KR20220070223A - Method for manufacturing transparent conductive film - Google Patents

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KR20220070223A
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KR1020227010861A
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준이치 나가세
마코토 미야자키
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

금속 나노 와이어를 포함하면서도, 도전 이방성이 작은 투명 도전성 필름을 제조하는 방법을 제공한다.
(해결 수단) 본 발명의 투명 도전성 필름의 제조 방법은, 기재와, 그 기재의 편측에 배치된 투명 도전층을 구비하는 투명 도전성 필름의 제조 방법으로서, 장척상의 그 기재를 반송하면서, 그 기재에 금속 나노 와이어를 포함하는 투명 도전층 형성용 조성물을 도포하여 도포층을 형성하는 도포 공정과, 그 도포층의 상방으로부터 송풍하는 송풍 공정을 포함한다. 하나의 실시형태에 있어서는, 상기 송풍 공정에 있어서의 송풍이, 상기 도포층면에 대하여 대략 수직인 방향의 송풍을 포함한다.Provided is a method for manufacturing a transparent conductive film containing metal nanowires and having low conduction anisotropy.
(Solution) The method for producing a transparent conductive film of the present invention is a method for producing a transparent conductive film comprising a base material and a transparent conductive layer disposed on one side of the base material, wherein the elongate base material is transferred to the base material while being conveyed. The application process of apply|coating the composition for transparent conductive layer formation containing a metal nanowire to form an application layer, and the blowing process of blowing air from above the application layer are included. In one embodiment, the ventilation in the said ventilation process includes the ventilation of the direction substantially perpendicular|vertical with respect to the said application layer surface.

Description

투명 도전성 필름의 제조 방법Method for manufacturing transparent conductive film

본 발명은 투명 도전성 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a transparent conductive film.

종래, 터치 센서를 갖는 화상 표시 장치에 있어서, 터치 센서의 전극으로서, 투명 수지 필름 상에 ITO (인듐·주석 복합 산화물) 등의 금속 산화물층을 형성하여 얻어지는 투명 도전성 필름이 다용되고 있다. 그러나, 이 금속 산화물층을 구비하는 투명 도전성 필름은, 굴곡에 의해 도전성이 없어지기 쉬워, 플렉시블 디스플레이 등의 굴곡성이 필요해지는 용도에는 사용하기 어렵다는 문제가 있다.BACKGROUND ART Conventionally, in an image display device having a touch sensor, a transparent conductive film obtained by forming a metal oxide layer such as ITO (indium-tin composite oxide) on a transparent resin film is used as an electrode of the touch sensor. However, the transparent conductive film provided with this metal oxide layer has a problem that it is easy to lose electroconductivity by bending|flexion, and it is difficult to use for uses which require flexibility, such as a flexible display.

한편, 굴곡성이 높은 투명 도전성 필름으로서, 금속 나노 와이어를 포함하는 투명 도전성 필름이 알려져 있다. 금속 나노 와이어는, 지름이 나노미터 사이즈인 와이어 형상 도전성 물질이다. 금속 나노 와이어로 구성된 투명 도전성 필름에 있어서는, 금속 나노 와이어가 망목상으로 됨으로써, 소량의 금속 나노 와이어로 양호한 전기 전도 경로가 형성되고, 또, 망목의 간극에 개구부를 형성하여, 높은 광 투과율이 실현된다. 그 한편으로, 금속 나노 와이어는, 와이어 형상이기 때문에 배향성을 가진 상태로 배치되기 쉽고, 그 때문에, 금속 나노 와이어를 포함하는 투명 도전성 필름에 도전 이방성이 발생한다는 문제가 있다.On the other hand, as a transparent conductive film with high flexibility, the transparent conductive film containing a metal nanowire is known. A metal nanowire is a wire-shaped conductive substance whose diameter is nanometer size. In a transparent conductive film composed of metal nanowires, when the metal nanowires are made into a mesh, a good electrical conduction path is formed with a small amount of metal nanowires, and an opening is formed in the gap between the meshes to achieve high light transmittance. do. On the other hand, since a metal nanowire is a wire shape, it is easy to arrange|position in the state which has orientation, Therefore, there exists a problem that electrically conductive anisotropy generate|occur|produces in the transparent conductive film containing a metal nanowire.

일본 공표특허공보 2009-505358호Japanese Patent Publication No. 2009-505358 일본 특허공보 제6199034호Japanese Patent Publication No. 6199034

본 발명은 상기의 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것이며, 그 목적으로 하는 바는, 금속 나노 와이어를 포함하면서도, 도전 이방성이 작은 투명 도전성 필름을 제조하는 방법을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, and an object thereof is to provide a method for manufacturing a transparent conductive film containing metal nanowires and having small conductive anisotropy.

본 발명의 투명 도전성 필름의 제조 방법은, 기재와, 그 기재의 편측에 배치된 투명 도전층을 구비하는 투명 도전성 필름의 제조 방법으로서, 장척상 (長尺狀)의 그 기재를 반송 (搬送) 하면서, 그 기재에 금속 나노 와이어를 포함하는 투명 도전층 형성용 조성물을 도포하여 도포층을 형성하는 도포 공정과, 그 도포층의 상방으로부터 송풍하는 송풍 공정을 포함한다.The manufacturing method of the transparent conductive film of this invention is a manufacturing method of a transparent conductive film provided with a base material and the transparent conductive layer arrange|positioned on one side of the base material, Comprising: The elongate base material is conveyed. while applying the composition for forming a transparent conductive layer containing metal nanowires to the substrate to form an application layer, and a blowing step of blowing air from above the application layer.

하나의 실시형태에 있어서는, 상기 송풍 공정에 있어서의 송풍이, 상기 도포층면에 대하여 대략 수직인 방향의 송풍을 포함한다.In one embodiment, the ventilation in the said ventilation process includes the ventilation of the direction substantially perpendicular|vertical with respect to the said application layer surface.

하나의 실시형태에 있어서는, 상기 송풍 공정에 있어서의 송풍이, 상기 도포층면에 대하여 비스듬한 방향의 송풍을 포함한다.In one embodiment, the ventilation in the said ventilation process includes the ventilation of the diagonal direction with respect to the said application layer surface.

하나의 실시형태에 있어서는, 상기 송풍 공정에 있어서의 송풍이, 나선상의 송풍이다.In one embodiment, the ventilation in the said ventilation process is spiral ventilation.

본 발명의 다른 국면에 의하면, 투명 도전성 필름이 제공된다. 이 투명 도전성 필름은, 상기 제조 방법에 의해 제조된다.According to another aspect of the present invention, a transparent conductive film is provided. This transparent conductive film is manufactured by the said manufacturing method.

본 발명에 의하면, 도전 이방성이 작은 투명 도전성 필름을 제조하는 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the method of manufacturing a transparent conductive film with small electrically conductive anisotropy can be provided.

도 1 의 (a) ∼ (c) 는, 본 발명의 하나의 실시형태에 있어서의 송풍 공정에 있어서의 송풍 방향을 설명하는 개략 정면도이다.
도 2 는, 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 제조 방법에 의해 얻어진 투명 도전성 필름의 개략 단면도이다.1(a)-(c) is a schematic front view explaining the ventilation direction in the ventilation process in one Embodiment of this invention.
It is a schematic sectional drawing of the transparent conductive film obtained by the manufacturing method by one Embodiment of this invention.

