KR20220027765A

KR20220027765A - 광학 필름, 광학 필름의 제조 방법, 광학 부재 및 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR20220027765A
Application number: KR1020210109050A
Authority: KR
Inventors: 미호 니시오; 나오키 하시모토; 히데히코 안도
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2020-08-26
Filing date: 2021-08-18
Publication date: 2022-03-08
Also published as: CN114106389A; TW202208158A

Abstract

(과제) 표시 특성 불량이 억제 또는 방지된 광학 필름을 제공한다.
(해결 수단) 광 투과성 기재 (A) (11) 상에 수지층 (B) (12) 가 형성되고,
수지층 (B) (12) 를 구성하는 원소가, 규소를 포함하고,
수지층 (B) (12) 중에 있어서, 광 투과성 기재 (A) (11) 와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서의 원자수가, 하기 수식 (1) 을 만족하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 (10).
5.0 ≤ [(n_Si/n_total) × 100] ≤ 9.0 (1)
상기 수식 (1) 중, n_total 은, 탄소, 질소, 산소 및 규소의 원자수의 합계이고, n_Si 는, 규소 원자수이다.

Description

광학 필름, 광학 필름의 제조 방법, 광학 부재 및 화상 표시 장치{OPTICAL FILM, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILM, OPTICAL MEMBER AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은, 광학 필름, 광학 필름의 제조 방법, 광학 부재 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.

화상 표시 장치 등에 사용하는 광학 필름에는, 광 투과성 기재 상에 하드 코트층 등의 수지층이 형성된 것이 있다 (특허문헌 1 등). 또, 상기 수지층 상에는, 추가로 다른 층을 첩부하여 사용하는 경우가 있다.

일본 공개특허공보 2008-221746호

화상 표시 장치 등의 장치를 박형화하기 위해서는, 거기에 사용하는 광학 필름도 가능한 한 박형화하는 것이 바람직하다.

그러나, 상기 광학 필름에 있어서, 광 투과성 기재 상에 형성된 수지층의 두께를 얇게 하면, 크레이터링이라고 불리는 표시 특성 불량이 일어날 우려가 있다. 한편, 크레이터링을 방지할 목적에서 상기 수지층 중의 첨가제의 양을 늘리면, 상기 수지층 상에 다른 층을 첩부한 경우에, 오염 또는 벗겨짐 등에 의해, 역시 표시 특성 불량이 일어날 우려가 있다.

그래서, 본 발명은, 표시 특성 불량이 억제 또는 방지된 광학 필름, 광학 필름의 제조 방법, 광학 부재 및 화상 표시 장치의 제공을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 광학 필름은,

광 투과성 기재 (A) 상에 수지층 (B) 가 형성되고,

상기 수지층 (B) 를 구성하는 원소가, 규소를 포함하고,

상기 수지층 (B) 중에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서의 원자수가, 하기 수식 (1) 을 만족하는 것을 특징으로 한다.

5.0 ≤ [(n_Si/n_total) × 100] ≤ 9.0 (1)

상기 수식 (1) 중, n_total 은, 탄소, 질소, 산소 및 규소의 원자수의 합계이고, n_Si 는, 규소 원자수이다.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은,

상기 광 투과성 기재 (A) 상에, 상기 수지층 (B) 를, 상기 수식 (1) 을 만족하도록 형성하는 수지층 (B) 형성 공정을 포함하고,

상기 수지층 (B) 형성 공정이, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 수지층 형성용 도공액을 도공하는 도공 공정과, 도공한 상기 수지층 형성용 도공액을 건조시켜 도막을 형성하는 도막 형성 공정을 포함하고,

상기 수지층 형성용 도공액이, 수지와, 규소 원소 함유 첨가제와, 희석 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 본 발명의 광학 필름의 제조 방법이다.

본 발명의 광학 부재는, 본 발명의 광학 필름을 포함하는 광학 부재이다.

본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름, 또는 본 발명의 광학 부재를 포함하는 화상 표시 장치이다.

본 발명에 의하면, 표시 특성 불량이 억제 또는 방지된 광학 필름, 광학 필름의 제조 방법, 광학 부재 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.

도 1 은, 본 발명의 광학 필름 및 그 제조 방법의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 광학 필름의 다른 일례를 나타내는 단면도이다.

다음으로, 본 발명에 대해 예를 들어 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 설명에 의해 전혀 한정되지 않는다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 의 두께가 1.0 ∼ 5.0 ㎛ 여도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 가, 표면 조정제를 포함하고, 상기 표면 조정제를 구성하는 원소가, 규소를 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 표면 조정제가, 디메틸실록산 골격을 갖는 규소 화합물을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 가, 관능기를 갖는 올리고머와 모노머의 공중합체에 의해 형성되어 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 가, 하드 코트층이어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 에 있어서의 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 면 상에, 점착층에 의해 다른 층 (C) 가 첩부되어 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 점착층이, 하기 수식 (2) 의 조건을 만족하고 있어도 된다. 또한, 하기 수식 (2) 중에 있어서의 물 접촉각 d₁ 및 d₂ 의 측정 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.

(d₁ － d₂)/d₁ ≥ 0.10 (2)

상기 수식 (2) 중, d₁ 은, 상기 수지층 (B) 표면에 상기 점착층 및 상기 다른 층 (C) 가 없는 경우에 있어서의 상기 수지층 (B) 표면의 물 접촉각 (°) 이고, d₂ 는, 상기 점착층으로부터 상기 다른 층 (C) 를 박리한 후에 있어서의 상기 점착층 표면의 물 접촉각 (°) 이다. 또한, 상기 수식 (2) 는, d₂ 가, d₁ 의 90 ％ 이하인 (10 ％ 이상 감소되어 있는) 것과 동일한 의미이다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 다른 층 (C) 가, 유리 또는 수지 필름이어도 된다.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 형성 공정이, 추가로 상기 도막을 경화시키는 경화 공정을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 예를 들어, 상기 광학 필름에 있어서의 상기 수지층 (B) 가, 표면 조정제를 포함하고, 상기 표면 조정제를 구성하는 원소가, 규소를 포함하고, 상기 규소 원소 함유 첨가제가, 상기 표면 조정제여도 된다. 상기 표면 조정제는, 예를 들어, 전술한 바와 같이, 디메틸실록산 골격을 갖는 규소 화합물을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 예를 들어, 상기 희석 용매가, MIBK (메틸이소부틸케톤) 및 시클로펜타논을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 부재는, 예를 들어, 편광판이어도 된다.

또한, 본 발명에 있어서,「중량」과「질량」은, 특별히 언급하지 않는 한, 서로 바꿔 읽어도 되는 것으로 한다. 예를 들어,「질량부」는「중량부」로 바꿔 읽어도 되고,「중량부」는「질량부」로 바꿔 읽어도 되고,「질량％」는「중량％」로 바꿔 읽어도 되고,「중량％」는「질량％」로 바꿔 읽어도 되는 것으로 한다.

[1. 광학 필름]

본 발명의 광학 필름은, 전술한 바와 같이,

광 투과성 기재 (A) 상에 수지층 (B) 가 형성되고,

상기 수지층 (B) 를 구성하는 원소가, 규소를 포함하고,

5.0 ≤ [(n_Si/n_total) × 100] ≤ 9.0 (1)

도 1 에, 본 발명의 광학 필름 및 그 제조 방법의 일례를 나타낸다. 먼저, 도 1(a) 에 나타내는 바와 같이, 광 투과성 기재 (A) (11) 를 준비한다. 다음으로, 도 1(b) 에 나타내는 바와 같이, 광 투과성 기재 (A) (11) 의 일방의 면에, 수지층 (B) (12) 를 형성한다. 수지층 (B) (12) 는, 광 투과성 기재 (A) (11) 와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서의 원자수가, 상기 수식 (1) 을 만족한다. 이와 같이 하여, 도 1(b) 에 나타내는 본 발명의 광학 필름 (10) 을 제조할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 대해서는, 이후에 상세하게 서술한다.

