000 or less are still more preferable.

다른 에폭시 화합물로서는, 후술하는 실시예에 기재된 Ep-c1~Ep-c4, 일본 공개특허공보 2014-089408호의 단락 0090에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2010-054632호의 단락 번호 0151에 기재된 화합물 등을 들 수 있다. 또, 다른 에폭시 화합물로서는, 페놀 화합물의 글리시딜에터화물인 에폭시 수지, 각종 노볼락 수지의 글리시딜에터화물인 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 지방족계 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜에스터계 에폭시 수지, 글리시딜아민계 에폭시 수지, 할로젠화 페놀류를 글리시딜화한 에폭시 수지, 에폭시기를 갖는 규소 화합물과 그 이외의 규소 화합물의 축합물, 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 이외의 다른 중합성 불포화 화합물의 공중합체 등도 들 수 있다. 다른 에폭시 화합물의 시판품으로서는, EHPE3150((주)다이셀제), EPICLON N660, 840, HP7200(이상, DIC(주)제), jER1031S(미쓰비시 케미컬(주)제), TTA-3150(구스모토 가세이(주)제), 데나콜 EX611(나가세 켐텍스(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of other epoxy compounds include Ep-c1 to Ep-c4 described in Examples described below, compounds described in Paragraph 0090 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-089408, and compounds described in Paragraph No. 0151 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-054632. can Further, as other epoxy compounds, epoxy resins which are glycidyl ether compounds of phenolic compounds, epoxy resins which are glycidyl ether compounds of various novolak resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, Glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, epoxy resin obtained by glycidylating halogenated phenols, condensates of silicon compounds having an epoxy group and other silicon compounds, polymerizable unsaturated compounds having an epoxy group and copolymers of other polymerizable unsaturated compounds other than those. As commercially available products of other epoxy compounds, EHPE3150 (made by Daicel Co., Ltd.), EPICLON N660, 840, HP7200 (above, made by DIC Co., Ltd.), jER1031S (made by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), TTA-3150 (made by Kusumoto Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.), Denacol EX611 (manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd.), and the like.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 에폭시 화합물의 함유량은, 1.5~20질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 2질량% 이상인 것이 바람직하고, 3질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 18질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 착색 조성물에 포함되는 에폭시 화합물 중에 있어서의 화합물 Ep의 함유량은, 20질량% 이상인 것이 바람직하고, 40질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 100질량% 이하로 할 수 있고, 80질량 이하로 할 수도 있다.It is preferable that content of the epoxy compound in the total solid content of a coloring composition is 1.5-20 mass %. It is preferable that it is 2 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 3 mass % or more. It is preferable that it is 18 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 15 mass % or less. Moreover, it is preferable that it is 20 mass % or more, and, as for content of compound Ep in the epoxy compound contained in a coloring composition, it is more preferable that it is 40 mass % or more. The upper limit can be 100% by mass or less, and can also be made 80% by mass or less.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 화합물 Ep의 함유량은, 1.5~20질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 2질량% 이상인 것이 바람직하고, 3질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 18질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that content of compound Ep in the total solid content of a coloring composition is 1.5-20 mass %. It is preferable that it is 2 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 3 mass % or more. It is preferable that it is 18 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 15 mass % or less.

화합물 Ep의 함유량은, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물의 100질량부에 대하여 5~90질량부인 것이 바람직하다. 하한은, 7질량부 이상인 것이 바람직하고, 9질량부 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 40질량부 이하인 것이 보다 바람직하다.The content of the compound Ep is preferably 5 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group. It is preferable that it is 7 mass parts or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 9 mass parts or more. It is preferable that it is 50 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 40 mass parts or less.

화합물 Ep의 함유량은, 착색제 100질량부에 대하여 2~50질량부인 것이 바람직하다. 하한은, 3질량부 이상인 것이 바람직하고, 3.5질량부 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 40질량부 이하인 것이 바람직하고, 35질량부 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that content of compound Ep is 2-50 mass parts with respect to 100 mass parts of coloring agents. It is preferable that it is 3 mass parts or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 3.5 mass parts or more. It is preferable that it is 40 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 35 mass parts or less.

<<수지>><<Suzy>>

본 발명의 착색 조성물은, 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 수지는, 예를 들면, 안료 등의 입자를 착색 조성물 중에서 분산시키는 용도나 바인더의 용도로 배합된다. 또한, 주로 안료 등의 입자를 분산시키기 위하여 이용되는 수지를 분산제라고도 한다. 단, 수지의 이와 같은 용도는 일례이며, 이와 같은 용도 이외의 목적으로 사용할 수도 있다.It is preferable that the coloring composition of this invention contains resin. The resin is blended for, for example, a use for dispersing particles such as a pigment in a coloring composition or a use for a binder. In addition, a resin mainly used for dispersing particles such as a pigment is also referred to as a dispersing agent. However, such a use of the resin is an example, and it may be used for purposes other than such a use.

수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 3000~2000000이 바람직하다. 상한은, 1000000 이하가 바람직하고, 500000 이하가 보다 바람직하다. 하한은, 4000 이상이 바람직하고, 5000 이상이 보다 바람직하다.As for the weight average molecular weight (Mw) of resin, 3000-2000000 are preferable. 1000000 or less are preferable and, as for an upper limit, 500000 or less are more preferable. 4000 or more are preferable and, as for a minimum, 5000 or more are more preferable.

수지로서는, (메트)아크릴 수지, 엔·싸이올 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에터 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리설폰 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리페닐렌 수지, 폴리아릴렌에터포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 환상 올레핀 수지, 폴리에스터 수지, 스타이렌 수지 등을 들 수 있다. 이들 수지로부터 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 또, 일본 공개특허공보 2017-206689호의 단락 번호 0041~0060에 기재된 수지, 일본 공개특허공보 2018-010856호의 단락 번호 0022~007에 기재된 수지, 일본 공개특허공보 2017-057265호에 기재된 수지, 일본 공개특허공보 2017-032685호에 기재된 수지, 일본 공개특허공보 2017-075248호에 기재된 수지, 일본 공개특허공보 2017-066240호에 기재된 수지를 이용할 수도 있다.As the resin, (meth)acrylic resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene etherphosphine Oxide resin, polyimide resin, polyamide-imide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, etc. are mentioned. These resins may be used individually by 1 type, or 2 or more types may be mixed and used. Moreover, the resin described in Paragraph Nos. 0041 to 0060 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-206689, the resin described in Paragraph Nos. 0022 to 007 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-010856, the resin described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-057265, and the Japanese Unexamined Patent Publication Resin described in Patent Publication No. 2017-032685, resin described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-075248, and resin described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-066240 can also be used.

본 발명에 있어서, 수지로서 산기를 갖는 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이 양태에 의하면, 화합물 Ep의 경화 반응을 촉진할 수 있어, 보다 강고한 막을 형성할 수 있다. 이 때문에, 현상 시의 화소의 손상 등을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.In the present invention, it is preferable to use a resin having an acid group as the resin. According to this aspect, the curing reaction of compound Ep can be accelerated, and a stronger film can be formed. For this reason, the damage of the pixel at the time of development, etc. can be suppressed more effectively.

산기를 갖는 수지에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-208494호의 단락 번호 0558~0571(대응하는 미국 특허출원 공개공보 제2012/0235099호의 단락 번호 0685~0700)의 기재, 일본 공개특허공보 2012-198408호의 단락 번호 0076~0099의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 산기를 갖는 수지는 시판품을 이용할 수도 있다. 또, 수지로의 산기의 도입 방법으로서는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 일본 특허공보 제6349629호에 기재된 방법을 들 수 있다. 또한, 수지로의 산기의 도입 방법으로서는, 에폭시기의 개환 반응으로 발생한 하이드록시기에 산무수물을 반응시켜 산기를 도입하는 방법도 들 수 있다.Regarding the resin having an acid group, description of Paragraph Nos. 0558 to 0571 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2012-208494 (paragraph No. 0685 to 0700 of corresponding US Patent Application Publication No. 2012/0235099) and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-198408 The description of Paragraph No. 0076 - 0099 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification. Moreover, a commercial item can also be used for resin which has an acidic radical. Further, the method for introducing an acid group into the resin is not particularly limited, but examples thereof include the method described in Japanese Patent Publication No. 6349629. Moreover, as a method of introducing an acid group into the resin, a method of introducing an acid group by reacting an acid anhydride with a hydroxyl group generated by a ring-opening reaction of an epoxy group is also exemplified.

산기를 갖는 수지가 갖는 산기의 종류로서는, 카복실기, 인산기, 설포기, 페놀성 하이드록시기 등을 들 수 있으며, 카복실기인 것이 바람직하다.Examples of the acid group of the resin having an acid group include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group, and a carboxyl group is preferable.

산기를 갖는 수지의 산가는, 30~500mgKOH/g이 바람직하다. 하한은, 50mgKOH/g 이상이 바람직하고, 70mgKOH/g 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 400mgKOH/g 이하가 바람직하고, 300mgKOH/g 이하가 보다 바람직하며, 200mgKOH/g 이하가 더 바람직하다. 산기를 갖는 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 5000~100000이 바람직하다. 또, 산기를 갖는 수지의 수평균 분자량(Mn)은, 1000~20000이 바람직하다.As for the acid value of resin which has an acid group, 30-500 mgKOH/g is preferable. 50 mgKOH/g or more is preferable and, as for a minimum, 70 mgKOH/g or more is more preferable. The upper limit is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 300 mgKOH/g or less, and still more preferably 200 mgKOH/g or less. As for the weight average molecular weight (Mw) of resin which has an acidic radical, 5000-100000 are preferable. Moreover, as for the number average molecular weight (Mn) of resin which has an acidic radical, 1000-20000 are preferable.

산기를 갖는 수지는, 산기를 갖는 반복 단위를 포함하는 것이 바람직하고, 산기를 갖는 반복 단위를 수지의 전체 반복 단위 중 5~70몰% 포함하는 것이 보다 바람직하다. 산기를 갖는 반복 단위의 함유량의 상한은, 50몰% 이하인 것이 바람직하고, 30몰% 이하인 것이 보다 바람직하다. 산기를 갖는 반복 단위의 함유량의 하한은, 10몰% 이상인 것이 바람직하고, 20몰% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that resin which has an acidic radical contains the repeating unit which has an acidic radical, and it is more preferable that the repeating unit which has an acidic radical contains 5-70 mol% of all the repeating units of resin. It is preferable that it is 50 mol% or less, and, as for the upper limit of content of the repeating unit which has an acidic radical, it is more preferable that it is 30 mol% or less. It is preferable that it is 10 mol% or more, and, as for the lower limit of content of the repeating unit which has an acidic radical, it is more preferable that it is 20 mol% or more.

산기를 갖는 수지는, 하기 식 (ED1)로 나타나는 화합물 및/또는 하기 식 (ED2)로 나타나는 화합물(이하, 이들 화합물을 "에터 다이머"라고 칭하는 경우도 있다.)을 포함하는 모노머 성분에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 것도 바람직하다.The resin having an acid group is derived from a monomer component containing a compound represented by the following formula (ED1) and/or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer"). It is also preferable to include repeating units.

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 (ED1) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기를 나타낸다.In Formula (ED1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

식 (ED2) 중, R은, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 유기기를 나타낸다. 식 (ED2)의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2010-168539호의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.In Formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. About the detail of Formula (ED2), description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-168539 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

에터 다이머의 구체예로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2013-029760호의 단락 번호 0317의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.As a specific example of an ether dimer, description of Paragraph No. 0317 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-029760 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification, for example.

산기를 갖는 수지는, 하기 식 (X)로 나타나는 화합물에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 것도 바람직하다.It is also preferable that resin which has an acidic radical contains the repeating unit derived from the compound represented by following formula (X).

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

식 (X) 중, R1은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 2~10의 알킬렌기를 나타내며, R3은, 수소 원자 또는 벤젠환을 포함해도 되는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. n은 1~15의 정수를 나타낸다.In formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may include a benzene ring. indicate n represents the integer of 1-15.

산기를 갖는 수지는, 중합성기를 갖는 반복 단위를 포함하는 것도 바람직하다. 중합성기로서는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기 및 환상 에터기를 들 수 있으며, 에틸렌성 불포화 결합 함유기인 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 환상 에터기로서는, 에폭시기, 옥세탄일기 등을 들 수 있다.It is also preferable that the resin having an acid group includes a repeating unit having a polymerizable group. Examples of the polymerizable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, and an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferable. Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth)allyl group, and a (meth)acryloyl group. As a cyclic ether group, an epoxy group, an oxetanyl group, etc. are mentioned.

산기를 갖는 수지는, 산기를 갖는 그래프트 수지인 것도 바람직하다(이하, 산성 그래프트 수지라고도 한다). 이 양태에 의하면, 안료의 분산성을 향상시킬 수 있고, 착색 조성물의 보존 안정성을 향상시킬 수 있다. 산성 그래프트 수지는 분산제로서 바람직하게 이용할 수 있다. 여기에서, 그래프트 수지란, 그래프트쇄를 갖는 반복 단위를 포함하는 수지를 의미한다. 또, 그래프트쇄란, 반복 단위의 주쇄로부터 분기하여 뻗는 폴리머쇄를 의미한다. 그래프트쇄에 있어서는, 수소 원자를 제외한 원자수가 40~10000인 것이 바람직하고, 수소 원자를 제외한 원자수가 50~2000인 것이 보다 바람직하며, 수소 원자를 제외한 원자수가 60~500인 것이 더 바람직하다. 산성 그래프트 수지의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2012-255128호의 단락 번호 0025~0094에 기재된 수지나 후술하는 실시예에 기재된 구조의 수지를 들 수 있다.The resin having an acid group is also preferably a graft resin having an acid group (hereinafter, also referred to as an acidic graft resin). According to this aspect, the dispersibility of a pigment can be improved and the storage stability of a coloring composition can be improved. An acidic graft resin can be preferably used as a dispersing agent. Here, the graft resin means a resin containing a repeating unit having a graft chain. In addition, the graft chain means a polymer chain that branches and extends from the main chain of the repeating unit. In the graft chain, the number of atoms excluding hydrogen atoms is preferably 40 to 10000, the number of atoms excluding hydrogen atoms is more preferably 50 to 2000, and the number of atoms excluding hydrogen atoms is more preferably 60 to 500. As a specific example of acidic graft resin, the resin of Paragraph No. 0025 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-255128 - 0094 and resin of the structure described in the Example mentioned later are mentioned.

본 발명의 착색 조성물은, 산기를 갖는 수지로서, 방향족 카복실기를 갖는 수지(이하, 수지 Ac라고도 한다)를 포함하는 것도 바람직하다. 수지 Ac에 있어서, 방향족 카복실기는 반복 단위의 주쇄에 포함되어 있어도 되고, 반복 단위의 측쇄에 포함되어 있어도 된다. 방향족 카복실기는 반복 단위의 주쇄에 포함되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 방향족 카복실기란, 방향족환에 카복실기가 1개 이상 결합한 구조의 기이다. 방향족 카복실기에 있어서, 방향족환에 결합한 카복실기의 수는, 1~4개인 것이 바람직하고, 1~2개인 것이 보다 바람직하다.It is also preferable that the coloring composition of this invention contains resin (henceforth also called resin Ac) which has an aromatic carboxyl group as resin which has an acid group. Resin Ac WHEREIN: The aromatic carboxyl group may be contained in the main chain of a repeating unit, and may be contained in the side chain of a repeating unit. It is preferable that the aromatic carboxyl group is contained in the main chain of the repeating unit. In addition, in this specification, an aromatic carboxyl group is a group with a structure in which one or more carboxyl groups bonded to an aromatic ring. In the aromatic carboxyl group, the number of carboxyl groups bonded to the aromatic ring is preferably 1 to 4, and more preferably 1 to 2.

수지 Ac는, 식 (Ac-1)로 나타나는 반복 단위 및 식 (Ac-2)로 나타나는 반복 단위로부터 선택되는 적어도 1종의 반복 단위를 포함하는 수지인 것이 바람직하다.Resin Ac is preferably a resin containing at least one repeating unit selected from repeating units represented by formula (Ac-1) and repeating units represented by formula (Ac-2).

이와 같은 반복 단위를 포함하는 수지는, 흡수성이 높은 경향이 있다. 이 때문에, 이와 같은 수지를 포함하는 착색 조성물을 이용하여 포토리소그래피법으로 화소(패턴)를 형성한 경우, 현상 시에 현상액에 의하여 팽창하기 쉽고, 얻어지는 화소의 패턴 직선성이 저하되기 쉬운 경향이 있었다. 그러나, 본 발명의 착색 조성물은, 상술한 화합물 Ep를 포함함으로써, 강고한 막을 형성할 수 있기 때문에, 이와 같은 흡수성이 높은 수지를 이용한 경우이더라도, 현상 시의 막의 팽창을 억제하여 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있다. 따라서, 상술한 반복 단위를 포함하는 수지를 이용한 경우에 있어서, 본 발명의 효과가 현저하게 발휘된다.A resin containing such a repeating unit tends to have high water absorption. For this reason, when pixels (patterns) are formed by the photolithography method using a coloring composition containing such a resin, they tend to swell easily with the developing solution during development, and the pattern linearity of the resulting pixels tends to deteriorate. . However, since the coloring composition of the present invention can form a strong film by including the above-mentioned compound Ep, even when such a highly absorbent resin is used, expansion of the film during development is suppressed and pattern linearity is excellent. A pixel can be formed. Therefore, in the case where the resin containing the above-described repeating unit is used, the effect of the present invention is remarkably exhibited.

나아가서는, 보다 내습성이 우수한 막을 형성할 수 있다. 이와 같은 효과가 얻어지는 상세한 이유는 불명확하지만, 이하에 의한 것이라고 추측된다. 상술한 반복 단위를 포함하는 수지는, 유리 전이 온도가 낮은 경향이 있다. 이 때문에, 상술한 반복 단위를 포함하는 수지를 포함하는 착색 조성물을 이용하여 형성한 막을 습도가 높은 환경하에 노출시킨 경우, 막중에서 상술한 반복 단위를 포함하는 수지가 열운동하여, 막중에 수분이 침투하는 채널이 발생한다고 추측된다. 이와 같은 채널이 형성되면, 이 채널을 통하여 막중에 수분이 침투하여, 분광 특성의 변동 등의 막의 열화가 발생한다고 추측된다. 그러나, 본 발명의 착색 조성물은, 상술한 화합물 Ep를 포함하기 때문에, 막을 습도가 높은 환경하에 노출시켰을 때에 막중에서의 상술한 반복 단위를 포함하는 수지가 열운동을 억제하거나, 상술한 반복 단위를 포함하는 수지가 열운동해도, 그에 따라 발생하는 물 침투 채널이 화합물 Ep 또는 화합물 Ep의 반응물 등에 의하여 매립되어 수분의 침투를 억제할 수 있다고 추측된다. 이 때문에, 우수한 내습성을 갖는 막을 형성할 수 있었다고 추측된다.Furthermore, a film more excellent in moisture resistance can be formed. Although the detailed reason why such an effect is obtained is unknown, it is estimated that it is based on the following. A resin containing the repeating unit described above tends to have a low glass transition temperature. For this reason, when a film formed using a coloring composition containing a resin containing the above-described repeating unit is exposed to a high-humidity environment, the resin containing the above-described repeating unit thermally moves in the film, and moisture is released into the film. It is assumed that penetrating channels occur. It is presumed that when such a channel is formed, moisture permeates into the film through this channel, and deterioration of the film such as fluctuation of spectral characteristics occurs. However, since the coloring composition of the present invention contains the above-mentioned compound Ep, when the film is exposed to a high humidity environment, the resin containing the above-mentioned repeating unit in the film suppresses thermal movement or the above-mentioned repeating unit is not released. It is presumed that even if the containing resin thermally moves, the water permeation channels generated thereby are buried by the compound Ep or a reactant of the compound Ep, thereby suppressing the permeation of moisture. For this reason, it is estimated that the film|membrane which had excellent moisture resistance was able to be formed.

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

식 (Ac-1) 중, Ar1은 방향족 카복실기를 포함하는 기를 나타내고, L1은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내며, L2는, 2가의 연결기를 나타낸다.In formula (Ac-1), Ar 1 represents a group containing an aromatic carboxyl group, L 1 represents -COO- or -CONH-, and L 2 represents a divalent linking group.

식 (Ac-2) 중, Ar10은 방향족 카복실기를 포함하는 기를 나타내고, L11은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내며, L12는 3가의 연결기를 나타내고, P10은 폴리머쇄를 나타낸다.In formula (Ac-2), Ar 10 represents a group containing an aromatic carboxyl group, L 11 represents -COO- or -CONH-, L 12 represents a trivalent linking group, and P 10 represents a polymer chain.

식 (Ac-1)에 있어서 Ar1이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기로서는, 방향족 트라이카복실산 무수물로부터 유래하는 구조, 방향족 테트라카복실산 무수물로부터 유래하는 구조 등을 들 수 있다. 방향족 트라이카복실산 무수물 및 방향족 테트라카복실산 무수물로서는, 하기 구조의 화합물을 들 수 있다.Examples of the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 in formula (Ac-1) include a structure derived from an aromatic tricarboxylic acid anhydride and a structure derived from an aromatic tetracarboxylic acid anhydride. Examples of the aromatic tricarboxylic acid anhydride and the aromatic tetracarboxylic acid anhydride include compounds having the following structures.

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

상기 식 중, Q1은, 단결합, -O-, -CO-, -COOCH2CH2OCO-, -SO2-, -C(CF3)2-, 하기 식 (Q-1)로 나타나는 기 또는 하기 식 (Q-2)로 나타나는 기를 나타낸다.In the above formula, Q 1 is represented by a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, the following formula (Q-1) group or a group represented by the following formula (Q-2).

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

Ar1이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기는, 중합성기를 갖고 있어도 된다. 중합성기로서는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기 및 환상 에터기를 들 수 있으며, 에틸렌성 불포화 결합 함유기인 것이 바람직하다. Ar1이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기의 구체예로서는, 식 (Ar-11)로 나타나는 기, 식 (Ar-12)로 나타나는 기, 식 (Ar-13)으로 나타나는 기 등을 들 수 있다.The group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 may have a polymerizable group. Examples of the polymerizable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, and an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferable. Specific examples of the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 include a group represented by formula (Ar-11), a group represented by formula (Ar-12), and a group represented by formula (Ar-13).

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00023
Figure pct00023

식 (Ar-11) 중, n1은 1~4의 정수를 나타내며, 1 또는 2인 것이 바람직하고, 2인 것이 보다 바람직하다.In formula (Ar-11), n1 represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 2.

식 (Ar-12) 중, n2는 1~8의 정수를 나타내며, 1~4의 정수인 것이 바람직하고, 1 또는 2인 것이 보다 바람직하며, 2인 것이 더 바람직하다.In formula (Ar-12), n2 represents an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, still more preferably 2.

식 (Ar-13) 중, n3 및 n4는 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타내며, 0~2의 정수인 것이 바람직하고, 1 또는 2인 것이 보다 바람직하며, 1인 것이 더 바람직하다. 단, n3 및 n4 중 적어도 일방은 1 이상의 정수이다.In formula (Ar-13), n3 and n4 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 1 or 2, still more preferably 1. However, at least one of n3 and n4 is an integer greater than or equal to 1.

식 (Ar-13) 중, Q1은, 단결합, -O-, -CO-, -COOCH2CH2OCO-, -SO2-, -C(CF3)2-, 상기 식 (Q-1)로 나타나는 기 또는 상기 식 (Q-2)로 나타나는 기를 나타낸다.In formula (Ar-13), Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, the above formula (Q- The group represented by 1) or the group represented by the formula (Q-2) is shown.

식 (Ar-11)~(Ar-13) 중, *1은 L1과의 결합 위치를 나타낸다.In formulas (Ar-11) to (Ar-13), *1 represents a bonding position with L 1 .

식 (Ac-1)에 있어서 L1은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내고, -COO-를 나타내는 것이 바람직하다.In the formula (Ac-1), L 1 represents -COO- or -CONH-, and preferably represents -COO-.

식 (Ac-1)에 있어서 L2가 나타내는 2가의 연결기로서는, 알킬렌기, 아릴렌기, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- 및 이들의 2종 이상을 조합한 기를 들 수 있다. 알킬렌기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~15가 더 바람직하다. 알킬렌기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 아릴렌기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~20이 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 알킬렌기 및 아릴렌기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기 등을 들 수 있다. L2가 나타내는 2가의 연결기는, -L2a-O-로 나타나는 기인 것이 바람직하다. L2a는, 알킬렌기; 아릴렌기; 알킬렌기와 아릴렌기를 조합한 기; 알킬렌기 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 1종과, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 및 -S-로부터 선택되는 적어도 1종을 조합한 기 등을 들 수 있고, 알킬렌기인 것이 바람직하다. 알킬렌기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~15가 더 바람직하다. 알킬렌기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 알킬렌기 및 아릴렌기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기 등을 들 수 있다.Examples of the divalent linking group represented by L 2 in formula (Ac-1) include an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S-, and two of these Groups combining more than one species are exemplified. 1-30 are preferable, as for carbon number of an alkylene group, 1-20 are more preferable, and 1-15 are more preferable. The alkylene group may be straight-chain, branched or cyclic. 6-30 are preferable, as for carbon number of an arylene group, 6-20 are more preferable, and 6-10 are more preferable. The alkylene group and the arylene group may have a substituent. A hydroxyl group etc. are mentioned as a substituent. The divalent linking group represented by L 2 is preferably a group represented by -L 2a -O-. L 2a is an alkylene group; Arylene group; Group combining an alkylene group and an arylene group; a group obtained by combining at least one selected from an alkylene group and an arylene group with at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S-; Yes, preferably an alkylene group. 1-30 are preferable, as for carbon number of an alkylene group, 1-20 are more preferable, and 1-15 are more preferable. The alkylene group may be straight-chain, branched or cyclic. The alkylene group and the arylene group may have a substituent. A hydroxyl group etc. are mentioned as a substituent.

식 (Ac-2)에 있어서 Ar10이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기로서는, 식 (Ac-1)의 Ar1과 동일한 의미이며, 바람직한 범위도 동일하다.As a group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 10 in formula (Ac-2), it has the same meaning as Ar 1 in formula (Ac-1), and the preferred range is also the same.

식 (Ac-2)에 있어서 L11은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내고, -COO-를 나타내는 것이 바람직하다.In the formula (Ac-2), L 11 represents -COO- or -CONH-, and preferably represents -COO-.

식 (Ac-2)에 있어서 L12가 나타내는 3가의 연결기로서는, 탄화 수소기, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- 및 이들의 2종 이상을 조합한 기를 들 수 있다. 탄화 수소기는, 지방족 탄화 수소기, 방향족 탄화 수소기를 들 수 있다. 지방족 탄화 수소기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~15가 더 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 방향족 탄화 수소기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~20이 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 탄화 수소기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기 등을 들 수 있다. L12가 나타내는 3가의 연결기는, 식 (L12-1)로 나타나는 기인 것이 바람직하고, 식 (L12-2)로 나타나는 기인 것이 보다 바람직하다.Examples of the trivalent linking group represented by L 12 in formula (Ac-2) include a hydrocarbon group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S-, and two or more of these. can be mentioned. The hydrocarbon group includes an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. 1-30 are preferable, as for carbon number of an aliphatic hydrocarbon group, 1-20 are more preferable, and 1-15 are more preferable. The aliphatic hydrocarbon group may be straight chain, branched or cyclic. 6-30 are preferable, as for carbon number of an aromatic hydrocarbon group, 6-20 are more preferable, and 6-10 are more preferable. The hydrocarbon group may have a substituent. A hydroxyl group etc. are mentioned as a substituent. The trivalent linking group represented by L 12 is preferably a group represented by formula (L12-1), and more preferably a group represented by formula (L12-2).

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00024
Figure pct00024

식 (L12-1) 중, L12b는 3가의 연결기를 나타내고, X1은 S를 나타내며, *1은 식 (Ac-2)의 L11과의 결합 위치를 나타내고, *2는 식 (Ac-2)의 P10과의 결합 위치를 나타낸다. L12b가 나타내는 3가의 연결기로서는, 탄화 수소기; 탄화 수소기와, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 및 -S-로부터 선택되는 적어도 1종을 조합한 기 등을 들 수 있으며, 탄화 수소기 또는 탄화 수소기와 -O-를 조합한 기인 것이 바람직하다.In formula (L12-1), L 12b represents a trivalent linking group, X 1 represents S, *1 represents a bonding position to L 11 in formula (Ac-2), and *2 represents the formula (Ac- 2) shows a binding position with P 10 . Examples of the trivalent linking group represented by L 12b include a hydrocarbon group; and a group obtained by combining a hydrocarbon group with at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, and -S-; It is preferable that it is a group combining -O-.