A. 투명 도전성 필름의 제조 방법의 개요A. Outline of manufacturing method of transparent conductive film

본 발명의 투명 도전성 필름의 제조 방법은, 장척상의 기재를 반송하면서, 당해 기재에 금속 나노 와이어를 포함하는 투명 도전층 형성용 조성물을 도포하여 도포층을 형성하는 도포 공정과, 당해 도포층의 상방 (도포층의 기재와는 반대측) 으로부터 송풍하는 송풍 공정을 포함한다. 본 발명의 제조 방법에 의하면, 기재와 기재의 편측에 배치된 투명 도전층을 구비하는 투명 도전성 필름이 얻어진다. 본 발명의 제조 방법은, 상기 도포 공정 및 송풍 공정 외에, 임의의 적절한 그 밖의 공정을 포함하고 있어도 된다. 하나의 실시형태에 있어서는, 상기 제조 방법은, 송풍 공정 후에 도포층을 건조시키는 건조 공정을 추가로 포함할 수 있다. 다른 실시형태에 있어서는, 상기 송풍 공정이 상기 도포층을 건조시킬 수 있는 공정이며, 송풍 공정을 거쳐 투명 도전층이 형성된다.The method for producing a transparent conductive film of the present invention comprises: an application step of forming an application layer by applying a composition for forming a transparent conductive layer containing metal nanowires to the substrate while conveying a long substrate; A blowing step of blowing air from (the side opposite to the substrate of the coating layer) is included. According to the manufacturing method of this invention, the transparent conductive film provided with the transparent conductive layer arrange|positioned on one side of a base material and a base material is obtained. The manufacturing method of this invention may contain arbitrary appropriate other processes other than the said application|coating process and a ventilation process. In one embodiment, the manufacturing method may further include a drying process of drying the application layer after the blowing process. In another embodiment, the said ventilation process is a process which can dry the said application layer, and a transparent conductive layer is formed through a ventilation process.

대표적으로는, 롤 상태의 기재를 풀어내어 당해 기재를 반송하면서, 상기 도포 공정 및 송풍 공정 (그리고, 필요에 따라, 건조 공정 등의 그 밖의 공정) 을 실시하여, 기재와 기재의 편측에 배치된 투명 도전층을 구비하는 장척상의 투명 도전성 필름을 형성한다. 하나의 실시형태에 있어서는, 당해 투명 도전성 필름은, 형성 후에 권취된다.Typically, the coating process and the blowing process (and other processes such as a drying process if necessary) are performed while the base material is unrolled in a roll state and conveyed, and the base material is disposed on one side of the base material and the base material. A long transparent conductive film provided with a transparent conductive layer is formed. In one embodiment, the said transparent conductive film is wound up after formation.

도 1 의 (a) ∼ (c) 는, 본 발명의 하나의 실시형태에 있어서의 송풍 공정에 있어서의 송풍 방향을 설명하는 개략 정면도 (투명 도전성 필름 권취측에서 본 도) 이다. 도 1 의 (a) ∼ (c) 에 있어서는, 도포층 (21) 이 형성된 기재 (10) 의 측면에서 본 송풍의 모습이 도시되어 있다.1(a)-(c) are schematic front views (viewed from the transparent conductive film winding side) explaining the blowing direction in the blowing process in one Embodiment of this invention. 1(a)-(c), the mode of the ventilation seen from the side of the base material 10 in which the application layer 21 was formed is shown.

하나의 실시형태에 있어서는, 도 1(a) 에 나타내는 바와 같이, 송풍 공정에 있어서의 송풍은, 도포층 (21) 면에 대하여 대략 수직인 방향의 송풍을 포함한다. 본 명세서에 있어서, 대략 수직이란, 2 개의 방향이 이루는 각이 80° ∼ 100° 인 것을 의미한다. 본 실시형태에 있어서, 송풍 공정에 있어서의 송풍 방향 (Z) 과 도포층 (21) 면의 각도는, 바람직하게는 85° ∼ 95° 이며, 보다 바람직하게는 87° ∼ 93° 이다.In one embodiment, as shown to Fig.1 (a), the ventilation in a ventilation process includes the ventilation of the direction substantially perpendicular|vertical with respect to the application layer 21 surface. In the present specification, substantially perpendicular means that the angle between the two directions is 80° to 100°. In the present embodiment, the angle between the blowing direction Z and the surface of the application layer 21 in the blowing step is preferably 85° to 95°, more preferably 87° to 93°.

다른 실시형태에 있어서는, 도 1(b) 에 나타내는 바와 같이, 송풍 공정에 있어서의 송풍은, 도포층 (21) 면에 대하여 비스듬한 방향의 송풍 포함한다. 본 명세서에 있어서, 비스듬한 방향이란, 2 개의 방향이 이루는 각이, 20° 이상 80° 미만 또는 100° 를 초과하여 160° 이하인 것을 의미한다. 본 실시형태에 있어서, 송풍 공정에 있어서의 송풍 방향 (Z) 과 도포층 (21) 면의 각은, 바람직하게는 30° 이상 80° 미만 또는 100° 를 초과하여 150° 이하이며, 보다 바람직하게는 45° ∼ 75° 또는 105° ∼ 135° 이다. 또한, 대략 수직인 방향의 송풍과 비스듬한 방향의 송풍을 조합해도 되고, 예를 들어, 원추상 또는 선상 (扇狀) 으로 송풍해도 된다.In another embodiment, as shown in FIG.1(b), the ventilation in a ventilation process includes the ventilation of the direction oblique with respect to the application layer 21 surface. In this specification, an oblique direction means that the angle formed by two directions is 20 degrees or more and less than 80 degrees, or exceeds 100 degrees and is 160 degrees or less. In the present embodiment, the angle between the blowing direction (Z) and the surface of the coating layer 21 in the blowing step is preferably 30° or more and less than 80° or more than 100° and 150° or less, more preferably is 45° to 75° or 105° to 135°. Moreover, you may combine the ventilation of a substantially perpendicular direction, and the ventilation of an oblique direction, for example, you may blow in conical shape or linear shape.

송풍 공정에 있어서 비스듬한 방향으로 송풍하는 경우, 도포층면측에서 본 송풍 방향은, 기재의 반송 방향 (A) 과 평행이어도 되고, 평행이 아니어도 된다. 바람직하게는, 도포층면측에서 본 송풍 방향과 기재의 반송 방향 (A) 이 이루는 각은, 바람직하게는 0° ∼ 60° 이고, 보다 바람직하게는 0° ∼ 45° 이며, 더욱 바람직하게는 0° ∼ 30° 이다.When blowing in an oblique direction in a ventilation process, the ventilation direction seen from the application layer surface side may be parallel to the conveyance direction (A) of a base material, and may not be parallel. Preferably, the angle between the blowing direction seen from the coating layer surface side and the conveyance direction (A) of the substrate is preferably 0° to 60°, more preferably 0° to 45°, still more preferably 0 ° to 30 °.