또, 도 1(c) 에 나타내는 바와 같이, 추가로, 수지층 (B) (12) 에 있어서의 광 투과성 기재 (A) (11) 와 반대측의 면 상에, 점착층 (13) 에 의해 다른 층 (C) (20) 를 첩부하여, 다른 층 (C) (20) 를 포함하는 본 발명의 광학 필름 (10') 으로 해도 된다.

또, 도 2 의 단면도에, 본 발명의 광학 필름의 다른 일례를 나타낸다. 도시한 바와 같이, 이 광학 필름 (10) 은, 광 투과성 기재 (A) (11) 의 일방의 면에, 수지층 (B) (12) 가 적층되어 있다. 도 2 의 광학 필름 (10) 에서는, 수지층 (B) (12) 는, 방현성 하드 코트층이다. 방현성 하드 코트층 (B) (12) 는, 수지층 형성 수지 (12a) 중에 입자 (12b) 및 틱소트로피 부여제 (12c) 가 포함되어 있다.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 수지층 (B) 는, 수지만으로 형성되어 있어도 되지만, 다른 성분을 포함하고 있어도 된다. 상기 다른 성분은, 특별히 한정되지 않고, 1 종류여도 되고 복수 종류여도 되며, 예를 들어, 도 2 에 나타낸 바와 같이, 입자, 틱소트로피 부여제 등이어도 된다.

또, 상기 수지층 (B) 에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 표면은, 평탄해도 되지만, 예를 들어, 도 2 에서 나타낸 바와 같이, 요철을 갖고 있어도 된다. 또한, 본 발명에 있어서, 상기 수지층 (B) 에 있어서의 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 표면으로부터의「깊이」는, 상기 광 투과성 기재 (A) 의 표면과 수직 방향을 향한 깊이이며, 상기 표면이 평탄한 경우에도 요철을 갖는 경우에도 동일한 것으로 한다.

본 발명의 광학 필름은, 전술한 바와 같이, 상기 수지층 (B) 중에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서의 원자수가, 상기 수식 (1) 을 만족한다. 상기 수식 (1) 을 만족하는 것은, 상기 수지층 (B) 중에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서, 탄소, 질소, 산소 및 규소의 원자수의 합계에 대해, 규소 원자수가 5.0 ∼ 9.0 ％ 인 것과 동일한 의미이다. 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서, 탄소, 질소, 산소 및 규소의 원자수의 합계에 대해, 규소 원자수는, 예를 들어, 5.5 ％ 이상, 6.0 ％ 이상, 또는 6.5 ％ 이상이어도 되고, 예를 들어, 8.5 ％ 이하, 8.0 ％ 이하, 또는 7.5 ％ 이하여도 된다.

또한, 상기 수지층 (B) 는, 상기 수식 (1) 에서 정의되는 바와 같이, 원소로서의 규소를 반드시 포함한다. 또, 상기 수지층 (B) 는, 원소로서의 탄소, 질소 및 산소를, 전체 종류 (3 종류) 포함하고 있어도 되지만, 전체 종류를 포함하지 않아도 되고, 1 종류 또는 2 종류만 포함하고 있어도 된다. 또, 상기 수지층 (B) 는, 탄소, 질소, 산소 및 규소 이외의 원소를 포함하고 있어도 되고, 포함하고 있지 않아도 된다.

또, 상기 수지층 (B) 의 두께는, 예를 들어, 전술한 바와 같이, 1.0 ∼ 5.0 ㎛ 여도 된다. 상기 수지층 (B) 의 두께는, 예를 들어, 1.5 ㎛ 이상이어도 되고, 예를 들어, 4.5 ㎛ 이하, 4.0 ㎛ 이하, 3.5 ㎛ 이하, 3.0 ㎛ 이하, 또는 2.5 ㎛ 이하여도 된다.

이하, 상기 광 투과성 기재 (A), 상기 수지층 (B), 상기 점착층, 및 상기 다른 층 (C) 의 각각에 대해, 더욱 예를 들어 설명한다.

상기 광 투과성 기재 (A) 는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 투명 플라스틱 필름 기재 등을 들 수 있다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재는, 특별히 제한되지 않지만, 가시광의 광선 투과율이 우수하고 (바람직하게는 광선 투과율 90 ％ 이상), 투명성이 우수한 것 (바람직하게는 헤이즈값 1 ％ 이하의 것) 이 바람직하고, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2008-90263호에 기재된 투명 플라스틱 필름 기재를 들 수 있다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재로는, 광학적으로 복굴절이 적은 것이 바람직하게 사용된다. 본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 보호 필름으로서 편광판에 사용할 수도 있으며, 이 경우에는, 상기 투명 플라스틱 필름 기재로는, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC), 폴리카보네이트, 아크릴계 폴리머, 고리형 내지 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀 등으로 형성된 필름이 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서, 후술하는 바와 같이, 상기 투명 플라스틱 필름 기재는, 편광자 자체여도 된다. 이와 같은 구성이면, TAC 등으로 이루어지는 보호층을 필요로 하지 않아 편광판의 구조를 단순화할 수 있으므로, 편광판 혹은 화상 표시 장치의 제조 공정수를 감소시켜, 생산 효율의 향상을 도모할 수 있다. 또, 이와 같은 구성이면, 편광판을 보다 박층화할 수 있다. 또한, 상기 투명 플라스틱 필름 기재가 편광자인 경우에는, 상기 수지층 (B) 및 상기 다른 층 (C) 가, 보호층으로서의 역할을 하게 된다. 또, 이와 같은 구성이면, 광학 필름은, 예를 들어, 액정 셀 표면에 장착되는 경우, 커버 플레이트로서의 기능을 겸하게 된다.

본 발명에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 의 두께는, 특별히 제한되지 않지만, 강도, 취급성 등의 작업성 및 박층성 등의 점을 고려하면, 예를 들어, 10 ∼ 500 ㎛, 20 ∼ 300 ㎛, 또는 30 ∼ 200 ㎛ 의 범위이다. 상기 광 투과성 기재 (A) 의 굴절률은, 특별히 제한되지 않는다. 상기 굴절률은, 예를 들어, 1.30 ∼ 1.80 또는 1.40 ∼ 1.70 의 범위이다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 광 투과성 기재 (A) 에 포함되는 수지가, 아크릴 수지를 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 광 투과성 기재 (A) 가, 아크릴 필름이어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 에 있어서의 상기 광 투과성 기재의 반대측의 표면이 요철을 갖고, 상기 요철에서 기인하는 외부 헤이즈값이 5 ％ 이상이어도 된다. 고방현의 필름에 있어서는, 전체의 외관이 하얗게 흐릿해지고, 흑백의 농담 무늬가 발생하기 쉬워질 우려가 있다. 이것을 억제 또는 방지하는 관점에서, 및, 반사 글레어를 억제하는 관점에서, 상기 외부 헤이즈값이 가능한 한 큰 것이 바람직하다. 한편, 표시 특성의 저하 (예를 들어, 화상이 불선명해지거나, 어두운 곳에서의 콘트라스트가 저하되는 등) 를 억제 또는 방지하는 관점에서는, 상기 외부 헤이즈값이 지나치게 크지 않은 것이 바람직하다. 상기 외부 헤이즈값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 5 ％ 이상, 10 ％ 이상, 15 ％ 이상, 또는 20 ％ 이상이어도 되고, 예를 들어, 50 ％ 이하, 45 ％ 이하, 40 ％ 이하, 또는 35 ％ 이하여도 된다. 본 발명에 있어서, 상기 외부 헤이즈값의 측정 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 (1) ∼ (3) 의 측정 방법에 의해 측정할 수 있다.

(1) 본 발명의 광학 필름의 전체 헤이즈값을, JIS K 7136 에 준거한 방법에 기초하여 측정한다.