식 (L12-2) 중, L12c는 3가의 연결기를 나타내고, X1은 S를 나타내며, *1은 식 (Ac-2)의 L11과의 결합 위치를 나타내고, *2는 식 (Ac-2)의 P10과의 결합 위치를 나타낸다. L12c가 나타내는 3가의 연결기로서는, 탄화 수소기; 탄화 수소기와, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 및 -S-로부터 선택되는 적어도 1종을 조합한 기 등을 들 수 있으며, 탄화 수소기인 것이 바람직하다.In formula (L12-2), L 12c represents a trivalent linking group, X 1 represents S, *1 represents a bonding position with L 11 in formula (Ac-2), and *2 represents the formula (Ac-2). 2) shows a binding position with P 10 . Examples of the trivalent linking group represented by L 12c include a hydrocarbon group; and a group obtained by combining a hydrocarbon group with at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, and -S-, and a hydrocarbon group is preferable.

식 (Ac-2)에 있어서 P10은 폴리머쇄를 나타낸다. P10이 나타내는 폴리머쇄는, 폴리(메트)아크릴 반복 단위, 폴리에터 반복 단위, 폴리에스터 반복 단위 및 폴리올 반복 단위로부터 선택되는 적어도 1종의 반복 단위를 갖는 것이 바람직하다. 폴리머쇄 P10의 중량 평균 분자량은 500~20000이 바람직하다. 하한은 1000 이상이 바람직하다. 상한은 10000 이하가 바람직하고, 5000 이하가 보다 바람직하며, 3000 이하가 더 바람직하다. P10의 중량 평균 분자량이 상기 범위이면 조성물 중에 있어서의 안료의 분산성이 양호하다. 방향족 카복실기를 갖는 수지가 식 (Ac-2)로 나타나는 반복 단위를 갖는 수지인 경우는, 이 수지는 분산제로서 바람직하게 이용된다.In the formula (Ac-2), P 10 represents a polymer chain. The polymer chain represented by P 10 preferably has at least one repeating unit selected from a poly(meth)acryl repeating unit, a polyether repeating unit, a polyester repeating unit, and a polyol repeating unit. As for the weight average molecular weight of polymer chain P10, 500-20000 are preferable. As for a lower limit, 1000 or more are preferable. The upper limit is preferably 10000 or less, more preferably 5000 or less, and still more preferably 3000 or less. When the weight average molecular weight of P 10 is within the above range, the dispersibility of the pigment in the composition is good. When the resin having an aromatic carboxyl group is a resin having a repeating unit represented by formula (Ac-2), this resin is preferably used as a dispersing agent.

P10이 나타내는 폴리머쇄는, 중합성기를 포함하고 있어도 된다. 중합성기로서는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기 및 환상 에터기를 들 수 있으며, 에틸렌성 불포화 결합 함유기인 것이 바람직하다.The polymer chain represented by P 10 may contain a polymerizable group. Examples of the polymerizable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, and an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferable.

식 (Ac-2)에 있어서, P10이 나타내는 폴리머쇄는, 하기 식 (P-1)~(P-5)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄인 것이 바람직하고, (P-5)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄인 것이 보다 바람직하다.In the formula (Ac-2), the polymer chain represented by P 10 is preferably a polymer chain containing repeating units represented by the following formulas (P-1) to (P-5), and (P-5) It is more preferable that it is a polymer chain containing the repeating unit which appears.

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00025
Figure pct00025

상기 식에 있어서, RP1 및 RP2는, 각각 알킬렌기를 나타낸다. RP1 및 RP2로 나타나는 알킬렌기로서는, 탄소수 1~20의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 2~16의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기가 보다 바람직하며, 탄소수 3~12의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기가 더 바람직하다.In the above formula, R P1 and R P2 each represent an alkylene group. As the alkylene group represented by R P1 and R P2 , a straight-chain or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, a straight-chain or branched alkylene group having 2 to 16 carbon atoms is more preferable, and a straight-chain or branched alkylene group having 3 to 12 carbon atoms A chain or branched alkylene group is more preferred.

상기 식에 있어서, RP3은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula, R P3 represents a hydrogen atom or a methyl group.

상기 식에 있어서, LP1은, 단결합 또는 아릴렌기를 나타내고, LP2는, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. LP1은, 단결합인 것이 바람직하다. LP2가 나타내는 2가의 연결기로서는, 알킬렌기(바람직하게는 탄소수 1~12의 알킬렌기), 아릴렌기(바람직하게는 탄소수 6~20의 아릴렌기), -NH-, -SO-, -SO2-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, -NHCO-, -CONH-, 및 이들의 2 이상을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다.In the formula, L P1 represents a single bond or an arylene group, and L P2 represents a single bond or a divalent linking group. L P1 is preferably a single bond. Examples of the divalent linking group represented by L P2 include an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), -NH-, -SO-, and -SO 2 -, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, -NHCO-, -CONH-, and groups formed by combining two or more of these.

RP4는, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기로서는, 하이드록시기, 카복실기, 알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알콕시기, 아릴옥시기, 헤테로아릴옥시기, 알킬싸이오에터기, 아릴싸이오에터기, 헤테로아릴싸이오에터기, (메트)아크릴로일기, 옥세탄일기, 블록 아이소사이아네이트기 등을 들 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서의 블록 아이소사이아네이트기란, 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기이며, 예를 들면, 블록제와 아이소사이아네이트기를 반응시켜 아이소사이아네이트기를 보호한 기를 바람직하게 예시할 수 있다. 블록제로서는, 옥심 화합물, 락탐 화합물, 페놀 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물, 머캅탄 화합물, 이미다졸계 화합물, 이미드계 화합물 등을 들 수 있다. 블록제에 대해서는, 일본 공개특허공보 2017-067930호의 단락 0115~0117에 기재된 화합물을 들 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 블록 아이소사이아네이트기는, 90℃~260℃의 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기인 것이 바람직하다.R P4 represents a hydrogen atom or a substituent. As a substituent, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkylthioether group, an arylthioether group, a heteroarylthioether group, (meth) An acryloyl group, an oxetanyl group, a block isocyanate group, etc. are mentioned. In addition, the block isocyanate group in this specification is a group capable of generating an isocyanate group by heat, and, for example, a group obtained by reacting a blocking agent with an isocyanate group to protect an isocyanate group It can be exemplified preferably. Examples of the blocking agent include oxime compounds, lactam compounds, phenol compounds, alcohol compounds, amine compounds, active methylene compounds, pyrazole compounds, mercaptan compounds, imidazole compounds, and imide compounds. About blocking agent, Paragraph 0115 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-067930 - the compound of 0117 are mentioned, This content is integrated in this specification. In addition, the block isocyanate group is preferably a group capable of generating an isocyanate group by heat at 90°C to 260°C.

P10이 나타내는 폴리머쇄는, (메트)아크릴로일기, 옥세탄일기, 블록 아이소사이아네이트기 및 t-뷰틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 기(이하, "관능기 A"라고도 한다.)를 갖는 것이 바람직하다. 관능기 A는 (메트)아크릴로일기, 옥세탄일기 및 블록 아이소사이아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다. 폴리머쇄가 관능기 A를 포함하는 경우는, 내용제성이 우수한 막을 형성하기 쉽다. 특히, (메트)아크릴로일기, 옥세탄일기 및 블록 아이소사이아네이트기로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 포함하는 경우는 상기의 효과가 현저하다.The polymer chain represented by P 10 is at least one group selected from the group consisting of a (meth)acryloyl group, an oxetanyl group, a block isocyanate group and a t-butyl group (hereinafter also referred to as “functional group A”). ) is preferred. It is more preferable that functional group A is at least 1 sort(s) selected from the group which consists of a (meth)acryloyl group, an oxetanyl group, and a block isocyanate group. When the polymer chain contains the functional group A, it is easy to form a film having excellent solvent resistance. In particular, when at least one type of group selected from a (meth)acryloyl group, an oxetanyl group, and a block isocyanate group is included, the above effect is remarkable.

또, P10이 나타내는 폴리머쇄는, 측쇄에 상기 관능기 A를 포함하는 반복 단위를 갖는 폴리머쇄인 것이 보다 바람직하다. 또, P10을 구성하는 전체 반복 단위 중에 있어서의 상기 관능기 A를 측쇄에 포함하는 반복 단위의 비율은, 5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 20질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 100질량%로 할 수 있으며, 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 60질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is more preferable that the polymer chain represented by P 10 is a polymer chain having a repeating unit containing the aforementioned functional group A in a side chain. The ratio of the repeating units containing the functional group A in the side chain in all the repeating units constituting P 10 is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and still more preferably 20% by mass or more. desirable. The upper limit can be made into 100 mass %, it is preferable that it is 90 mass % or less, and it is more preferable that it is 60 mass % or less.

또, P10이 나타내는 폴리머쇄는, 산기를 포함하는 반복 단위를 갖는 것도 바람직하다. 산기로서는, 카복실기, 인산기, 설포기, 페놀성 하이드록시기 등을 들 수 있다. P10을 구성하는 전체 반복 단위 중에 있어서의 산기를 포함하는 반복 단위의 비율은, 1~30질량%인 것이 바람직하고, 2질량%~20질량%인 것이 보다 바람직하며, 3~10질량%인 것이 더 바람직하다.Moreover, it is also preferable that the polymer chain represented by P 10 has a repeating unit containing an acid group. As an acidic group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, a phenolic hydroxyl group, etc. are mentioned. The ratio of repeating units containing acid groups in all the repeating units constituting P 10 is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 2% to 20% by mass, and 3 to 10% by mass. it is more preferable

산기를 갖는 수지로서, 주쇄 및 측쇄 중 적어도 일방에 질소 원자를 포함하는 폴리이민계 분산제를 이용할 수도 있다. 폴리이민계 분산제로서는, pKa 14 이하의 관능기를 갖는 부분 구조를 갖는 주쇄와, 원자수 40~10000의 측쇄를 갖고, 또한 주쇄 및 측쇄 중 적어도 일방에 염기성 질소 원자를 갖는 수지가 바람직하다. 염기성 질소 원자란, 염기성을 나타내는 질소 원자이면 특별히 제한은 없다. 폴리이민계 분산제에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-255128호의 단락 번호 0102~0166의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.As the resin having an acid group, a polyimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and side chain may be used. As the polyimine-based dispersant, a resin having a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less and a side chain having 40 to 10,000 atoms and having a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain is preferable. The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom showing basicity. About the polyimine type dispersing agent, Paragraph No. 0102 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-255128 - description of 0166 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

산기를 갖는 수지로서, 코어부에 복수 개의 폴리머쇄가 결합된 구조의 수지를 이용할 수도 있다. 이와 같은 수지로서는, 예를 들면 덴드라이머(별형 폴리머를 포함한다)를 들 수 있다. 또, 덴드라이머의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2013-043962호의 단락 번호 0196~0209에 기재된 고분자 화합물 C-1~C-31 등을 들 수 있다.As the resin having an acid group, a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to a core portion can also be used. As such a resin, a dendrimer (including a star-shaped polymer) is mentioned, for example. Moreover, as a specific example of a dendrimer, Paragraph No. 0196 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-043962 - the high molecular compound C-1 - C-31 of 0209 etc. are mentioned.

산기를 갖는 수지로서 시판품의 산성 분산제를 이용할 수도 있다. 그와 같은 구체예로서는, BYKChemie사제의 DISPERBYK 시리즈(예를 들면, DISPERBYK-111 등), 니혼 루브리졸(주)제의 솔스퍼스 시리즈 등을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2014-130338호의 단락 번호 0041~0130에 기재된 안료 분산제를 이용할 수도 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.As resin having an acid group, a commercially available acidic dispersant can also be used. As such a specific example, the DISPERBYK series manufactured by BYK Chemie (for example, DISPERBYK-111, etc.), the Solspers series manufactured by Nihon Lubrizol Co., Ltd., etc. are mentioned. Moreover, Paragraph No. 0041 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-130338 - the pigment dispersant of 0130 can also be used, This content is integrated in this specification.

본 발명의 착색 조성물은, 수지로서, 염기성기를 갖는 수지를 이용할 수도 있다. 염기성기를 갖는 수지는, 염기성기를 측쇄에 갖는 반복 단위를 포함하는 수지인 것이 바람직하고, 염기성기를 측쇄에 갖는 반복 단위와 염기성기를 포함하지 않는 반복 단위를 갖는 공중합체인 것이 보다 바람직하며, 염기성기를 측쇄에 갖는 반복 단위와, 염기성기를 포함하지 않는 반복 단위를 갖는 블록 공중합체인 것이 더 바람직하다. 염기성기를 갖는 수지는 분산제로서 이용할 수도 있다. 염기성기를 갖는 수지의 아민가는, 5~300mgKOH/g이 바람직하다. 하한은, 10mgKOH/g 이상이 바람직하고, 20mgKOH/g 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 200mgKOH/g 이하가 바람직하고, 100mgKOH/g 이하가 보다 바람직하다. 염기성기를 갖는 수지로서는, 일본 공개특허공보 2014-219665호의 단락 번호 0063~0112에 기재된 블록 공중합체 (B), 일본 공개특허공보 2018-156021호의 단락 번호 0046~0076에 기재된 블록 공중합체 A1을 들 수 있다.The coloring composition of this invention can also use resin which has a basic group as resin. The resin having a basic group is preferably a resin containing a repeating unit having a basic group on its side chain, more preferably a copolymer having a repeating unit having a basic group on its side chain and a repeating unit not containing a basic group, and having a basic group on its side chain. It is more preferable that it is a block copolymer which has the repeating unit which has it, and the repeating unit which does not contain a basic group. Resin having a basic group can also be used as a dispersing agent. As for the amine titer of resin which has a basic group, 5-300 mgKOH/g is preferable. 10 mgKOH/g or more is preferable and, as for a minimum, 20 mgKOH/g or more is more preferable. 200 mgKOH/g or less is preferable and, as for an upper limit, 100 mgKOH/g or less is more preferable. As resin which has a basic group, the block copolymer (B) of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-219665, Paragraph No. 0063 - 0112, and the block copolymer A1 of Paragraph No. 0046 - 0076 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-156021 are mentioned. there is.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 수지의 함유량은, 1~50질량%가 바람직하다. 하한은, 2질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 40질량% 이하가 바람직하고, 30질량% 이하가 보다 바람직하며, 20질량% 이하가 더 바람직하다.As for content of resin in the total solid content of a coloring composition, 1-50 mass % is preferable. 2 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 3 mass % or more is more preferable. The upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and still more preferably 20% by mass or less.

또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 산기를 갖는 수지의 함유량은, 1~50질량%가 바람직하다. 하한은, 2질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 40질량% 이하가 바람직하고, 30질량% 이하가 보다 바람직하며, 20질량% 이하가 더 바람직하다.Moreover, as for content of resin which has an acidic radical in the total solid content of a coloring composition, 1-50 mass % is preferable. 2 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 3 mass % or more is more preferable. The upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and still more preferably 20% by mass or less.

또, 수지 전량 중에 있어서의 산기를 갖는 수지의 함유량은, 30질량% 이상이 바람직하고, 50질량% 이상이 보다 바람직하며, 70질량% 이상이 더 바람직하고, 80질량% 이상이 특히 바람직하다. 상한은, 100질량%로 할 수 있고, 95질량%로 할 수도 있으며, 90질량% 이하로 할 수도 있다.Moreover, the content of the resin having an acid group in the total amount of the resin is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, still more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more. The upper limit can be 100% by mass, 95% by mass, or 90% by mass or less.

또, 산기를 갖는 수지의 함유량은, 화합물 Ep의 100질량부에 대하여 1~200질량부인 것이 바람직하고, 1~100질량부인 것이 보다 바람직하며, 1~30질량부 이하가 보다 바람직하고, 20질량% 이하가 더 바람직하다.The content of the resin having an acid group is preferably 1 to 200 parts by mass, more preferably 1 to 100 parts by mass, more preferably 1 to 30 parts by mass or less, and 20 parts by mass to 100 parts by mass of the compound Ep. % or less is more preferable.

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 수지는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상 병용하는 경우는 그들의 합계량이 상기 범위인 것이 바람직하다.In the coloring composition of this invention, only 1 type may be used for resin, and 2 or more types may be used together. When using 2 or more types together, it is preferable that their total amount is the said range.

<<이온성 화합물>><<Ionic compound>>

본 발명의 착색 조성물은, 양이온 BX+와 음이온 BZ-의 염(이하, 이온성 화합물이라고도 한다)을 포함할 수 있다. 이와 같은 화합물을 함유함으로써, 에폭시 화합물의 경화성을 보다 촉진할 수 있어, 보다 패턴 직선성이 우수한 화소를 형성할 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain a salt of a cation BX + and an anion BZ - (hereinafter also referred to as an ionic compound). By containing such a compound, the curability of the epoxy compound can be further promoted, and a pixel with more excellent pattern linearity can be formed.

이온성 화합물은, 파장 400~700nm의 범위에서의 최대 흡수 파장에 있어서의, 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이하인 것이 바람직하고, 3 이하인 것이 보다 바람직하며, 1 이하인 것이 더 바람직하다.The ionic compound preferably has a specific absorbance of 5 or less, more preferably 3 or less, and even more preferably 1 or less, at the maximum absorption wavelength in the range of 400 to 700 nm, represented by the following formula (A λ ) .

E=A/(c×l)…(Aλ)E=A/(c×l)… (A λ )

식 (Aλ) 중, E는, 파장 400~700nm의 범위에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 이온성 화합물의 비흡광도를 나타내며,In the formula (A λ ), E represents the specific absorbance of the ionic compound at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 to 700 nm,

A는, 파장 400~700nm의 범위에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 이온성 화합물의 흡광도를 나타내고,A represents the absorbance of the ionic compound at the maximum absorption wavelength in the range of wavelength 400 to 700 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내며,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 이온성 화합물의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the ionic compound in solution, expressed in units of mg/ml.

이온성 화합물의 비흡광도의 측정 방법은, 이온성 화합물에 대하여 충분한 용해성을 갖는 용제를 이용하여 측정용의 용액을 조정하고, 이 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정하는 방법 등을 들 수 있다. 비흡광도를 측정할 때의 용제는, 이온성 화합물에 대하여 충분한 용해성을 갖는 것을 적절히 이용할 수 있다. 바람직한 용제로서는, 물, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 다이메틸설폭사이드, 사이클로헥산온, 아세톤, 메탄올 등을 들 수 있다. 이온성 화합물이 물에 대하여 충분한 용해성을 갖는 경우에는, 용제에는 물을 이용한다.In the method for measuring the specific absorbance of an ionic compound, a solution for measurement is prepared using a solvent having sufficient solubility for the ionic compound, and the absorbance at 25 ° C. of this solution is measured using a cell with an optical path length of 1 cm. How to measure, etc. are mentioned. As the solvent for measuring the specific absorbance, those having sufficient solubility in ionic compounds can be appropriately used. Preferred solvents include water, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethyl sulfoxide, cyclohexanone, acetone, methanol and the like. When the ionic compound has sufficient solubility in water, water is used as the solvent.

이온성 화합물의 분자량은, 80~5000이 바람직하다. 상한은, 3000 이하인 것이 바람직하고, 2000 이하인 것이 보다 바람직하며, 1500 이하인 것이 더 바람직하고, 1210 이하인 것이 특히 바람직하다. 하한은, 100 이상인 것이 바람직하며, 200 이상인 것이 보다 바람직하다.As for the molecular weight of an ionic compound, 80-5000 are preferable. The upper limit is preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less, still more preferably 1500 or less, and particularly preferably 1210 or less. It is preferable that it is 100 or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 200 or more.

이온성 화합물에 있어서의 음이온 BZ-로서는, 이미드 음이온, 메타이드 음이온, 보레이트 음이온, 인 원자를 포함하는 음이온, 설폰산 음이온 등을 들 수 있으며, 이미드 음이온, 메타이드 음이온 및 보레이트 음이온인 것이 바람직하고, 이미드 음이온 및 메타이드 음이온인 것이 보다 바람직하며, 이미드 음이온인 것이 더 바람직하다. 또, 음이온 BZ-는, 불소 원자 및 황 원자로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 음이온인 것이 바람직하다.Examples of the anion BZ - in the ionic compound include imide anion, methide anion, borate anion, phosphorus atom-containing anion, sulfonic acid anion, and the like. It is preferable, and it is more preferable that it is an imide anion and a methide anion, and it is still more preferable that it is an imide anion. Moreover, it is preferable that anion BZ< - > is an anion containing at least 1 sort(s) chosen from a fluorine atom and a sulfur atom.

이온성 화합물의 음이온 BZ-의 공액산의 pKa는, 착색 조성물의 보존 안정성의 관점에서 0 이하인 것이 바람직하고, -5 이하인 것이 보다 바람직하며, -8 이하인 것이 더 바람직하고, -10 이하인 것이 보다 한층 바람직하며, -10.5 이하인 것이 특히 바람직하다. 하한은, 특별히 한정은 없지만, -20 이상으로 할 수 있으며, -18 이상으로 할 수도 있다. 공액산의 pKa는, 예를 들면, J. Org. Chem. 2011, 76, 391-395에 기재된 방법에 의하여 측정할 수 있다.The pKa of the conjugate acid of the anion BZ - of the ionic compound is preferably 0 or less, more preferably -5 or less, further preferably -8 or less, and even more -10 or less from the viewpoint of storage stability of the coloring composition. It is preferable, and it is especially preferable that it is -10.5 or less. The lower limit is not particularly limited, but can be -20 or more, and can also be -18 or more. The pKa of a conjugate acid can be found in, for example, J. Org. Chem. 2011, 76, can be measured by the method described in 391-395.

음이온 BZ-는, 하기 식 (BZ-1)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온, 하기 식 (BZ-2)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온, 하기 식 (BZ-3)으로 나타나는 음이온, 하기 식 (BZ-4)로 나타나는 음이온 및 하기 식 (BZ-5)로 나타나는 음이온인 것이 바람직하고, 하기 식 (BZ-1)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온, 하기 식 (BZ-2)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온 및 하기 식 (BZ-3)으로 나타나는 음이온으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하며, 하기 식 (BZ-1)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온 및 하기 식 (BZ-2)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온인 것이 더 바람직하다. 하기 식 (BZ-1)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온은 이미드 음이온이고, 하기 식 (BZ-2)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온은 메타이드 음이온이며, 하기 식 (BZ-3)으로 나타나는 음이온은 보레이트 음이온이고, 하기 식 (BZ-4)로 나타나는 음이온은 설폰산 음이온이며, 하기 식 (BZ-5)로 나타나는 음이온은 인 원자를 포함하는 음이온이다.The anion BZ - is an anion having a partial structure represented by the following formula (BZ-1), an anion having a partial structure represented by the following formula (BZ-2), an anion represented by the following formula (BZ-3), and the following formula (BZ -4) and an anion represented by the following formula (BZ-5) are preferred, and an anion having a partial structure represented by the following formula (BZ-1) and a partial structure represented by the following formula (BZ-2) It is more preferably at least one selected from anions and anions represented by the following formula (BZ-3), and an anions having a partial structure represented by the following formula (BZ-1) and a partial structure represented by the following formula (BZ-2) It is more preferable that it is an anion with An anion having a partial structure represented by the following formula (BZ-1) is an imide anion, an anion having a partial structure represented by the following formula (BZ-2) is a methide anion, and an anion represented by the following formula (BZ-3) Silver is a borate anion, the anion represented by the following formula (BZ-4) is a sulfonic acid anion, and the anion represented by the following formula (BZ-5) is an anion containing a phosphorus atom.

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00026
Figure pct00026

식 (BZ-1) 중, R111 및 R112는, 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다;In formula (BZ-1), R 111 and R 112 each independently represent -SO 2 - or -CO-;

식 (BZ-2) 중, R113은, -SO2- 또는 -CO-를 나타내고, R114 및 R115는, 각각 독립적으로 -SO2-, -CO- 또는 사이아노기를 나타낸다;In formula (BZ-2), R 113 represents -SO 2 - or -CO-, and R 114 and R 115 each independently represent -SO 2 -, -CO- or a cyano group;

식 (BZ-3) 중, R116~R119는, 각각 독립적으로, 할로젠 원자, 알킬기, 아릴기, 알콕시기, 아릴옥시기 또는 사이아노기를 나타낸다.In formula (BZ-3), R 116 to R 119 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a cyano group.

식 (BZ-4) 중, R120은, 질소 원자 또는 산소 원자를 갖는 연결기에 의하여 연결되어 있어도 되는 할로젠화 탄화 수소기를 나타낸다.In formula (BZ-4), R 120 represents a halogenated hydrocarbon group which may be connected by a linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom.

식 (BZ-5) 중, R121~R126은, 각각 독립적으로 할로젠 원자 또는 할로젠화 탄화 수소기를 나타낸다.In Formula (BZ-5), R 121 to R 126 each independently represent a halogen atom or a halogenated hydrocarbon group.

식 (BZ-1)에 있어서, R111 및 R112 중 적어도 일방이 -SO2-를 나타내는 것이 바람직하고, R111 및 R112의 양방이 -SO2-를 나타내는 것이 보다 바람직하다.In formula (BZ-1), it is preferable that at least one of R 111 and R 112 represents -SO 2 -, and it is more preferable that both of R 111 and R 112 represent -SO 2 -.

(BZ-1)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온은, R111 및 R112 중 적어도 일방의 말단에, 할로젠 원자, 또는, 할로젠 원자를 치환기로서 갖는 알킬기(할로 알킬기)를 갖는 것이 바람직하고, 불소 원자, 또는, 불소 원자를 치환기로서 갖는 알킬기(플루오로알킬기)를 갖는 것이 보다 바람직하다. 플루오로알킬기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~3이 더 바람직하다. 플루오로알킬기는, 퍼플루오로알킬기가 보다 바람직하다.The anion having a partial structure represented by (BZ-1) preferably has a halogen atom or an alkyl group having a halogen atom as a substituent (haloalkyl group) at the terminal of at least one of R 111 and R 112 , It is more preferable to have a fluorine atom or an alkyl group (fluoroalkyl group) having a fluorine atom as a substituent. 1-10 are preferable, as for carbon number of a fluoroalkyl group, 1-6 are more preferable, and 1-3 are still more preferable. The fluoroalkyl group is more preferably a perfluoroalkyl group.

(BZ-2)에 있어서, R113~R115 중 적어도 1개가 -SO2-를 나타내는 것이 바람직하고, R113~R115 중 적어도 2개가 -SO2-를 나타내는 것이 보다 바람직하며, R113~R115의 전부가 -SO2-를 나타내거나, R113 및 R115가 -SO2-를 나타내고, 또한, R114가 -CO-를 나타내거나, R114 및 R115가 -SO2-를 나타내며, 또한, R113이 -CO-를 나타내는 것이 더 바람직하고, R113~R115의 전부가 -SO2-를 나타내는 것이 특히 바람직하다.In (BZ-2), it is preferable that at least one of R 113 to R 115 represents -SO 2 -, and it is more preferable that at least two of R 113 to R 115 represent -SO 2 -, and R 113 to All of R 115 represent -SO 2 -, R 113 and R 115 represent -SO 2 -, and R 114 represent -CO-, or R 114 and R 115 represent -SO 2 -. Further, it is more preferable that R 113 represents -CO-, and it is particularly preferable that all of R 113 to R 115 represent -SO 2 -.

(BZ-2)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온은, R113~R115 중 적어도 일방의 말단에, 할로젠 원자, 또는, 할로젠 원자를 치환기로서 갖는 알킬기(할로 알킬기)를 갖는 것이 바람직하고, 불소 원자, 또는, 불소 원자를 치환기로서 갖는 알킬기(플루오로알킬기)를 갖는 것이 보다 바람직하다. 특히, R113~R115 중 적어도 2개의 말단에, 할로젠 원자, 또는, 할로 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, 불소 원자, 또는, 플루오로알킬기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 플루오로알킬기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~3이 더 바람직하다. 플루오로알킬기는, 퍼플루오로알킬기가 보다 바람직하다.The anion having a partial structure represented by (BZ-2) preferably has a halogen atom or an alkyl group having a halogen atom as a substituent (haloalkyl group) at the terminal of at least one of R 113 to R 115 , It is more preferable to have a fluorine atom or an alkyl group (fluoroalkyl group) having a fluorine atom as a substituent. In particular, it is preferable to have a halogen atom or a haloalkyl group at at least two terminals among R 113 to R 115 , and more preferably a fluorine atom or a fluoroalkyl group. 1-10 are preferable, as for carbon number of a fluoroalkyl group, 1-6 are more preferable, and 1-3 are still more preferable. The fluoroalkyl group is more preferably a perfluoroalkyl group.

식 (BZ-3) 중, R116~R119는, 각각 독립적으로, 할로젠 원자, 알킬기, 아릴기, 알콕시기, 아릴옥시기 또는 사이아노기를 나타낸다. 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 아릴옥시기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기를 갖는 경우는, 할로젠 원자 또는 할로젠 원자로 치환된 알킬기가 바람직하고, 불소 원자 또는 불소 원자로 치환된 알킬기가 보다 바람직하다. 식 (BZ-3)에 있어서, R116~R119 중 적어도 하나가, 사이아노기, 할로젠 원자, 할로젠 원자를 치환기로서 갖는 알킬기, 할로젠 원자를 치환기로서 갖는 아릴기, 할로젠 원자로 치환된 알킬기를 치환기로서 갖는 아릴기를 나타내는 것이 바람직하고, R116~R119의 전부가 사이아노기, 또는, 할로젠 원자(바람직하게는 불소 원자)를 치환기로서 갖는 아릴기를 나타내는 것이 보다 바람직하다.In formula (BZ-3), R 116 to R 119 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a cyano group. The alkyl group, aryl group, alkoxy group, and aryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. When it has a substituent, a halogen atom or an alkyl group substituted with a halogen atom is preferable, and a fluorine atom or an alkyl group substituted with a fluorine atom is more preferable. In formula (BZ-3), at least one of R 116 to R 119 is substituted with a cyano group, a halogen atom, an alkyl group having a halogen atom as a substituent, an aryl group having a halogen atom as a substituent, or a halogen atom. It is preferable to represent an aryl group having an alkyl group as a substituent, and it is more preferable that all of R 116 to R 119 represent a cyano group or an aryl group having a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.