송풍이 도포층의 상방 (도포층의 기재와는 반대측) 으로부터 실시되는 실시형태로는, 도 1 의 (a) 및 (b) 에 나타내는 형태 외에, 도 1(c) 에 나타내는 바와 같이, 나선상으로 송풍하는 (즉, 바람을 나선류로서 흐르게 하는) 실시형태도 들 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 나선상으로 부는 바람과의 구별을 위해, 도 1 의 (a) 및 (b) 에 나타내는 바람과 같이, 나선상이 아니라 대략 일정 방향으로 부는 바람을 정류풍이라고 칭한다.As an embodiment in which ventilation is performed from above the application layer (the opposite side to the substrate of the application layer), in addition to the forms shown in Figs. 1(a) and (b), as shown in Fig. 1(c), spiral Embodiments that blow (ie, cause the wind to flow in a spiral flow) are also included. In addition, in this specification, in order to distinguish it from the wind blowing spirally, like the wind shown to Fig.1 (a) and (b), a wind blowing in a substantially constant direction instead of a spiral is called a rectifying wind.

나선상으로 바람을 불게 하는 경우, 기재 (10) 의 측면측에서 본 당해 바람의 나선축의 방향 (Z') 은, 도포층 (21) 면에 대하여, 대략 수직인 방향이어도 되고, 비스듬한 방향이어도 된다. 도 1(c) 에 있어서는, 나선축의 방향 (Z') 이 도포층 (21) 면에 대하여, 대략 수직인 방향인 나선류풍을 도포층 (21) 면에 불게 하고 있다. 본 실시형태에 있어서, 송풍 공정에 있어서의 바람의 나선축 방향 (Z') 과 도포층 (21) 면의 각은, 바람직하게는 85° ∼ 95° 이며, 보다 바람직하게는 87° ∼ 93° 이다.When the wind is blown spirally, the direction (Z') of the spiral axis of the wind as seen from the side surface of the base material 10 may be substantially perpendicular to the surface of the application layer 21, or may be an oblique direction. In FIG.1(c), the direction Z' of a helical axis is made to blow on the application layer 21 surface with the spiral flow which is a direction substantially perpendicular|vertical with respect to the application layer 21 surface. In the present embodiment, the angle between the wind helical axis direction (Z') and the surface of the application layer 21 in the blowing step is preferably 85° to 95°, more preferably 87° to 93° to be.

바람의 나선축의 방향 (Z') 이, 도포층 (21) 면에 대하여 비스듬한 방향인 경우, 송풍 공정에 있어서의 바람의 나선축 방향 (Z') 과 도포층 (21) 면의 각은, 바람직하게는 30° 이상 80° 미만 또는 100° 를 초과하여 150° 이하이며, 보다 바람직하게는 45° ∼ 75° 또는 105° ∼ 135° 이다.When the direction (Z') of the spiral axis of the wind is an oblique direction with respect to the surface of the application layer 21, the angle between the direction of the spiral axis of the wind (Z') and the surface of the application layer 21 in the blowing step is preferably Preferably, it is 30 degrees or more and less than 80 degrees, or exceeds 100 degrees and is 150 degrees or less, More preferably, it is 45 degrees - 75 degrees or 105 degrees - 135 degrees.

바람의 나선축의 방향 (Z') 이 비스듬한 방향인 경우, 도포층면측에서 본 바람의 나선축의 방향은, 기재의 반송 방향 (A) 과 평행이어도 되고, 평행이 아니어도 된다. 바람직하게는, 도포층면측에서 본 바람의 나선축의 방향과 기재의 반송 방향 (A) 이 이루는 각은, 바람직하게는 0° ∼ 60° 이고, 보다 바람직하게는 0° ∼ 45° 이며, 더욱 바람직하게는 0° ∼ 30° 이다.When the direction (Z') of the spiral axis of wind is an oblique direction, the direction of the spiral axis of wind seen from the application layer surface side may be parallel to the conveyance direction (A) of a base material, and may not be parallel. Preferably, the angle between the direction of the spiral axis of wind as seen from the coating layer surface side and the conveyance direction (A) of the substrate is preferably 0° to 60°, more preferably 0° to 45°, still more preferably It is usually 0° to 30°.

본 발명에 있어서는, 송풍 공정에 있어서의 풍향을 특정한 방향으로 함으로써, 금속 나노 와이어의 배향이 흐트러지고, 그 결과, 도전 이방성이 작은 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다. 또, 도포층면의 상방으로부터 송풍함으로써, 도포층 중에서 금속 나노 와이어가 기재측에 국재화되어 조밀하게 존재할 수 있어, 금속 나노 와이어끼리의 접촉이 많아진다. 그 결과, 도전성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.In this invention, the orientation of a metal nanowire is disturbed by making the wind direction in a ventilation process into a specific direction, As a result, a transparent conductive film with small electrically conductive anisotropy can be manufactured. Moreover, by blowing air from above the surface of the coating layer, the metal nanowires are localized to the base material side in the coating layer, and they can exist densely, and the contact of metal nanowires increases. As a result, a transparent conductive film excellent in conductivity can be obtained.

B. 도포 공정B. Application process

상기와 같이, 도포 공정에 있어서는, 장척상의 기재를 반송하면서, 당해 기재에 금속 나노 와이어를 포함하는 투명 도전층 형성용 조성물을 도포하여 도포층을 형성한다.As mentioned above, in an application|coating process, the composition for transparent conductive layer formation containing a metal nanowire is apply|coated to the said base material, conveying a long base material, and an application layer is formed.

(기재) (write)

상기 기재를 구성하는 재료는, 임의의 적절한 재료가 사용될 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 필름이나 플라스틱스 기재 등의 고분자 기재가 바람직하게 사용된다. 기재의 평활성 및 투명 도전층 형성용 조성물에 대한 젖음성이 우수하고, 또, 롤에 의한 연속 생산에 의해 생산성을 대폭 향상시킬 수 있기 때문이다.Any suitable material may be used as the material constituting the substrate. Specifically, for example, a polymer substrate such as a film or a plastic substrate is preferably used. It is because it is excellent in the smoothness of a base material and the wettability with respect to the composition for transparent conductive layer formation, and productivity can be improved significantly by continuous production with a roll.

상기 기재를 구성하는 재료는, 대표적으로는 열가소성 수지를 주성분으로 하는 고분자 필름이다. 열가소성 수지로는, 예를 들어, 폴리에스테르계 수지 ; 폴리노르보르넨 등의 시클로올레핀계 수지 ; 아크릴계 수지 ; 폴리카보네이트 수지 ; 셀룰로오스계 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도 바람직하게는, 폴리에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지 또는 아크릴계 수지이다. 이들 수지는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차폐성 등이 우수하다. 상기 열가소성 수지는, 단독으로, 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다. 또, 편광판에 사용되는 바와 같은 광학 필름, 예를 들어, 저위상차 기재, 고위상차 기재, 위상차 판, 휘도 향상 필름 등을 기재로서 사용하는 것도 가능하다.The material constituting the substrate is typically a polymer film containing a thermoplastic resin as a main component. As a thermoplastic resin, For example, polyester-type resin; Cycloolefin resins, such as polynorbornene; acrylic resin; polycarbonate resin; Cellulose-type resin etc. are mentioned. Among them, a polyester-based resin, a cycloolefin-based resin or an acrylic resin is preferable. These resins are excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, and the like. The said thermoplastic resin may be used individually or in combination of 2 or more types. Moreover, it is also possible to use as a base material the optical film as used for a polarizing plate, for example, a low retardation base material, a high retardation base material, retardation plate, a brightness improving film, etc.