(2) 상기 (1) 의 광학 필름의 수지층 (B) 에 있어서의 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 면에 투광성 점착제를 적층하고, 추가로 그 위에, COP 필름 (닛폰 제온사 제조, 상품명 ZEONOR 필름) 을 첩부하여 적층체를 제조한다. 이 적층체에 대해, JIS K 7136 에 준거한 전체 헤이즈값의 측정 방법 (즉, 상기 (1) 의 측정 방법) 과 동일한 측정 방법으로 측정하면, 상기 (1) 의 광학 필름의 내부 헤이즈값을 얻을 수 있다. 이 내부 헤이즈값은, 상기 (1) 의 전체 헤이즈값으로부터, 상기 수지층 (B) 측의 최표면의 상기 요철의 영향을 배제한 헤이즈값이다.

(3) 상기 (1) 에서 측정한 전체 헤이즈값으로부터 상기 (2) 에서 측정한 내부 헤이즈값을 감산하여 얻어진 수치를, 상기 (1) 의 광학 필름의 외부 헤이즈값으로 한다.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 수지층 (B) 에 포함되는 수지는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아크릴레이트 수지 (아크릴 수지라고도 한다) 를 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 에 포함되는 수지가, 우레탄아크릴레이트 수지를 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 전술한 바와 같이, 상기 수지층 (B) 가, 관능기를 갖는 올리고머와 모노머의 공중합체에 의해 형성되어 있어도 된다. 상기 관능기를 갖는 올리고머로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 경화형 우레탄아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 상기 경화형 우레탄아크릴레이트 수지로는, 예를 들어, 미츠비시 케미컬 주식회사 제조의 상품명「UV-1700TL」등을 들 수 있다. 상기 모노머로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 다관능 아크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 다관능 아크릴레이트로는, 예를 들어, 토아 합성 주식회사 제조의 상품명「M-920」등을 들 수 있다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 에 포함되는 수지가, 경화형 우레탄아크릴레이트 수지 및 다관능 아크릴레이트의 공중합물이어도 된다.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 수지층 (B) 는, 전술한 바와 같이, 원소로서의 규소를 반드시 포함한다. 이 때문에, 전술한 바와 같이, 상기 수지층 (B) 가, 표면 조정제를 포함하고, 상기 표면 조정제를 구성하는 원소가, 규소를 포함하고 있어도 된다. 또, 상기 표면 조정제가, 디메틸실록산 골격을 갖는 규소 화합물을 포함하고 있어도 된다. 상기 표면 조정제는, 예를 들어, 레벨링제, 디메틸실록산 변성 메타크릴산에스테르, 폴리디메틸실록산 고리형물 등이어도 된다. 상기 표면 조정제로는, 쿄에이샤 화학 (주) 제조의 상품명「LE-303」, DIC (주) 제조의 상품명「PC4100」등을 들 수 있다. 상기 표면 조정제의 첨가량은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 중에 있어서의 규소 함유율이 전술한 범위 내가 되도록 적절히 설정하면 된다.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 수지층 (B) 는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하드 코트층이어도 되고, 예를 들어, 방현성 하드 코트층이어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 가, 수지 및 필러를 포함하는 방현성 하드 코트층 형성 재료를 사용하여 형성되어 있고, 상기 수지층 (B) 가, 상기 필러가 응집됨으로써, 상기 수지층 (B) 의 표면에 볼록상부를 형성하는 응집부를 갖고 있어도 된다. 또, 상기 볼록상부를 형성하는 응집부에 있어서, 상기 필러가, 상기 수지층 (B) 의 면 방향에 있어서의 일방향으로 복수 모인 상태로 존재하고 있어도 된다. 본 발명의 화상 표시 장치는, 예를 들어, 상기 필러가 복수 모인 일방향과, 상기 블랙 매트릭스 패턴의 장변 방향이 일치하도록, 상기 본 발명의 광학 필름이 배치되어 있어도 된다. 상기 필러로는, 예를 들어, 상기 입자, 상기 틱소트로피 부여제 등을 들 수 있다.

상기 수지층 (B) 는, 예를 들어, 후술하는 바와 같이, 수지와, 규소 원소 함유 첨가제와, 희석 용매를 포함하는 도공액을, 상기 광 투과성 기재 (A) 의 면 상에 도공하여 도막을 형성하고, 이어서, 상기 도막으로부터 상기 용매를 제거함으로써 형성된다. 상기 수지는, 예를 들어, 열경화성 수지, 자외선이나 광으로 경화되는 전리 방사선 경화성 수지를 들 수 있다. 상기 수지로서, 시판되는 열경화형 수지나 자외선 경화형 수지 등을 사용하는 것도 가능하다.

상기 열경화형 수지나 자외선 경화형 수지로는, 예를 들어, 열, 광 (자외선 등) 또는 전자선 등에 의해 경화되는 아크릴레이트기 및 메타크릴레이트기의 적어도 일방의 기를 갖는 경화형 화합물을 사용할 수 있고, 예를 들어, 실리콘 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다관능 화합물의 아크릴레이트나 메타크릴레이트 등의 올리고머 또는 프레폴리머 등을 들 수 있다. 이들은, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.

상기 수지에는, 예를 들어, 아크릴레이트기 및 메타크릴레이트기의 적어도 일방의 기를 갖는 반응성 희석제를 사용할 수도 있다. 상기 반응성 희석제는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2008-88309호에 기재된 반응성 희석제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 단관능 아크릴레이트, 단관능 메타크릴레이트, 다관능 아크릴레이트, 다관능 메타크릴레이트 등을 포함한다. 상기 반응성 희석제로는, 3 관능 이상의 아크릴레이트, 3 관능 이상의 메타크릴레이트가 바람직하다. 이것은, 수지층 (B) 의 경도를 우수한 것으로 할 수 있기 때문이다. 상기 반응성 희석제로는, 예를 들어, 부탄디올글리세린에테르디아크릴레이트, 이소시아누르산의 아크릴레이트, 이소시아누르산의 메타크릴레이트 등도 들 수 있다. 이들은, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.

상기 수지층 (B) 는, 전술한 바와 같이, 틱소트로피 부여제를 포함하고 있어도 되고 포함하고 있지 않아도 된다. 상기 틱소트로피 부여제는, 예를 들어, 유기 점토, 산화폴리올레핀 및 변성 우레아로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나여도 된다. 또, 상기 틱소트로피 부여제는, 예를 들어, 증점제여도 된다. 상기 틱소트로피 부여제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 수지층 (B) 의 상기 수지층을 형성하는 수지의 전체 질량에 대해, 예를 들어, 상기 틱소트로피 부여제가 0.2 ∼ 5 질량％ 또는 0.4 ∼ 4 질량％ 포함되어 있어도 된다.

상기 다른 층 (C) 는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 보호층, 가식층 등이어도 된다. 상기 다른 층 (C) 는, 예를 들어, 유리 또는 수지 필름 (플라스틱 필름) 이어도 된다. 상기 수지 필름으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 닛토 전공 주식회사 제조의 상품명「E-MASK」시리즈 등을 들 수 있다. 상기 다른 층 (C) 의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 10 ㎛ 이상, 20 ㎛ 이상, 또는 30 ㎛ 이상이어도 되고, 예를 들어, 80 ㎛ 이하, 70 ㎛ 이하, 60 ㎛ 이하, 50 ㎛ 이하, 또는 40 ㎛ 이하여도 된다.