식 (BZ-4) 중, R120은, 질소 원자 또는 산소 원자를 갖는 연결기에 의하여 연결되어 있어도 되는 할로젠화 탄화 수소기를 나타낸다. 할로젠화 탄화 수소기란, 할로젠 원자로 치환된 1가의 탄화 수소기를 가리키고, 불소 원자로 치환된 1가의 탄화 수소기인 것이 바람직하다. 탄화 수소기로서는, 알킬기, 아릴기 등을 들 수 있다. 할로젠 원자로 치환된 1가의 탄화 수소기는 치환기를 더 갖고 있어도 된다. 질소 원자 또는 산소 원자를 갖는 연결기로서는, -O-, -CO-, -COO-, -CO-NH- 등을 들 수 있다.In formula (BZ-4), R 120 represents a halogenated hydrocarbon group which may be connected by a linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom. A halogenated hydrocarbon group refers to a monovalent hydrocarbon group substituted with a halogen atom, and is preferably a monovalent hydrocarbon group substituted with a fluorine atom. As a hydrocarbon group, an alkyl group, an aryl group, etc. are mentioned. The monovalent hydrocarbon group substituted with the halogen atom may further have a substituent. As a linking group which has a nitrogen atom or an oxygen atom, -O-, -CO-, -COO-, -CO-NH- etc. are mentioned.

식 (BZ-5) 중, R121~R126은, 각각 독립적으로 할로젠 원자 또는 할로젠화 탄화 수소기를 나타낸다. R121~R126이 나타내는 할로젠화 탄화 수소기는, 할로젠 원자를 치환기로서 갖는 알킬기인 것이 바람직하고, 불소 원자를 치환기로서 갖는 알킬기인 것이 보다 바람직하다.In Formula (BZ-5), R 121 to R 126 each independently represent a halogen atom or a halogenated hydrocarbon group. The halogenated hydrocarbon group represented by R 121 to R 126 is preferably an alkyl group having a halogen atom as a substituent, and more preferably an alkyl group having a fluorine atom as a substituent.

상술한 (BZ-1)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온은, 하기 식 (BZ1-1)로 나타나는 음이온인 것이 바람직하다. 또, 상술한 (BZ-2)로 나타나는 부분 구조를 갖는 음이온은, 하기 식 (BZ2-1)로 나타나는 음이온인 것이 바람직하다.The anion having a partial structure represented by (BZ-1) described above is preferably an anion represented by the following formula (BZ1-1). Moreover, it is preferable that the anion which has the partial structure represented by the above-mentioned (BZ-2) is an anion represented by the following formula (BZ2-1).

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00027
Figure pct00027

식 (BZ1-1) 중, R211 및 R212는, 각각 독립적으로 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, R211 및 R212가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R211과 R212는, 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In formula (BZ1-1), R 211 and R 212 each independently represent a halogen atom or an alkyl group, and when R 211 and R 212 each independently represent an alkyl group, R 211 and R 212 are bonded to form a ring may form;

식 (BZ2-1) 중, R213~R215는, 각각 독립적으로, 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, R213 및 R214가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R213과 R214는, 결합하여 환을 형성하고 있어도 되며, R214 및 R215가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R214와 R215는, 결합하여 환을 형성하고 있어도 되고, R213 및 R215가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R213과 R215는, 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In formula (BZ2-1), R 213 to R 215 each independently represent a halogen atom or an alkyl group, and when R 213 and R 214 each independently represent an alkyl group, R 213 and R 214 are bonded together may form a ring, when R 214 and R 215 each independently represent an alkyl group, when R 214 and R 215 may combine to form a ring, and when R 213 and R 215 each independently represent an alkyl group , R 213 and R 215 may be bonded to form a ring;

식 (BZ1-1)에 있어서, R211 및 R212는, 각각 독립적으로 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타낸다. 할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자를 들 수 있고, 할로젠 원자가 바람직하다. 알킬기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~3이 더 바람직하다. 알킬기는, 직쇄, 분기, 환상을 들 수 있으며, 직쇄 또는 분기가 바람직하고, 직쇄가 보다 바람직하다. 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 알킬기는, 할로젠 원자를 치환기로서 갖는 알킬기인 것이 바람직하고, 불소 원자를 치환기로서 갖는 알킬기(플루오로알킬기)인 것이 보다 바람직하다. 또, 플루오로알킬기는, 퍼플루오로알킬기가 바람직하다. 식 (BZ1-1)에 있어서, R211 및 R212가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R211과 R212는 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.In formula (BZ1-1), R 211 and R 212 each independently represent a halogen atom or an alkyl group. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, A halogen atom is preferable. 1-10 are preferable, as for carbon number of an alkyl group, 1-6 are more preferable, and 1-3 are more preferable. The alkyl group may be straight chain, branched or cyclic, preferably straight chain or branched, and more preferably straight chain. The alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted. The alkyl group is preferably an alkyl group having a halogen atom as a substituent, and more preferably an alkyl group (fluoroalkyl group) having a fluorine atom as a substituent. Moreover, the fluoroalkyl group is preferably a perfluoroalkyl group. In formula (BZ1-1), when R 211 and R 212 each independently represent an alkyl group, R 211 and R 212 may be bonded to form a ring.

식 (BZ2-1)에 있어서, R213~R215는, 각각 독립적으로 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타낸다. 할로젠 원자 및 알킬기는, 식 (BZ1-1)에서 설명한 범위와 동일하고, 바람직한 범위도 동일하다. 식 (BZ2-1)에 있어서, R213 및 R214가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R213과 R214는 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다. 또, R214 및 R215가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R214와 R215는 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다. 또, R213 및 R215가 각각 독립적으로 알킬기를 나타내는 경우, R213과 R215는 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.In the formula (BZ2-1), R 213 to R 215 each independently represent a halogen atom or an alkyl group. The halogen atom and the alkyl group are the same as the ranges described in the formula (BZ1-1), and the preferred ranges are also the same. In formula (BZ2-1), when R 213 and R 214 each independently represent an alkyl group, R 213 and R 214 may be bonded to form a ring. Further, when R 214 and R 215 each independently represent an alkyl group, R 214 and R 215 may be bonded to form a ring. Further, when R 213 and R 215 each independently represent an alkyl group, R 213 and R 215 may be bonded to form a ring.

음이온 BZ-의 구체예로서는, 식 (MD-1)~(MD-18)로 나타나는 구조의 음이온을 들 수 있다.Specific examples of the anion BZ - include anions having structures represented by formulas (MD-1) to (MD-18).

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00028
Figure pct00028

또, (CF3)3PF3 -, (C2F5)2PF4 -, (C2F5)3PF3 -, [(CF3)2CF]2PF4 -, [(CF3)2CF]3PF3, (n-C3F7)2PF4 -, (n-C3F7)3PF3 -, (n-C4F9)3PF3 -, (C2F5)(CF3)2PF3 -, [(CF3)2CFCF2]2PF4 -, [(CF3)2CFCF2]3PF3, (n-C4F9)2PF4 -, (n-C4F9)3PF3 -, (C2F4H)(CF3)2PF3 -, (C2F3H2)3PF3 -, (C2F5)(CF3)2PF3 -, (CF3)4B-, CF3)3BF-, (CF3)2BF2 -, (CF3)BF3 -, (C2F5)4B-, (C2F5)3BF-, (C2F5)BF3 -, (C2F5)2BF2 -, (CF3)(C2F5)2BF-, (C6F5)4B-, [(CF3)2C6H3]4B-, (CF3C6H4)4B-, (C6F5)2BF2 -, (C6F5)BF3 -, (C6H3F2)4B-, B(CN)4 -, B(CN)F3 -, B(CN)2F2 -, B(CN)3F-, (CF3)3B(CN)-, (CF3)2B(CN)2 -, (C2F5)3B(CN)-, (C2F5)2B(CN)2 -, (n-C3F7)3B(CN)-, (n-C4F9)3B(CN)-, (n-C4F9)2B(CN)2 -, (n-C6F13)3B(CN)-, (CHF2)3B(CN)-, (CHF2)2B(CN)2 -, (CH2CF3)3B(CN)-, (CH2CF3)2B(CN)2 -, (CH2C2F5)3B(CN)-, (CH2C2F5)2B(CN)2 -, (CH2CH2C3F7)2B(CN)2 -, (n-C3F7CH2)2B(CN)2 -, (C6H5)3B(CN)-, 및 하기 구조의 음이온도, 음이온 BZ-의 구체예로서 들 수 있다.Also, (CF 3 ) 3 PF 3 - , (C 2 F 5 ) 2 PF 4 - , (C 2 F 5 ) 3 PF 3 - , [(CF 3 ) 2 CF] 2 PF 4 - , [(CF 3 ) 2 CF] 3 PF 3 , (nC 3 F 7 ) 2 PF 4 - , (nC 3 F 7 ) 3 PF 3 - , (nC 4 F 9 ) 3 PF 3 - , (C 2 F 5 )(CF 3 ) 2 PF 3 - , [(CF 3 ) 2 CFCF 2 ] 2 PF 4 - , [(CF 3 ) 2 CFCF 2 ] 3 PF 3 , (nC 4 F 9 ) 2 PF 4 - , (nC 4 F 9 ) 3 PF 3 - , (C 2 F 4 H)(CF 3 ) 2 PF 3 - , (C 2 F 3 H 2 ) 3 PF 3 - , (C 2 F 5 )(CF 3 ) 2 PF 3 - , ( CF 3 ) 4 B - , CF 3 ) 3 BF - , (CF 3 ) 2 BF 2 - , (CF 3 )BF 3 - , (C 2 F 5 ) 4 B - , (C 2 F 5 ) 3 BF - , (C 2 F 5 )BF 3 - , (C 2 F 5 ) 2 BF 2 - , (CF 3 )(C 2 F 5 ) 2 BF - , (C 6 F 5 ) 4 B - , [(CF 3 ) 2 C 6 H 3 ] 4 B - , (CF 3 C 6 H 4 ) 4 B - , (C 6 F 5 ) 2 BF 2 - , (C 6 F 5 )BF 3 - , (C 6 H 3 F 2 ) 4 B - , B(CN) 4 - , B(CN)F 3 - , B(CN) 2 F 2 - , B(CN) 3 F - , (CF 3 ) 3 B(CN) - , ( CF 3 ) 2 B(CN) 2 - , (C 2 F 5 ) 3 B(CN) - , (C 2 F 5 ) 2 B(CN) 2 - , (nC 3 F 7 ) 3 B(CN) - , (nC 4 F 9 ) 3 B(CN) - , (nC 4 F 9 ) 2 B(CN) 2 - , (nC 6 F 13 ) 3 B(CN) - , (CHF 2 ) 3 B(CN) - , (CHF 2 ) 2 B(CN) 2 - , (CH 2 CF 3 ) 3 B(CN) - , (CH 2 CF 3 ) 2 B(CN) 2 - , (CH 2 C 2 F 5 ) 3 B(CN) - , (CH 2 C 2 F 5 ) 2 B(CN) 2 - , (CH 2 CH 2 C 3 F 7 ) 2 B(CN) 2 - , (nC 3 F 7 CH 2 ) 2 B(CN) 2 - , (C 6 H 5 ) 3 B(CN) - and an anion having the following structure are also mentioned as specific examples of the anion BZ - .

[화학식 29][Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00030
Figure pct00030

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00031
Figure pct00031

이온성 화합물에 있어서, 양이온 BX+로서는, 음이온 BZ-의 전하를 상쇄할 수 있는 구조의 것이면 무엇이어도 된다.In the ionic compound, the cation BX + may be anything as long as it has a structure capable of canceling the charge of the anion BZ − .

양이온 BX+의 분자량은 음이온 BZ-와의 이온 결합 에너지를 작게 하기 쉽다는 이유에서, 2~500이 바람직하고, 2~200이 보다 바람직하며, 6~90이 더 바람직하다.The molecular weight of the cation BX + is preferably from 2 to 500, more preferably from 2 to 200, and even more preferably from 6 to 90, from the viewpoint that the ionic bonding energy with the anion BZ - is easily reduced.

양이온 BX+로서는, 단체(單體)의 금속 원자의 양이온, 카보 양이온, 암모늄 양이온, 포스포늄 양이온 또는 설포늄 양이온인 것이 바람직하고, 단체의 금속 원자의 양이온 또는 암모늄 양이온인 것이 보다 바람직하다. 또, 양이온 BX+는, 2가 이상의 양이온인 것도 바람직하다. 이 양태에 의하면, 보다 강고한 막을 형성할 수 있고, 현상 후의 막의 손상 등을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.The cation BX + is preferably a cation of a single metal atom, a carbo cation, an ammonium cation, a phosphonium cation or a sulfonium cation, and more preferably a cation of a single metal atom or an ammonium cation. Moreover, it is also preferable that the cation BX + is a divalent or higher cation. According to this aspect, a stronger film can be formed, and damage to the film after development can be more effectively suppressed.

단체의 금속 원자의 양이온으로서는, 리튬(Li) 양이온, 베릴륨(Be) 양이온, 나트륨(Na) 양이온, 마그네슘(Mg) 양이온, 알루미늄(Al) 양이온, 칼륨(K) 양이온, 칼슘(Ca) 양이온, 스칸듐(Sc) 양이온, 타이타늄(Ti) 양이온, 바나듐(V) 양이온, 크로뮴(Cr) 양이온, 망가니즈(Mn) 양이온, 철(Fe) 양이온, 코발트(Co) 양이온, 니켈(Ni) 양이온, 구리(Cu) 양이온, 아연(Zn) 양이온, 갈륨(Ga) 양이온, 저마늄(Ge) 양이온, 루비듐(Rb) 양이온, 스트론튬(Sr) 양이온, 카드뮴(Cd) 양이온, 인듐(In) 양이온, 주석(Sn) 양이온, 세슘(Cs) 양이온, 바륨(Ba) 양이온, 수은(Hg) 양이온, 탈륨(Tl) 양이온, 납(Pb) 양이온, 비스무트(Bi) 양이온, 프랑슘(Fr) 양이온, 라듐(Ra) 양이온, 란타넘(La) 양이온, 세륨(Ce) 양이온, 네오디뮴(Nd) 양이온 등을 들 수 있다. 그중에서도 리튬(Li) 양이온, 나트륨(Na) 양이온, 마그네슘(Mg) 양이온, 알루미늄(Al) 양이온, 칼륨(K) 양이온, 칼슘(Ca) 양이온, 구리(Cu) 양이온, 아연(Zn) 양이온, 갈륨(Ga) 양이온, 루비듐(Rb) 양이온, 스트론튬(Sr) 양이온, 인듐(In) 양이온, 세슘(Cs) 양이온, 바륨(Ba) 양이온, 란타넘(La) 양이온, 세륨(Ce) 양이온, 네오디뮴(Nd) 양이온이 바람직하고, 리튬(Li) 양이온, 나트륨(Na) 양이온, 마그네슘(Mg) 양이온, 알루미늄(Al) 양이온, 칼륨(K) 양이온, 칼슘(Ca) 양이온, 스트론튬(Sr) 양이온, 구리(Cu) 양이온, 아연(Zn) 양이온, 란타넘(La) 양이온, 세륨(Ce) 양이온, 네오디뮴(Nd) 양이온이 보다 바람직하며, 리튬(Li) 양이온, 나트륨(Na) 양이온, 칼륨(K) 양이온이 더 바람직하다.Examples of the cation of a simple metal atom include lithium (Li) cation, beryllium (Be) cation, sodium (Na) cation, magnesium (Mg) cation, aluminum (Al) cation, potassium (K) cation, calcium (Ca) cation, Scandium (Sc) cation, titanium (Ti) cation, vanadium (V) cation, chromium (Cr) cation, manganese (Mn) cation, iron (Fe) cation, cobalt (Co) cation, nickel (Ni) cation, copper (Cu) cation, zinc (Zn) cation, gallium (Ga) cation, germanium (Ge) cation, rubidium (Rb) cation, strontium (Sr) cation, cadmium (Cd) cation, indium (In) cation, tin ( Sn) cation, cesium (Cs) cation, barium (Ba) cation, mercury (Hg) cation, thallium (Tl) cation, lead (Pb) cation, bismuth (Bi) cation, francium (Fr) cation, radium (Ra) cations, lanthanum (La) cations, cerium (Ce) cations, neodymium (Nd) cations, and the like. Among them, lithium (Li) cation, sodium (Na) cation, magnesium (Mg) cation, aluminum (Al) cation, potassium (K) cation, calcium (Ca) cation, copper (Cu) cation, zinc (Zn) cation, gallium (Ga) cation, rubidium (Rb) cation, strontium (Sr) cation, indium (In) cation, cesium (Cs) cation, barium (Ba) cation, lanthanum (La) cation, cerium (Ce) cation, neodymium ( Nd) cation is preferred, lithium (Li) cation, sodium (Na) cation, magnesium (Mg) cation, aluminum (Al) cation, potassium (K) cation, calcium (Ca) cation, strontium (Sr) cation, copper (Cu) cations, zinc (Zn) cations, lanthanum (La) cations, cerium (Ce) cations, neodymium (Nd) cations are more preferred, lithium (Li) cations, sodium (Na) cations, potassium (K) cations Cations are more preferred.

암모늄 양이온으로서는, 하기 식 (BX-1)로 나타나는 양이온을 들 수 있다.As an ammonium cation, the cation represented by the following formula (BX-1) is mentioned.

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00032
Figure pct00032

식 (BX-1) 중, RAN1~RAN4는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 2~20의 알켄일기 또는 아릴기를 나타내고, 그들에 포함되는 수소 원자는, -OH, -CH=CH2 또는 -CH=CHRb로 치환되어 있어도 된다. 또, 알킬기 및 알켄일기의 탄소-탄소 결합 사이에는, -O-, -S-, -CO-, -NH- 또는 -NRb-가 삽입되어 있어도 된다. 또, RAN1~RAN4는 서로 결합하여 3~10원환의 질소 원자를 포함한 복소환을 형성하고 있어도 된다. 이 경우, 복소환에 포함되는 수소 원자는, -Rb, -OH로 치환되어 있어도 된다. Rb는 탄소수 1~10의 1가의 포화 탄화 수소기를 나타낸다.In formula (BX-1), R AN1 to R AN4 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an aryl group, and the hydrogen atoms contained therein are -OH, - It may be substituted by CH=CH 2 or -CH=CHR b . In addition, -O-, -S-, -CO-, -NH- or -NR b - may be inserted between the carbon-carbon bonds of the alkyl group and the alkenyl group. Further, R AN1 to R AN4 may be bonded to each other to form a 3- to 10-membered heterocyclic ring containing a nitrogen atom. In this case, the hydrogen atom contained in the heterocycle may be substituted with -R b or -OH. R b represents a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.

암모늄 양이온의 구체예로서는, 테트라메틸암모늄 양이온, 테트라에틸암모늄 양이온, 테트라프로필암모늄 양이온, 테트라뷰틸암모늄 양이온, 모노에틸트라이메틸암모늄 양이온, 모노프로필트라이메틸암모늄 양이온, 모노뷰틸트라이메틸암모늄 양이온, 모노스테아릴트리틸암모늄 양이온, 다이스테아릴다이메틸암모늄 양이온, 트라이스테아릴모노메틸암모늄 양이온, 스테아릴트라이메틸암모늄 양이온, 트라이옥틸메틸암모늄 양이온, 다이옥틸다이메틸암모늄 양이온, 모노라우릴트라이메틸암모늄 양이온, 다이라우릴다이메틸암모늄 양이온, 트라이라우릴메틸암모늄 양이온, 트라이아밀벤질암모늄 양이온, 트라이헥실벤질암모늄 양이온, 트라이옥틸벤질암모늄 양이온, 트라이라우릴벤질암모늄 클로라이드 양이온, 벤질다이메틸스테아릴암모늄 양이온, 벤질다이메틸옥틸암모늄 양이온, 다이알킬(알킬이 C14~C18)다이메틸암모늄 양이온, 및, 이하에 나타내는 구조의 양이온 등을 들 수 있다.Specific examples of the ammonium cation include tetramethylammonium cation, tetraethylammonium cation, tetrapropylammonium cation, tetrabutylammonium cation, monoethyltrimethylammonium cation, monopropyltrimethylammonium cation, monobutyltrimethylammonium cation, monostere Aryltritylammonium cation, distearyldimethylammonium cation, tristearylmonomethylammonium cation, stearyltrimethylammonium cation, trioctylmethylammonium cation, dioctyldimethylammonium cation, monolauryltrimethylammonium cation, Ilauryldimethylammonium cation, trilaurylmethylammonium cation, triamylbenzylammonium cation, trihexylbenzylammonium cation, trioctylbenzylammonium cation, trilaurylbenzylammonium chloride cation, benzyldimethylstearylammonium cation, benzyldi A methyloctylammonium cation, a dialkyl (alkyl is C14-C18) dimethylammonium cation, and a cation having a structure shown below.

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00033
Figure pct00033

이온성 화합물의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.1~15질량%인 것이 바람직하다. 상한은 12질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은 0.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 1질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that content of an ionic compound is 0.1-15 mass % in total solids of a coloring composition. It is preferable that it is 12 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 10 mass % or less. It is preferable that it is 0.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 1 mass % or more.

이온성 화합물의 함유량은, 염료의 1몰에 대하여 0.05~4.00몰인 것이 바람직하고, 0.05~3.00몰인 것이 보다 바람직하며, 0.05~2.00몰인 것이 더 바람직하다.The content of the ionic compound is preferably 0.05 to 4.00 moles, more preferably 0.05 to 3.00 moles, and even more preferably 0.05 to 2.00 moles, per mole of the dye.

<<안료 유도체>><<Pigment Derivatives>>

본 발명의 착색 조성물은, 안료 유도체를 함유할 수 있다. 본 발명의 착색 조성물이 안료를 포함하는 경우는, 본 발명의 착색 조성물은 안료 유도체를 포함하는 것이 바람직하다. 안료 유도체로서는, 발색단의 일부분을, 산기 또는 염기성기로 치환한 구조를 갖는 화합물을 들 수 있다. 안료 유도체를 구성하는 발색단으로서는, 퀴놀린 골격, 벤즈이미다졸온 골격, 다이케토피롤로피롤 골격, 아조 골격, 프탈로사이아닌 골격, 안트라퀴논 골격, 퀴나크리돈 골격, 다이옥사진 골격, 페린온 골격, 페릴렌 골격, 싸이오인디고 골격, 아이소인돌린 골격, 아이소인돌린온 골격, 퀴노프탈론 골격, 트렌 골격, 금속 착체계 골격 등을 들 수 있으며, 퀴놀린 골격, 벤즈이미다졸온 골격, 다이케토피롤로피롤 골격, 아조 골격, 퀴노프탈론 골격, 아이소인돌린 골격 및 프탈로사이아닌 골격이 바람직하고, 아조 골격 및 벤즈이미다졸온 골격이 보다 바람직하다. 산기로서는, 설포기, 카복실기, 인산기 및 이들의 염을 들 수 있다. 염을 구성하는 원자 또는 원자단으로서는, 알칼리 금속 이온(Li+, Na+, K+ 등), 알칼리 토류 금속 이온(Ca2+, Mg2+ 등), 암모늄 이온, 이미다졸륨 이온, 피리디늄 이온, 포스포늄 이온 등을 들 수 있다. 염기성기로서는, 아미노기, 피리딘일기 및 그 염, 암모늄기의 염, 및 프탈이미드메틸기를 들 수 있다. 염을 구성하는 원자 또는 원자단으로서는, 수산화물 이온, 할로젠 이온, 카복실산 이온, 설폰산 이온, 페녹사이드 이온 등을 들 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain a pigment derivative. When the coloring composition of this invention contains a pigment, it is preferable that the coloring composition of this invention contains a pigment derivative. Examples of the pigment derivative include compounds having a structure in which a part of a chromophore is substituted with an acid group or a basic group. As the chromophore constituting the pigment derivative, quinoline skeleton, benzimidazolone skeleton, diketopyrrolopyrrole skeleton, azo skeleton, phthalocyanine skeleton, anthraquinone skeleton, quinacridone skeleton, dioxazine skeleton, perrinone skeleton, perylene skeleton, thioindigo skeleton, isoindoline skeleton, isoindolinone skeleton, quinophthalone skeleton, threne skeleton, and metal complex skeleton; A rolopyrrole skeleton, an azo skeleton, a quinophthalone skeleton, an isoindoline skeleton, and a phthalocyanine skeleton are preferable, and an azo skeleton and a benzimidazolone skeleton are more preferable. As an acidic group, a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, and these salts are mentioned. As the atom or group of atoms constituting the salt, alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ion, imidazolium ion, pyridinium ion , phosphonium ions, and the like. Examples of the basic group include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimide methyl group. Examples of atoms or groups of atoms constituting the salt include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, phenoxide ions and the like.

안료 유도체로서는, 가시(可視) 투명성이 우수한 안료 유도체(이하, 투명 안료 유도체라고도 한다)를 이용할 수도 있다. 투명 안료 유도체의 400~700nm의 파장 영역에 있어서의 몰 흡광 계수의 최댓값(εmax)은 3000L·mol-1·cm-1 이하인 것이 바람직하고, 1000L·mol-1·cm-1 이하인 것이 보다 바람직하며, 100L·mol-1·cm-1 이하인 것이 더 바람직하다. εmax의 하한은, 예를 들면 1L·mol-1·cm-1 이상이며, 10L·mol-1·cm-1 이상이어도 된다.As the pigment derivative, a pigment derivative having excellent visible transparency (hereinafter, also referred to as a transparent pigment derivative) can also be used. The maximum value (εmax) of the molar extinction coefficient in the wavelength range of 400 to 700 nm of the transparent pigment derivative is preferably 3000 L·mol -1 cm -1 or less, more preferably 1000 L·mol -1 cm -1 or less, , more preferably 100 L·mol -1 · cm -1 or less. The lower limit of εmax is, for example, 1 L·mol -1 · cm -1 or more, and may be 10 L · mol -1 · cm -1 or more.

안료 유도체의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 소56-118462호, 일본 공개특허공보 소63-264674호, 일본 공개특허공보 평01-217077호, 일본 공개특허공보 평03-009961호, 일본 공개특허공보 평03-026767호, 일본 공개특허공보 평03-153780호, 일본 공개특허공보 평03-045662호, 일본 공개특허공보 평04-285669호, 일본 공개특허공보 평06-145546호, 일본 공개특허공보 평06-212088호, 일본 공개특허공보 평06-240158호, 일본 공개특허공보 평10-030063호, 일본 공개특허공보 평10-195326호, 국제 공개공보 제2011/024896호의 단락 번호 0086~0098, 국제 공개공보 제2012/102399호의 단락 번호 0063~0094, 국제 공개공보 제2017/038252호의 단락 번호 0082, 일본 공개특허공보 2015-151530호의 단락 번호 0171, 일본 공개특허공보 2011-252065호의 단락 번호 0162~0183, 일본 공개특허공보 2003-081972호, 일본 특허공보 제5299151호, 일본 공개특허공보 2015-172732호, 일본 공개특허공보 2014-199308호, 일본 공개특허공보 2014-085562호, 일본 공개특허공보 2014-035351호, 일본 공개특허공보 2008-081565호, 일본 공개특허공보 2019-109512호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a specific example of a pigment derivative, Unexamined-Japanese-Patent No. 56-118462, Unexamined-Japanese-Patent No. 63-264674, Unexamined-Japanese-Patent No. 01-217077, Unexamined-Japanese-Patent No. 03-009961, Japanese Unexamined Patent Publication Hei 03-026767, Japanese Unexamined Patent Publication Hei 03-153780, Japanese Unexamined Patent Publication Hei 03-045662, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 04-285669, Japanese Unexamined Patent Publication Hei 06-145546, Japanese Unexamined Patent Publication Hei 06-212088, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 06-240158, Japanese Patent Laid-Open No. 10-030063, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10-195326, Paragraph Nos. 0086 to 0098 of International Publication No. 2011/024896; Paragraph No. 0063 to 0094 of International Publication No. 2012/102399, Paragraph No. 0082 of International Publication No. 2017/038252, Paragraph No. 0171 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-151530, Paragraph No. 0162 to No. 2011-252065 0183, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-081972, Japanese Patent Publication No. 5299151, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-172732, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-199308, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-085562, Japanese Unexamined Patent Publication 2014 -035351, Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-081565, and the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-109512 are mentioned.