상기 기재의 두께는, 바람직하게는 20 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이며, 보다 바람직하게는 30 ㎛ ∼ 150 ㎛ 이다.The thickness of the substrate is preferably 20 µm to 200 µm, and more preferably 30 µm to 150 µm.

상기 기재의 전광선 투과율은, 바람직하게는 30 % 이상이고, 보다 바람직하게는 35 % 이상이며, 더욱 바람직하게는 40 % 이상이다.The total light transmittance of the substrate is preferably 30% or more, more preferably 35% or more, and still more preferably 40% or more.

기재의 반송 방법으로는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 예를 들어, 반송 롤에 의한 반송, 반송 벨트에 의한 반송, 이들의 조합 등을 들 수 있다. 반송 속도는, 예를 들어, 5 m/min ∼ 50 m/min 이다.As a method of conveying the substrate, any suitable method may be employed. For example, conveyance by a conveyance roll, conveyance by a conveyance belt, these combinations, etc. are mentioned. A conveyance speed is 5 m/min - 50 m/min, for example.

(금속 나노 와이어) (Metal Nanowire)

금속 나노 와이어란, 재질이 금속이고, 형상이 침상 (針狀) 또는 사상 (絲狀) 이고, 지름이 나노미터 사이즈인 도전성 물질을 말한다. 금속 나노 와이어는 직선상이어도 되고, 곡선상이어도 된다. 금속 나노 와이어로 구성된 투명 도전층을 사용하면, 금속 나노 와이어가 망목상으로 됨으로써, 소량의 금속 나노 와이어로도 양호한 전기 전도 경로를 형성할 수 있어, 전기 저항이 작은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 또한, 금속 나노 와이어가 망목상으로 됨으로써, 망목의 간극에 개구부를 형성하여, 광 투과율이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.The metal nanowire refers to a conductive material made of a metal, having a needle-like or filamentous shape, and having a diameter of nanometers. The metal nanowire may be linear or curved. When a transparent conductive layer composed of metal nanowires is used, the metal nanowires become mesh-like, so that a good electrical conduction path can be formed even with a small amount of metal nanowires, and a transparent conductive film with low electrical resistance can be obtained. In addition, when the metal nanowires become mesh-like, openings are formed in the gaps between the meshes, and a transparent conductive film with high light transmittance can be obtained.

상기 금속 나노 와이어의 굵기 (d) 와 길이 (L) 의 비 (애스펙트비 : L/d) 는, 바람직하게는 10 ∼ 100,000 이고, 보다 바람직하게는 50 ∼ 100,000 이며, 특히 바람직하게는 100 ∼ 10,000 이다. 이와 같이 애스펙트비가 큰 금속 나노 와이어를 사용하면, 금속 나노 와이어가 양호하게 교차하여, 소량의 금속 나노 와이어에 의해 높은 도전성을 발현시킬 수 있다. 그 결과, 광 투과율이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「금속 나노 와이어의 굵기」 란, 금속 나노 와이어의 단면 (斷面) 이 원 형상인 경우는 그 직경을 의미하고, 타원상인 경우는 그 단경을 의미하고, 다각형인 경우는 가장 긴 대각선을 의미한다. 금속 나노 와이어의 굵기 및 길이는, 주사형 전자 현미경 또는 투과형 전자 현미경에 의해 확인할 수 있다.The ratio (aspect ratio: L/d) of the thickness (d) to the length (L) of the metal nanowire is preferably 10 to 100,000, more preferably 50 to 100,000, particularly preferably 100 to 10,000 to be. When a metal nanowire having a large aspect ratio is used in this way, the metal nanowire crosses favorably, and high conductivity can be expressed with a small amount of the metal nanowire. As a result, a transparent conductive film with high light transmittance can be obtained. In addition, in this specification, the "thickness of a metal nanowire" means the diameter when the cross section of the metal nanowire is circular, and in the case of an ellipse, it means the minor diameter, and in the case of a polygon is the longest diagonal. The thickness and length of a metal nanowire can be confirmed with a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.

상기 금속 나노 와이어의 굵기는, 바람직하게는 500 ㎚ 미만이고, 보다 바람직하게는 200 ㎚ 미만이고, 특히 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이며, 가장 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 50 ㎚ 이다. 이와 같은 범위이면, 광 투과율이 높은 투명 도전층을 형성할 수 있다.The thickness of the metal nanowire is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, particularly preferably 10 nm to 100 nm, and most preferably 10 nm to 50 nm. If it is such a range, a transparent conductive layer with high light transmittance can be formed.

상기 금속 나노 와이어의 길이는, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 1000 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 500 ㎛ 이며, 특히 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 100 ㎛ 이다. 이와 같은 범위이면, 도전성이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.The length of the metal nanowire is preferably 1 µm to 1000 µm, more preferably 10 µm to 500 µm, and particularly preferably 10 µm to 100 µm. If it is such a range, a transparent conductive film with high electroconductivity can be obtained.

상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로는, 도전성 금속인 한, 임의의 적절한 금속이 사용될 수 있다. 상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로는, 예를 들어, 은, 금, 구리, 니켈 등을 들 수 있다. 또, 이들 금속에 도금 처리 (예를 들어, 금 도금 처리) 를 실시한 재료를 사용해도 된다. 그 중에서도 바람직하게는, 도전성의 관점에서, 은, 구리 또는 금이며, 보다 바람직하게는 은이다.As the metal constituting the metal nanowire, any suitable metal may be used as long as it is a conductive metal. As a metal which comprises the said metal nanowire, silver, gold|metal|money, copper, nickel, etc. are mentioned, for example. Moreover, you may use the material which gave plating process (for example, gold plating process) to these metals. Among them, from the viewpoint of conductivity, silver, copper, or gold is preferable, and silver is more preferable.