상기 점착층은, 예를 들어, 점착제 (점착제 조성물) 에 의해 형성된 점착층이어도 된다. 본 발명에 있어서, 상기 점착층은, 상기 수지층 (B) 로부터 상기 다른 층 (C) 를 재박리 가능한 층인 것이 바람직하다. 상기 점착층의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 5 ㎛ 이상, 또는 10 ㎛ 이상이어도 되고, 예를 들어, 50 ㎛ 이하, 40 ㎛ 이하, 30 ㎛ 이하, 또는 20 ㎛ 이하여도 된다. 상기 점착제는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, (메트)아크릴계 폴리머 등을 들 수 있다. 이들은, 예를 들어, 용매에 용해 또는 분산시켜 용액 또는 분산액의 형태로 하고, 그것을 상기 점착제 (점착제 조성물) 로서 사용해도 된다. 상기 용매로는, 예를 들어, 아세트산에틸 등을 들 수 있고, 1 종류만 사용해도 되고 복수 종류 병용해도 된다. 상기 용액 또는 분산액 중의 용질 또는 분산질 (예를 들어, 상기 아크릴계 폴리머) 의 농도는, 예를 들어, 10 질량％ 이상, 또는 15 질량％ 이상이어도 되고, 예를 들어, 60 질량％ 이하, 50 질량％ 이하, 40 질량％ 이하, 또는 25 질량％ 이하여도 된다. 또한, 본 발명에 있어서,「(메트)아크릴계 폴리머」는, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산에스테르, 및 (메트)아크릴아미드의 적어도 1 종류의 모노머의 중합체 또는 공중합체를 말한다. 또, 본 발명에 있어서, (메트)아크릴산은,「아크릴산 및 메타크릴산의 적어도 일방」을 의미하고,「(메트)아크릴산에스테르」는,「아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르의 적어도 일방」을 의미한다. 상기 (메트)아크릴산에스테르로는, 예를 들어, (메트)아크릴산의 직사슬 또는 분지 알킬에스테르 등을 들 수 있다. 상기 (메트)아크릴산의 직사슬 또는 분지 알킬에스테르에 있어서, 알킬기의 탄소수는, 예를 들어, 1 이상, 2 이상, 3 이상, 또는 4 이상이어도 되고, 예를 들어, 18 이하, 16 이하, 14 이하, 12 이하, 10 이하, 또는 8 이하여도 된다. 상기 알킬기는, 예를 들어, 하나 또는 복수의 치환기로 치환되어 있어도 되고 치환되어 있지 않아도 된다. 상기 치환기는, 예를 들어, 수산기 등을 들 수 있고, 복수인 경우에는, 동일해도 되고 상이해도 된다. 상기 (메트)아크릴산에스테르로는, 구체적으로는, 예를 들어, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또, 상기 점착제는, 1 종류만 사용해도 되고, 복수 종류 병용해도 된다.

또, 본 발명의 광학 필름은, 상기 광 투과성 기재 (A), 상기 수지층 (B), 상기 점착층, 상기 다른 층 (C) 이외의 추가로 다른 층을 포함하고 있어도 되고, 포함하고 있지 않아도 된다. 상기 다른 층은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 접착 용이층, 반사 방지층, 점착제가 부착된 기재층 등을 들 수 있다.

전술한 바와 같이, 광학 필름에 있어서, 광 투과성 기재 상에 형성된 수지층의 두께를 얇게 하면, 크레이터링이라고 불리는 표시 특성 불량이 일어날 우려가 있다. 한편, 크레이터링을 방지할 목적에서 상기 수지층 중의 첨가제 (예를 들어, 레벨링제 등의 표면 조정제) 의 양을 늘리면, 상기 수지층 상에 다른 층을 첩부한 경우에, 오염 또는 벗겨짐 등에 의해, 역시 표시 특성 불량이 일어날 우려가 있다. 이에 대해, 본 발명에서는, 상기 수지층 (B) 가 상기 수식 (1) 을 만족함으로써, 예를 들어, 상기 오염, 벗겨짐 등을 억제 또는 방지하는 것이 가능하고, 그 결과, 표시 특성 불량이 억제 또는 방지된 광학 필름을 제공할 수 있다.

[2. 광학 필름의 제조 방법]

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 특별히 제한되지 않고, 어떠한 방법으로 제조되어도 되지만, 상기 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의해 제조하는 것이 바람직하다.

상기 광학 필름의 제조 방법은, 예를 들어, 이하와 같이 하여 실시할 수 있다.

먼저, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에, 상기 수지층 (B) 를, 상기 수식 (1) 을 만족하도록 형성한다 (수지층 (B) 형성 공정). 이로써, 상기 광 투과성 기재 (A) 와 상기 수지층 (B) 의 적층체를 제조한다. 상기 수지층 (B) 형성 공정은, 전술한 바와 같이, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 상기 수지층 형성용 도공액 (이하, 간단히「도공액」또는「수지층 (B) 형성 재료」라고 하는 경우가 있다) 을 도공하는 도공 공정과, 도공한 상기 도공액을 건조시켜 도막을 형성하는 도막 형성 공정을 포함한다. 또, 예를 들어, 전술한 바와 같이, 상기 수지층 (B) 형성 공정이, 추가로 상기 도막을 경화시키는 경화 공정을 포함하고 있어도 된다. 상기 경화는, 예를 들어, 상기 건조 후에 실시할 수 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 상기 경화는, 예를 들어, 가열, 광 조사 등에 의해 실시할 수 있다. 상기 광은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 자외선 등이어도 된다. 상기 광 조사의 광원도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 고압 수은 램프 등이어도 된다.

상기 도공액 (수지층 (B) 형성 재료) 은, 전술한 바와 같이, 상기 수지와, 상기 규소 원소 함유 첨가제와, 상기 희석 용매 (이하, 간단히「용매」라고 하는 경우가 있다) 를 포함한다. 상기 도공액은, 이들 이외의 다른 성분을 포함하고 있어도 되고, 포함하고 있지 않아도 된다. 상기 다른 성분으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 상기 입자, 상기 틱소트로피 부여제 등을 들 수 있다.

상기 용매는, 특별히 제한되지 않고, 여러 가지 용매를 사용 가능하고, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다. 상기 수지의 조성, 상기 입자 및 상기 틱소트로피 부여제의 종류, 함유량 등에 따라, 본 발명의 광학 필름을 얻기 위해, 최적의 용매 종류나 용매 비율을 적절히 선택해도 된다. 용매로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 (IPA), 부탄올, t-부틸알코올 (TBA), 2-메톡시에탄올 등의 알코올류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논 등의 케톤류 ; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류 ; 디이소프로필에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류 ; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜류 ; 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류 ; 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 등을 들 수 있다. 또, 예를 들어, 상기 용매가, 탄화수소 용매와 케톤 용매를 포함하고 있어도 된다. 상기 탄화수소 용매는, 예를 들어, 방향족 탄화수소여도 된다. 상기 방향족 탄화수소는, 예를 들어, 톨루엔, o-자일렌, m-자일렌, p-자일렌, 에틸벤젠, 및 벤젠으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나여도 된다. 상기 케톤 용매는, 예를 들어, 시클로펜타논, 및 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 시클로헥사논, 이소포론, 아세토페논으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나여도 된다. 상기 용매는, 예를 들어, 틱소트로피 부여제 (예를 들어 증점제) 를 용해시키기 위해, 상기 탄화수소 용매 (예를 들어 톨루엔) 를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 용매는, 예를 들어, 상기 탄화수소 용매와 상기 케톤 용매를, 90 : 10 ∼ 10 : 90 의 질량비로 혼합한 용매여도 된다. 상기 탄화수소 용매와 상기 케톤 용매의 질량비는, 예를 들어, 80 : 20 ∼ 20 : 80, 70 : 30 ∼ 30 : 70, 또는 40 : 60 ∼ 60 : 40 등이어도 된다. 이 경우에 있어서, 예를 들어, 상기 탄화수소 용매가 톨루엔이고, 상기 케톤 용매가 메틸에틸케톤이어도 된다. 또, 상기 용매는, 예를 들어, 톨루엔을 포함함과 함께, 추가로 아세트산에틸, 아세트산부틸, IPA, 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 메탄올, 에탄올, 및 TBA 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하고 있어도 된다.