본 발명의 착색 조성물이 안료 유도체를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 안료 유도체의 함유량은 0.3~20질량%인 것이 바람직하다. 하한은 0.6질량% 이상인 것이 바람직하고, 0.9질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 15질량% 이하인 것이 바람직하고, 12.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 10질량% 이하인 것이 더 바람직하다. 또, 안료 유도체의 함유량은 안료 100질량부에 대하여 1~30질량부인 것이 바람직하다. 하한은 2질량부 이상인 것이 바람직하고, 3질량부 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은, 25질량부 이하인 것이 바람직하고, 20질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 15질량% 이하인 것이 더 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 안료 유도체는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상 병용하는 경우는 그들의 합계량이 상기 범위인 것이 바람직하다.When the coloring composition of this invention contains a pigment derivative, it is preferable that content of the pigment derivative in the total solids of a coloring composition is 0.3-20 mass %. It is preferable that it is 0.6 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 0.9 mass % or more. The upper limit is preferably 15% by mass or less, more preferably 12.5% by mass or less, and still more preferably 10% by mass or less. Moreover, it is preferable that content of a pigment derivative is 1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of pigments. It is preferable that it is 2 mass parts or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 3 mass parts or more. The upper limit is preferably 25 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, and still more preferably 15% by mass or less. In the coloring composition of this invention, only 1 type of pigment derivative may be used, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, it is preferable that their total amount is the said range.

<<광중합 개시제>><<Photoinitiator>>

본 발명의 착색 조성물은 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제로서는, 특별히 제한은 없으며, 공지의 광중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 자외선 영역으로부터 가시광 영역의 광선에 대하여 감광성을 갖는 화합물이 바람직하다. 광중합 개시제는, 광라디칼 중합 개시제인 것이 바람직하다.It is preferable that the coloring composition of this invention contains a photoinitiator. The photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, a compound having photosensitivity to light rays in the visible light range from the ultraviolet range is preferred. The photopolymerization initiator is preferably a radical photopolymerization initiator.

광중합 개시제로서는, 할로젠화 탄화 수소 유도체(예를 들면, 트라이아진 골격을 갖는 화합물, 옥사다이아졸 골격을 갖는 화합물 등), 아실포스핀 화합물, 헥사아릴바이이미다졸, 옥심 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물 등을 들 수 있다. 광중합 개시제는, 노광 감도의 관점에서, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, 벤질다이메틸케탈 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트라이아릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조싸이아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물, 사이클로펜타다이엔-벤젠-철 착체, 할로메틸옥사다이아졸 화합물 및 3-아릴 치환 쿠마린 화합물인 것이 바람직하고, 옥심 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 및, 아실포스핀 화합물로부터 선택되는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 옥심 화합물인 것이 더 바람직하다. 또, 광중합 개시제로서는, 일본 공개특허공보 2014-130173호의 단락 0065~0111, 일본 특허공보 제6301489호에 기재된 화합물, MATERIAL STAGE 37~60p, vol. 19, No. 3, 2019에 기재된 퍼옥사이드계 광중합 개시제, 국제 공개공보 제2018/221177호에 기재된 광중합 개시제, 국제 공개공보 제2018/110179호에 기재된 광중합 개시제, 일본 공개특허공보 2019-043864호에 기재된 광중합 개시제, 일본 공개특허공보 2019-044030호에 기재된 광중합 개시제, 일본 공개특허공보 2019-167313호에 기재된 과산화물계 개시제를 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As the photopolymerization initiator, halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazoles, oxime compounds, organic peroxides, O compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, α-hydroxy ketone compounds, α-amino ketone compounds, and the like. From the viewpoint of exposure sensitivity, the photopolymerization initiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, and a metallocene. compounds, oxime compounds, triarylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl substituted coumarins It is preferably a compound, more preferably a compound selected from oxime compounds, α-hydroxyketone compounds, α-amino ketone compounds, and acylphosphine compounds, and still more preferably an oxime compound. Moreover, as a photoinitiator, Paragraphs 0065 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-130173 - 0111, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol. 19, no. 3, a peroxide-based photopolymerization initiator described in 2019, a photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/221177, a photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/110179, a photopolymerization initiator described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-043864, The photoinitiator described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-044030, and the peroxide-type initiator described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-167313 are mentioned, These content is integrated in this specification.

α-하이드록시케톤 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다. α-아미노케톤 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다. 아실포스핀 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 819, Omnirad TPO(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 819, Irgacure TPO(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다.Commercially available products of the α-hydroxyketone compound include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (above, manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above, manufactured by BASF), and the like. can Commercially available products of α-aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, and Irgacure 379EG (above, manufactured by BASF). there is. Examples of commercially available acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (above, manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819 and Irgacure TPO (above, manufactured by BASF) and the like.

옥심 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-080068호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물, J. C. S. Perkin II(1979년, pp. 1653-1660)에 기재된 화합물, J. C. S. Perkin II(1979년, pp. 156-162)에 기재된 화합물, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년, pp. 202-232)에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-066385호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2004-534797호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-019766호에 기재된 화합물, 일본 특허공보 제6065596호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2015/152153호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/051680호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-198865호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/164127호의 단락 번호 0025~0038에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2013/167515호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다. 옥심 화합물의 구체예로서는, 3-벤조일옥시이미노뷰탄-2-온, 3-아세톡시이미노뷰탄-2-온, 3-프로피온일옥시이미노뷰탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔설폰일옥시)이미노뷰탄-2-온, 및 2-에톡시카보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure OXE03, Irgacure OXE04(이상, BASF사제), TR-PBG-304(창저우 강력 전자 신재료 유한공사(Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.)제), 아데카 옵토머 N-1919((주)ADEKA제, 일본 공개특허공보 2012-014052호에 기재된 광중합 개시제 2)를 들 수 있다. 또, 옥심 화합물로서는, 착색성이 없는 화합물이나, 투명성이 높아 변색되기 어려운 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 시판품으로서는, 아데카 아클즈 NCI-730, NCI-831, NCI-930(이상, (주)ADEKA제) 등을 들 수 있다.As an oxime compound, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-233842, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-080068, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-342166, J. C. S. Perkin II (1979, pp. 1653 -1660), compounds described in J. C. S. Perkin II (1979, pp. 156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp. 202-232), Japanese Unexamined Patent Publication 2000- A compound described in Japanese Patent Application Publication No. 066385, a compound described in Japanese Patent Publication No. 2004-534797, a compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-342166, a compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-019766, a compound described in Japanese Patent Publication No. 6065596 A compound, a compound described in International Publication No. 2015/152153, a compound described in International Publication No. 2017/051680, a compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-198865, Paragraph No. 0025 of International Publication No. 2017/164127 The compound of 0038, the compound of international publication 2013/167515, etc. are mentioned. Specific examples of the oxime compound include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, and 2-acetoxyiminopentan-3-one. , 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one etc. are mentioned. As commercially available products, Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure OXE03, Irgacure OXE04 (above, manufactured by BASF), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Trolly New Electronic Materials Co., Ltd.), Adeka optomer N-1919 (made by ADEKA Co., Ltd., the photoinitiator 2 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-014052) is mentioned. As the oxime compound, it is also preferable to use a compound having no colorability or a compound having high transparency and hardly discolored. As a commercial item, Adeka Akles NCI-730, NCI-831, NCI-930 (above, made by ADEKA Corporation), etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 플루오렌환을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 플루오렌환을 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2014-137466호에 기재된 화합물, 일본 특허공보 06636081호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, an oxime compound having a fluorene ring can also be used. As a specific example of the oxime compound which has a fluorene ring, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-137466 and the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 06636081 are mentioned.

광중합 개시제로서는, 카바졸환 중 적어도 하나의 벤젠환이 나프탈렌환이 된 골격을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 그와 같은 옥심 화합물의 구체예로서는, 국제 공개공보 제2013/083505호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring among carbazole rings has become a naphthalene ring can also be used. As a specific example of such an oxime compound, the compound of international publication 2013/083505 is mentioned.

광중합 개시제로서는, 불소 원자를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 불소 원자를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-262028호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2014-500852호에 기재된 화합물 24, 36~40, 일본 공개특허공보 2013-164471호에 기재된 화합물 (C-3) 등을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, an oxime compound having a fluorine atom can also be used. As a specific example of the oxime compound which has a fluorine atom, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-262028, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-500852, the compound 24, 36-40, and the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-164471 (C-3) etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 나이트로기를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수 있다. 나이트로기를 갖는 옥심 화합물은, 이량체로 하는 것도 바람직하다. 나이트로기를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2013-114249호의 단락 번호 0031~0047, 일본 공개특허공보 2014-137466호의 단락 번호 0008~0012, 0070~0079에 기재되어 있는 화합물, 일본 특허공보 4223071호의 단락 번호 0007~0025에 기재되어 있는 화합물, 아데카 아클즈 NCI-831((주)ADEKA제)을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, an oxime compound having a nitro group can be used. It is also preferable to use the oxime compound which has a nitro group as a dimer. As specific examples of the oxime compound having a nitro group, the compounds described in Paragraph Nos. 0031 to 0047 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-114249, Paragraph Nos. 0008 to 0012, and 0070 to 0079 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-137466, Japanese Patent Publication The compound described in Paragraph No. 0007 - 0025 of 4223071, Adeka Akles NCI-831 (made by Adeka Co., Ltd.) is mentioned.

광중합 개시제로서는, 벤조퓨란 골격을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 국제 공개공보 제2015/036910호에 기재되어 있는 OE-01~OE-75를 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used. As a specific example, OE-01 described in international publication 2015/036910 - OE-75 is mentioned.

광중합 개시제로서는, 카바졸 골격에 하이드록시기를 갖는 치환기가 결합된 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 이와 같은 광중합 개시제로서는 국제 공개공보 제2019/088055호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, an oxime compound having a substituent having a hydroxyl group bonded to the carbazole skeleton can also be used. As such a photoinitiator, the compound of international publication 2019/088055, etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 방향족환에 전자 구인성기가 도입된 방향족환기 ArOX1을 갖는 옥심 화합물(이하, 옥심 화합물 OX라고도 한다)을 이용할 수도 있다. 상기 방향족환기 ArOX1이 갖는 전자 구인성기로서는, 아실기, 나이트로기, 트라이플루오로메틸기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 사이아노기를 들 수 있으며, 아실기 및 나이트로기가 바람직하고, 내광성이 우수한 막을 형성하기 쉽다는 이유에서 아실기인 것이 보다 바람직하며, 벤조일기인 것이 더 바람직하다. 벤조일기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, 하이드록시기, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알켄일기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 아실기 또는 아미노기인 것이 바람직하고, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기 또는 아미노기인 것이 보다 바람직하며, 알콕시기, 알킬설판일기 또는 아미노기인 것이 더 바람직하다.As the photopolymerization initiator, an oxime compound having an aromatic ring group Ar OX1 in which an electron withdrawing group is introduced into an aromatic ring (hereinafter, also referred to as oxime compound OX) can also be used. Examples of the electron withdrawing group possessed by the aromatic ring group Ar OX1 include an acyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a cyano group, and an acyl group and A nitro group is preferable, and an acyl group is more preferable, and a benzoyl group is more preferable because it is easy to form a film having excellent light resistance. The benzoyl group may have a substituent. As the substituent, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkenyl group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, It is preferably an acyl group or an amino group, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group or an amino group, and an alkoxy group, an alkylsulfanyl group or an amino group. it is more preferable

옥심 화합물 OX는, 식 (OX1)로 나타나는 화합물 및 식 (OX2)로 나타나는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 식 (OX2)로 나타나는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The oxime compound OX is preferably at least one selected from compounds represented by formula (OX1) and compounds represented by formula (OX2), and more preferably is a compound represented by formula (OX2).

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00034
Figure pct00034

식 중, RX1은, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 아실기, 아실옥시기, 아미노기, 포스피노일기, 카바모일기 또는 설파모일기를 나타내고,In the formula, R X1 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, represents an arylsulfonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an amino group, a phosphinoyl group, a carbamoyl group or a sulfamoyl group;

RX2는, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 아실옥시기 또는 아미노기를 나타내며,R X2 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group , Representing an acyloxy group or an amino group,

RX3~RX14는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다;R X3 to R X14 each independently represent a hydrogen atom or a substituent;

단, RX10~RX14 중 적어도 하나는, 전자 구인성기이다.However, at least one of R X10 to R X14 is an electron withdrawing group.

상기 식에 있어서, RX12가 전자 구인성기이며, RX10, RX11, RX13, RX14는 수소 원자인 것이 바람직하다.In the above formula, it is preferable that R X12 is an electron withdrawing group, and R X10 , R X11 , R X13 , and R X14 are hydrogen atoms.

옥심 화합물 OX의 구체예로서는, 일본 특허공보 제4600600호의 단락 번호 0083~0105에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a specific example of oxime compound OX, the compound of Paragraph No. 0083 of Japanese Patent Publication 4600600 - 0105 is mentioned.

본 발명에 있어서 바람직하게 사용되는 옥심 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Although the specific example of the oxime compound preferably used in this invention is shown below, this invention is not limited to these.

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00035
Figure pct00035

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00036
Figure pct00036

옥심 화합물은, 파장 350~500nm의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 화합물이 바람직하고, 파장 360~480nm의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 또, 옥심 화합물의 파장 365nm 또는 파장 405nm에 있어서의 몰 흡광 계수는, 감도의 관점에서, 높은 것이 바람직하고, 1000~300000인 것이 보다 바람직하며, 2000~300000인 것이 더 바람직하고, 5000~200000인 것이 특히 바람직하다. 화합물의 몰 흡광 계수는, 공지의 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들면, 분광 광도계(Varian사제 Cary-5 spectrophotometer)로, 아세트산 에틸 용매를 이용하여, 0.01g/L의 농도로 측정하는 것이 바람직하다.The oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 360 to 480 nm. Further, the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high, more preferably 1000 to 300000, more preferably 2000 to 300000, and more preferably 5000 to 200000, from the viewpoint of sensitivity. is particularly preferred. The molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g/L using a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent.

광중합 개시제로서는, 2관능 혹은 3관능 이상의 광라디칼 중합 개시제를 이용해도 된다. 그와 같은 광라디칼 중합 개시제를 이용함으로써, 광라디칼 중합 개시제의 1분자로부터 2개 이상의 라디칼이 발생하기 때문에, 양호한 감도가 얻어진다. 또, 비대칭 구조의 화합물을 이용한 경우에 있어서는, 결정성이 저하되어 용제 등에 대한 용해성이 향상되고, 경시적으로 석출되기 어려워져, 착색 조성물의 경시 안정성을 향상시킬 수 있다. 2관능 혹은 3관능 이상의 광라디칼 중합 개시제의 구체예로서는, 일본 공표특허공보 2010-527339호, 일본 공표특허공보 2011-524436호, 국제 공개공보 제2015/004565호, 일본 공표특허공보 2016-532675호의 단락 번호 0407~0412, 국제 공개공보 제2017/033680호의 단락 번호 0039~0055에 기재되어 있는 옥심 화합물의 2량체, 일본 공표특허공보 2013-522445호에 기재되어 있는 화합물 (E) 및 화합물 (G), 국제 공개공보 제2016/034963호에 기재되어 있는 Cmpd 1~7, 일본 공표특허공보 2017-523465호의 단락 번호 0007에 기재되어 있는 옥심에스터류 광개시제, 일본 공개특허공보 2017-167399호의 단락 번호 0020~0033에 기재되어 있는 광개시제, 일본 공개특허공보 2017-151342호의 단락 번호 0017~0026에 기재되어 있는 광중합 개시제 (A), 일본 특허공보 제6469669호에 기재되어 있는 옥심에스터 광개시제 등을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, a bifunctional or trifunctional or higher functional photoradical polymerization initiator may be used. Since two or more radicals generate|occur|produce from one molecule of radical photopolymerization initiator by using such a radical photopolymerization initiator, favorable sensitivity is obtained. In addition, in the case of using a compound with an asymmetric structure, crystallinity is reduced, solubility in solvents and the like is improved, and precipitation with time becomes difficult, and stability with time of the coloring composition can be improved. As a specific example of a bifunctional or trifunctional or more than trifunctional radical photopolymerization initiator, paragraphs of Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No. 2015/004565, Japanese Patent Publication No. 2016-532675 Dimers of oxime compounds described in No. 0407 to 0412, Paragraph Nos. 0039 to 0055 of International Publication No. 2017/033680, compounds (E) and compounds (G) described in Japanese Patent Publication No. 2013-522445, Cmpd 1 to 7 described in International Publication No. 2016/034963, oxime ester photoinitiator described in Paragraph No. 0007 of Japanese Patent Publication No. 2017-523465, Paragraph Nos. 0020 to 0033 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-167399 The photoinitiator described in, the photoinitiator (A) described in Paragraph Nos. 0017-0026 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-151342, the oxime ester photoinitiator described in Japanese Patent Publication No. 6469669, etc. are mentioned.

본 발명의 착색 조성물이 광중합 개시제를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 광중합 개시제의 함유량은 0.1~30질량%가 바람직하다. 하한은, 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 20질량% 이하가 바람직하고, 15질량% 이하가 보다 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 광중합 개시제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When the coloring composition of this invention contains a photoinitiator, as for content of the photoinitiator in the total solids of a coloring composition, 0.1-30 mass % is preferable. 0.5 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 1 mass % or more is more preferable. 20 mass % or less is preferable and, as for an upper limit, 15 mass % or less is more preferable. In the coloring composition of this invention, only 1 type of photoinitiators may be used, and 2 or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<실레인 커플링제>><<Silane coupling agent>>

본 발명의 착색 조성물은, 실레인 커플링제를 함유할 수 있다. 본 명세서에 있어서, 실레인 커플링제는, 가수분해성기와 그 이외의 관능기를 갖는 실레인 화합물을 의미한다. 또, 가수분해성기란, 규소 원자에 직결되어, 가수분해 반응 및 축합 반응 중 적어도 어느 하나에 의하여 실록세인 결합을 발생할 수 있는 치환기를 말한다. 가수분해성기로서는, 예를 들면, 할로젠 원자, 알콕시기, 아실옥시기 등을 들 수 있으며, 알콕시기가 바람직하다. 즉, 실레인 커플링제는, 알콕시실릴기를 갖는 화합물이 바람직하다. 또, 가수분해성기 이외의 관능기로서는, 예를 들면, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기, 머캅토기, 에폭시기, 옥세탄일기, 아미노기, 유레이도기, 설파이드기, 아이소사이아네이트기, 페닐기 등을 들 수 있으며, 아미노기, (메트)아크릴로일기 및 에폭시기가 바람직하다. 실레인 커플링제의 구체예로서는, N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필메틸다이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-602), N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-603), N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필트라이에톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBE-602), γ-아미노프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-903), γ-아미노프로필트라이에톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBE-903), 3-메타크릴옥시프로필메틸다이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-502), 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-503) 등이 있다. 또, 실레인 커플링제의 구체예에 대해서는, 일본 공개특허공보 2009-288703호의 단락 번호 0018~0036에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2009-242604호의 단락 번호 0056~0066에 기재된 화합물을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.The coloring composition of this invention can contain a silane coupling agent. In the present specification, a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and a functional group other than that. In addition, a hydrolyzable group refers to a substituent that is directly connected to a silicon atom and can generate a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. As a hydrolyzable group, a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group etc. are mentioned, for example, An alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group. Moreover, as a functional group other than a hydrolysable group, a vinyl group, (meth) allyl group, (meth)acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, a ureido group, a sulfide group, isocyanate, for example A nate group, a phenyl group, etc. are mentioned, An amino group, a (meth)acryloyl group, and an epoxy group are preferable. Specific examples of the silane coupling agent include N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., trade name KBM-602), N-β-aminoethyl-γ -Aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., trade name KBM-603), N-β-aminoethyl-γ-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) No., trade name KBE-602), γ-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., trade name KBM-903), γ-aminopropyltriethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Industry (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) Co., Ltd., trade name KBE-903), 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd. trade name KBM-502), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-503). Further, specific examples of the silane coupling agent include compounds described in Paragraph Nos. 0018 to 0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-288703 and Paragraph Nos. 0056 to 0066 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-242604. These contents are incorporated in this specification.

본 발명의 착색 조성물이 실레인 커플링제를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 실레인 커플링제의 함유량은 0.1~5질량%가 바람직하다. 상한은 3질량% 이하가 바람직하고, 2질량% 이하가 보다 바람직하다. 하한은 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 실레인 커플링제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.As for content of the silane coupling agent in the total solids of a coloring composition, when the coloring composition of this invention contains a silane coupling agent, 0.1-5 mass % is preferable. 3 mass % or less is preferable and, as for an upper limit, 2 mass % or less is more preferable. 0.5 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 1 mass % or more is more preferable. In the coloring composition of this invention, only 1 type of silane coupling agents may be used, and 2 or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<용제>><<solvent>>

본 발명의 착색 조성물은, 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 용제는, 유기 용제인 것이 바람직하다. 유기 용제로서는, 에스터계 용제, 케톤계 용제, 알코올계 용제, 아마이드계 용제, 에터계 용제, 탄화 수소계 용제 등을 들 수 있다. 이들의 상세에 대해서는, 국제 공개공보 제2015/166779호의 단락 번호 0223을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 환상 알킬기가 치환된 에스터계 용제, 환상 알킬기가 치환된 케톤계 용제도 바람직하게 이용할 수도 있다. 유기 용제의 구체예로서는, 폴리에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이클로로메테인, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵탄온, 사이클로헥산온, 아세트산 사이클로헥실, 사이클로펜탄온, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 3-메톡시-N,N-다이메틸프로페인아마이드, 3-뷰톡시-N,N-다이메틸프로페인아마이드, 프로필렌글라이콜다이아세테이트, 3-메톡시뷰탄올 등을 들 수 있다. 단 유기 용제로서의 방향족 탄화 수소류(벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등)는, 환경면 등의 이유에 의하여 저감시킨 편이 바람직한 경우가 있다(예를 들면, 유기 용제 전량에 대하여, 50질량ppm(parts per million) 이하로 할 수도 있고, 10질량ppm 이하로 할 수도 있으며, 1질량ppm 이하로 할 수도 있다).It is preferable that the coloring composition of this invention contains a solvent. It is preferable that a solvent is an organic solvent. Examples of the organic solvent include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, and hydrocarbon-based solvents. About these details, Paragraph No. 0223 of International Publication No. 2015/166779 can be referred, and this content is integrated in this specification. In addition, an ester-based solvent in which a cyclic alkyl group is substituted and a ketone-based solvent in which a cyclic alkyl group is substituted can also be preferably used. Specific examples of the organic solvent include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl Ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene Glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropaneamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropaneamide, propylene glycol diacetate, 3-methoxy Butanol etc. are mentioned. However, there are cases in which it is preferable to reduce aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents for reasons such as environmental concerns (for example, 50 ppm by mass relative to the total amount of organic solvents). (parts per million) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).

본 발명에 있어서는, 금속 함유량이 적은 유기 용제를 이용하는 것이 바람직하고, 유기 용제의 금속 함유량은, 예를 들면 10질량ppb(parts per billion) 이하인 것이 바람직하다. 필요에 따라 질량ppt(parts per trillion) 레벨의 유기 용제를 이용해도 되고, 그와 같은 유기 용제는 예를 들면 도요 고세이사가 제공하고 있다(가가쿠 고교 닛포, 2015년 11월 13일).In this invention, it is preferable to use the organic solvent with little metal content, and it is preferable that the metal content of an organic solvent is 10 mass ppb (parts per billion) or less, for example. If necessary, an organic solvent at a ppt (parts per trillion) level may be used, and such an organic solvent is provided, for example, by Toyo Kosei Co., Ltd. (Cagaku Kogyo Nippo, November 13, 2015).

유기 용제로부터 금속 등의 불순물을 제거하는 방법으로서는, 예를 들면, 증류(분자 증류나 박막 증류 등)나 필터를 이용한 여과를 들 수 있다. 여과에 이용하는 필터의 필터 구멍 직경으로서는, 10μm 이하가 바람직하고, 5μm 이하가 보다 바람직하며, 3μm 이하가 더 바람직하다. 필터의 재질은, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌 또는 나일론이 바람직하다.Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) or filtration using a filter. The filter hole diameter of the filter used for filtration is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, and still more preferably 3 μm or less. The material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.

유기 용제는, 이성체(원자수가 동일하지만 구조가 상이한 화합물)가 포함되어 있어도 된다. 또, 이성체는, 1종만이 포함되어 있어도 되고, 복수 종 포함되어 있어도 된다.The organic solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only 1 type may be contained in an isomer, and plural types may be included.

본 발명에 있어서, 유기 용제 중의 과산화물의 함유율이 0.8mmol/L 이하인 것이 바람직하고, 과산화물을 실질적으로 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다.In this invention, it is preferable that the content rate of peroxide in an organic solvent is 0.8 mmol/L or less, and it is more preferable that peroxide is not substantially contained.

착색 조성물 중에 있어서의 유기 용제의 함유량은, 10~95질량%인 것이 바람직하고, 20~90질량%인 것이 보다 바람직하며, 30~90질량%인 것이 더 바람직하다.It is preferable that it is 10-95 mass %, as for content of the organic solvent in a coloring composition, it is more preferable that it is 20-90 mass %, and it is more preferable that it is 30-90 mass %.

또, 본 발명의 착색 조성물은, 환경 규제의 관점에서 환경 규제 물질을 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 환경 규제 물질을 실질적으로 함유하지 않는다란, 착색 조성물 중에 있어서의 환경 규제 물질의 함유량이 50질량ppm 이하인 것을 의미하며, 30질량ppm 이하인 것이 바람직하고, 10질량ppm 이하인 것이 더 바람직하며, 1질량ppm 이하인 것이 특히 바람직하다. 환경 규제 물질은, 예를 들면 벤젠; 톨루엔, 자일렌 등의 알킬벤젠류; 클로로벤젠 등의 할로젠화 벤젠류 등을 들 수 있다. 이들은, REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals) 규칙, PRTR(Pollutant Release and Transfer Register)법, VOC(Volatile Organic Compounds) 규제 등을 기초로 하여 환경 규제 물질로서 등록되어 있고, 사용량이나 취급 방법이 엄격하게 규제되고 있다. 이들 화합물은, 본 발명의 착색 조성물에 이용되는 각 성분 등을 제조할 때에 용매로서 이용되는 경우가 있고, 잔류 용매로서 착색 조성물 중에 혼입되는 경우가 있다. 사람에 대한 안전성, 환경에 대한 배려의 관점에서 이들 물질은 가능한 한 저감하는 것이 바람직하다. 환경 규제 물질을 저감하는 방법으로서는, 계 내를 가열이나 감압하여 환경 규제 물질의 비점 이상으로 하고 계 내에서 환경 규제 물질을 증류 제거하여 저감하는 방법을 들 수 있다. 또, 소량의 환경 규제 물질을 증류 제거하는 경우에 있어서는, 효율을 높이기 위하여 해당 용매와 동등한 비점을 갖는 용매와 공비(共沸)시키는 것도 유용하다. 또, 라디칼 중합성을 갖는 화합물을 함유하는 경우, 감압 증류 제거 중에 라디칼 중합 반응이 진행되어 분자 사이에서 가교해 버리는 것을 억제하기 위하여 중합 금지제 등을 첨가하여 감압 증류 제거해도 된다. 이들 증류 제거 방법은, 원료의 단계, 원료를 반응시킨 생성물(예를 들면 중합한 후의 수지 용액이나 다관능 모노머 용액)의 단계, 또는 이들 화합물을 혼합하여 제작한 착색 조성물의 단계 등의 어느 단계에서도 가능하다.Moreover, it is preferable that the coloring composition of this invention contains substantially no environmental regulating substance from a viewpoint of environmental regulation. In the present invention, substantially not containing an environmental regulating substance means that the content of the environmental regulating substance in the coloring composition is 50 mass ppm or less, preferably 30 mass ppm or less, and 10 mass ppm or less. It is more preferable, and it is especially preferable that it is 1 mass ppm or less. Environmentally regulated substances include, for example, benzene; Alkylbenzenes, such as toluene and xylene; Halogenated benzenes, such as chlorobenzene, etc. are mentioned. These are registered as environmentally regulated substances based on REACH (Registration Evaluation Authorization and Restriction of Chemicals) rules, PRTR (Pollutant Release and Transfer Register) laws, VOC (Volatile Organic Compounds) regulations, etc., and use and handling methods are strict. are regulated These compounds may be used as a solvent when producing each component used in the coloring composition of the present invention and the like, and may be mixed in the coloring composition as a residual solvent. From the viewpoint of human safety and consideration for the environment, it is desirable to reduce these substances as much as possible. As a method of reducing environmental regulating substances, a method of reducing the environment regulating substances by heating or reducing the pressure in the system to a boiling point or higher and distilling off the environmental regulating substances in the system is exemplified. In addition, in the case of distilling off a small amount of environmentally regulated substances, it is also useful to azeotrope with a solvent having the same boiling point as the solvent in order to increase the efficiency. In the case of containing a compound having radical polymerization, it may be distilled off under reduced pressure by adding a polymerization inhibitor or the like in order to suppress crosslinking between molecules as a result of a radical polymerization reaction during distillation under reduced pressure. These distillation methods are carried out at any stage, such as the stage of raw materials, the stage of reacting raw materials (for example, a resin solution or polyfunctional monomer solution after polymerization), or the stage of a coloring composition prepared by mixing these compounds. It is possible.