상기 금속 나노 와이어의 제조 방법으로는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 예를 들어 용액 중에서 질산은을 환원하는 방법, 전구체 표면에 프로브의 선단부로부터 인가 전압 또는 전류를 작용시키고, 프로브 선단부에서 금속 나노 와이어를 인출하고, 그 금속 나노 와이어를 연속적으로 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 용액 중에서 질산은을 환원하는 방법에 있어서는, 에틸렌글리콜 등의 폴리올, 및 폴리비닐피롤리돈의 존재하에서, 질산은 등의 은 염을 액상 환원함으로써, 은 나노와이어가 합성될 수 있다. 균일 사이즈의 은 나노와이어는, 예를 들어, Xia, Y. etal., Chem. Mater. (2002), 14, 4736-4745, Xia, Y. etal., Nano letters (2003) 3 (7), 955-960 에 기재되는 방법에 준하여, 대량 생산이 가능하다.Any suitable method may be employed as a method for manufacturing the metal nanowire. For example, a method of reducing silver nitrate in solution, applying a voltage or current from the tip of the probe to the surface of the precursor, withdrawing a metal nanowire from the tip of the probe, and continuously forming the metal nanowire, etc. are mentioned. have. In the method for reducing silver nitrate in a solution, silver nanowires can be synthesized by liquid-phase reduction of a silver salt such as silver nitrate in the presence of a polyol such as ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone. Silver nanowires of uniform size are described, for example, in Xia, Y. et al., Chem. Mater. (2002), 14, 4736-4745, Xia, Y. et al., Nano letters (2003) 3 (7), according to the method described in 955-960, mass production is possible.

(투명 도전층 형성용 조성물) (Composition for forming a transparent conductive layer)

투명 도전층 형성용 조성물은, 금속 나노 와이어를 포함한다. 하나의 실시형태에 있어서는, 금속 나노 와이어를 임의의 적절한 용매에 분산시켜 투명 도전층 형성용 조성물이 조제된다. 당해 용매로는, 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 에테르계 용매, 탄화수소계 용매, 방향족계 용매 등을 들 수 있다. 또, 투명 도전층 형성용 조성물은, 수지 (바인더 수지), 금속 나노 와이어 이외의 도전성 재료 (예를 들어, 도전성 입자), 레벨링제 등의 첨가제를 추가로 포함하고 있어도 된다. 또, 투명 도전층 형성용 조성물은, 가소제, 열 안정제, 광 안정제, 활제 (滑劑), 항산화제, 자외선 흡수제, 난연제, 착색제, 대전 방지제, 상용화제, 가교제, 증점제, 무기 입자, 계면 활성제, 및 분산제 등의 첨가제를 포함할 수 있다.The composition for forming a transparent conductive layer contains metal nanowires. In one embodiment, a metal nanowire is disperse|distributed to arbitrary appropriate solvents, and the composition for transparent conductive layer formation is prepared. Examples of the solvent include water, alcohol solvents, ketone solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, and the like. Moreover, the composition for transparent conductive layer formation may further contain additives, such as resin (binder resin), electroconductive materials other than a metal nanowire (for example, electroconductive particle), and a leveling agent. In addition, the composition for forming a transparent conductive layer includes a plasticizer, a heat stabilizer, a light stabilizer, a lubricant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a colorant, an antistatic agent, a compatibilizer, a crosslinking agent, a thickener, an inorganic particle, a surfactant, and additives such as dispersants.

투명 도전층 형성용 조성물의 점도는, 바람직하게는 5 mP·s/25 ℃ ∼ 300 mP·s/25 ℃ 이며, 보다 바람직하게는 10 mP·s/25 ℃ ∼ 100 mP·s/25 ℃ 이다. 이와 같은 범위이면, 송풍 공정에 있어서의 풍향을 특정한 방향으로 함으로써 얻어지는 효과가 커진다. 투명 도전층 형성용 조성물의 점도는, 레오미터 (예를 들어, 안톤파사의 MCR302) 에 의해 측정할 수 있다.The viscosity of the composition for forming a transparent conductive layer is preferably 5 mP·s/25°C to 300 mP·s/25°C, more preferably 10 mP·s/25°C to 100 mP·s/25°C . If it is such a range, the effect obtained by making the wind direction in a ventilation process into a specific direction becomes large. The viscosity of the composition for transparent conductive layer formation can be measured with a rheometer (For example, MCR302 of Antonpa Corporation).

투명 도전층 형성용 조성물 중의 금속 나노 와이어의 분산 농도는, 바람직하게는 0.01 중량% ∼ 5 중량% 이다. 이와 같은 범위이면, 본 발명의 효과는 현저해진다.The dispersion concentration of the metal nanowires in the composition for forming a transparent conductive layer is preferably 0.01% by weight to 5% by weight. If it is such a range, the effect of this invention becomes remarkable.

상기 투명 도전층 형성용 조성물의 도포 방법으로는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 도포 방법으로는, 예를 들어, 스프레이 코트, 바 코트, 롤 코트, 다이 코트, 잉크젯 코트, 스크린 코트, 딥 코트, 볼록판 인쇄법, 오목판 인쇄법, 그라비아 인쇄법 등을 들 수 있다.Any suitable method may be employed as a method of applying the composition for forming the transparent conductive layer. Examples of the coating method include spray coating, bar coating, roll coating, die coating, inkjet coating, screen coating, dip coating, embossing printing method, intaglio printing method, and gravure printing method.

상기 도포층의 겉보기 중량은, 바람직하게는 0.3 g/㎡ ∼ 30 g/㎡ 이며, 보다 바람직하게는 1.6 g/㎡ ∼ 16 g/㎡ 이다. 이와 같은 범위이면, 송풍 공정에 있어서의 송풍에 의해, 금속 나노 와이어가 양호하게 분산하여, 도전 이방성이 보다 작은 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다.The weight of the coating layer is preferably 0.3 g/m 2 to 30 g/m 2 , and more preferably 1.6 g/m 2 to 16 g/m 2 . If it is such a range, a metal nanowire disperse|distributes favorably by the ventilation in a ventilation process, and a transparent conductive film with smaller electrically conductive anisotropy can be manufactured.

상기 도포층의 막두께는, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이며, 보다 바람직하게는 2 ㎛ ∼ 40 ㎛ 이다.The film thickness of the said application layer becomes like this. Preferably they are 1 micrometer - 50 micrometers, More preferably, they are 2 micrometers - 40 micrometers.

C. 송풍 공정C. Blowing process

상기와 같이, 송풍 공정에 있어서는, 상기 도포층측에 송풍하여 당해 도포층 중의 금속 나노 와이어의 배향을 적절한 배향으로 한다. 송풍의 방향은 A 항에서 설명한 바와 같다.As mentioned above, in a ventilation process, it blows to the said application layer side, and let the orientation of the metal nanowire in the said application layer be an appropriate orientation. The direction of blowing is the same as described in section A.

도포층에 대한 송풍은, 임의의 적절한 방법에 의해 실시할 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서는, 도포층의 상방 (기재와는 반대측) 에 배치된 송풍기를 사용하여, 도포층에 대한 송풍이 실시될 수 있다. 송풍 방향은, 예를 들어, 송풍기에 루버를 설치하고, 당해 루버의 방향에 의해 조정할 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서는, 송풍 방향은 루버의 개구 방향에 의해 규정된다. 또, 나선상의 바람을 보내는 경우에는, 송풍구에 나선상의 풍향판을 구비하는 송풍기가 이용될 수 있다.Ventilation to the application layer can be performed by any suitable method. In one embodiment, using the blower arrange|positioned above the application layer (on the side opposite to the base material), the ventilation with respect to an application layer can be implemented. The ventilation direction can be adjusted with the direction of the said louver, for example by installing a louver in a blower. In one embodiment, the blowing direction is defined by the opening direction of a louver. In addition, in the case of sending a spiral wind, a blower having a spiral wind direction plate in the air outlet may be used.