광 투과성 기재 (A) 로서, 예를 들어, 아크릴 필름을 채용하여 중간층 (침투층) 을 형성하는 경우에는, 아크릴 필름 (아크릴 수지) 에 대한 양용매를 바람직하게 사용할 수 있다. 그 용매로는, 예를 들어, 전술한 바와 같이, 탄화수소 용매와 케톤 용매를 포함하는 용매여도 된다. 상기 탄화수소 용매는, 예를 들어, 방향족 탄화수소여도 된다. 상기 방향족 탄화수소는, 예를 들어, 톨루엔, o-자일렌, m-자일렌, p-자일렌, 에틸벤젠, 및 벤젠으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나여도 된다. 상기 케톤 용매는, 예를 들어, 시클로펜타논, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 시클로헥사논, 이소포론, 및 아세토페논으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나여도 된다. 상기 용매는, 예를 들어, 상기 탄화수소 용매와 상기 케톤 용매를, 90 : 10 ∼ 10 : 90 의 질량비로 혼합한 용매여도 된다. 상기 탄화수소 용매와 상기 케톤 용매의 질량비는, 예를 들어, 80 : 20 ∼ 20 : 80, 70 : 30 ∼ 30 : 70, 또는 40 : 60 ∼ 60 : 40 등이어도 된다. 이 경우에 있어서, 예를 들어, 상기 탄화수소 용매가 톨루엔이고, 상기 케톤 용매가 메틸에틸케톤이어도 된다.

광 투과성 기재 (A) 로서, 예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 를 사용하는 경우에는, 상기 용매로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, MIBK (메틸이소부틸케톤), 시클로펜타논 등을 들 수 있고, 1 종류만 사용해도 되고 복수 종류 병용해도 된다. 이 경우, 상기 용매는, 예를 들어, MIBK 및 시클로펜타논의 혼합 용매여도 된다. MIBK 및 시클로펜타논의 혼합비는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 질량비로, 90 : 10 ∼ 10 : 90, 80 : 20 ∼ 20 : 80, 70 : 30 ∼ 30 : 70 이어도 된다.

또, 용매를 적절히 선택함으로써, 틱소트로피 부여제를 함유하는 경우에 있어서 방현성 하드 코트층 형성 재료 (도공액) 에 대한 틱소성을 양호하게 발현시킬 수 있다. 예를 들어, 유기 점토를 사용하는 경우에는, 톨루엔 및 자일렌을 바람직하게 단독 사용 또는 병용할 수 있고, 예를 들어, 산화폴리올레핀을 사용하는 경우에는, 메틸에틸케톤, 아세트산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 바람직하게 단독 사용 또는 병용할 수 있고, 예를 들어, 변성 우레아를 사용하는 경우에는, 아세트산부틸 및 메틸이소부틸케톤을 바람직하게 단독 사용 또는 병용할 수 있다.

상기 수지층 (B) 형성 재료에는, 각종 레벨링제를 첨가할 수 있다. 상기 레벨링제로는, 도공 불균일 방지 (도공면의 균일화) 를 목적으로, 예를 들어, 불소계 또는 실리콘계의 레벨링제를 사용할 수 있다. 실리콘계의 레벨링제는, 상기 수지층 (B) 에 원소로서의 규소를 포함시킬 목적으로도 사용할 수 있다. 본 발명에서는, 수지층 (B) 표면에 방오성이 요구되는 경우, 또는, 상기 다른 층 (C) 로서 반사 방지층 (저굴절률층) 이나 층간 충전제를 포함하는 층이 수지층 (B) 상에 형성되는 경우 등에 따라, 적절히 레벨링제를 선정할 수 있다.

상기 레벨링제의 배합량은, 상기 수지 100 중량부에 대해, 예를 들어, 5 중량부 이하, 바람직하게는 0.01 ∼ 5 중량부의 범위이다.

상기 수지층 (B) 형성 재료에는, 필요에 따라, 성능을 저해하지 않는 범위에서, 안료, 충전제, 분산제, 가소제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 방오제, 산화 방지제 등이 첨가되어도 된다. 이들 첨가제는 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종류 이상 병용해도 된다.

상기 수지층 (B) 형성 재료에는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2008-88309호에 기재되는, 종래 공지된 광 중합 개시제를 사용할 수 있다.

상기 수지층 (B) 형성 재료 (도공액) 를 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 도공하여 도막을 형성하는 방법으로는, 예를 들어, 파운틴 코트법, 다이 코트법, 스프레이 코트법, 그라비아 코트법, 롤 코트법, 바 코트법 등의 도공법을 사용할 수 있다.

다음으로, 전술한 바와 같이, 상기 도막을 건조 및 경화시켜, 수지층 (B) 를 형성한다. 상기 건조는, 예를 들어, 자연 건조여도 되고, 바람을 분사한 풍건이어도 되고, 가열 건조여도 되고, 이들을 조합한 방법이어도 된다.

상기 수지층 (B) 형성 재료 (도공액) 의 건조 온도는, 예를 들어, 30 ∼ 200 ℃ 의 범위여도 된다. 상기 건조 온도는, 예를 들어, 40 ℃ 이상, 50 ℃ 이상, 60 ℃ 이상, 70 ℃ 이상, 80 ℃ 이상, 90 ℃ 이상, 또는 100 ℃ 이상이어도 되고, 190 ℃ 이하, 180 ℃ 이하, 170 ℃ 이하, 160 ℃ 이하, 150 ℃ 이하, 140 ℃ 이하, 135 ℃ 이하, 130 ℃ 이하, 120 ℃ 이하, 또는 110 ℃ 이하여도 된다. 건조 시간은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 30 초 이상, 40 초 이상, 50 초 이상, 또는 60 초 이상이어도 되고, 150 초 이하, 130 초 이하, 110 초 이하, 또는 90 초 이하여도 된다.

상기 도막의 경화 수단은, 특별히 제한되지 않지만, 자외선 경화가 바람직하다. 에너지선원의 조사량은, 자외선 파장 365 ㎚ 에서의 적산 노광량으로서, 50 ∼ 500 mJ/㎠ 가 바람직하다. 조사량이, 50 mJ/㎠ 이상이면, 경화가 충분히 진행되기 쉬워, 형성되는 수지층 (B) 의 경도가 높아지기 쉽다. 또, 500 mJ/㎠ 이하이면, 형성되는 수지층 (B) 의 착색을 방지할 수 있다.

이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 (A) 와 상기 수지층 (B) 의 적층체를 제조할 수 있다. 이 적층체를, 그대로 본 발명의 광학 필름으로 해도 되고, 예를 들어, 상기 수지층 (B) 에 있어서의 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 면 상에, 상기 점착층에 의해 상기 다른 층 (C) 를 첩부하여 본 발명의 광학 필름으로 해도 된다.

[3. 광학 부재 및 화상 표시 장치]

본 발명의 광학 부재는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 편광판이어도 된다. 상기 편광판도, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 본 발명의 광학 필름 및 편광자를 포함하고 있어도 되고, 추가로 다른 구성 요소를 포함하고 있어도 된다. 상기 편광판의 각 구성 요소는, 예를 들어, 접착제 또는 점착제 등에 의해 첩합되어 있어도 된다.

본 발명의 화상 표시 장치도 특별히 한정되지 않고, 어떠한 화상 표시 장치여도 되지만, 예를 들어, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등을 들 수 있다.

본 발명의 화상 표시 장치는, 예를 들어, 본 발명의 광학 필름을 시인측 표면에 갖는 화상 표시 장치로서, 상기 화상 표시 장치가 블랙 매트릭스 패턴을 갖고 있어도 된다.

본 발명의 광학 필름은, 예를 들어, 상기 광 투과성 기재 (A) 측을, 점착제나 접착제를 개재하여, LCD 에 사용되고 있는 광학 부재에 첩합할 수 있다. 또한, 이 첩합에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 표면에 대해, 전술한 바와 같은 각종 표면 처리를 실시해도 된다. 전술한 바와 같이, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 의하면, 광학 필름의 표면 형상을 넓은 범위에서 자유자재로 제어 가능하다. 이 때문에, 상기 광학 필름을, 접착제나 점착제 등을 사용하여 다른 광학 부재와 적층함으로써 얻을 수 있는 광학 특성은, 상기 광학 필름의 표면 형상에 대응한 넓은 범위에 걸친다.

상기 광학 부재로는, 예를 들어, 편광자 또는 편광판을 들 수 있다. 편광판은, 편광자의 편측 또는 양측에 투명 보호 필름을 갖는다는 구성이 일반적이다. 편광자의 양면에 투명 보호 필름을 형성하는 경우에는, 표리의 투명 보호 필름은, 동일한 재료여도 되고, 상이한 재료여도 된다. 편광판은, 통상적으로, 액정 셀의 양측에 배치된다. 또, 편광판은, 2 장의 편광판의 흡수축이 서로 대략 직교하도록 배치된다.