<<중합 금지제>><<Polymerization Inhibitor>>

본 발명의 착색 조성물은, 중합 금지제를 함유할 수 있다. 중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 다이-tert-뷰틸-p-크레졸, 파이로갈롤, tert-뷰틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-싸이오비스(3-메틸-6-tert-뷰틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-뷰틸페놀), N-나이트로소페닐하이드록시아민염(암모늄염, 제1 세륨염 등)을 들 수 있다. 그중에서도, p-메톡시페놀이 바람직하다. 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 중합 금지제의 함유량은, 0.0001~5질량%가 바람직하다.The coloring composition of this invention may contain a polymerization inhibitor. Examples of polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis(3-methyl-6 -tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salt, cerium salt, etc.). . Among them, p-methoxyphenol is preferable. As for content of the polymerization inhibitor in the total solid content of a coloring composition, 0.0001-5 mass % is preferable.

<<계면활성제>><<surfactants>>

본 발명의 착색 조성물은, 계면활성제를 함유할 수 있다. 계면활성제로서는, 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다. 계면활성제에 대해서는, 국제 공개공보 제2015/166779호의 단락 번호 0238~0245에 기재된 계면활성제를 들 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.The coloring composition of the present invention may contain a surfactant. As the surfactant, various surfactants such as fluorochemical surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, and silicone surfactants can be used. About surfactant, Paragraph No. 0238 of International Publication No. 2015/166779 - surfactant of 0245 are mentioned, This content is integrated in this specification.

본 발명에 있어서, 계면활성제는 불소계 계면활성제인 것이 바람직하다. 착색 조성물에 불소계 계면활성제를 함유시킴으로써 액 특성(특히, 유동성)이 보다 향상되어, 액 절감성을 보다 개선시킬 수 있다. 또, 두께 불균일이 작은 막을 형성할 수도 있다.In the present invention, the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant. By incorporating a fluorine-based surfactant into the coloring composition, the liquid properties (particularly, fluidity) can be further improved, and the liquid saving property can be further improved. In addition, a film having a small unevenness in thickness can be formed.

불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은, 3~40질량%가 적합하고, 보다 바람직하게는 5~30질량%이며, 특히 바람직하게는 7~25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위 내인 불소계 계면활성제는, 도포막의 두께의 균일성이나 액 절감성의 점에서 효과적이며, 착색 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.The fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass. A fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of the uniformity of the thickness of the coating film and liquid saving, and has good solubility in the coloring composition.

불소계 계면활성제로서는, 일본 공개특허공보 2014-041318호의 단락 번호 0060~0064(대응하는 국제 공개공보 제2014/017669호의 단락 번호 0060~0064) 등에 기재된 계면활성제, 일본 공개특허공보 2011-132503호의 단락 번호 0117~0132에 기재된 계면활성제, 일본 공개특허공보 2020-008634호에 기재된 계면활성제를 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 불소계 계면활성제의 시판품으로서는, 예를 들면, 메가팍 F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, F-144, F-437, F-475, F-477, F-479, F-482, F-554, F-555-A, F-556, F-557, F-558, F-559, F-560, F-561, F-565, F-563, F-568, F-575, F-780, EXP, MFS-330, R-41, R-41-LM, R-01, R-40, R-40-LM, RS-43, TF-1956, RS-90, R-94, RS-72-K, DS-21(이상, DIC(주)제), 플루오라드 FC430, FC431, FC171(이상, 스미토모 3M(주)제), 서프론 S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40(이상, AGC(주)제), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002(이상, OMNOVA사제), 프터젠트 710FM, 610FM, 601AD, 601ADH2, 602A, 215M, 245F(이상, (주)NEOS제) 등을 들 수 있다.As a fluorochemical surfactant, the surfactant described in Paragraph No. 0060 - 0064 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-041318 (paragraph No. 0060 - 0064 of corresponding International Publication No. 2014/017669) etc., Paragraph No. 2011-132503 The surfactant of 0117-0132 and the surfactant of Unexamined-Japanese-Patent No. 2020-008634 are mentioned, These content is integrated in this specification. As commercially available products of fluorine-based surfactants, for example, Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, F-144, F -437, F-475, F-477, F-479, F-482, F-554, F-555-A, F-556, F-557, F-558, F-559, F-560, F -561, F-565, F-563, F-568, F-575, F-780, EXP, MFS-330, R-41, R-41-LM, R-01, R-40, R-40 -LM, RS-43, TF-1956, RS-90, R-94, RS-72-K, DS-21 (above, manufactured by DIC Co., Ltd.), Fluorad FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M manufactured by Suffron Co., Ltd.), Suffron S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40 (above, AGC Co., Ltd.), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (above, OMNOVA Co., Ltd.), Prgent 710FM, 610FM, 601AD, 601ADH2, 602A, 215M, 245F (above, NEOS Co., Ltd.), etc. can be heard

또, 불소계 계면활성제는, 불소 원자를 함유하는 관능기를 갖는 분자 구조를 갖고, 열을 가하면 불소 원자를 함유하는 관능기의 부분이 절단되어 불소 원자가 휘발되는 아크릴계 화합물도 적합하게 사용할 수 있다. 이와 같은 불소계 계면활성제로서는, DIC(주)제의 메가팍 DS 시리즈(가가쿠 고교 닛포(2016년 2월 22일), 닛케이 산교 신분(2016년 2월 23일)), 예를 들면 메가팍 DS-21을 들 수 있다.In addition, as the fluorine-based surfactant, an acrylic compound having a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom and in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatilizes when heated is also preferably used. As such a fluorine-based surfactant, DIC Co., Ltd.'s Megafac DS series (Gagaku Kogyo Nippo (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shinbun (February 23, 2016)), for example Megafac DS -21 can be heard.

또, 불소계 계면활성제는, 불소화 알킬기 또는 불소화 알킬렌에터기를 갖는 불소 원자 함유 바이닐에터 화합물과, 친수성의 바이닐에터 화합물의 중합체를 이용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 불소계 계면활성제는, 일본 공개특허공보 2016-216602호의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Moreover, it is also preferable to use the polymer of the vinyl ether compound containing a fluorine atom which has a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group, and a hydrophilic vinyl ether compound as a fluorochemical surfactant. Description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-216602 can be considered into consideration for such a fluorochemical surfactant, and this content is integrated in this specification.

불소계 계면활성제는, 블록 폴리머를 이용할 수도 있다. 예를 들면 일본 공개특허공보 2011-089090호에 기재된 화합물을 들 수 있다. 불소계 계면활성제는, 불소 원자를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위와, 알킬렌옥시기(바람직하게는 에틸렌옥시기, 프로필렌옥시기)를 2 이상(바람직하게는 5 이상) 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 함불소 고분자 화합물도 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2010-032698호의 단락 번호 0016~0037에 기재된 불소 함유 계면활성제나, 하기 화합물도 본 발명에서 이용되는 불소계 계면활성제로서 예시된다.A block polymer can also be used for a fluorochemical surfactant. For example, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-089090 is mentioned. The fluorine-based surfactant is a (meth)acrylate compound having 2 or more (preferably 5 or more) repeating units derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and an alkyleneoxy group (preferably an ethyleneoxy group and a propyleneoxy group). ) A fluorine-containing high molecular compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used. Moreover, the fluorine-containing surfactant of Paragraph No. 0016 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-032698 - 0037 and the following compound are also illustrated as a fluorochemical surfactant used by this invention.

[화학식 37][Formula 37]

Figure pct00037
Figure pct00037

상기의 화합물의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3000~50000이고, 예를 들면, 14000이다. 상기의 화합물 중, 반복 단위의 비율을 나타내는 %는 몰%이다.The weight average molecular weight of the above compound is preferably 3000 to 50000, for example 14000. Among the above compounds, % representing the ratio of repeating units is mol%.

또, 불소계 계면활성제는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 갖는 함불소 중합체를 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-164965호의 단락 번호 0050~0090 및 단락 번호 0289~0295에 기재된 화합물, 예를 들면 DIC(주)제의 메가팍 RS-101, RS-102, RS-718K, RS-72-K 등을 들 수 있다. 또, 불소계 계면활성제는, 일본 공개특허공보 2015-117327호의 단락 번호 0015~0158에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다.Further, as the fluorine-based surfactant, a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain may be used. As a specific example, the compound described in Paragraph No. 0050-0090 and Paragraph No. 0289-0295 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-164965, for example, DIC Co., Ltd. Megafac RS-101, RS-102, RS-718K, RS -72-K etc. are mentioned. Moreover, Paragraph No. 0015 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-117327 - the compound of 0158 can also be used for a fluorochemical surfactant.

비이온계 계면활성제로서는, 글리세롤, 트라이메틸올프로페인, 트라이메틸올에테인 및 그들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면, 글리세롤프로폭실레이트, 글리세롤에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터, 플루로닉 L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2(BASF사제), 테트로닉 304, 701, 704, 901, 904, 150R1(BASF사제), 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸(주)제), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002(후지필름 와코 준야쿠 고교제), 파이오닌 D-6112, D-6112-W, D-6315(다케모토 유시(주)제), 올핀 E1010, 서피놀 104, 400, 440(닛신 가가쿠 고교(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (for example, glycerol propoxylate and glycerol ethoxylate), polyoxyethylene lauryl Ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate , Sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (manufactured by BASF), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (Nippon) Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), Pionein D-6112, D-6112-W, D-6315 (Takemoto Yushi Co., Ltd.) ) agent), Olfin E1010, Surfynol 104, 400, 440 (manufactured by Nisshin Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

실리콘계 계면활성제로서는, 예를 들면, 도레이 실리콘 DC3PA, 도레이 실리콘 SH7PA, 도레이 실리콘 DC11PA, 도레이 실리콘 SH21PA, 도레이 실리콘 SH28PA, 도레이 실리콘 SH29PA, 도레이 실리콘 SH30PA, 도레이 실리콘 SH8400(이상, 도레이·다우 코닝(주)제), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452(이상, 모멘티브·퍼포먼스·머티어리얼즈사제), KP-341, KF-6001, KF-6002(이상, 신에쓰 가가쿠 고교(주)제), BYK307, BYK323, BYK330(이상, 빅케미사제) 등을 들 수 있다.As the silicone surfactant, for example, Toray Silicone DC3PA, Toray Silicone SH7PA, Toray Silicone DC11PA, Toray Silicone SH21PA, Toray Silicone SH28PA, Toray Silicone SH29PA, Toray Silicone SH30PA, Toray Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) No.), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (above, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.), KP-341, KF-6001, KF-6002 (above) , Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product), BYK307, BYK323, BYK330 (above, made by Big Chemie Co., Ltd.), etc. are mentioned.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 계면활성제의 함유량은, 0.001질량%~5.0질량%가 바람직하고, 0.005~3.0질량%가 보다 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 계면활성제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.0.001 mass % - 5.0 mass % are preferable, and, as for content of surfactant in the total solids of a coloring composition, 0.005 - 3.0 mass % are more preferable. In the coloring composition of this invention, only 1 type of surfactant may be used, and 2 or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<자외선 흡수제>><<UV absorber>>

본 발명의 착색 조성물은, 자외선 흡수제를 함유할 수 있다. 자외선 흡수제는, 공액 다이엔 화합물, 아미노다이엔 화합물, 살리실레이트 화합물, 벤조페논 화합물, 벤조트라이아졸 화합물, 아크릴로나이트릴 화합물, 하이드록시페닐트라이아진 화합물, 인돌 화합물, 트라이아진 화합물 등을 이용할 수 있다. 이들의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-208374호의 단락 번호 0052~0072, 일본 공개특허공보 2013-068814호의 단락 번호 0317~0334, 일본 공개특허공보 2016-162946호의 단락 번호 0061~0080에 기재된 화합물을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 자외선 흡수제의 시판품으로서는, UV-503(다이토 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다. 또, 벤조트라이아졸 화합물로서는, 미요시 유시제의 MYUA 시리즈(가가쿠 고교 닛포, 2016년 2월 1일)를 들 수 있다. 또, 자외선 흡수제는, 일본 특허공보 제6268967호의 단락 번호 0049~0059에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다. 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 자외선 흡수제의 함유량은, 0.01~10질량%가 바람직하고, 0.01~5질량%가 보다 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 자외선 흡수제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention may contain a ultraviolet absorber. As the ultraviolet absorber, a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, an indole compound, a triazine compound, or the like may be used. can About these details, Paragraph Nos. 0052-0072 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-208374, Paragraph Nos. 0317-0334 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-068814, and Paragraph Nos. 0061-0080 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-162946 are compounds described. are mentioned, and these content is integrated in this specification. As a commercial item of a ultraviolet absorber, UV-503 (made by Daito Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned. Moreover, as a benzotriazole compound, the MYUA series by Miyoshi Yushi Co., Ltd. (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016) is mentioned. Moreover, the compound of Paragraph No. 0049 - 0059 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6268967 can also be used as a ultraviolet absorber. 0.01-10 mass % is preferable and, as for content of the ultraviolet absorber in the total solid content of a coloring composition, 0.01-5 mass % is more preferable. In the coloring composition of this invention, only 1 type of ultraviolet absorber may be used, and 2 or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<산화 방지제>><<Antioxidants>>

본 발명의 착색 조성물은, 산화 방지제를 함유할 수 있다. 산화 방지제로서는, 페놀 화합물, 아인산 에스터 화합물, 싸이오에터 화합물 등을 들 수 있다. 페놀 화합물로서는, 페놀계 산화 방지제로서 알려진 임의의 페놀 화합물을 사용할 수 있다. 바람직한 페놀 화합물로서는, 힌더드 페놀 화합물을 들 수 있다. 페놀성 하이드록시기에 인접하는 부위(오쏘위)에 치환기를 갖는 화합물이 바람직하다. 상술한 치환기로서는 탄소수 1~22의 치환 또는 무치환의 알킬기가 바람직하다. 또, 산화 방지제는, 동일 분자 내에 페놀기와 아인산 에스터기를 갖는 화합물도 바람직하다. 또, 산화 방지제는, 인계 산화 방지제도 적합하게 사용할 수 있다. 인계 산화 방지제로서는 트리스[2-[[2,4,8,10-테트라키스(1,1-다이메틸에틸)다이벤조[d,f][1,3,2]다이옥사포스페핀-6-일]옥시]에틸]아민, 트리스[2-[(4,6,9,11-테트라-tert-뷰틸다이벤조[d,f][1,3,2]다이옥사포스페핀-2-일)옥시]에틸]아민, 아인산 에틸비스(2,4-다이-tert-뷰틸-6-메틸페닐) 등을 들 수 있다. 산화 방지제의 시판품으로서는, 예를 들면, 아데카스타브 AO-20, 아데카스타브 AO-30, 아데카스타브 AO-40, 아데카스타브 AO-50, 아데카스타브 AO-50F, 아데카스타브 AO-60, 아데카스타브 AO-60G, 아데카스타브 AO-80, 아데카스타브 AO-330(이상, (주)ADEKA제) 등을 들 수 있다. 또, 산화 방지제는, 일본 특허공보 제6268967호의 단락 번호 0023~0048에 기재된 화합물을 사용할 수도 있다. 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 산화 방지제의 함유량은, 0.01~20질량%인 것이 바람직하고, 0.3~15질량%인 것이 보다 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 산화 방지제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain antioxidant. As an antioxidant, a phenol compound, a phosphite compound, a thioether compound, etc. are mentioned. As the phenolic compound, any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used. As a preferable phenol compound, a hindered phenol compound is mentioned. A compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position) is preferred. As the substituent described above, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable. Further, the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule. Moreover, a phosphorus antioxidant can also be used suitably as an antioxidant. As the phosphorus antioxidant, tris[2-[[2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)dibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepine-6- yl]oxy]ethyl]amine, tris[2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-2-yl) oxy]ethyl]amine, phosphorous acid ethylbis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl), and the like. Examples of commercially available antioxidants include Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO- 60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80, Adekastab AO-330 (above, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), and the like. Moreover, the compound of Paragraph No. 0023 - 0048 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6268967 can also be used as an antioxidant. It is preferable that it is 0.01-20 mass %, and, as for content of the antioxidant in the total solid content of a coloring composition, it is more preferable that it is 0.3-15 mass %. In the coloring composition of this invention, antioxidant may use only 1 type, and may use 2 or more types. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<그 외 성분>><<Other Ingredients>>

본 발명의 착색 조성물은, 필요에 따라, 증감제, 경화 촉진제, 필러, 열경화 촉진제, 가소제 및 그 외의 조제(助劑)류(예를 들면, 도전성 입자, 충전제, 소포제, 난연제, 레벨링제, 박리 촉진제, 향료, 표면 장력 조정제, 연쇄 이동제 등)를 함유해도 된다. 이들 성분을 적절히 함유시킴으로써, 막물성 등의 성질을 조정할 수 있다. 이들 성분은, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2012-003225호의 단락 번호 0183 이후(대응하는 미국 특허출원 공개공보 제2013/0034812호의 단락 번호 0237)의 기재, 일본 공개특허공보 2008-250074호의 단락 번호 0101~0104, 0107~0109 등의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 필요에 따라, 잠재(潛在) 산화 방지제를 함유해도 된다. 잠재 산화 방지제로서는, 산화 방지제로서 기능하는 부위가 보호기로 보호된 화합물로서, 100~250℃에서 가열하거나, 또는 산/염기 촉매 존재하에서 80~200℃에서 가열함으로써 보호기가 탈리되어 산화 방지제로서 기능하는 화합물을 들 수 있다. 잠재 산화 방지제로서는, 국제 공개공보 제2014/021023호, 국제 공개공보 제2017/030005호, 일본 공개특허공보 2017-008219호에 기재된 화합물을 들 수 있다. 잠재 산화 방지제의 시판품으로서는, 아데카 아클즈 GPA-5001((주)ADEKA제) 등을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2018-155881호에 기재되어 있는 바와 같이, C. I. Pigment Yellow 129를 내후성(耐候性) 개량의 목적으로 첨가해도 된다. 또, 일본 공개특허공보 2020-079833호의 단락 번호 0146~0148에 기재된 방향족기 함유 포스포늄염을, 녹색 안료(특히 바람직하게는 C. I. 피그먼트 그린 36, 58, 59, 62, 63)의 내광성을 개량할 목적으로 첨가하는 것도 바람직하다.The coloring composition of the present invention, if necessary, a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a heat curing accelerator, a plasticizer, and other auxiliary agents (eg, conductive particles, fillers, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, peeling accelerator, fragrance, surface tension adjuster, chain transfer agent, etc.) may be contained. By appropriately containing these components, properties such as film properties can be adjusted. These components are, for example, described in paragraph No. 0183 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2012-003225 (paragraph No. 0237 of corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812), paragraph No. 2008-250074 Reference can be made to descriptions of 0101 to 0104 and 0107 to 0109, the contents of which are incorporated herein by reference. Moreover, the coloring composition of this invention may contain a latent antioxidant as needed. The latent antioxidant is a compound in which a site functioning as an antioxidant is protected with a protecting group, and the protective group is released by heating at 100 to 250° C. or at 80 to 200° C. in the presence of an acid/base catalyst to function as an antioxidant. compounds can be mentioned. Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-008219. As a commercial item of a latent antioxidant, Adeka Akles GPA-5001 (made by ADEKA Corporation) etc. are mentioned. Moreover, as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-155881, C. I. Pigment Yellow 129 may be added for the purpose of improving weather resistance. Further, the aromatic group-containing phosphonium salts described in Paragraphs Nos. 0146 to 0148 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-079833 are used to improve the light resistance of green pigments (especially C. I. Pigment Green 36, 58, 59, 62, 63). It is also preferable to add for the purpose of doing.

본 발명의 착색 조성물은, 얻어지는 막의 굴절률을 조정하기 위하여 금속 산화물을 함유시켜도 된다. 금속 산화물로서는, TiO2, ZrO2, Al2O3, SiO2 등을 들 수 있다. 금속 산화물의 1차 입자경은 1~100nm가 바람직하고, 3~70nm가 보다 바람직하며, 5~50nm가 가장 바람직하다. 금속 산화물은 코어-셸 구조를 갖고 있어도 된다. 또, 이 경우, 코어부는 중공상이어도 된다.The coloring composition of this invention may contain a metal oxide in order to adjust the refractive index of the film|membrane obtained. Examples of the metal oxide include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , and SiO 2 . The primary particle size of the metal oxide is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, and most preferably 5 to 50 nm. The metal oxide may have a core-shell structure. Moreover, in this case, the core part may be hollow.

본 발명의 착색 조성물은, 내광성 개량제를 포함해도 된다. 내광성 개량제로서는, 일본 공개특허공보 2017-198787호의 단락 번호 0036~0037에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-146350호의 단락 번호 0029~0034에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-129774호의 단락 번호 0036~0037, 0049~0052에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-129674호의 단락 번호 0031~0034, 0058~0059에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-122803호의 단락 번호 0036~0037, 0051~0054에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/164127호의 단락 번호 0025~0039에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-186546호의 단락 번호 0034~0047에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2015-025116호의 단락 번호 0019~0041에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2012-145604호의 단락 번호 0101~0125에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2012-103475호의 단락 번호 0018~0021에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-257591호의 단락 번호 0015~0018에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-191483호의 단락 번호 0017~0021에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-145668호의 단락 번호 0108~0116에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-253174호의 단락 번호 0103~0153에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.The coloring composition of this invention may also contain a light fastness improving agent. As a light fastness improver, the compound of Paragraph No. 0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-198787 - the compound of 0037, Paragraph No. 0029 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-146350 - the compound of 0034, Paragraph No. 0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-129774 - 0037, a compound described in 0049 to 0052, a compound described in Paragraph Nos. 0031 to 0034, 0058 to 0059 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-129674, a compound described in Paragraph Nos. 0036 to 0037, 0051 to 0054 of Unexamined-Japanese-Patent No. , Paragraph Nos. 0025 to 0039 of International Publication No. 2017/164127, a compound described in Paragraph Nos. 0034 to 0047 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-186546, and paragraph Nos. 0019 to 0041 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-025116 A compound described in Paragraph Nos. 0101 to 0125 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-145604, a compound described in Paragraph Nos. 0018 to 0021 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-103475, Paragraph Nos. 0015 to 0018 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-257591 The compound described, the compound described in Paragraph Nos. 0017 to 0021 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-191483, the compound described in Paragraph No. 0108 to 0116 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-145668, Paragraph No. 0103 to 0153 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-253174 The compounds described in , etc. are mentioned.

본 발명의 착색 조성물은, 안료 등과 결합 또는 배위하고 있지 않은 유리(遊離)의 금속의 함유량이 100ppm 이하인 것이 바람직하고, 50ppm 이하인 것이 보다 바람직하며, 10ppm 이하인 것이 더 바람직하고, 실질적으로 함유하지 않는 것이 특히 바람직하다. 이 양태에 의하면, 안료 분산성의 안정화(응집 억제), 분산성 향상에 따른 분광 특성의 향상, 경화성 성분의 안정화, 금속 원자·금속 이온의 용출에 따른 도전성 변동의 억제, 표시 특성의 향상 등의 효과를 기대할 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2012-153796호, 일본 공개특허공보 2000-345085호, 일본 공개특허공보 2005-200560호, 일본 공개특허공보 평08-043620호, 일본 공개특허공보 2004-145078호, 일본 공개특허공보 2014-119487호, 일본 공개특허공보 2010-083997호, 일본 공개특허공보 2017-090930호, 일본 공개특허공보 2018-025612호, 일본 공개특허공보 2018-025797호, 일본 공개특허공보 2017-155228호, 일본 공개특허공보 2018-036521호 등에 기재된 효과가 얻어진다. 상기의 유리의 금속의 종류로서는, Na, K, Ca, Sc, Ti, Mn, Cu, Zn, Fe, Cr, Co, Mg, Al, Sn, Zr, Ga, Ge, Ag, Au, Pt, Cs, Ni, Cd, Pb, Bi 등을 들 수 있다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 안료 등과 결합 또는 배위하고 있지 않은 유리의 할로젠의 함유량이 100ppm 이하인 것이 바람직하고, 50ppm 이하인 것이 보다 바람직하며, 10ppm 이하인 것이 더 바람직하고, 실질적으로 함유하지 않는 것이 특히 바람직하다. 할로젠으로서는, F, Cl, Br, I 및 그들의 음이온을 들 수 있다. 착색 조성물 중의 유리의 금속이나 할로젠의 저감 방법으로서는, 이온 교환수에 의한 세정, 여과, 한외(限外) 여과, 이온 교환 수지에 의한 정제 등의 방법을 들 수 있다.In the coloring composition of the present invention, the content of a free metal that is not bonded or coordinated with a pigment or the like is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, still more preferably 10 ppm or less, and not substantially contained. particularly preferred. According to this embodiment, effects such as stabilization of pigment dispersibility (suppression of aggregation), improvement of spectral characteristics due to improvement of dispersibility, stabilization of curable components, suppression of fluctuation in conductivity due to elution of metal atoms and metal ions, improvement of display characteristics, etc. can be expected Moreover, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-153796, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-345085, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-200560, Japanese Unexamined Patent Publication No. 08-043620, Japanese Unexamined Patent Publication 2004-145078, Japanese Unexamined Patent Publication Patent Publication No. 2014-119487, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-083997, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-090930, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-025612, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-025797, Japanese Unexamined Patent Publication 2017-155228 , the effect described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-036521 etc. is acquired. As the type of metal of the above glass, Na, K, Ca, Sc, Ti, Mn, Cu, Zn, Fe, Cr, Co, Mg, Al, Sn, Zr, Ga, Ge, Ag, Au, Pt, Cs , Ni, Cd, Pb, Bi and the like. Further, in the coloring composition of the present invention, the content of halogen in glass not bonded to or coordinated with a pigment or the like is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, still more preferably 10 ppm or less, and substantially not contained. particularly preferred. Examples of halogen include F, Cl, Br, I and anions thereof. Methods such as washing with ion-exchanged water, filtration, ultrafiltration, purification with ion-exchange resin, etc. are mentioned as methods for reducing metals and halogens in the glass in the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 테레프탈산 에스터를 실질적으로 포함하지 않는 것도 바람직하다. 여기에서, "실질적으로 포함하지 않는다"란, 테레프탈산 에스터의 함유량이, 착색 조성물의 전량 중, 1000질량ppb 이하인 것을 의미하고, 100질량ppb 이하인 것이 보다 바람직하며, 제로인 것이 특히 바람직하다.It is also preferable that the coloring composition of this invention does not contain terephthalic acid ester substantially. Here, "substantially not included" means that the content of terephthalic acid ester is 1000 mass ppb or less in the total amount of the coloring composition, more preferably 100 mass ppb or less, and particularly preferably zero.

환경 규제의 관점에서, 퍼플루오로알킬설폰산 및 그 염, 및 퍼플루오로알킬카복실산 및 그 염의 사용이 규제되는 경우가 있다. 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 상기한 화합물의 함유율을 작게 하는 경우, 퍼플루오로알킬설폰산(특히 퍼플루오로알킬기의 탄소수가 6~8인 퍼플루오로알킬설폰산) 및 그 염, 및 퍼플루오로알킬카복실산(특히 퍼플루오로알킬기의 탄소수가 6~8인 퍼플루오로알킬카복실산) 및 그 염의 함유율은, 착색 조성물의 전고형분에 대하여, 0.01ppb~1,000ppb의 범위인 것이 바람직하고, 0.05ppb~500ppb의 범위인 것이 보다 바람직하며, 0.1ppb~300ppb의 범위인 것이 더 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물은, 퍼플루오로알킬설폰산 및 그 염, 및 퍼플루오로알킬카복실산 및 그 염을 실질적으로 포함하지 않아도 된다. 예를 들면, 퍼플루오로알킬설폰산 및 그 염의 대체가 될 수 있는 화합물, 및 퍼플루오로알킬카복실산 및 그 염의 대체가 될 수 있는 화합물을 이용함으로써, 퍼플루오로알킬설폰산 및 그 염, 및 퍼플루오로알킬카복실산 및 그 염을 실질적으로 포함하지 않는 착색 조성물을 선택해도 된다. 규제 화합물의 대체가 될 수 있는 화합물로서는, 예를 들면, 퍼플루오로알킬기의 탄소수의 차이에 의하여 규제 대상으로부터 제외된 화합물을 들 수 있다. 단, 상기한 내용은, 퍼플루오로알킬설폰산 및 그 염, 및 퍼플루오로알킬카복실산 및 그 염의 사용을 방해하는 것은 아니다. 본 발명의 착색 조성물은, 허용되는 최대의 범위 내에서, 퍼플루오로알킬설폰산 및 그 염, 및 퍼플루오로알킬카복실산 및 그 염을 포함해도 된다.From the viewpoint of environmental regulations, the use of perfluoroalkylsulfonic acids and salts thereof, and perfluoroalkylcarboxylic acids and salts thereof are regulated in some cases. In the coloring composition of the present invention, when the content of the above compound is reduced, perfluoroalkylsulfonic acid (particularly, perfluoroalkylsulfonic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group) and salts thereof, and purple The content of the fluoroalkylcarboxylic acid (particularly, the perfluoroalkylcarboxylic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group) and its salt is preferably in the range of 0.01 ppb to 1,000 ppb with respect to the total solid content of the coloring composition, and is 0.05 It is more preferable that it is the range of ppb - 500 ppb, and it is still more preferable that it is the range of 0.1 ppb - 300 ppb. The coloring composition of the present invention need not substantially contain perfluoroalkylsulfonic acids and salts thereof, and perfluoroalkylcarboxylic acids and salts thereof. For example, by using compounds that can be substituted for perfluoroalkylsulfonic acids and salts thereof, and compounds that can be substituted for perfluoroalkylcarboxylic acids and salts thereof, You may select the coloring composition which does not contain perfluoroalkylcarboxylic acid and its salt substantially. Examples of the compound that can be substituted for the regulated compound include compounds excluded from the regulated subject due to differences in the number of carbon atoms in the perfluoroalkyl group. However, the above does not prevent the use of perfluoroalkylsulfonic acids and salts thereof, and perfluoroalkylcarboxylic acids and salts thereof. The coloring composition of the present invention may also contain perfluoroalkylsulfonic acid and its salt, and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salt within the maximum permissible range.