상기 바람의 풍속은, 바람직하게는 0.5 m/s ∼ 10 m/s 이며, 보다 바람직하게는 1 m/s ∼ 7 m/s 이다. 이와 같은 범위이면, 금속 나노 와이어가 기재 근방에 양호하게 분산하여, 도전성이 우수하고, 또한, 도전 이방성이 보다 작은 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다. 또, 표면 평활성 및 두께의 균일성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 풍속은, 투명 도전층 형성용 조성물에 포함되는 용매 등에 따라, 적절히 설정될 수 있다. 물에 의해 조제된 투명 도전층 형성용 조성물을 사용하는 경우, 상기 풍속은, 바람직하게는 0.5 m/s ∼ 10 m/s 이며, 보다 바람직하게는 1 m/s ∼ 7 m/s 이다. 또한, 본 명세서에 있어서 풍속이란, 도포층에 도달하는 시점에서의 풍속을 의미한다.The wind speed of the wind is preferably 0.5 m/s to 10 m/s, and more preferably 1 m/s to 7 m/s. If it is within such a range, the metal nanowires disperse|distribute favorably in the vicinity of a base material, and it is excellent in electroconductivity, and a transparent conductive film with a smaller conductive anisotropy can be manufactured. Moreover, the transparent conductive film excellent in surface smoothness and uniformity of thickness can be obtained. The wind speed can be set suitably according to the solvent etc. contained in the composition for transparent conductive layer formation. When using the composition for transparent conductive layer formation prepared with water, the said wind speed becomes like this. Preferably they are 0.5 m/s - 10 m/s, More preferably, they are 1 m/s - 7 m/s. In addition, in this specification, wind speed means the wind speed at the time of reaching an application layer.

상기 바람의 온도는, 바람직하게는 바람직하게는 10 ℃ ∼ 50 ℃ 이며, 보다 바람직하게는 15 ℃ ∼ 30 ℃ 이다. 풍속은, 투명 도전층 형성용 조성물에 포함되는 용매 등에 따라, 적절히 설정될 수 있다. 물에 의해 조제된 투명 도전층 형성용 조성물을 사용하는 경우, 상기 바람의 온도는, 바람직하게는 10 ℃ ∼ 50 ℃ 이며, 보다 바람직하게는 15 ℃ ∼ 30 ℃ 이다. 또한, 본 명세서에 있어서 바람의 온도란, 도포층에 도달하는 시점에서의 바람의 온도를 의미한다.The temperature of the wind is preferably 10°C to 50°C, more preferably 15°C to 30°C. The wind speed can be set suitably according to the solvent etc. contained in the composition for transparent conductive layer formation. When using the composition for transparent conductive layer formation prepared with water, the temperature of the said wind becomes like this. Preferably it is 10 degreeC - 50 degreeC, More preferably, it is 15 degreeC - 30 degreeC. In addition, in this specification, the temperature of wind means the temperature of the wind at the time of reaching an application layer.

송풍 시간은, 바람직하게는 1 분 ∼ 10 분이며, 보다 바람직하게는 2 분 ∼ 5 분이다. 이와 같은 범위이면, 금속 나노 와이어가 양호하게 분산하여, 도전 이방성이 보다 작은 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다. 구체적으로는, 송풍 시간이 상기 범위가 되도록 하여 피송풍 면적을 정하면, 금속 나노 와이어를 도포층 전체에 적절히 분산시킬 수 있어, 도전 이방성이 보다 작은 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다. 또, 표면 평활성 및 두께의 균일성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.Blowing time becomes like this. Preferably they are 1 minute - 10 minutes, More preferably, they are 2 minutes - 5 minutes. If it is such a range, a metal nanowire can disperse|distribute favorably, and a transparent conductive film with a smaller conductive anisotropy can be manufactured. Specifically, if the blowing area is determined so that the blowing time is within the above range, the metal nanowires can be appropriately dispersed in the entire coating layer, and a transparent conductive film having smaller conductive anisotropy can be manufactured. Moreover, the transparent conductive film excellent in surface smoothness and uniformity of thickness can be obtained.

하나의 실시형태에 있어서는, 반송 롤 상의 기재 (도포층이 형성된 기재) 에 대하여, 상기 송풍을 실시한다. 이와 같이 하면, 금속 나노 와이어가 양호하게 분산하여, 도전 이방성이 보다 작은 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다. 또, 표면 평활성 및 두께의 균일성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.In one embodiment, the said ventilation is performed with respect to the base material (base material with an application layer) on a conveyance roll. In this way, metal nanowires disperse|distribute favorably and a transparent conductive film with a smaller conductive anisotropy can be manufactured. Moreover, the transparent conductive film excellent in surface smoothness and uniformity of thickness can be obtained.

송풍 공정에 있어서는, 송풍을 다단계로 나누어 실시해도 된다. 예를 들어, 풍향, 풍속, 온도 등이 상이하도록 존을 나누어, 송풍을 단계적으로 실시해도 된다. 또, 송풍 공정의 전에 오븐 가열, 자연 건조 등의 방법에 의해, 도포층의 두께를 줄여도 된다. 송풍 공정을 개시할 때의 도포층의 겉보기 중량은, 바람직하게는 0.001 g/㎡ ∼ 0.09 g/㎡ 이며, 보다 바람직하게는 0.005 g/㎡ ∼ 0.05 g/㎡ 이다.In a ventilation process, you may divide and implement ventilation into multiple steps. For example, zones may be divided so that a wind direction, a wind speed, temperature, etc. may differ, and you may perform ventilation in stages. Moreover, you may reduce the thickness of an application layer by methods, such as oven heating and natural drying, before a ventilation process. The weight of the coating layer at the start of the blowing step is preferably 0.001 g/m 2 to 0.09 g/m 2 , more preferably 0.005 g/m 2 to 0.05 g/m 2 .

송풍 공정의 후, 임의의 적절한 처리를 실시해도 된다. 예를 들어, 바인더 수지를 포함하는 투명 도전층 형성용 조성물을 사용한 경우, 자외선 조사 등에 의한 경화 처리를 실시해도 된다. 또, 송부 공정의 후에, 건조 공정을 실시해도 된다. 건조 방법으로는, 예를 들어, 오븐 가열, 자연 건조 등을 들 수 있다.You may perform arbitrary appropriate processes after a ventilation process. For example, when the composition for transparent conductive layer formation containing binder resin is used, you may perform hardening process by ultraviolet irradiation etc. Moreover, you may implement a drying process after a sending process. As a drying method, oven heating, natural drying, etc. are mentioned, for example.

D. 투명 도전성 필름D. Transparent conductive film

상기의 제조 방법에 의해, 투명 도전성 필름이 형성된다. 도 2 는, 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 제조 방법에 의해 얻어진 투명 도전성 필름의 개략 단면도이다. 투명 도전성 필름 (100) 은, 기재 (10) 와, 그 기재 (10) 의 편측에 배치되는 투명 도전층 (20) 을 포함한다.A transparent conductive film is formed by said manufacturing method. It is a schematic sectional drawing of the transparent conductive film obtained by the manufacturing method by one Embodiment of this invention. The transparent conductive film 100 includes a substrate 10 and a transparent conductive layer 20 disposed on one side of the substrate 10 .