상기 광학 필름을 적층한 편광판의 구성은, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 상기 광학 필름 상에, 투명 보호 필름, 상기 편광자 및 상기 투명 보호 필름을, 이 순서로 적층한 구성이어도 되고, 상기 광학 필름 상에, 상기 편광자, 상기 투명 보호 필름을, 이 순서로 적층한 구성이어도 된다.

본 발명의 화상 표시 장치는, 상기 광학 필름을 특정한 방향으로 배치하는 것 이외에는, 종래의 화상 표시 장치와 동일한 구성이다. 예를 들어, LCD 의 경우, 액정 셀, 편광판 등의 광학 부재, 및 필요에 따라 조명 시스템 (백라이트 등) 등의 각 구성 부품을 적절히 조립하여 구동 회로를 장착하거나 함으로써 제조할 수 있다.

본 발명의 광학 필름의 용도는, 특별히 한정되지 않고, 임의의 용도로 사용 가능하다. 그 용도로는, 예를 들어, PC 모니터, 노트북 컴퓨터, 복사기 등의 OA 기기, 휴대 전화, 시계, 디지털 카메라, 휴대 정보 단말 (PDA), 휴대 게임기 등의 휴대 기기, 비디오 카메라, 텔레비전, 전자레인지 등의 가정용 전기 기기, 백 모니터, 카 내비게이션 시스템용 모니터, 카 오디오 등의 차재용 기기, 상업 점포용 인포메이션용 모니터 등의 전시 기기, 감시용 모니터 등의 경비 기기, 개호용 모니터, 의료용 모니터 등의 개호·의료 기기 등을 들 수 있다.

실시예

다음으로, 본 발명의 실시예에 대해, 비교예와 함께 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시예 및 비교예에 의해 제한되지 않는다.

또한, 이하의 실시예 및 비교예에 있어서, 물질의 부수는, 특별히 언급하지 않는 한, 질량부 (중량부) 이다.

[실시예 1]

이하와 같이 하여, 광 투과성 기재 (A) 상에 수지층 (하드 코트층) (B) 가 형성된 본 발명의 광학 필름을 제조하였다.

하드 코트층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (토아 합성 (주) 제조, 상품명「M-920」, 고형분 100 ％) 40 중량부, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (미츠비시 케미컬 (주) 제조, 상품명「UV-1700TL」, 고형분 80 ％) 60 중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100 중량부당, 광 중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명「OMNIRAD907」) 를 3 중량부, 레벨링제 (쿄에이샤 화학 (주) 제조, 상품명「LE-303」, 고형분 40 ％) 를 0.12 중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30 ％ 가 되도록, MIBK/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 70/30) 로 희석시켜, 하드 코트층 형성용 도공액 (E1) 을 조제하였다.

광 투과성 기재 (A) 로서, 투명 플라스틱 필름 기재 (TAC, 코니카 미놀타 (주) 제조, 상품명「KC2UA」) 를 준비하였다. 다음으로, 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에, 상기 하드 코트층 형성용 도공액 (E1) 을, 바 코터를 사용하여 도포 (도공) 하여, 도포층 (도공층) 을 형성하였다 (도공 공정). 이 도포층이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정 (도막 형성 공정) 으로 반송하였다. 또한, 건조 공정 (도막 형성 공정) 에 있어서, 80 ℃ 에서 1 분간 가열함으로써 상기 도포층을 건조시켜 도막을 형성하였다. 그 후, 상기 도막에, 고압 수은 램프로 적산 광량 240 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 상기 도막을 경화 처리하여 (경화 공정), 두께 2.0 ㎛ 의 하드 코트층 (수지층 (B)) 을 형성하였다. 이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 상기 수지층 (B) 가 형성된 실시예 1 의 하드 코트 필름 (광학 필름) 을 얻었다.

[실시예 2]

하드 코트층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (토아 합성 (주) 제조, 상품명「M-920」, 고형분 100 ％) 40 중량부, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (미츠비시 케미컬 (주) 제조, 상품명「UV-1700TL」, 고형분 80 ％) 60 중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100 중량부당, 광 중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명「OMNIRAD907」) 를 3 중량부, 레벨링제 (쿄에이샤 화학 (주) 제조, 상품명「LE-303」, 고형분 40 ％) 를 0.20 중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30 ％ 가 되도록, MIBK/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 70/30) 로 희석시켜, 하드 코트층 형성용 도공액 (E2) 를 조제하였다.

광 투과성 기재 (A) 로서, 투명 플라스틱 필름 기재 (TAC, 코니카 미놀타 (주) 제조, 상품명「KC2UA」) 를 준비하였다. 다음으로, 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에, 상기 하드 코트층 형성용 도공액 (E2) 를, 바 코터를 사용하여 도포 (도공) 하여, 도포층 (도공층) 을 형성하였다 (도공 공정). 이 도포층이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정 (도막 형성 공정) 으로 반송하였다. 또한, 건조 공정 (도막 형성 공정) 에 있어서, 80 ℃ 에서 1 분간 가열함으로써 상기 도포층을 건조시켜 도막을 형성하였다. 그 후, 상기 도막에, 고압 수은 램프로 적산 광량 240 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 상기 도막을 경화 처리하여 (경화 공정), 두께 2.0 ㎛ 의 하드 코트층 (수지층 (B)) 을 형성하였다. 이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 상기 수지층 (B) 가 형성된 실시예 2 의 하드 코트 필름 (광학 필름) 을 얻었다.

[실시예 3]

하드 코트층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (신나카무라 화학 (주) 제조, 상품명「A-DCP」, 고형분 100 ％) 50 중량부, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (미츠비시 케미컬 (주) 제조, 상품명「UV-1700TL」, 고형분 80 ％) 50 중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100 중량부당, 광 중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명「OMNIRAD907」) 를 5 중량부, 레벨링제 (쿄에이샤 화학 (주) 제조, 상품명「LE-303」, 고형분 40 ％) 를 0.20 중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30 ％ 가 되도록, MIBK/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 60/40) 로 희석시켜, 하드 코트층 형성용 도공액 (E3) 을 조정하였다.

광 투과성 기재 (A) 로서, 투명 플라스틱 필름 기재 (TAC, 후지 필름 (주) 제조, 상품명「TJ25UL」) 를 준비하였다. 다음으로, 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 편면에, 상기 하드 코트층 형성용 도공액 (E3) 을, 바 코터를 사용하여 도포 (도공) 하여, 도포층 (도공층) 을 형성하였다 (도공 공정). 이 도포층이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정 (도막 형성 공정) 으로 반송하였다. 또한, 건조 공정 (도막 형성 공정) 에 있어서, 60 ℃ 에서 1 분간 가열함으로써 상기 도포층을 건조시켜 도막을 형성하였다. 그 후, 상기 도막에, 고압 수은 램프로 적산 광량 220 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 상기 도막을 경화 처리하여 (경화 공정), 두께 2.5 ㎛ 의 하드 코트층 (수지층 (B)) 을 형성하였다. 이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 상기 수지층 (B) 가 형성된 실시예 3 의 하드 코트 필름 (광학 필름) 을 얻었다.

[실시예 4]

하드 코트층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (신나카무라 화학 (주) 제조, 상품명「A-DCP」, 고형분 100 ％) 50 중량부, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (미츠비시 케미컬 (주) 제조, 상품명「UV-1700TL」, 고형분 80 ％) 50 중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100 중량부당, 광 중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명「OMNIRAD907」) 를 5 중량부, 레벨링제 (쿄에이샤 화학 (주) 제조, 상품명「LE-303」, 고형분 40 ％) 를 0.10 중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30 ％ 가 되도록, MIBK/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 60/40) 로 희석시켜, 하드 코트층 형성용 도공액 (E4) 를 조정하였다.