본 발명의 착색 조성물의 함수율은, 통상 3질량% 이하이며, 0.01~1.5질량%가 바람직하고, 0.1~1.0질량%의 범위인 것이 보다 바람직하다. 함수율은, 칼 피셔법으로 측정할 수 있다.The moisture content of the coloring composition of this invention is 3 mass % or less normally, 0.01-1.5 mass % is preferable, and it is more preferable that it is the range of 0.1-1.0 mass %. Moisture content can be measured by the Karl Fischer method.

본 발명의 착색 조성물은, 막면상(膜面狀)(평탄성 등)의 조정, 막두께의 조정 등을 목적으로 하여 점도를 조정하여 이용할 수 있다. 점도의 값은 필요에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 예를 들면, 23℃에 있어서 0.3mPa·s~50mPa·s가 바람직하고, 0.5mPa·s~20mPa·s가 보다 바람직하다. 점도의 측정 방법으로서는, 예를 들면, 도키 산교제 점도계 RE85L(로터: 1°34'×R24, 측정 범위 0.6~1200mPa·s)을 사용하여, 23℃로 온도 조정을 실시한 상태로 측정할 수 있다.The coloring composition of the present invention can be used after adjusting the viscosity for the purpose of adjusting the film surface shape (flatness, etc.), adjusting the film thickness, and the like. Although the value of the viscosity can be appropriately selected as needed, for example, at 23°C, 0.3 mPa·s to 50 mPa·s are preferable, and 0.5 mPa·s to 20 mPa·s are more preferable. As a method for measuring the viscosity, it can be measured in a state where the temperature is adjusted at 23°C using, for example, a Toki Sangyo viscometer RE85L (rotor: 1°34'×R24, measurement range 0.6 to 1200 mPa·s). .

본 발명의 착색 조성물을 액정 표시 장치 용도의 컬러 필터로서 이용하는 경우, 컬러 필터를 구비한 액정 표시 소자의 전압 유지율은, 70% 이상인 것이 바람직하고, 90% 이상인 것이 보다 바람직하다. 높은 전압 유지율을 얻기 위한 공지의 수단을 적절히 도입할 수 있고, 전형적인 수단으로서는 순도가 높은 소재의 사용(예를 들면 이온성 불순물의 저감)이나, 조성물 중의 산성 관능기량의 제어를 들 수 있다. 전압 유지율은, 예를 들면 일본 공개특허공보 2011-008004호의 단락 0243, 일본 공개특허공보 2012-224847호의 단락 0123~0129에 기재된 방법 등으로 측정할 수 있다.When using the coloring composition of this invention as a color filter for liquid crystal display devices, it is preferable that it is 70 % or more, and, as for the voltage holding ratio of the liquid crystal display element provided with the color filter, it is more preferable that it is 90 % or more. Known means for obtaining high voltage retention can be appropriately introduced, and typical means include use of high-purity materials (for example, reduction of ionic impurities) and control of the amount of acidic functional groups in the composition. A voltage holding ratio can be measured by Paragraph 0243 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-008004, Paragraph 0123 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-224847 - the method of 0129, etc., for example.

<수용 용기><Container container>

본 발명의 착색 조성물의 수용 용기로서는, 특별히 한정은 없고, 공지의 수용 용기를 이용할 수 있다. 또, 수용 용기로서, 원재료나 착색 조성물 중으로의 불순물 혼입을 억제할 것을 목적으로, 용기 내벽을 6종 6층의 수지로 구성하는 다층 보틀이나 6종의 수지를 7층 구조로 한 보틀을 사용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 용기로서는 예를 들면 일본 공개특허공보 2015-123351호에 기재된 용기를 들 수 있다. 또, 착색 조성물의 내벽은, 용기 내벽으로부터의 금속 용출을 방지하여, 조성물의 보존 안정성을 높이거나, 성분 변질을 억제하는 등의 목적으로, 유리제나 스테인리스제 등으로 하는 것도 바람직하다.There is no limitation in particular as a container for the coloring composition of the present invention, and a known container can be used. In addition, as a storage container, a multi-layered bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types of 6-layer resin or a bottle in which 6 types of resins are used in a 7-layer structure is used for the purpose of suppressing the mixing of impurities into the raw material or coloring composition. is also desirable As such a container, the container of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-123351 is mentioned, for example. The inner wall of the colored composition is also preferably made of glass or stainless steel for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, enhancing the storage stability of the composition, or suppressing component deterioration.

<착색 조성물의 조제 방법><Method for preparing colored composition>

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 성분을 혼합하여 조제할 수 있다. 착색 조성물의 조제 시에는, 전체 성분을 동시에 용제에 용해 및/또는 분산하여 착색 조성물을 조제해도 되며, 필요에 따라, 각 성분을 적절히 2개 이상의 용액 또는 분산액으로 해두고, 사용 시(도포 시)에 이들을 혼합하여 착색 조성물을 조제해도 된다.The coloring composition of this invention can be prepared by mixing the above-mentioned components. When preparing the coloring composition, the coloring composition may be prepared by simultaneously dissolving and/or dispersing all the components in a solvent. If necessary, each component is appropriately prepared as a solution or dispersion of two or more, and at the time of use (at the time of application) You may prepare a coloring composition by mixing these.

또, 착색 조성물의 조제 시에, 안료를 분산시키는 프로세스를 포함하는 것도 바람직하다. 안료를 분산시키는 프로세스에 있어서, 안료의 분산에 이용하는 기계력으로서는, 압축, 압착, 충격, 전단(剪斷), 캐비테이션 등을 들 수 있다. 이들 프로세스의 구체예로서는, 비즈 밀, 샌드 밀, 롤 밀, 볼 밀, 페인트 셰이커, 마이크로플루이다이저, 고속 임펠러, 샌드 그라인더, 플로젯 믹서, 고압 습식 미립화, 초음파 분산 등을 들 수 있다. 또 샌드 밀(비즈 밀)에 있어서의 안료의 분쇄에 있어서는, 직경이 작은 비즈를 사용하거나, 비즈의 충전율을 크게 하는 것 등에 의하여 분쇄 효율을 높인 조건에서 처리하는 것이 바람직하다. 또, 분쇄 처리 후에 여과, 원심 분리 등으로 조립자(粗粒子)를 제거하는 것이 바람직하다. 또, 안료를 분산시키는 프로세스 및 분산기는, "분산 기술 대전집, 주식회사 조호키코 발행, 2005년 7월 15일"이나 "서스펜션(고/액분산계)을 중심으로 한 분산 기술과 공업적 응용의 실제 종합 자료집, 게이에이 가이하쓰 센터 출판부 발행, 1978년 10월 10일", 일본 공개특허공보 2015-157893호의 단락 번호 0022에 기재된 프로세스 및 분산기를 적합하게 사용할 수 있다. 또 안료를 분산시키는 프로세스에 있어서는, 솔트 밀링 공정으로 입자의 미세화 처리를 행해도 된다. 솔트 밀링 공정에 이용되는 소재, 기기, 처리 조건 등은, 예를 들면 일본 공개특허공보 2015-194521호, 일본 공개특허공보 2012-046629호의 기재를 참조할 수 있다.Moreover, it is also preferable to include the process of dispersing a pigment at the time of preparation of a coloring composition. In the process of dispersing the pigment, examples of the mechanical force used for dispersing the pigment include compression, compression, impact, shear, cavitation, and the like. Specific examples of these processes include bead mill, sand mill, roll mill, ball mill, paint shaker, microfluidizer, high-speed impeller, sand grinder, float mixer, high-pressure wet atomization, ultrasonic dispersion, and the like. In addition, in pulverization of the pigment in a sand mill (bead mill), it is preferable to use beads with a small diameter or to treat under conditions in which the pulverization efficiency is increased by increasing the filling rate of the beads. In addition, it is preferable to remove coarse particles by filtration, centrifugation or the like after the crushing treatment. In addition, the process and disperser for dispersing the pigment are described in "Complete Collection of Dispersion Technology, published by Joho Kiko Co., Ltd., July 15, 2005" or "Dispersion Technology Centered on Suspension (Solid/Liquid Dispersion System) and Practice of Industrial Application" Comprehensive Data Collection, Keiei Kaihatsu Center Publishing, October 10, 1978", the process and disperser described in paragraph No. 0022 of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2015-157893 can be suitably used. Further, in the process of dispersing the pigment, the particles may be refined by a salt milling process. For materials, equipment, processing conditions, and the like used in the salt milling process, descriptions of, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-194521 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-046629 can be referred.

착색 조성물의 조제에 있어서, 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로, 착색 조성물을 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 필터로서는, 종래부터 여과 용도 등에 이용되고 있는 필터이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 예를 들면, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등의 불소 수지, 나일론(예를 들면 나일론-6, 나일론-6,6) 등의 폴리아마이드 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량의 폴리올레핀 수지를 포함한다) 등의 소재를 이용한 필터를 들 수 있다. 이들 소재 중에서도 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함한다) 및 나일론이 바람직하다.In preparation of the coloring composition, it is preferable to filter the coloring composition with a filter for the purpose of removing foreign matter or reducing defects. As a filter, it can be used without particular limitation as long as it is a filter conventionally used for filtration purposes or the like. For example, fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resins such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) ( A filter using a material such as a high-density, ultra-high molecular weight polyolefin resin is included). Among these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferable.

필터의 구멍 직경은, 0.01~7.0μm가 바람직하고, 0.01~3.0μm가 보다 바람직하며, 0.05~0.5μm가 더 바람직하다. 필터의 구멍 직경이 상기 범위이면, 미세한 이물을 보다 확실히 제거할 수 있다. 필터의 구멍 직경값에 대해서는, 필터 메이커의 공칭값을 참조할 수 있다. 필터는, 니혼 폴 주식회사(DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P 등), 어드밴텍 도요 주식회사, 니혼 인테그리스 주식회사(구(舊) 니혼 마이크롤리스 주식회사) 및 주식회사 키츠 마이크로 필터 등이 제공하는 각종 필터를 이용할 수 있다.The pore diameter of the filter is preferably 0.01 to 7.0 μm, more preferably 0.01 to 3.0 μm, and still more preferably 0.05 to 0.5 μm. When the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably. For the value of the pore diameter of the filter, reference can be made to the nominal value of the filter manufacturer. As the filter, various filters provided by Nihon Pole Co., Ltd. (DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Entegris Co., Ltd. (formerly Nihon Microlis Co., Ltd.), Kitz Microfilter Co., Ltd., etc. can be used.

또, 필터로서 파이버상의 여과재를 이용하는 것도 바람직하다. 파이버상의 여과재로서는, 예를 들면 폴리프로필렌 파이버, 나일론 파이버, 글라스 파이버 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, 로키 테크노사제의 SBP 타입 시리즈(SBP008 등), TPR 타입 시리즈(TPR002, TPR005 등), SHPX 타입 시리즈(SHPX003 등)를 들 수 있다.Moreover, it is also preferable to use a fibrous filter medium as a filter. As a fibrous filter medium, polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber etc. are mentioned, for example. Examples of commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.), and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Rocky Techno.

필터를 사용할 때, 상이한 필터(예를 들면, 제1 필터와 제2 필터 등)를 조합해도 된다. 그때, 각 필터를 이용한 여과는, 1회만이어도 되고, 2회 이상 행해도 된다. 또, 상술한 범위 내에서 상이한 구멍 직경의 필터를 조합해도 된다. 또, 제1 필터를 이용한 여과는, 분산액에 대해서만 행하고, 다른 성분을 혼합한 후에, 제2 필터로 여과를 행해도 된다.When using a filter, you may combine different filters (for example, a 1st filter and a 2nd filter, etc.). In that case, filtration using each filter may be performed only once, or may be performed twice or more. Moreover, you may combine filters of different pore diameters within the above-mentioned range. In addition, filtration using the first filter may be performed only for the dispersion liquid, and after mixing other components, filtration may be performed with the second filter.

<막><Act>

본 발명의 막은, 상술한 본 발명의 착색 조성물로부터 얻어지는 막이다. 본 발명의 막은, 컬러 필터 등에 이용할 수 있다. 구체적으로는, 컬러 필터의 착색층(화소)으로서 바람직하게 이용할 수 있다. 착색 화소로서는, 적색 화소, 녹색 화소, 청색 화소, 마젠타색 화소, 사이안색 화소, 황색 화소 등을 들 수 있다. 본 발명의 막의 막두께는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있다. 예를 들면, 막두께는, 20μm 이하가 바람직하고, 10μm 이하가 보다 바람직하며, 5μm 이하가 더 바람직하다. 막두께의 하한은, 0.1μm 이상이 바람직하고, 0.2μm 이상이 보다 바람직하며, 0.3μm 이상이 더 바람직하다.The film of the present invention is a film obtained from the coloring composition of the present invention described above. The film of the present invention can be used for a color filter or the like. Specifically, it can be suitably used as a colored layer (pixel) of a color filter. Examples of colored pixels include red pixels, green pixels, blue pixels, magenta pixels, cyan pixels, and yellow pixels. The film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted depending on the purpose. For example, the film thickness is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less, and still more preferably 5 μm or less. The lower limit of the film thickness is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.2 μm or more, and still more preferably 0.3 μm or more.

<컬러 필터><Color Filter>

다음으로, 본 발명의 컬러 필터에 대하여 설명한다. 본 발명의 컬러 필터는, 상술한 본 발명의 막을 갖는다. 보다 바람직하게는, 컬러 필터의 화소로서, 본 발명의 막을 갖는다. 본 발명의 컬러 필터는, CCD(전하 결합 소자)나 CMOS(상보형(相補型) 금속 산화막 반도체) 등의 고체 촬상 소자나 화상 표시 장치 등에 이용할 수 있다.Next, the color filter of the present invention will be described. The color filter of the present invention has the film of the present invention described above. More preferably, it has the film|membrane of this invention as a pixel of a color filter. The color filter of the present invention can be used for a solid-state imaging device such as a charge-coupled device (CCD) or a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) or image display device.

본 발명의 컬러 필터에 있어서 본 발명의 막의 막두께는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있다. 막두께는, 20μm 이하가 바람직하고, 10μm 이하가 보다 바람직하며, 5μm 이하가 더 바람직하다. 막두께의 하한은, 0.1μm 이상이 바람직하고, 0.2μm 이상이 보다 바람직하며, 0.3μm 이상이 더 바람직하다.In the color filter of the present invention, the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose. The film thickness is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less, and still more preferably 5 μm or less. The lower limit of the film thickness is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.2 μm or more, and still more preferably 0.3 μm or more.

컬러 필터에 포함되는 화소의 폭이 0.5~20.0μm인 것이 바람직하다. 하한은, 1.0μm 이상인 것이 바람직하고, 2.0μm 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은, 15.0μm 이하인 것이 바람직하고, 10.0μm 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 화소의 영률은 0.5~20GPa인 것이 바람직하고, 2.5~15GPa가 보다 바람직하다.It is preferable that the width of the pixel included in the color filter is 0.5 to 20.0 μm. It is preferable that it is 1.0 micrometer or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 2.0 micrometer or more. It is preferable that it is 15.0 micrometer or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 10.0 micrometer or less. Moreover, it is preferable that it is 0.5-20 GPa, and, as for the Young's modulus of a pixel, 2.5-15 GPa is more preferable.

컬러 필터에 포함되는 각 화소는 높은 평탄성을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 화소의 표면 조도 Ra는, 100nm 이하인 것이 바람직하고, 40nm 이하인 것이 보다 바람직하며, 15nm 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은 규정되지 않지만, 예를 들면 0.1nm 이상인 것이 바람직하다. 화소의 표면 조도는, 예를 들면 Veeco사제의 AFM(원자간력 현미경) Dimension3100을 이용하여 측정할 수 있다. 또, 화소 상의 물의 접촉각은 적절히 바람직한 값으로 설정할 수 있지만, 전형적으로는, 50~110°의 범위이다. 접촉각은, 예를 들면 접촉각계 CV-DT·A형(교와 가이멘 가가쿠(주)제)을 이용하여 측정할 수 있다. 또, 화소의 체적 저항값은 높은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 화소의 체적 저항값은 109Ω·cm 이상인 것이 바람직하고, 1011Ω·cm 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 규정되지 않지만, 예를 들면 1014Ω·cm 이하인 것이 바람직하다. 화소의 체적 저항값은, 예를 들면 초고저항계 5410(어드밴테스트사제)을 이용하여 측정할 수 있다.Each pixel included in the color filter preferably has high flatness. Specifically, the surface roughness Ra of the pixel is preferably 100 nm or less, more preferably 40 nm or less, still more preferably 15 nm or less. Although the lower limit is not specified, it is preferably 0.1 nm or more, for example. The surface roughness of a pixel can be measured using AFM (atomic force microscope) Dimension3100 by Veeco, for example. Moreover, although the contact angle of water on a pixel can be suitably set to a desirable value, it is typically in the range of 50 to 110 degrees. The contact angle can be measured using, for example, a contact angle meter CV-DT/A type (manufactured by Kyowa Gamemen Chemical Co., Ltd.). In addition, it is preferable that the volume resistance value of the pixel is high. Specifically, the volume resistance value of the pixel is preferably 10 9 Ω·cm or more, and more preferably 10 11 Ω·cm or more. Although the upper limit is not specified, it is preferable that it is, for example, 10 14 Ω·cm or less. The volume resistance value of the pixel can be measured using, for example, an ultra-high resistance meter 5410 (manufactured by Advantest).

컬러 필터에 있어서는, 본 발명의 막의 표면에 보호층이 마련되어 있어도 된다. 보호층을 마련함으로써, 산소 차단화, 저반사화, 친소수화, 특정 파장의 광(자외선, 근적외선 등)의 차폐 등의 다양한 기능을 부여할 수 있다. 보호층의 두께로서는, 0.01~10μm가 바람직하고, 0.1~5μm가 보다 바람직하다. 보호층의 형성 방법으로서는, 유기 용제에 용해된 수지 조성물을 도포하여 형성하는 방법, 화학 기상(氣相) 증착법, 성형한 수지를 접착재로 첩부하는 방법 등을 들 수 있다. 보호층을 구성하는 성분으로서는, (메트)아크릴 수지, 엔·싸이올 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에터 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리설폰 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리페닐렌 수지, 폴리아릴렌에터포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 환상 올레핀 수지, 폴리에스터 수지, 스타이렌 수지, 폴리올 수지, 폴리 염화 바이닐리덴 수지, 멜라민 수지, 유레테인 수지, 아라마이드 수지, 폴리아마이드 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 변성 실리콘 수지, 불소 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아크릴로나이트릴 수지, 셀룰로스 수지, Si, C, W, Al2O3, Mo, SiO2, Si2N4 등을 들 수 있으며, 이들 성분을 2종 이상 함유해도 된다. 예를 들면, 산소 차단화를 목적으로 한 보호층의 경우, 보호층은 폴리올 수지와, SiO2와, Si2N4를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 저반사화를 목적으로 한 보호층의 경우, 보호층은 (메트)아크릴 수지와 불소 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In the color filter, a protective layer may be provided on the surface of the film of the present invention. By providing a protective layer, various functions such as oxygen blocking, low reflection, hydrophilic hydration, and shielding of light (ultraviolet rays, near infrared rays, etc.) of a specific wavelength can be imparted. The thickness of the protective layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm. As a method of forming the protective layer, a method of forming by applying a resin composition dissolved in an organic solvent, a method of chemical vapor deposition, a method of attaching a molded resin with an adhesive, and the like are exemplified. As components constituting the protective layer, (meth)acrylic resin, enethiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, poly Arylene etherphosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, polyol resin, polyvinylidene chloride resin, melamine resin, urethane resin, Aramid resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, modified silicone resin, fluorine resin, polycarbonate resin, polyacrylonitrile resin, cellulose resin, Si, C, W, Al 2 O 3 , Mo, SiO 2 , Si 2 N 4 and the like, and may contain two or more of these components. For example, in the case of a protective layer for the purpose of blocking oxygen, the protective layer preferably contains a polyol resin, SiO 2 and Si 2 N 4 . In addition, in the case of a protective layer aimed at low reflection, the protective layer preferably contains a (meth)acrylic resin and a fluororesin.

수지 조성물을 도포하여 보호층을 형성하는 경우, 수지 조성물의 도포 방법으로서는, 스핀 코트법, 캐스트법, 스크린 인쇄법, 잉크젯법 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다. 수지 조성물에 포함되는 유기 용제는, 공지의 유기 용제(예를 들면, 프로필렌글라이콜1-모노메틸에터2-아세테이트, 사이클로펜탄온, 락트산 에틸 등)를 이용할 수 있다. 보호층을 화학 기상 증착법으로 형성하는 경우, 화학 기상 증착법으로서는, 공지의 화학 기상 증착법(열화학 기상 증착법, 플라즈마 화학 기상 증착법, 광화학 기상 증착법)을 이용할 수 있다.In the case of forming a protective layer by applying a resin composition, a known method such as a spin coat method, a cast method, a screen printing method, or an inkjet method can be used as a method for applying the resin composition. As the organic solvent contained in the resin composition, known organic solvents (for example, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, cyclopentanone, ethyl lactate, etc.) can be used. When the protective layer is formed by chemical vapor deposition, known chemical vapor deposition methods (thermal chemical vapor deposition, plasma chemical vapor deposition, photochemical vapor deposition) can be used as the chemical vapor deposition method.

보호층은, 필요에 따라, 유기·무기 미립자, 특정 파장의 광(예를 들면, 자외선, 근적외선 등)의 흡수제, 굴절률 조정제, 산화 방지제, 밀착제, 계면활성제 등의 첨가제를 함유해도 된다. 유기·무기 미립자의 예로서는, 예를 들면, 고분자 미립자(예를 들면, 실리콘 수지 미립자, 폴리스타이렌 미립자, 멜라민 수지 미립자), 산화 타이타늄, 산화 아연, 산화 지르코늄, 산화 인듐, 산화 알루미늄, 질화 타이타늄, 산질화 타이타늄, 불화 마그네슘, 중공 실리카, 실리카, 탄산 칼슘, 황산 바륨 등을 들 수 있다. 특정 파장의 광의 흡수제는 공지의 흡수제를 이용할 수 있다. 이들 첨가제의 함유량은 적절히 조정할 수 있지만, 보호층의 전체 질량에 대하여 0.1~70질량%가 바람직하고, 1~60질량%가 더 바람직하다.The protective layer may contain additives such as organic/inorganic fine particles, an absorber for light of a specific wavelength (eg, ultraviolet rays, near infrared rays, etc.), a refractive index modifier, an antioxidant, an adhesive agent, and a surfactant, if necessary. Examples of organic/inorganic fine particles include, for example, polymer fine particles (eg, silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, and oxynitride. Titanium, magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate, etc. are mentioned. As an absorber of light of a specific wavelength, a known absorber can be used. The content of these additives can be appropriately adjusted, but is preferably 0.1 to 70% by mass, more preferably 1 to 60% by mass, based on the total mass of the protective layer.

또, 보호층으로서는, 일본 공개특허공보 2017-151176호의 단락 번호 0073~0092에 기재된 보호층을 이용할 수도 있다.Moreover, as a protective layer, the protective layer of Paragraph No. 0073 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-151176 - 0092 can also be used.

컬러 필터는, 하지(下地)층을 갖고 있어도 된다. 하지층은, 예를 들면, 상술한 본 발명의 착색 조성물로부터 착색제를 제거한 조성물 등을 이용하여 형성할 수도 있다. 하지층의 표면 접촉각은, 다이아이오도메테인으로 측정했을 때에 20~70°인 것이 바람직하다. 또, 물로 측정했을 때에 30~80°인 것이 바람직하다. 하지층의 표면 접촉각이 상기 범위이면, 수지 조성물의 도포성이 양호하다. 하지층의 표면 접촉각의 조정은, 예를 들면, 계면활성제의 첨가 등의 방법으로 행할 수 있다.The color filter may have a base layer. The base layer can also be formed using, for example, a composition obtained by removing the coloring agent from the coloring composition of the present invention described above. The surface contact angle of the base layer is preferably 20 to 70° when measured with diiodomethane. Moreover, it is preferable that it is 30-80 degrees when measured with water. When the surface contact angle of the base layer is within the above range, the coating properties of the resin composition are good. Adjustment of the surface contact angle of the base layer can be performed, for example, by adding a surfactant or the like.

또, 컬러 필터의 녹색 화소는, C. I. Pigment Green7과 C. I. Pigment Green36과 C. I. Pigment Yellow139와 C. I. Pigment Yellow185의 조합으로 녹색이 형성되어 있어도 되고, C. I. Pigment Green58과 C. I. Pigment Yellow150과 C. I. Pigment Yellow185의 조합으로 녹색이 형성되어 있어도 된다.In addition, the green pixel of the color filter may be green with a combination of C. I. Pigment Green7, C. I. Pigment Green36, C. I. Pigment Yellow139, and C. I. Pigment Yellow185, or a combination of C. I. Pigment Green58, C. I. Pigment Yellow150, and C. I. Pigment Yellow185. may be formed.

<컬러 필터의 제조 방법><Method for producing color filter>

다음으로, 본 발명의 착색 조성물을 이용한 컬러 필터의 제조 방법에 대하여 설명한다. 컬러 필터의 제조 방법은, 상술한 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 지지체 상에 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광하는 공정과, 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하여 패턴(화소)을 형성하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 필요에 따라, 착색 조성물층을 베이크하는 공정(프리베이크 공정), 및, 현상된 패턴(화소)을 베이크하는 공정(포스트베이크 공정)을 마련해도 된다.Next, the manufacturing method of the color filter using the coloring composition of this invention is demonstrated. The manufacturing method of a color filter includes the step of forming a colored composition layer on a support using the colored composition of the present invention described above, the step of exposing the colored composition layer in a pattern, and the development and removal of the unexposed portion of the colored composition layer. It is preferable to include a process of forming a pattern (pixel) by using You may provide the process of baking the coloring composition layer (pre-baking process) and the process of baking the developed pattern (pixel) (post-bake process) as needed.

착색 조성물층을 형성하는 공정에서는, 본 발명의 착색 조성물을 이용하여, 지지체 상에 착색 조성물층을 형성한다. 지지체로서는, 특별히 한정은 없으며, 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 유리 기판, 실리콘 기판 등을 들 수 있으며, 실리콘 기판인 것이 바람직하다. 또, 실리콘 기판에는, 전하 결합 소자(CCD), 상보형 금속 산화막 반도체(CMOS), 투명 도전막 등이 형성되어 있어도 된다. 또, 실리콘 기판에는, 각 화소를 격리하는 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 경우도 있다. 또, 실리콘 기판에는, 상부의 층과의 밀착성 개량, 물질의 확산 방지 혹은 기판 표면의 평탄화를 위하여 하지층이 마련되어 있어도 된다. 하지층은, 본 명세서에 기재된 착색 조성물로부터 착색제를 제거한 조성물이나, 본 명세서에 기재된 수지, 중합성 화합물, 계면활성제 등을 포함하는 조성물 등을 이용하여 형성해도 된다.In the step of forming a colored composition layer, a colored composition layer is formed on a support using the colored composition of the present invention. As a support body, there is no limitation in particular, It can select suitably according to a use. For example, a glass substrate, a silicon substrate, etc. are mentioned, and it is preferable that it is a silicon substrate. Further, a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate. Further, in some cases, a black matrix isolating each pixel is formed on the silicon substrate. Further, the silicon substrate may be provided with a base layer for improving adhesion to the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the surface of the substrate. The base layer may be formed using a composition obtained by removing a colorant from the coloring composition described in the present specification, or a composition containing a resin, a polymerizable compound, a surfactant, or the like described in the present specification.