투명 도전성 필름의 표면 저항값은, 바람직하게는 0.1 Ω/□ ∼ 1000 Ω/□ 이고, 보다 바람직하게는 0.5 Ω/□ ∼ 300 Ω/□ 이며, 특히 바람직하게는 1 Ω/□ ∼ 200 Ω/□ 이다. 투명 도전성 필름의 MD (반송 방향) 에 있어서의 표면 저항값에 대한, TD (MD 에 직교하는 방향) 에 있어서의 표면 저항값의 비 (TD/MD) 는, 바람직하게는 0.7 ∼ 1.5 이고, 보다 바람직하게는 0.8 ∼ 1.2 이며, 더욱 바람직하게는 0.9 ∼ 1.1 이다. 표면 저항값은, 미쯔비시 케미칼 애널리테크사의 「저항률 자동 측정 시스템 MCP-S620 형·MCP-S521 형」 에 의해 측정할 수 있다.The surface resistance value of the transparent conductive film is preferably 0.1 Ω/□ to 1000 Ω/□, more preferably 0.5 Ω/□ to 300 Ω/□, particularly preferably 1 Ω/□ to 200 Ω/□. □ is. The ratio (TD/MD) of the surface resistance value in TD (direction orthogonal to MD) to the surface resistance value in MD (transport direction) of the transparent conductive film is preferably 0.7 to 1.5, and more Preferably it is 0.8-1.2, More preferably, it is 0.9-1.1. A surface resistance value can be measured with "resistivity automatic measurement system MCP-S620 type/MCP-S521 type" by Mitsubishi Chemical Analytech.

상기 투명 도전성 필름의 헤이즈값은, 바람직하게는 20 % 이하이고, 보다 바람직하게는 10 % 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.1 % ∼ 5 % 이다.The haze value of the transparent conductive film is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, and still more preferably 0.1% to 5%.

상기 투명 도전성 필름의 전광선 투과율은, 바람직하게는 30 % 이상이고, 보다 바람직하게는 35 % 이상이며, 특히 바람직하게는 40 % 이상이다.The total light transmittance of the transparent conductive film is preferably 30% or more, more preferably 35% or more, and particularly preferably 40% or more.

투명 도전층의 겉보기 중량은, 바람직하게는 0.001 g/㎡ ∼ 0.09 g/㎡ 이며, 보다 바람직하게는 0.005 g/㎡ ∼ 0.05 g/㎡ 이다.The weight per unit area of the transparent conductive layer is preferably 0.001 g/m 2 to 0.09 g/m 2 , more preferably 0.005 g/m 2 to 0.05 g/m 2 .

상기 투명 도전층에 있어서의 금속 나노 와이어의 함유 비율은, 투명 도전층을 구성하는 바인더 수지 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 중량부 ∼ 50 중량부이며, 보다 바람직하게는 0.1 중량부 ∼ 30 중량부이다. 이와 같은 범위이면, 도전성 및 광 투과성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.The content ratio of the metal nanowires in the transparent conductive layer is preferably 0.1 parts by weight to 50 parts by weight, more preferably 0.1 parts by weight to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin constituting the transparent conductive layer. is part by weight. If it is such a range, the transparent conductive film excellent in electroconductivity and light transmittance can be obtained.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 조금도 한정되는 것은 아니다. 실시예에 있어서의 평가 방법은 이하와 같다. 또한, 두께는, 에폭시 수지로 포매 처리 후 울트라마이크로톰으로 절삭함으로써 단면을 형성하고, 히타치 하이테크놀로지즈사 제조의 주사형 전자 현미경 「S-4800」 을 사용하여 측정하였다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited in any way by these Examples. The evaluation method in an Example is as follows. In addition, thickness was formed by cutting with an ultra microtome after embedding process with an epoxy resin, and it measured using the Hitachi High-Technologies company scanning electron microscope "S-4800".

(1) 표면 저항값(1) Surface resistance value

투명 도전성 필름의 표면 저항값을, 넵손 주식회사 제조의 비접촉 표면 저항계 상품명 「EC-80」 을 사용하여, 와전류법에 의해 측정하였다. 측정 온도는 23 ℃ 로 하였다.The surface resistance value of the transparent conductive film was measured by the eddy current method using the non-contact surface resistance meter brand name "EC-80" by Nepson Corporation. The measurement temperature was 23 degreeC.

(2) 저항의 이방성 측정(2) Measurement of anisotropy of resistance

도공한 필름을 도공 방향과 폭 방향으로 각각 5 × 2.5 ㎝ 로 잘라내고, 중앙의 2.5 ㎝ □ 를 개구부로 하여 그 부위 이외에 (후지쿠라 화성 제조) 은 페이스트 (품명 D-550) 를 도포하여 3 시간 방치하였다. 은 페이스트의 건조 후, 테스터의 애노드와 캐소드를 은 페이스트부에 접촉시켜, 개구부의 저항을 측정하였다. 「폭 방향의 저항값」 / 「도공 방향의 저항값」 을 저항의 이방성으로 하였다.The coated film was cut out to 5 × 2.5 cm in the coating direction and the width direction, respectively, and a silver paste (product name: D-550) (product name D-550) was applied other than that part (manufactured by Fujikura Chemical Co., Ltd.) with the 2.5 cm square in the center as an opening for 3 hours. was left After the silver paste was dried, the anode and the cathode of the tester were brought into contact with the silver paste part, and the resistance of the opening was measured. "The resistance value of the width direction" / "The resistance value of the coating direction" was made into the anisotropy of resistance.

[제조예 1] 투명 도전층 형성용 조성물의 조제[Production Example 1] Preparation of a composition for forming a transparent conductive layer

Chem. Mater. 2002, 14, 4736-4745 에 기재된 방법에 기초하여, 은 나노와이어를 합성하였다.Chem. Mater. 2002, 14, based on the method described in 4736-4745, silver nanowires were synthesized.

순수에, 상기에서 얻어진 은 나노와이어를 0.2 중량%, 및, 도데실-펜타에틸렌글리콜을 0.1 중량% 의 농도가 되도록 분산하고, 투명 도전층 형성용 조성물을 얻었다.In pure water, 0.2 wt% of the silver nanowires obtained above, and dodecyl-pentaethylene glycol were dispersed so as to have a concentration of 0.1 wt%, to obtain a composition for forming a transparent conductive layer.