광 투과성 기재 (A) 로서, 투명 플라스틱 필름 기재 (TAC, 후지 필름 (주) 제조, 상품명「TJ25UL」) 를 준비하였다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 편면에, 상기 하드 코트층 형성용 도공액 (E4) 를, 바 코터를 사용하여 도포 (도공) 하여, 도포층 (도공층) 을 형성하였다 (도공 공정). 이 도포층이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정 (도막 형성 공정) 으로 반송하였다. 또한, 건조 공정 (도막 형성 공정) 에 있어서, 60 ℃ 에서 1 분간 가열함으로써 상기 도포층을 건조시켜 도막을 형성하였다. 그 후, 상기 도막에, 고압 수은 램프로 적산 광량 220 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 상기 도막을 경화 처리하여 (경화 공정), 두께 2.5 ㎛ 의 하드 코트층 (수지층 (B)) 을 형성하였다. 이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 상기 수지층 (B) 가 형성된 실시예 4 의 하드 코트 필름 (광학 필름) 을 얻었다.

[비교예 1]

이하와 같이 하여, 광 투과성 기재 상에 수지층 (하드 코트층) 이 형성된 광학 필름을 제조하였다.

하드 코트층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (토아 합성 (주) 제조, 상품명「M-920」, 고형분 100 ％) 40 중량부, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (미츠비시 케미컬 (주) 제조, 상품명「UV-1700TL」, 고형분 80 ％) 60 중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100 중량부당, 광 중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명「OMNIRAD907」) 를 3 중량부, 레벨링제 (DIC (주) 제조, 상품명「PC4100」, 고형분 40 ％) 를 0.01 중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 25 ％ 가 되도록, MIBK/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 72/28) 로 희석시켜, 하드 코트층 형성용 도공액 (C1) 을 조제하였다.

광 투과성 기재로서, 투명 플라스틱 필름 기재 (TAC, 코니카 미놀타 (주) 제조, 상품명「KC2UA」) 를 준비하였다. 또한, 이 광 투과성 기재 (투명 플라스틱 필름 기재) 는, 실시예 1 의 광 투과성 기재 (A) 와 동일한 것이다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에, 상기 하드 코트층 형성용 도공액 (C1) 을, 바 코터를 사용하여 도포 (도공) 하여 도포층 (도공층) 을 형성하였다. 그리고, 이 도포층이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정으로 반송하였다. 건조 공정에 있어서, 80 ℃ 에서 1 분간 가열함으로써 상기 도포층을 건조시켜, 도막을 형성하였다. 그 후, 상기 도막에 고압 수은 램프로 적산 광량 240 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 상기 도막을 경화 처리하여, 두께 2.0 ㎛ 의 하드 코트층을 형성하였다. 이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 상에 상기 하드 코트층이 형성된 비교예 1 의 하드 코트 필름을 얻었다.

[비교예 2]

하드 코트층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (토아 합성 (주) 제조, 상품명「M-920」, 고형분 100 ％) 40 중량부, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (미츠비시 케미컬 (주) 제조, 상품명「UV-1700TL」, 고형분 80 ％) 60 중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100 중량부당, 광 중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명「OMNIRAD907」) 를 3 중량부, 레벨링제 (쿄에이샤 화학 (주) 제조, 상품명「LE-303」, 고형분 40 ％) 를 0.10 중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30 ％ 가 되도록, MIBK/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 70/30) 로 희석시켜, 하드 코트층 형성용 도공액 (C2) 를 조제하였다.

광 투과성 기재로서, 투명 플라스틱 필름 기재 (TAC, 코니카 미놀타 (주) 제조, 상품명「KC2UA」) 를 준비하였다. 또한, 이 광 투과성 기재 (투명 플라스틱 필름 기재) 는, 실시예 1 의 광 투과성 기재 (A) 와 동일한 것이다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에, 상기 하드 코트층 형성용 도공액 (C2) 를, 바 코터를 사용하여 도포 (도공) 하여 도포층 (도공층) 을 형성하였다. 그리고, 이 도포층이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정으로 반송하였다. 건조 공정에 있어서, 80 ℃ 에서 1 분간 가열함으로써 상기 도포층을 건조시켜, 도막을 형성하였다. 그 후, 상기 도막에 고압 수은 램프로 적산 광량 240 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 상기 도막을 경화 처리하여, 두께 2.0 ㎛ 의 하드 코트층을 형성하였다. 이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 상에 상기 하드 코트층이 형성된 비교예 2 의 하드 코트 필름을 얻었다.

[비교예 3]

하드 코트층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (토아 합성 (주) 제조, 상품명「M-920」, 고형분 100 ％) 40 중량부, 자외선 경화형 아크릴레이트 수지 (미츠비시 케미컬 (주) 제조, 상품명「UV-1700TL」, 고형분 80 ％) 60 중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100 중량부당, 광 중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명「OMNIRAD907」) 를 3 중량부, 레벨링제 (쿄에이샤 화학 (주) 제조, 상품명「LE-303」, 고형분 40 ％) 를 0.50 중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30 ％ 가 되도록, MIBK/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 70/30) 로 희석시켜, 하드 코트층 형성용 도공액 (C3) 을 조제하였다.

광 투과성 기재로서, 투명 플라스틱 필름 기재 (TAC, 코니카 미놀타 (주) 제조, 상품명「KC2UA」) 를 준비하였다. 또한, 이 광 투과성 기재 (투명 플라스틱 필름 기재) 는, 실시예 1 의 광 투과성 기재 (A) 와 동일한 것이다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에, 상기 하드 코트층 형성용 도공액 (C3) 을, 바 코터를 사용하여 도포 (도공) 하여 도포층 (도공층) 을 형성하였다. 그리고, 이 도포층이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정으로 반송하였다. 건조 공정에 있어서, 80 ℃ 에서 1 분간 가열함으로써 상기 도포층을 건조시켜, 도막을 형성하였다. 그 후, 상기 도막에 고압 수은 램프로 적산 광량 240 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 상기 도막을 경화 처리하여, 두께 2.0 ㎛ 의 하드 코트층을 형성하였다. 이상과 같이 하여, 상기 광 투과성 기재 상에 상기 하드 코트층이 형성된 비교예 3 의 하드 코트 필름을 얻었다.

[규소 원자수 비율의 측정]

상기 각 실시예 및 비교예의 광학 필름 (하드 코트 필름) 에 대해, 하기의 측정 방법에 의한 XPS 측정으로, 상기 수지층 (B) 또는 비교예의 상기 수지층에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 또는 비교예의 상기 광 투과성 기재와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서의, 탄소, 질소, 산소 및 규소의 원자수의 합계에 대한 규소 원자수의 비율을 측정하였다.

(XPS 측정)

실시예 및 비교예의 하드 코트 필름에 있어서의 하드 코트 수지층의, 광 투과성 기재와 반대측의 표면으로부터의 깊이 1 ㎚ 의 범위에 있어서의 규소 (Si) 원자의 원자수비를, XPS (X 선 광전 분광법) 에 의해 측정하였다. 또한, XPS 즉 X 선 광전 분광법 (XPS : X-ray Photoelectron Spectroscopy) 은, ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) 라고도 불린다. 측정 조건으로는, 측정 시료인 하드 코트 필름을 가로세로 5 ㎜ × 5 ㎜ 로 잘라낸 후에, Mo (몰리브덴) 판으로 시료대에 고정시키고, 하기에 나타내는 조건에서 측정하였다. 구체적으로는, 먼저, 하기 측정 조건에서 상기 측정 시료를 와이드 스캔 측정하여, 정성 분석을 실시하였다. 또한, 1 ㎚ 깊이에 있어서의 C (탄소), N (질소), O (산소) 및 Si (규소) 및 F (불소) 에 대해 내로 스캔 측정을 실시하여, C (탄소), N (질소), O (산소) 및 Si (규소) 및 F (불소) 의 전체 원자수의 합계를 100 ％ 로 한 Si (규소) 원자의 비율 (％) 을 산출하였다.