착색 조성물의 도포 방법으로서는, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 적하법(드롭 캐스트); 슬릿 코트법; 스프레이법; 롤 코트법; 회전 도포법(스핀 코팅); 유연(流延) 도포법; 슬릿 앤드 스핀법; 프리웨트법(예를 들면, 일본 공개특허공보 2009-145395호에 기재되어 있는 방법); 잉크젯(예를 들면 온 디맨드 방식, 피에조 방식, 서멀 방식), 노즐젯 등의 토출계 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄, 그라비어 인쇄, 반전 오프셋 인쇄, 메탈 마스크 인쇄법 등의 각종 인쇄법; 금형 등을 이용한 전사(轉寫)법; 나노 임프린트법 등을 들 수 있다. 잉크젯에서의 적용 방법으로서는, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 "확산되는·사용할 수 있는 잉크젯 -특허로 보는 무한의 가능성-, 2005년 2월 발행, 스미베 테크노 리서치"에 나타난 방법(특히 115페이지~133페이지)이나, 일본 공개특허공보 2003-262716호, 일본 공개특허공보 2003-185831호, 일본 공개특허공보 2003-261827호, 일본 공개특허공보 2012-126830호, 일본 공개특허공보 2006-169325호 등에 기재된 방법을 들 수 있다. 또, 착색 조성물의 도포 방법에 대해서는, 국제 공개공보 제2017/030174호, 국제 공개공보 제2017/018419호의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.A well-known method can be used as a coating method of a coloring composition. For example, the drop method (drop cast); slit coat method; spray method; roll coat method; spin coating (spin coating); casting method; slit and spin method; Pre-wet method (for example, the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-145395); various printing methods such as inkjet (for example, on demand method, piezo method, thermal method), discharge system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method; transfer method using a mold or the like; The nanoimprint method etc. are mentioned. The application method in inkjet is not particularly limited, and for example, the method shown in "Diffusion and Usable Inkjet -Infinite Possibilities Seen as Patents-, February 2005, Sumibe Techno Research" (particularly on page 115) to page 133), but Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-262716, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-185831, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-261827, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-126830, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-169325 The method described in the etc. is mentioned. Moreover, about the coating method of a coloring composition, international publication 2017/030174 and description of international publication 2017/018419 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

지지체 상에 형성된 착색 조성물층은, 건조(프리베이크)해도 된다. 저온 프로세스에 의하여 막을 제조하는 경우는, 프리베이크를 행하지 않아도 된다. 프리베이크를 행하는 경우, 프리베이크 온도는, 150℃ 이하가 바람직하고, 120℃ 이하가 보다 바람직하며, 110℃ 이하가 더 바람직하다. 하한은, 예를 들면, 50℃ 이상으로 할 수 있으며, 80℃ 이상으로 할 수도 있다. 프리베이크 시간은, 10~300초가 바람직하고, 40~250초가 보다 바람직하며, 80~220초가 더 바람직하다. 프리베이크는, 핫플레이트, 오븐 등으로 행할 수 있다.The coloring composition layer formed on the support may be dried (prebaked). When manufacturing a film by a low-temperature process, it is not necessary to perform prebaking. In the case of prebaking, the prebaking temperature is preferably 150°C or lower, more preferably 120°C or lower, and still more preferably 110°C or lower. The lower limit can be, for example, 50°C or higher, or 80°C or higher. The prebaking time is preferably 10 to 300 seconds, more preferably 40 to 250 seconds, and still more preferably 80 to 220 seconds. Prebaking can be performed on a hot plate, oven, or the like.

다음으로, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광한다(노광 공정). 예를 들면, 착색 조성물층에 대하여, 스테퍼 노광기나 스캐너 노광기 등을 이용하여, 소정의 마스크 패턴을 갖는 마스크를 통하여 노광함으로써, 패턴상으로 노광할 수 있다. 이로써, 노광 부분을 경화할 수 있다.Next, the coloring composition layer is exposed in a pattern (exposure step). For example, the coloring composition layer can be exposed in a pattern by exposing through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. In this way, the exposed portion can be cured.

노광 시에 이용할 수 있는 방사선(광)으로서는, g선, i선 등을 들 수 있다. 또, 파장 300nm 이하의 광(바람직하게는 파장 180~300nm의 광)을 이용할 수도 있다. 파장 300nm 이하의 광으로서는, KrF선(파장 248nm), ArF선(파장 193nm) 등을 들 수 있으며, KrF선(파장 248nm)이 바람직하다. 또, 300nm 이상의 장파인 광원도 이용할 수 있다.Examples of the radiation (light) that can be used during exposure include g-ray and i-ray. Moreover, light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of light having a wavelength of 300 nm or less include KrF rays (wavelength of 248 nm), ArF rays (wavelength of 193 nm), and the like, and KrF rays (wavelength of 248 nm) are preferable. In addition, a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.

또, 노광 시에, 광을 연속적으로 조사하여 노광해도 되고, 펄스적으로 조사하여 노광(펄스 노광)해도 된다. 또한, 펄스 노광이란, 단시간(예를 들면, 밀리초(秒) 레벨 이하)의 사이클로 광의 조사와 휴지를 반복하여 노광하는 방식의 노광 방법이다.Moreover, at the time of exposure, you may expose by irradiating light continuously, and you may expose by irradiating and exposing light pulsewise (pulse exposure). Further, pulse exposure is an exposure method of a system in which light irradiation and pause are repeatedly exposed in cycles of a short time (eg, millisecond level or less).

조사량(노광량)은, 예를 들면, 0.03~2.5J/cm2가 바람직하고, 0.05~1.0J/cm2가 보다 바람직하다. 노광 시에 있어서의 산소 농도에 대해서는 적절히 선택할 수 있고, 대기하에서 행하는 것 외에, 예를 들면 산소 농도가 19체적% 이하인 저산소 분위기하(예를 들면, 15체적%, 5체적%, 또는, 실질적으로 무산소)에서 노광해도 되며, 산소 농도가 21체적%를 초과하는 고산소 분위기하(예를 들면, 22체적%, 30체적%, 또는, 50체적%)에서 노광해도 된다. 또, 노광 조도는 적절히 설정하는 것이 가능하고, 통상 1000W/m2~100000W/m2(예를 들면, 5000W/m2, 15000W/m2, 또는, 35000W/m2)의 범위로부터 선택할 수 있다. 산소 농도와 노광 조도는 적절히 조건을 조합해도 되고, 예를 들면, 산소 농도 10체적%이며 조도 10000W/m2, 산소 농도 35체적%이고 조도 20000W/m2 등으로 할 수 있다.The irradiation amount (exposure amount) is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , and more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 . The oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and besides performing under atmospheric conditions, for example, in a low-oxygen atmosphere in which the oxygen concentration is 19% by volume or less (eg, 15% by volume, 5% by volume, or substantially You may expose in oxygen-free), or you may expose in a high-oxygen atmosphere in which an oxygen concentration exceeds 21 volume% (for example, 22 volume%, 30 volume%, or 50 volume%). In addition, the exposure illuminance can be set appropriately, and can be selected from the range of usually 1000 W/m 2 to 100000 W/m 2 (for example, 5000 W/m 2 , 15000 W/m 2 , or 35000 W/m 2 ). . Oxygen concentration and exposure illuminance may suitably combine conditions, and, for example, an oxygen concentration of 10 vol% and an illuminance of 10000 W/m 2 , an oxygen concentration of 35 vol% and an illuminance of 20000 W/m 2 , and the like.

다음으로, 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하여 패턴(화소)을 형성한다. 착색 조성물층의 미노광부의 현상 제거는, 현상액을 이용하여 행할 수 있다. 이로써, 노광 공정에 있어서의 미노광부의 착색 조성물층이 현상액에 용출되어, 광경화된 부분만이 남는다. 현상액으로서는, 하지의 소자나 회로 등에 대미지를 일으키지 않는 유기 알칼리 현상액이 바람직하다. 현상액의 온도는, 예를 들면, 20~30℃가 바람직하다. 현상 시간은, 20~180초가 바람직하다. 또, 잔사 제거성을 향상시키기 위하여, 현상액을 60초마다 털어내고, 새롭게 현상액을 공급하는 공정을 수 회 더 반복해도 된다.Next, the unexposed portion of the coloring composition layer is removed from development to form a pattern (pixel). The development and removal of the unexposed part of the coloring composition layer can be performed using a developing solution. Thereby, the coloring composition layer of the unexposed part in an exposure process is eluted to a developing solution, and only a photocured part remains. As the developing solution, an organic alkali developing solution that does not cause damage to underlying elements, circuits, etc. is preferable. As for the temperature of a developing solution, 20-30 degreeC is preferable, for example. As for developing time, 20 to 180 second is preferable. Further, in order to improve residue removability, the process of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several more times.

현상액은, 유기 용제, 알칼리 현상액 등을 들 수 있으며, 알칼리 현상액이 바람직하게 이용된다. 알칼리 현상액으로서는, 알칼리제를 순수로 희석한 알칼리성 수용액(알칼리 현상액)이 바람직하다. 알칼리제로서는, 예를 들면, 암모니아, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 다이글라이콜아민, 다이에탄올아민, 하이드록시아민, 에틸렌다이아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라뷰틸암모늄하이드록사이드, 에틸트라이메틸암모늄하이드록사이드, 벤질트라이메틸암모늄하이드록사이드, 다이메틸비스(2-하이드록시에틸)암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로[5.4.0]-7-운데센 등의 유기 알칼리성 화합물이나, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 수소 나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨 등의 무기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 알칼리제는, 분자량이 큰 화합물인 편이 환경면 및 안전면에서 바람직하다. 알칼리성 수용액의 알칼리제의 농도는, 0.001~10질량%가 바람직하고, 0.01~1질량%가 보다 바람직하다. 또, 현상액은, 계면활성제를 더 함유하고 있어도 된다. 계면활성제로서는, 상술한 계면활성제를 들 수 있으며, 비이온계 계면활성제가 바람직하다. 현상액은, 이송이나 보관의 편의 등의 관점에서, 일단 농축액으로서 제조하고, 사용 시에 필요한 농도로 희석해도 된다. 희석 배율은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 1.5~100배의 범위로 설정할 수 있다. 또, 현상 후 순수로 세정(린스)하는 것도 바람직하다. 또, 린스는, 현상 후의 착색 조성물층이 형성된 지지체를 회전시키면서, 현상 후의 착색 조성물층으로 린스액을 공급하여 행하는 것이 바람직하다. 또, 린스액을 토출시키는 노즐을 지지체의 중심부로부터 지지체의 둘레 가장자리부로 이동시켜 행하는 것도 바람직하다. 이때, 노즐의 지지체 중심부로부터 둘레 가장자리부로 이동시킴에 있어서, 노즐의 이동 속도를 서서히 저하시키면서 이동시켜도 된다. 이와 같이 하여 린스를 행함으로써, 린스의 면내 불균일을 억제할 수 있다. 또, 노즐을 지지체 중심부로부터 둘레 가장자리부로 이동시키면서, 지지체의 회전 속도를 서서히 저하시켜도 동일한 효과가 얻어진다.Examples of the developing solution include organic solvents and alkaline developing solutions, and alkaline developing solutions are preferably used. As the alkali developing solution, an alkaline aqueous solution (alkali developing solution) obtained by diluting an alkali agent with pure water is preferable. As an alkali agent, for example, ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide oxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide, choline, Organic alkaline compounds such as pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, etc. of inorganic alkaline compounds. The alkaline agent is preferably a compound having a large molecular weight from the viewpoint of environment and safety. 0.001-10 mass % is preferable, and, as for the density|concentration of the alkali agent of alkaline aqueous solution, 0.01-1 mass % is more preferable. Moreover, the developing solution may further contain a surfactant. As surfactant, the above-mentioned surfactant is mentioned, and a nonionic surfactant is preferable. The developing solution may be once prepared as a concentrated solution and diluted to a concentration necessary for use from the viewpoint of transportation or storage convenience. Although the dilution factor is not particularly limited, it can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times. Moreover, it is also preferable to wash (rinse) with pure water after image development. Further, the rinse is preferably performed by supplying a rinse liquid to the colored composition layer after development while rotating the support on which the colored composition layer after development is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinse liquid from the center of the support to the periphery of the support. At this time, when the nozzle is moved from the central portion of the support body to the peripheral edge portion, the nozzle may be moved while gradually lowering the moving speed. By rinsing in this way, in-plane unevenness of the rinsing can be suppressed. Also, the same effect can be obtained by gradually lowering the rotational speed of the support while moving the nozzle from the center of the support to the periphery.

현상 후, 건조를 실시한 후에 추가 노광 처리나 가열 처리(포스트베이크)를 행하는 것이 바람직하다. 추가 노광 처리나 포스트베이크는, 경화를 완전한 것으로 하기 위한 현상 후의 경화 처리이다. 포스트베이크에 있어서의 가열 온도는, 예를 들면 100~240℃가 바람직하고, 200~240℃가 보다 바람직하다. 포스트베이크는, 현상 후의 막을, 상기 조건이 되도록 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍 순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여, 연속식 혹은 배치(batch)식으로 행할 수 있다. 추가 노광 처리를 행하는 경우, 노광에 이용되는 광은, 파장 400nm 이하의 광인 것이 바람직하다. 또, 추가 노광 처리는, 한국 공개특허공보 제10-2017-0122130호에 기재된 방법으로 행해도 된다.It is preferable to perform additional exposure treatment or heat treatment (post-bake) after drying after development. Additional exposure treatment and post-baking are curing treatments after development to complete curing. The heating temperature in post-baking is preferably 100 to 240°C, for example, and more preferably 200 to 240°C. Post-baking can be performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulating dryer), or a high-frequency heater so that the developed film meets the above conditions. When performing additional exposure processing, it is preferable that the light used for exposure is light with a wavelength of 400 nm or less. Moreover, you may perform additional exposure processing by the method described in Korean Unexamined Patent Publication No. 10-2017-0122130.

<고체 촬상 소자><Solid-state imaging device>

본 발명의 고체 촬상 소자는, 상술한 본 발명의 막을 갖는다. 본 발명의 고체 촬상 소자의 구성으로서는, 본 발명의 막을 구비하고, 고체 촬상 소자로서 기능하는 구성이면 특별히 한정은 없지만, 예를 들면, 이하와 같은 구성을 들 수 있다.The solid-state imaging device of the present invention has the film of the present invention described above. The configuration of the solid-state imaging device of the present invention is not particularly limited as long as it includes the film of the present invention and functions as a solid-state imaging device, but examples include the following configurations.

기판 상에, 고체 촬상 소자(CCD(전하 결합 소자) 이미지 센서, CMOS(상보형 금속 산화막 반도체) 이미지 센서 등)의 수광 에어리어를 구성하는 복수의 포토다이오드 및 폴리실리콘 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 포토다이오드 및 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구된 차광막을 가지며, 차광막 상에 차광막 전체면 및 포토다이오드 수광부를 덮도록 형성된 질화 실리콘 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 디바이스 보호막 상에, 컬러 필터를 갖는 구성이다. 또한, 디바이스 보호막 위이며 컬러 필터 아래(기판에 가까운 측)에 집광 수단(예를 들면, 마이크로 렌즈 등. 이하 동일)을 갖는 구성이나, 컬러 필터 상에 집광 수단을 갖는 구성 등이어도 된다. 또, 컬러 필터는, 격벽에 의하여 예를 들면 격자상으로 구획된 공간에, 각 착색 화소가 매립된 구조를 갖고 있어도 된다. 이 경우의 격벽은 각 착색 화소보다 저굴절률인 것이 바람직하다. 이와 같은 구조를 갖는 촬상 장치의 예로서는, 일본 공개특허공보 2012-227478호, 일본 공개특허공보 2014-179577호, 국제 공개공보 제2018/043654호, 미국 특허출원 공개공보 2018/0040656호에 기재된 장치를 들 수 있다. 본 발명의 고체 촬상 소자를 구비한 촬상 장치는, 디지털 카메라나, 촬상 기능을 갖는 전자 기기(휴대 전화 등) 외에, 차재 카메라나 감시 카메라용으로서도 이용할 수 있다.On a substrate, a plurality of photodiodes constituting a light-receiving area of a solid-state imaging device (CCD (charge-coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.) and a transfer electrode made of polysilicon, etc., On the photodiode and the transfer electrode, there is a light blocking film in which only the light receiving portion of the photodiode is opened, and a device protective film made of silicon nitride or the like formed to cover the entire surface of the light blocking film and the light receiving portion of the photodiode is formed on the light blocking film, and a color filter is provided on the device protective film. It is a composition with Further, a configuration having a concentrating means (eg, a micro lens, the same applies below) above the device protective film and below the color filter (on the side close to the substrate) may be employed, or a configuration having condensing means on the color filter may be used. Further, the color filter may have a structure in which each color pixel is embedded in a space partitioned in a lattice shape, for example, by barrier ribs. It is preferable that the partition in this case has a lower refractive index than each color pixel. As an example of an imaging device having such a structure, devices described in Japanese Laid-open Patent Publication No. 2012-227478, Japanese Laid-open Patent Publication No. 2014-179577, International Publication No. 2018/043654, and United States Patent Application Publication No. 2018/0040656 are can be heard The imaging device provided with the solid-state imaging element of the present invention can be used not only for digital cameras and electronic devices (such as mobile phones) having an imaging function, but also for in-vehicle cameras and surveillance cameras.

<화상 표시 장치><Image Display Device>

본 발명의 화상 표시 장치는, 상술한 본 발명의 막을 갖는다. 화상 표시 장치로서는, 액정 표시 장치나 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 등을 들 수 있다. 화상 표시 장치의 정의나 각 화상 표시 장치의 상세에 대해서는, 예를 들면 "전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, (주)고교 초사카이, 1990년 발행)", "디스플레이 디바이스(이부키 스미아키 저, 산교 도쇼(주) 헤이세이 원년 발행)" 등에 기재되어 있다. 또, 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 다쓰오 편집, (주)고교 초사카이, 1994년 발행)"에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정 표시 장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상기의 "차세대 액정 디스플레이 기술"에 기재되어 있는 다양한 방식의 액정 표시 장치에 적용할 수 있다.The image display device of the present invention has the film of the present invention described above. As an image display device, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, etc. are mentioned. For the definition of an image display device and details of each image display device, for example, "Electronic display device (authored by Akio Sasaki, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1990)", "Display device (authored by Sumiaki Ibuki, Sangyo Co., Ltd.)" Tosho Co., Ltd. Published in the first year of Heisei)", etc. Further, liquid crystal display devices are described, for example, in "Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Chosakai Co., Ltd., 1994)". The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and for example, it can be applied to liquid crystal display devices of various types described in the above "next-generation liquid crystal display technology".

실시예Example

이하에 실시예를 들어 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 수순 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한, 적절히, 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것은 아니다.The present invention will be described in more detail by way of examples below. The materials, usage amount, ratio, processing content, processing procedure, etc. shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

<안료 분산액의 조제><Preparation of Pigment Dispersion>

하기의 표에 기재된 원료를 혼합한 후, 직경 0.3mm의 지르코니아 비즈 230질량부를 더하고, 페인트 셰이커를 이용하여 5시간 분산 처리를 행하며, 비즈를 여과로 분리하여 분산액을 제조했다. 또한, 분산제의 질량부의 수치는 고형분의 값이다.After mixing the raw materials listed in the table below, 230 parts by mass of zirconia beads having a diameter of 0.3 mm were added, dispersed for 5 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare a dispersion. In addition, the numerical value of the mass part of a dispersing agent is a value of solid content.

[표 1][Table 1]

Figure pct00038
Figure pct00038

상기 표 중의 약어로 나타내는 소재의 상세는 하기와 같다.The details of the material indicated by the abbreviation in the table above are as follows.

(안료)(Pigment)

Pg-1: C. I. Pigment Blue15:6Pg-1: C. I. Pigment Blue 15:6

Pg-4: C. I. Pigment Red254Pg-4: C. I. Pigment Red254

Pg-5: C. I. Pigment Violet23Pg-5: C. I. Pigment Violet23

(분산제)(dispersant)

D-1: DISPERBYK-161(BYKChemie사제)D-1: DISPERBYK-161 (manufactured by BYK Chemie)

D-2: 하기 구조의 수지(주쇄에 부기한 수치는 반복 단위의 몰비이다. 중량 평균 분자량 11000, 산기를 갖는 수지)D-2: Resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio of the repeating unit. A weight average molecular weight of 11000, a resin having an acid group)

[화학식 38][Formula 38]

Figure pct00039
Figure pct00039

(용제)(solvent)

S-1: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)S-1: propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

<착색 조성물의 조제><Preparation of coloring composition>

하기 표에 기재된 원료와, 중합 금지제(p-메톡시페놀)의 0.0007질량부와, 불소계 계면활성제(DIC(주)제, 메가팍 F475, 1% PGMEA 용액)의 2.50질량부를 혼합하여 착색 조성물을 얻었다. 표 중의 착색제 농도는, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 착색제의 함유량의 값이며, 염료 함유량은, 착색제 중의 염료의 함유량의 값이다. 또, 수지의 배합량의 수치는, 고형분 환산에서의 값이다.Coloring composition by mixing the raw materials shown in the table below, 0.0007 parts by mass of a polymerization inhibitor (p-methoxyphenol), and 2.50 parts by mass of a fluorine-based surfactant (manufactured by DIC Co., Ltd., Megafac F475, 1% PGMEA solution) got The colorant concentration in the table is the value of the content of the colorant in the total solids of the coloring composition, and the dye content is the value of the content of the dye in the colorant. Moreover, the numerical value of the compounding quantity of resin is a value in conversion of solid content.

[표 2][Table 2]

Figure pct00040
Figure pct00040

[표 3][Table 3]

Figure pct00041
Figure pct00041

[표 4][Table 4]

Figure pct00042
Figure pct00042

[표 5][Table 5]

Figure pct00043
Figure pct00043

[표 6][Table 6]

Figure pct00044
Figure pct00044

[표 7][Table 7]

Figure pct00045
Figure pct00045

[표 8][Table 8]

Figure pct00046
Figure pct00046

[표 9][Table 9]

Figure pct00047
Figure pct00047

[표 10][Table 10]

Figure pct00048
Figure pct00048

[표 11][Table 11]

Figure pct00049
Figure pct00049

상기 표 중의 약어로 나타내는 소재의 상세는 하기와 같다.The details of the material indicated by the abbreviation in the table above are as follows.

(염료 용액)(dye solution)

A-1: 하기 구조의 염료(잔텐 색소 구조를 갖는 염료, 중량 평균 분자량 7000)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%). 이하의 구조식 중, n은 3이며, m은 3이다.A-1: A cyclohexanone solution (12.3% by mass of solid content) of a dye having the following structure (a dye having a xanthene dye structure, a weight average molecular weight of 7000). In the structural formulas below, n is 3 and m is 3.

[화학식 39][Formula 39]

Figure pct00050
Figure pct00050

A-2: 하기 구조의 염료(잔텐 색소 구조를 갖는 염료, 분자량 704.24)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%)A-2: Cyclohexanone solution (12.3% by mass of solid content) of a dye having the following structure (a dye having a xanthene dye structure, molecular weight: 704.24)

[화학식 40][Formula 40]

Figure pct00051
Figure pct00051

A-3: 하기 구조의 염료(잔텐 색소 구조를 갖는 염료, 중량 평균 분자량 10000)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%)A-3: Cyclohexanone solution (12.3% by mass of solid content) of a dye having the following structure (a dye having a xanthene dye structure, a weight average molecular weight of 10000)

[화학식 41][Formula 41]

Figure pct00052
Figure pct00052

A-4: 하기 구조의 염료(잔텐 색소 구조를 갖는 염료, 중량 평균 분자량 1115.28)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%)A-4: Cyclohexanone solution (12.3% by mass of solid content) of a dye having the following structure (a dye having a xanthene dye structure, a weight average molecular weight of 1115.28)

[화학식 42][Formula 42]

Figure pct00053
Figure pct00053

A-5: 하기 구조의 염료(트라이아릴메테인 색소 구조를 갖는 염료, 중량 평균 분자량 1165.32)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%)A-5: Cyclohexanone solution (12.3% by mass of solid content) of a dye having the following structure (a dye having a triarylmethane dye structure, a weight average molecular weight of 1165.32)

[화학식 43][Formula 43]

Figure pct00054
Figure pct00054

A-6: 하기 구조의 염료(사이아닌 색소 구조를 갖는 염료, 중량 평균 분자량 774.97)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%)A-6: cyclohexanone solution (12.3% by mass of solid content) of a dye having the following structure (a dye having a cyanine dye structure, a weight average molecular weight of 774.97)

[화학식 44][Formula 44]

Figure pct00055
Figure pct00055

A-7: 하기 구조의 염료(스쿠아릴륨 색소 구조를 갖는 염료, 중량 평균 분자량 410.52)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%)A-7: Cyclohexanone solution (12.3% by mass of solid content) of a dye having the following structure (a dye having a squarylium dye structure, a weight average molecular weight of 410.52)

[화학식 45][Formula 45]

Figure pct00056
Figure pct00056

A-8: C. I. 애시드 레드 289(분자량=676.73, 잔텐 색소 구조를 갖는 염료)의 사이클로헥산온 용액(고형분 12.3질량%)A-8: C. I. Cyclohexanone solution of Acid Red 289 (molecular weight = 676.73, a dye having a xanthene dye structure) (solid content: 12.3% by mass)

(분산액)(dispersion)

분산액 1~5: 상술한 분산액 1~5Dispersion 1-5: above-mentioned dispersion 1-5

(수지)(profit)

P-1: 하기 구조의 수지의 30질량% 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA) 용액(주쇄에 부기한 수치는 반복 단위의 몰비이다. 중량 평균 분자량 11000, 산기를 포함하는 수지)P-1: 30% by mass propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) solution of resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio of repeating units. Weight average molecular weight 11000, resin containing an acid group)

[화학식 46][Formula 46]

Figure pct00057
Figure pct00057

P-2: 하기 구조의 수지의 40질량% PGMEA 용액(주쇄에 부기한 수치는 반복 단위의 몰비이다. 중량 평균 분자량 11000, 산기를 포함하는 수지)P-2: 40% by mass PGMEA solution of resin having the following structure (the numerical value given to the main chain is the molar ratio of the repeating unit. Weight average molecular weight 11000, resin containing an acid group)

[화학식 47][Formula 47]

Figure pct00058
Figure pct00058

P-3: 하기 구조의 수지의 30질량% PGMEA 용액(주쇄에 부기한 수치는 반복 단위의 몰비이며, 측쇄에 부기한 수치는 반복 단위의 수이다. 중량 평균 분자량 11000, 산기를 포함하는 수지)P-3: 30% by mass PGMEA solution of resin having the following structure (The numerical value given to the main chain is the molar ratio of repeating units, and the numerical value added to the side chain is the number of repeating units. Weight average molecular weight: 11000, resin containing an acid group)

[화학식 48][Formula 48]

Figure pct00059
Figure pct00059

P-4: 하기 구조의 수지의 40질량% PGMEA 용액(주쇄에 부기한 수치는 반복 단위의 몰비이다. 중량 평균 분자량 11000, 산기를 포함하는 수지)P-4: 40% by mass PGMEA solution of resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio of the repeating unit. Weight average molecular weight 11000, resin containing an acid group)

[화학식 49][Formula 49]

Figure pct00060
Figure pct00060

H-1: 이하의 방법으로 합성한 수지 H-1의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).H-1: Resin solution (solid content concentration of 20% by mass) of Resin H-1 synthesized by the following method.

메틸메타크릴레이트 50질량부, n-뷰틸메타크릴레이트 50질량부, PGMEA(프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트) 45.4질량부를 반응 용기에 투입하고, 분위기 가스를 질소 가스로 치환했다. 반응 용기 내를 70℃로 가열하고, 3-머캅토-1,2-프로페인다이올 6질량부를 첨가하며, 추가로 AIBN(아조비스아이소뷰티로나이트릴) 0.12질량부를 더하여, 12시간 반응시켰다. 고형분 측정에 의하여 95%가 반응한 것을 확인했다. 다음으로, 파이로멜리트산 무수물 9.7질량부, PGMEA 70.3질량부, 촉매로서 DBU(1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센) 0.20질량부를 추가하여, 120℃에서 7시간 반응시켰다. 산가의 측정으로 98% 이상의 산무수물이 하프 에스터화되어 있는 것을 확인하고 반응을 종료시켰다. PGMEA를 더하여 불휘발분(고형분 농도)을 20질량%로 조정하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 H-1의 수지 용액을 얻었다.50 parts by mass of methyl methacrylate, 50 parts by mass of n-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) were introduced into the reaction vessel, and the atmospheric gas was substituted with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel was heated at 70°C, 6 parts by mass of 3-mercapto-1,2-propanediol was added, and 0.12 parts by mass of AIBN (azobisisobutyronitrile) was further added and reacted for 12 hours. . It was confirmed that 95% reacted by solid content measurement. Next, 9.7 parts by mass of pyromellitic anhydride, 70.3 parts by mass of PGMEA, and 0.20 part by mass of DBU (1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene) as a catalyst are added, and the temperature is 7 at 120°C. time reacted. By measuring the acid value, it was confirmed that 98% or more of the acid anhydride was half-esterified, and the reaction was terminated. PGMEA was added, the non-volatile content (solid content concentration) was adjusted to 20% by mass, and a resin solution of Resin H-1 having the following structure having an acid value of 43 mgKOH/g and a weight average molecular weight (Mw) of 9000 was obtained.

[화학식 50][Formula 50]

Figure pct00061
Figure pct00061

H-2: 이하의 방법으로 합성한 수지 H-2의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).H-2: Resin solution (solid content concentration of 20% by mass) of Resin H-2 synthesized by the following method.