[실시예 1][Example 1]

기재로서 PET 필름 (미쯔비시 수지 제조, 상품명 「S100」) 을 사용하였다. 이 기재를 반송 롤을 사용하여 반송하면서, 당해 기재 상에, 바 코터 (다이이치 리카 주식회사 제조, 제품명 「바 코터 No. 16」) 를 사용하여 제조예 1 에서 조제한 투명 도전층 형성용 조성물을 도포하여 두께 겉보기 중량 0.015 g/㎡, wet 막두께 15 ㎛ 의 도포층을 형성하였다. 그 후, 도포층이 형성된 기재를 반송하면서, 도포층에 정류풍을 송풍하여 도포층을 건조시켜, 투명 도전층을 형성하고, 기재 및 투명 도전층을 구비하는 투명 도전성 필름을 얻었다.A PET film (manufactured by Mitsubishi Resin, trade name “S100”) was used as the substrate. The composition for forming a transparent conductive layer prepared in Production Example 1 was applied onto the substrate while the substrate was transported using a transport roll, using a bar coater (manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd., product name “Bar Coater No. 16”). Thus, an application layer having a thickness of an average weight of 0.015 g/m 2 and a wet film thickness of 15 µm was formed. Then, conveying the base material with an application layer, the rectifying air was blown to the application layer, the application layer was dried, the transparent conductive layer was formed, and the transparent conductive film provided with a base material and a transparent conductive layer was obtained.

송풍 방향은, 도 1(a) 에 나타내는 바와 같이, 도포층면에 대하여 수직인 방향으로 하였다. 또, 풍속은, 2 m/s 로 하고, 바람의 온도는 25 ℃ 로 하였다. 또, 송풍 시간 (건조 시간) 은 2 분으로 하였다.The blowing direction was made into the direction perpendicular|vertical with respect to the coating layer surface, as shown to Fig.1 (a). Moreover, the wind speed was 2 m/s, and the temperature of the wind was 25 degreeC. In addition, the ventilation time (drying time) was made into 2 minutes.

얻어진 투명 도전성 필름을 상기 평가 (1) 에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluation (1). A result is shown in Table 1.

[실시예 2][Example 2]

풍속을 6 m/s 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 투명 도전성 필름을 얻었다. 얻어진 투명 도전성 필름을 상기 평가 (1) 에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except having set the wind speed to 6 m/s, it carried out similarly to Example 1, and obtained the transparent conductive film. The obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluation (1). A result is shown in Table 1.

[실시예 3][Example 3]

송풍 방향을, 도 1(b) 에 나타내는 바와 같이, 도포층면에 대하여 비스듬한 방향 (도포층면에 대하여 45° 방향) 으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 투명 도전성 필름을 얻었다. 기재의 반송 방향 (A) 과 도포층면측에서 본 송풍 방향이 이루는 각은 0° 로 하였다. 얻어진 투명 도전성 필름을 상기 평가 (1) 에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blowing direction was set to an oblique direction with respect to the coated layer surface (45° direction with respect to the coated layer surface) as shown in Fig. 1(b). The angle between the conveying direction (A) of the substrate and the blowing direction viewed from the coating layer surface side was set to 0°. The obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluation (1). A result is shown in Table 1.

[실시예 4][Example 4]

풍속을 6 m/s 로 한 것 이외에는, 실시예 3 과 동일하게 하여, 투명 도전성 필름을 얻었다. 얻어진 투명 도전성 필름을 상기 평가 (1) 에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except having set the wind speed to 6 m/s, it carried out similarly to Example 3, and obtained the transparent conductive film. The obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluation (1). A result is shown in Table 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

실시예 1 과 동일하게 하여, 도포층을 형성하였다. 그 후, 도포층이 형성된 기재를 노 (爐) 내 온도 100 ℃ 의 오븐에 2 분간 투입하여, 투명 도전성 필름을 얻었다. 얻어진 투명 도전성 필름을 상기 평가 (1) 에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.It carried out similarly to Example 1, and formed the application layer. Then, the base material with an application layer was thrown into oven with a furnace temperature of 100 degreeC for 2 minutes, and the transparent conductive film was obtained. The obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluation (1). A result is shown in Table 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

송풍 방향은, 도 1(a) 에 나타내는 바와 같이, 도포층면에 대하여 평행한 방향으로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 투명 도전성 필름을 얻었다. 기재의 반송 방향 (A) 과 도포층면측에서 본 송풍 방향이 이루는 각은 90° 로 하였다.The ventilation direction was carried out similarly to Example 1, except having set it as the direction parallel to the application layer surface, as shown to Fig.1 (a), and the transparent conductive film was obtained. The angle formed between the conveyance direction (A) of the substrate and the blowing direction viewed from the coating layer surface side was set to 90°.

[비교예 3][Comparative Example 3]

풍속을 6 m/s 로 한 것 이외에는, 비교예 2 와 동일하게 하여, 투명 도전성 필름을 얻었다. 얻어진 투명 도전성 필름을 상기 평가 (1) 에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except having set the wind speed to 6 m/s, it carried out similarly to the comparative example 2, and obtained the transparent conductive film. The obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluation (1). A result is shown in Table 1.

Figure pct00001
Figure pct00001

표 1 로부터 분명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 도포층의 상방으로부터의 송풍에 의해, 평균 저항값이 작고 (즉, 도전성이 우수하고), 또한, 도전 이방성이 작은 수지 필름을 얻을 수 있다.As is clear from Table 1, according to the present invention, a resin film having a small average resistance value (that is, excellent conductivity) and small conductive anisotropy can be obtained by blowing from above the application layer.

10 : 기재
20 : 투명 도전층
100 : 투명 도전성 필름10: description
20: transparent conductive layer
100: transparent conductive film

Claims (5)

기재와, 그 기재의 편측에 배치된 투명 도전층을 구비하는 투명 도전성 필름의 제조 방법으로서,
장척상 (長尺狀) 의 그 기재를 반송 (搬送) 하면서, 그 기재에 금속 나노 와이어를 포함하는 투명 도전층 형성용 조성물을 도포하여 도포층을 형성하는 도포 공정과,
그 도포층의 상방으로부터 송풍하는 송풍 공정을 포함하는,
투명 도전성 필름의 제조 방법.A method for producing a transparent conductive film comprising: a substrate; and a transparent conductive layer disposed on one side of the substrate;
A coating step of forming an application layer by applying a composition for forming a transparent conductive layer containing metal nanowires to the substrate while conveying the elongated substrate;
Including a blowing step of blowing air from above the application layer,
A method for producing a transparent conductive film. 제 1 항에 있어서,
상기 송풍 공정에 있어서의 송풍이, 상기 도포층면에 대하여 대략 수직인 방향의 송풍을 포함하는, 투명 도전성 필름의 제조 방법.The method of claim 1,
The method for producing a transparent conductive film, wherein the blowing in the blowing step includes blowing in a direction substantially perpendicular to the surface of the coating layer. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 송풍 공정에 있어서의 송풍이, 상기 도포층면에 대하여 비스듬한 방향의 송풍을 포함하는, 투명 도전성 필름의 제조 방법.3. The method of claim 1 or 2,
The method for producing a transparent conductive film, wherein the blowing in the blowing step includes blowing in an oblique direction with respect to the surface of the coating layer. 제 1 항에 있어서,
상기 송풍 공정에 있어서의 송풍이, 나선상의 송풍인, 투명 도전성 필름의 제조 방법.The method of claim 1,
The method for producing a transparent conductive film, wherein the blowing in the blowing step is spiral blowing. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 기재된 제조 방법에 의해 제조된, 투명 도전성 필름.
The transparent conductive film manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-4.
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