메틸메타크릴레이트 50질량부, n-뷰틸메타크릴레이트 30질량부, t-뷰틸메타크릴레이트 20질량부, PGMEA 45.4질량부를 반응 용기에 투입하고, 분위기 가스를 질소 가스로 치환했다. 반응 용기 내를 70℃로 가열하고, 3-머캅토-1,2-프로페인다이올 6질량부를 첨가하며, 추가로 AIBN(아조비스아이소뷰티로나이트릴) 0.12질량부를 더하여, 12시간 반응시켰다. 고형분 측정에 의하여 95%가 반응한 것을 확인했다. 다음으로, 파이로멜리트산 무수물 9.7질량부, PGMEA 70.3질량부, 촉매로서 DBU(1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센) 0.20질량부를 추가하여, 120℃에서 7시간 반응시켰다. 산가의 측정으로 98% 이상의 산무수물이 하프 에스터화되어 있는 것을 확인하고 반응을 종료시켰다. PGMEA를 더하여 불휘발분(고형분 농도)을 20질량%로 조정하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 H-2의 수지 용액을 얻었다.50 parts by mass of methyl methacrylate, 30 parts by mass of n-butyl methacrylate, 20 parts by mass of t-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA were charged into the reaction vessel, and the atmospheric gas was substituted with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel was heated at 70°C, 6 parts by mass of 3-mercapto-1,2-propanediol was added, and 0.12 parts by mass of AIBN (azobisisobutyronitrile) was further added, followed by reaction for 12 hours. . It was confirmed that 95% reacted by solid content measurement. Next, 9.7 parts by mass of pyromellitic anhydride, 70.3 parts by mass of PGMEA, and 0.20 part by mass of DBU (1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene) as a catalyst are added, and the temperature is 7 at 120°C. time reacted. By measuring the acid value, it was confirmed that 98% or more of the acid anhydride was half-esterified, and the reaction was terminated. PGMEA was added, the non-volatile content (solid content concentration) was adjusted to 20% by mass, and a resin solution of Resin H-2 having the following structure having an acid value of 43 mgKOH/g and a weight average molecular weight (Mw) of 9000 was obtained.

[화학식 51][Formula 51]

Figure pct00062
Figure pct00062

H-3: 이하의 방법으로 합성한 수지 H-3의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).H-3: Resin solution (solid content concentration of 20% by mass) of Resin H-3 synthesized by the following method.

수지 H-2의 합성에 있어서, t-뷰틸메타크릴레이트 20질량부를, (3-에틸옥세탄-3-일)메틸메타크릴레이트 20질량부로 변경한 것 이외에는 동일하게 하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 H-3의 수지 용액을 얻었다.In the synthesis of Resin H-2, 20 parts by mass of t-butyl methacrylate was changed to 20 parts by mass of (3-ethyloxetan-3-yl)methyl methacrylate, and the acid value was 43 mgKOH/g, A resin solution of Resin H-3 having a weight average molecular weight (Mw) of 9000 and having the following structure was obtained.

[화학식 52][Formula 52]

Figure pct00063
Figure pct00063

H-4: 이하의 방법으로 합성한 수지 H-4의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).H-4: Resin solution (solid content concentration of 20% by mass) of Resin H-4 synthesized by the following method.

수지 H-2의 합성에 있어서, t-뷰틸메타크릴레이트 20질량부를, 쇼와 덴코제 "카렌즈 MOI-BM" 20질량부로 변경한 것 이외에는 동일하게 하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 H-4의 수지 용액을 얻었다.In the synthesis of Resin H-2, 20 parts by mass of t-butyl methacrylate was changed to 20 parts by mass of "Karenz MOI-BM" manufactured by Showa Denko in the same manner, acid value 43 mgKOH/g, weight average molecular weight ( A resin solution of Resin H-4 having the following structure of Mw) 9000 was obtained.

[화학식 53][Formula 53]

Figure pct00064
Figure pct00064

(중합성 화합물)(polymerizable compound)

M-1: 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, NK 에스터 A-DPH-12E(신나카무라 가가쿠 고교(주)제, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물)M-1: dipentaerythritol hexaacrylate, NK ester A-DPH-12E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group)

M-2: 하기 구조의 화합물(에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물)M-2: A compound having the following structure (a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group)

[화학식 54][Formula 54]

Figure pct00065
Figure pct00065

(광중합 개시제)(photopolymerization initiator)

I-2: Irgacure OXE02(BASF사제)I-2: Irgacure OXE02 (manufactured by BASF)

I-3~I-5: 하기 구조의 화합물I-3 to I-5: Compounds with the following structures

[화학식 55][Formula 55]

Figure pct00066
Figure pct00066

(에폭시 화합물)(epoxy compound)

Ep-1: 하기 구조의 화합물(분자량 452)Ep-1: compound of the following structure (molecular weight 452)

Ep-2: 하기 구조의 화합물(중량 평균 분자량 3000, 이하의 구조식 중, Ph는 페닐기이다)Ep-2: Compound having the following structure (weight average molecular weight: 3000, in the following structural formulas, Ph is a phenyl group)

Ep-3: 하기 구조의 화합물(분자량 507)Ep-3: compound of the following structure (molecular weight 507)

Ep-4: 하기 구조의 화합물(분자량 381)Ep-4: compound of the following structure (molecular weight 381)

[화학식 56][Formula 56]

Figure pct00067
Figure pct00067

Ep-c1: EHPE3150((주)다이셀제, 하기 구조의 화합물)Ep-c1: EHPE3150 (manufactured by Daicel Co., Ltd., a compound having the following structure)

Ep-c2: 하기 구조의 화합물Ep-c2: a compound of the following structure

Ep-c3: 하기 구조의 화합물Ep-c3: a compound of the following structure

Ep-c4: 하기 구조의 화합물Ep-c4: a compound of the following structure

[화학식 57][Formula 57]

Figure pct00068
Figure pct00068

(이온성 화합물)(ionic compound)

B-1: 칼륨비스(트라이플루오로메테인설폰일)이미드B-1: Potassium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide

B-2: 리튬비스(트라이플루오로에테인설폰일)이미드B-2: lithium bis(trifluoroethanesulfonyl)imide

B-3: 칼륨 N,N-비스(노나플루오로뷰테인설폰일)이미드B-3: Potassium N,N-bis(nonafluorobutanesulfonyl)imide

B-4: 칼륨 N,N-헥사플루오로프로페인-1,3-다이설폰일이미드B-4: Potassium N,N-hexafluoropropane-1,3-disulfonymide

B-5: 1-뷰틸피리디늄비스(트라이플루오로메테인설폰일)이미드B-5: 1-butylpyridinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide

B-6: 헥사플루오로 인산 리튬B-6: lithium hexafluorophosphate

B-7: 테트라플루오로 붕산 리튬B-7: lithium tetrafluoroborate

B-8: 리튬비스(트라이플루오로메테인설폰일)이미드B-8: lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide

또한, 각 이온성 화합물을 물에 용해시켜 측정용의 용액을 조제하고, 이들 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정한 결과, 파장 400~700nm의 범위에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 상기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도는, 모두 5 이하였다.In addition, each ionic compound was dissolved in water to prepare a solution for measurement, and the absorbance of these solutions at 25 ° C. was measured using a cell with an optical path length of 1 cm. All of the specific absorbances represented by the formula (A λ ) at the absorption wavelength were 5 or less.

(용제)(solvent)

S-1: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)S-1: propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

S-2: 사이클로헥산온S-2: cyclohexanone

(계면활성제)(Surfactants)

W-1: 하기 구조의 화합물(중량 평균 분자량 14000, 반복 단위의 비율을 나타내는 %의 수치는 몰%이다)의 1질량% 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA) 용액.W-1: A 1% by mass propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) solution of a compound having the following structure (weight average molecular weight: 14000, % numerical value representing the ratio of repeating units is mol%).

[화학식 58][Formula 58]

Figure pct00069
Figure pct00069

W-2: 프터젠트 710FM((주)NEOS제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-2: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Progent 710FM (manufactured by NEOS Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-3: 프터젠트 610FM((주)NEOS제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-3: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Progent 610FM (manufactured by NEOS Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-4: 프터젠트 601AD((주)NEOS제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-4: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Phtergent 601AD (manufactured by NEOS Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-5: 프터젠트 601ADH2((주)NEOS제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-5: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Progent 601ADH2 (manufactured by NEOS Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-6: 프터젠트 602A((주)NEOS제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-6: A solution in which the solid content concentration of Phtergent 602A (manufactured by NEOS Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-7: 프터젠트 215M((주)NEOS제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-7: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Phtergent 215M (manufactured by NEOS Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-8: 프터젠트 245F((주)NEOS제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-8: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Phtergent 245F (manufactured by NEOS Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-9: 메가팍 F-556(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-9: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-556 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-10: 메가팍 F-557(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-10: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-557 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-11: 메가팍 F-563(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-11: A solution in which the solid content concentration of Megafac F-563 (manufactured by DIC Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-12: 메가팍 F-560(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-12: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-560 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-13: 메가팍 F-575(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-13: A solution in which the solid content concentration of Megafac F-575 (manufactured by DIC Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-14: 메가팍 R-41(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-14: A solution in which the solid content concentration of Megafac R-41 (manufactured by DIC Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-15: 메가팍 R-41-LM(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-15: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac R-41-LM (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-16: 메가팍 R-01(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-16: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac R-01 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-17: 메가팍 R-40(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-17: A solution in which the solid content concentration of Megafac R-40 (manufactured by DIC Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-18: 메가팍 R-40-LM(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-18: A solution in which the solid content concentration of Megafac R-40-LM (manufactured by DIC Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-19: 메가팍 RS-43(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-19: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac RS-43 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-20: 메가팍 TF-1956(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-20: A solution in which the solid content concentration of Megafac TF-1956 (manufactured by DIC Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-21: 메가팍 R-94(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-21: A solution in which the solid content concentration of Megafac R-94 (manufactured by DIC Co., Ltd.) was adjusted to 1% by mass with PGMEA

W-22: 메가팍 F-558(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-22: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-558 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-23: 메가팍 F-561(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-23: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-561 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-24: 메가팍 F-477(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-24: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-477 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-25: 메가팍 F-554(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-25: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-554 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-27: 메가팍 F-565(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-27: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-565 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-28: 메가팍 F-568(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-28: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-568 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-29: 메가팍 F-559(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-29: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-559 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-30: 메가팍 F-555-A(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-30: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac F-555-A (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-31: 메가팍 RS-90(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-31: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac RS-90 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-32: 메가팍 RS-72-K(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-32: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac RS-72-K (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

W-33: 메가팍 DS-21(DIC(주)제)의 고형분 농도를 PGMEA로 1질량%로 조정한 용액W-33: A solution obtained by adjusting the solid content concentration of Megafac DS-21 (manufactured by DIC Co., Ltd.) to 1% by mass with PGMEA

<현상 잔사, 손상, 패턴 직선성의 평가><Evaluation of developed residue, damage, and pattern linearity>

8인치(20.32cm) 실리콘 웨이퍼에, 언더코팅층 형성용 조성물(CT-4000L, 후지필름 일렉트로닉스 머티리얼즈(주)제)을 포스트베이크 후에 두께가 0.1μm가 되도록 스핀 코터를 이용하여 도포하고, 핫플레이트를 이용하여 220℃에서 300초간 가열하여 언더코팅층을 형성하여, 언더코팅층이 있는 실리콘 웨이퍼(지지체)를 얻었다. 이어서, 각 착색 조성물을 포스트베이크 후의 막두께가 0.6μm가 되도록 스핀 코트법으로 도포했다. 이어서, 핫플레이트를 이용하여, 100℃에서 2분간 가열했다. 이어서, i선 스테퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(캐논(주)제)를 이용하여, 365nm의 파장의 광을 1000mJ/cm2의 노광량으로 한 변이 1.0μm인 사각형의 도트 패턴의 마스크를 통하여 노광했다. 이어서, 노광된 도포막이 형성되어 있는 실리콘 웨이퍼를, 스핀·샤워 현상기(DW-30형, (주)케미트로닉스제)의 수평 회전 테이블 위에 재치하고, 현상액으로서 CD-2000(후지필름 일렉트로닉스 머티리얼즈(주)제)의 60% 희석액을 이용하여 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행하여, 실리콘 웨이퍼 상에 착색 패턴을 형성했다. 착색 패턴이 형성된 실리콘 웨이퍼를 진공 척 방식으로 수평 회전 테이블에 고정하고, 회전 장치에 의하여 실리콘 웨이퍼를 회전수 50rpm으로 회전시키면서, 그 회전 중심의 상방으로부터 순수를 분출 노즐로부터 샤워상으로 공급하여 린스 처리를 행하며, 그 후 스프레이 건조했다. 또한, 200℃의 핫플레이트를 이용하여 300초간 가열 처리(포스트베이크)를 행하여 착색 패턴(착색 화소)을 형성했다.On an 8-inch (20.32 cm) silicon wafer, a composition for forming an undercoat layer (CT-4000L, manufactured by Fujifilm Electronic Materials Co., Ltd.) was applied using a spin coater to a thickness of 0.1 μm after post-baking, and then placed on a hot plate. An undercoating layer was formed by heating at 220° C. for 300 seconds to obtain a silicon wafer (support) having an undercoating layer. Next, each coloring composition was applied by spin coating so that the film thickness after post-baking would be 0.6 µm. Next, it heated at 100 degreeC for 2 minutes using the hot plate. Then, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (manufactured by Canon Co., Ltd.), light having a wavelength of 365 nm was exposed at an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 through a rectangular dot pattern mask with sides of 1.0 μm. Subsequently, the silicon wafer on which the exposed coating film was formed was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developer (DW-30 type, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and CD-2000 (Fujifilm Electronic Materials Co., Ltd.) was used as a developer. Puddle development was performed at 23° C. for 60 seconds using a 60% diluted solution of Co., Ltd.) to form a colored pattern on the silicon wafer. A silicon wafer on which a colored pattern is formed is fixed to a horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and while the silicon wafer is rotated at a rotational speed of 50 rpm by a rotary device, pure water is supplied from the spray nozzle onto the shower from above the rotation center for rinsing treatment and then spray dried. Further, a heat treatment (post-bake) was performed for 300 seconds using a hot plate at 200°C to form a colored pattern (colored pixel).

착색 패턴이 형성된 실리콘 웨이퍼에 대하여, 주사형 전자 현미경(SEM)(배율 10000배)으로 관찰하고, 하기 평가 기준에 따라 현상 잔사, 손상, 패턴 직선성을 평가했다.The silicon wafer on which the colored pattern was formed was observed with a scanning electron microscope (SEM) (magnification: 10000 times), and development residue, damage, and pattern linearity were evaluated according to the following evaluation criteria.

~현상 잔사의 평가 기준~~Evaluation Criteria for Development Residue~

A: 착색 패턴의 형성 영역 외(미노광부)에는, 잔사가 전혀 확인되지 않았다A: No residue was observed outside the area where the colored pattern was formed (unexposed area).

B: 착색 패턴의 형성 영역 외(미노광부)에, 잔사가 매우 약간 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다B: Very little residue was observed outside the area where the colored pattern was formed (unexposed area), but there was no problem in practical use.

C: 착색 패턴의 형성 영역 외(미노광부)에, 잔사가 약간 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다C: A few residues were observed outside the area where the colored pattern was formed (unexposed area), but there was no problem in practical use.

D: 착색 패턴의 형성 영역 외(미노광부)에, 잔사가 현저하게 확인되었다D: Residues were significantly observed outside the area where the colored pattern was formed (unexposed area)

~손상의 평가 기준~~Evaluation Criteria for Damage~

A: 착색 패턴의 에지에는, 손상이 전혀 확인되지 않았다A: No damage was observed at the edge of the colored pattern.

B: 착색 패턴의 에지에, 손상이 매우 약간 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다B: Very little damage was observed on the edge of the colored pattern, but there was no problem in practical use.

C: 착색 패턴의 에지에, 손상이 약간 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다C: Slight damage was observed on the edge of the colored pattern, but there was no problem in practical use.

D: 착색 패턴의 에지에, 손상이 현저하게 확인되었다D: At the edge of the coloring pattern, damage was confirmed remarkably.

~패턴 직선성의 평가 기준~~Evaluation Criteria for Pattern Linearity~

A: 선폭 1.0μm의 착색 패턴의 측벽에 요철(울퉁불퉁함)이 없고, 착색 패턴이 양호한 직선성으로 형성되어 있었다A: The side wall of the colored pattern with a line width of 1.0 μm had no irregularities (roughness), and the colored pattern was formed with good linearity.

B: 선폭 1.0μm의 착색 패턴의 측벽에 요철(울퉁불퉁함)이 매우 약간 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다B: Very slight irregularities (roughness) were observed on the side wall of the colored pattern with a line width of 1.0 μm, but there was no problem in practical use.

C: 선폭 1.0μm의 착색 패턴의 측벽에 요철(울퉁불퉁함)이 약간 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다C: Slight unevenness (roughness) was observed on the side wall of the colored pattern with a line width of 1.0 μm, but there was no problem in practical use.

D: 선폭 1.0μm의 착색 패턴의 측벽에 요철(울퉁불퉁함)이 많이 확인되었다D: Many irregularities (roughness) were observed on the side wall of the colored pattern with a line width of 1.0 μm.

<안정성의 평가><Evaluation of stability>

상기 현상 잔사, 손상, 패턴 직선성의 평가와 동일한 수법으로 8인치(20.32cm) 실리콘 웨이퍼에 착색 패턴을 형성했다. 착색 패턴에 대하여, 온도 50℃, 습도 85%의 항온 항습조에서, 2000시간의 항온 항습 시험을 행했다. 항온 항습 시험 후, 투과형 전자 현미경을 이용하여 상기 착색 패턴의 단면을 4만배의 배율로 관찰하고, 착색 패턴 간의 공극(보이드)의 발생률을 조사했다. 착색 패턴의 단면의 관찰에 대해서는, 랜덤에 20개소의 단면을 선택하여, 1단면마다, 10개의 착색 패턴에 있어서 공극의 유무를 관찰함으로써, 합계 200개소의 경계를 관찰했다. 그리고, 그 공극의 발생률을 지표로 하여, 안정성을 평가했다. 평가 레벨 C 이상이면, 화소 심층부의 안정성이 우수하다고 할 수 있는 레벨이다.A colored pattern was formed on an 8-inch (20.32 cm) silicon wafer by the same method as in the above evaluation of development residue, damage, and pattern linearity. The color pattern was subjected to a constant temperature and humidity test for 2000 hours in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 50°C and a humidity of 85%. After the constant temperature and humidity test, a cross section of the colored pattern was observed at a magnification of 40,000 times using a transmission electron microscope, and the incidence of voids between the colored patterns was investigated. With respect to the observation of the cross section of the colored pattern, 20 cross sections were selected at random, and the presence or absence of voids was observed in each of the 10 colored patterns for each cross section, thereby observing a total of 200 boundaries. Then, the stability was evaluated using the void generation rate as an index. If it is the evaluation level C or more, it is a level which can be said to be excellent in the stability of the deep pixel layer part.

A: 공극의 발생률=0A: incidence of voids = 0

B: 0<공극의 발생률≤0.1B: 0<occurrence rate of voids≤0.1

C: 0.1<공극의 발생률≤0.2C: 0.1 < incidence rate of voids ≤ 0.2

D: 0.2<공극의 발생률≤0.5D: 0.2 < incidence rate of voids ≤ 0.5

E: 0.5<공극의 발생률≤1.0E: 0.5 < incidence rate of voids ≤ 1.0

공극의 발생률은, 이하에 의하여 산출했다.The rate of occurrence of voids was calculated as follows.

공극의 발생률=[패턴 내부에 공극이 발생한 착색 패턴]/[관찰한 착색 패턴의 수]Occurrence rate of voids = [colored pattern with voids inside the pattern] / [number of observed colored patterns]

[표 12][Table 12]

Figure pct00070
Figure pct00070

[표 13][Table 13]

Figure pct00071
Figure pct00071

[표 14][Table 14]

Figure pct00072
Figure pct00072

상기 표에 나타내는 바와 같이, 실시예는 비교예보다 패턴 직선성의 평가가 양호했다. 나아가서는, 실시예는 현상 잔사, 손상 및 안정성의 평가도 양호했다. 또, 실시예 1~4의 패턴 직선성을 비교한 결과, 실시예 1은 특히 우수했다.As shown in the table above, Examples had better evaluation of pattern linearity than Comparative Examples. Furthermore, evaluation of development residue, damage, and stability was also favorable for the Example. Moreover, as a result of comparing the pattern linearity of Examples 1-4, Example 1 was especially excellent.

(실시예 1001)(Example 1001)

실리콘 웨이퍼 상에, 녹색 착색 조성물을 제막 후의 막두께가 1.0μm가 되도록 스핀 코트법으로 도포했다. 이어서, 핫플레이트를 이용하여, 100℃에서 2분간 가열했다. 이어서, i선 스테퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(캐논(주)제)를 이용하여, 1000mJ/cm2의 노광량으로 한 변이 2μm인 사각형의 도트 패턴의 마스크를 통하여 노광했다. 이어서, 수산화 테트라메틸암모늄(TMAH) 0.3질량% 수용액을 이용하고, 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행했다. 그 후, 스핀 샤워로 린스를 행하고, 추가로 순수로 수세했다. 이어서, 핫플레이트를 이용하여, 200℃에서 5분간 가열함으로써, 녹색 착색 조성물을 패터닝하여 녹색 화소를 형성했다. 동일하게 적색 착색 조성물, 청색 착색 조성물을 동일한 프로세스로 패터닝하여, 적색 화소, 청색 화소를 순차 형성하고, 녹색 화소, 적색 화소 및 청색 화소를 갖는 컬러 필터를 형성했다. 이 컬러 필터에 있어서는, 녹색 화소가 베이어 패턴으로 형성되어 있고, 그 인접하는 영역에, 적색 화소, 청색 화소가 아일랜드 패턴으로 형성되어 있다. 얻어진 컬러 필터를 공지의 방법에 따라 고체 촬상 소자에 도입했다. 이 고체 촬상 소자는 적합한 화상 인식능을 갖고 있었다. 또한, 적색 착색 조성물로서는, 실시예 85의 착색 조성물을 사용했다. 청색 착색 조성물로서는, 실시예 12의 착색 조성물을 사용했다. 녹색 착색 조성물의 상세는 이하와 같다.On the silicon wafer, the green coloring composition was applied by spin coating so that the film thickness after film formation was 1.0 μm. Next, it heated at 100 degreeC for 2 minutes using the hotplate. Next, exposure was performed using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (manufactured by Canon Co., Ltd.) at an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 through a mask of a rectangular dot pattern with sides of 2 µm. Next, puddle development was performed at 23°C for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH). After that, it was rinsed with a spin shower and further washed with pure water. Next, by heating at 200°C for 5 minutes using a hot plate, the green coloring composition was patterned to form green pixels. Similarly, a red coloring composition and a blue coloring composition were patterned by the same process to sequentially form a red pixel and a blue pixel to form a color filter having a green pixel, a red pixel, and a blue pixel. In this color filter, green pixels are formed in a Bayer pattern, and red pixels and blue pixels are formed in an island pattern in the adjacent region. The obtained color filter was incorporated into a solid-state imaging device according to a known method. This solid-state imaging device had a suitable image recognition ability. In addition, as a red coloring composition, the coloring composition of Example 85 was used. As the blue coloring composition, the coloring composition of Example 12 was used. The detail of a green coloring composition is as follows.

(녹색 착색 조성물의 조제)(Preparation of green coloring composition)

하기 성분을 혼합하여, 교반한 후, 구멍 직경 0.45μm의 나일론제 필터(니혼 폴(주)제)로 여과하여, 녹색 착색 조성물을 조제했다.After mixing and stirring the following components, it filtered with a nylon filter (Nippon Poll Co., Ltd. product) with a pore diameter of 0.45 micrometer, and prepared the green coloring composition.

녹색 안료 분산액: 73.7질량부Green pigment dispersion: 73.7 parts by mass

수지 101: 0.3질량부Resin 101: 0.3 parts by mass

중합성 화합물 101: 1.2질량부Polymerizable compound 101: 1.2 parts by mass

광중합 개시제 101: 0.6질량부Photopolymerization initiator 101: 0.6 parts by mass

계면활성제 101: 4.2질량부Surfactant 101: 4.2 parts by mass

PGMEA: 19.5질량부PGMEA: 19.5 parts by mass

녹색 착색 조성물의 조제에 사용한 원료는, 이하와 같다.The raw materials used for preparation of the green coloring composition are as follows.

녹색 안료 분산액: C. I. Pigment Green 36을 6.4질량부, C. I. Pigment Yellow 150을 5.3질량부, 분산제(Disperbyk-161, BYKChemie사제)를 5.2질량부, PGMEA를 83.1질량부로 이루어지는 혼합액을, 비즈 밀(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합 및 분산하여, 안료 분산액을 조제했다. 그 후 추가로, 감압 기구 장착 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이(주)제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min으로 하여 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, 녹색 안료 분산액을 얻었다.Green pigment dispersion: a mixed solution consisting of 6.4 parts by mass of CI Pigment Green 36, 5.3 parts by mass of CI Pigment Yellow 150, 5.2 parts by mass of a dispersant (Disperbyk-161, manufactured by BYK Chemie), and 83.1 parts by mass of PGMEA, a bead mill (zirconia beads) 0.3 mm diameter) was mixed and dispersed for 3 hours to prepare a pigment dispersion liquid. Thereafter, dispersion treatment was further performed at a flow rate of 500 g/min under a pressure of 2000 kg/cm 3 using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon Biei Co., Ltd.) equipped with a pressure reducing mechanism. This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a green pigment dispersion.

중합성 화합물 101: KAYARAD DPHA(닛폰 가야쿠(주)제)Polymerizable compound 101: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

수지 101: 하기 구조의 수지(중량 평균 분자량 11000, 주쇄에 부기한 수치는 몰비이다.)Resin 101: resin having the following structure (weight average molecular weight: 11000, numerical values added to the main chain are molar ratios)

[화학식 59][Formula 59]

Figure pct00073
Figure pct00073

광중합 개시제 101: Irgacure OXE01(BASF사제)Photopolymerization initiator 101: Irgacure OXE01 (manufactured by BASF)

계면활성제 101: 상술한 계면활성제 W-1Surfactant 101: Surfactant W-1 described above

Claims (15)

착색제와, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물과, 에폭시기를 갖는 화합물을 포함하는 착색 조성물이며,
상기 에폭시기를 갖는 화합물은, 식 (EP-1)로 나타나는 기를 갖는 화합물 Ep를 포함하고,
상기 착색 조성물의 전고형분 중에 상기 착색제를 40질량% 이상 함유하는, 착색 조성물;
[화학식 1]
Figure pct00074

식 중, L1EP는, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화 수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기를 나타내고, 파선은 연결손을 나타낸다.A coloring composition comprising a colorant, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, and a compound having an epoxy group,
The compound having an epoxy group includes a compound Ep having a group represented by formula (EP-1),
Coloring composition containing 40 mass % or more of the said coloring agent in the total solids of the said coloring composition;
[Formula 1]
Figure pct00074

In formula, L 1EP represents the aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and the broken line represents a connecting hand. 청구항 1에 있어서,
상기 화합물 Ep는 글리시딜에터기를 갖는, 착색 조성물.The method of claim 1,
The coloring composition wherein the compound Ep has a glycidyl ether group. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 식 (EP-1)의 L1EP는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소기인, 착색 조성물.According to claim 1 or claim 2,
The coloring composition in which L 1EP in the formula (EP-1) is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 식 (EP-1)의 L1EP는 글리시딜에터기를 치환기로서 갖는 방향족 탄화 수소기인, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 3,
The coloring composition in which L 1EP in the formula (EP-1) is an aromatic hydrocarbon group having a glycidyl ether group as a substituent. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 화합물 Ep는 상기 식 (EP-1)로 나타나는 기를 2개 이상 갖는, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 4,
The coloring composition in which the said compound Ep has 2 or more groups represented by said formula (EP-1). 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 화합물 Ep의 분자량이 250~2500인, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 5,
A coloring composition in which the molecular weight of the compound Ep is 250 to 2500. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 화합물 Ep의 에폭시기가가 5mmol/g 이상인, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 6,
The epoxy value of the compound Ep is 5 mmol / g or more, the coloring composition. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 착색제는 염료를 포함하는, 착색 조성물.According to any one of claims 1 to 7,
The coloring composition, wherein the colorant comprises a dye. 청구항 8에 있어서,
상기 염료는 잔텐 색소 구조를 갖는 화합물인, 착색 조성물.The method of claim 8,
The dye is a compound having a xanthene dye structure, the coloring composition. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
산기를 갖는 수지를 더 포함하는, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 9,
The coloring composition which further contains resin which has an acidic radical. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
광중합 개시제를 더 포함하는, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 10,
A coloring composition further comprising a photopolymerization initiator. 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 기재된 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 막.A film obtained by using the coloring composition according to any one of claims 1 to 11. 청구항 12에 기재된 막을 포함하는 컬러 필터.A color filter comprising the film according to claim 12. 청구항 12에 기재된 막을 포함하는 고체 촬상 소자.A solid-state imaging device comprising the film according to claim 12. 청구항 12에 기재된 막을 포함하는 화상 표시 장치.An image display device comprising the film according to claim 12.
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