XPS 측정 조건 :

측정 시료 : 하드 코트 필름 가로세로 5 ㎜ × 5 ㎜

장치 ; ULVAC-PHI 제조 Quantera SXM

X 선원 ; 모노크롬 Al Ka.

Xray Setting ; 200 ㎛φ [15 ㎸, 30 W]

광 전자 취출각 ; 시료 표면에 대해 10 도 (분석 깊이 : 1 ㎚)

결합 에너지의 보정 ; C1s 스펙트럼의 C-C 결합 유래의 피크를 285.0 eV 로 보정

[크레이터링의 유무의 확인]

상기 각 실시예 및 비교예의 하드 코트 필름 (광학 필름) 을, 가로세로 440 ㎜ × 1000 ㎜ 로 컷 (재단) 하여, 측정 샘플로 하였다. 이들 측정 샘플에 대해, 하기의 오렌지 라이트 반사 검사, Z 라이트 반사 검사, 점광원 투과 검사 및 파이버 라이트 반사 검사의 각 측정 방법에 의해, 크레이터링 (표시 불균일) 의 유무를 확인하였다. 그 결과, 하기의 모든 측정 방법에서 크레이터링 없음이었던 광학 필름을「크레이터링 없음」으로 판정하고, 1 종류 이상의 측정 방법에서 크레이터링 있음이었던 광학 필름을「크레이터링 있음」으로 판정하였다.

〈크레이터링 확인 방법 : 오렌지 라이트 반사 검사〉

오렌지 라이트 (후나텍사 제조, 형번「FNA-35」) 를, 측정 샘플인 하드 코트 필름의 하드 코트 도공면 (광 투과성 기재 (A) 에 대해 수지층 (B) 를 형성한 측의 면, 또는, 비교예의 광 투과성 기재에 대해 수지층을 형성한 측의 면. 이하 동일.) 으로부터 300 ㎜ 떨어진 위치로부터 병행으로 조사하였다. 그 결과, 상기 측정 샘플로부터 45 도의 각도에서, 상기 하드 코트 도공면의 중심으로부터 300 ㎜ 떨어진 위치로부터 하드 코트 도공면을 확인했을 때에, 크레이터링 (표시 불균일) 이 시인 가능했던 샘플을「크레이터링 있음」, 시인 불가능했던 샘플을「크레이터링 없음」으로 하였다.

〈크레이터링 확인 방법 : Z 라이트 반사 검사〉

Z 라이트 (야마다 전기사 제조, 형번「Z-208」) 를, 측정 샘플인 하드 코트 필름의 하드 코트 도공면에 대해 45 도의 각도에서 400 ㎜ 떨어진 위치로부터 조사하였다. 그 결과, 상기 측정 샘플로부터 45 도 (광원으로부터 90 도) 의 각도에서, 상기 하드 코트 도공면의 중심으로부터 300 ㎜ 떨어진 위치로부터 하드 코트 도공면을 확인했을 때에, 크레이터링 (표시 불균일) 이 시인 가능했던 샘플을「크레이터링 있음」, 시인 불가능했던 샘플을「크레이터링 없음」으로 하였다.

〈크레이터링 확인 방법 : 점광원 투과 검사〉

점광원 (하마마츠 포토닉스사 제조, 형번「L8425-01」) 을, 측정 샘플인 하드 코트 필름의 하드 코트 도공면에 대해 45 도의 각도에서, 상기 하드 코트 도공면의 중심으로부터 560 ㎜ 떨어진 위치로부터 조사하였다. 그 조사광이 상기 측정 샘플을 투과한 투과광을, 상기 점광원으로부터 1050 ㎜ 떨어진 위치에 설치한 화이트 보드에 투영하였다. 즉, 상기 측정 샘플이 상기 점광원 및 상기 화이트 보드에 끼인 (상기 점광원 및 상기 화이트 보드 사이에 위치한다) 상태에서, 상기 광 조사 및 상기 투과광의 투영을 실시하였다. 이 조건에서 상기 화이트 보드에 투영된 상기 투과광을 시인했을 때에, 크레이터링 (표시 불균일) 이 시인 가능했던 샘플을「크레이터링 있음」, 시인 불가능했던 샘플을「크레이터링 없음」으로 하였다.

〈크레이터링 확인 방법 : 파이버 라이트 반사 검사〉

파이버 라이트 (멕 (주) 제조, 형번「INS-1303-103」(특별 주문)) 를, 측정 샘플인 하드 코트 필름의 하드 코트 도공면에 대해 45 도의 각도에서, 상기 하드 코트 도공면의 중심으로부터 400 ㎜ 떨어진 위치로부터 조사하였다. 그 결과, 상기 측정 샘플로부터 45 도 (광원으로부터 90 도) 의 각도에서, 상기 하드 코트 도공면의 중심으로부터 300 ㎜ 떨어진 위치로부터 하드 코트 도공면을 확인했을 때에, 강도가 강한 결점만 윤곽의 크레이터링 (표시 불균일) 이 시인 가능했던 샘플을「크레이터링 있음」, 시인 불가능했던 샘플을「크레이터링 없음」으로 하였다.

[다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 의 제조]

상기 각 실시예 및 비교예의 하드 코트 필름 (광학 필름) 에 대해, 다른 층 (C) 및 점착층으로서, 닛토 전공 주식회사 제조의 점착제 부착 표면 보호 필름「E-MASK (상품명)」를 첩부하여, 상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 을 제조하였다. 또한, 상기 표면 보호 필름「E-MASK (상품명)」에 대해서는, 하기 (1) (2) (3) 의 3 종류 제조하였다. 상기 각 실시예 및 비교예의 하드 코트 필름 (광학 필름) 에 대해, 각각, 상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 을, 하기「E-MASK (상품명)」(1) (2) (3) 에 대응하는 3 종류 제조하였다. 또한, 후술하는「링 자국」,「오염」및「스톱 마크」의 각 특성의 측정 결과는, 하기「E-MASK (상품명)」(1) (2) (3) 에 대응하는 3 종류 중 어느 것에 대해서도, 동일한 측정 결과가 얻어졌다.

[E-MASK (1) 의 제조 방법]

이하와 같이 하여, E-MASK (1) 을 제조하였다.

(코팅제의 제조)

바인더로서의 폴리에스테르 수지를 25 ％ 포함하는 분산액 (상품명「바이로날 MD-1480」, 토요보 주식회사 제조 (포화 공중합 폴리에스테르 수지의 수분산액) (바인더 분산액)) 을 준비하였다. 또, 활제로서의 카나우바 왁스 (왁스 에스테르) 의 수분산액 (활제 분산액) 을 준비하였다. 또한, 도전성 폴리머로서의 폴리(3,4-디옥시티오펜) (PEDOT) 0.5 ％ 및 폴리스티렌술포네이트 (수평균 분자량 15 만) (PSS) 0.8 ％ 를 포함하는 수용액 (상품명「Baytron P」, H. C. Stark 사 제품) (도전성 폴리머 수용액) 을 준비하였다.

물과 에탄올을 질량비 1 : 1 로 혼합한 혼합 용매에, 상기 바인더 분산액을 고형분량으로 100 부와, 상기 활제 분산액을 고형분량으로 30 부와, 상기 도전성 폴리머 수용액을 고형분량으로 50 부와, 멜라민계 가교제를 첨가하고, 약 20 분간 교반하여 충분히 혼합하였다. 이와 같이 하여, NV 약 0.15 ％ 의 코팅제를 제조하였다.

(탑 코트층의 형성)

일방의 면 (제 1 면) 에 코로나 처리가 실시된 두께 38 ㎛, 폭 30 ㎝, 길이 40 ㎝ 의 투명한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름을 준비하였다. 이 PET 필름의 코로나 처리면에 상기 코팅제를 바 코터로 바르고, 130 ℃ 로 2 분간 가열하여 건조시켰다. 이와 같이 하여, PET 필름의 제 1 면에 두께 10 ㎚ 의 투명한 탑 코트층을 갖는 기재 (탑 코트 부착 기재) 를 제조하였다.

(점착제 조성물의 제조)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 2-에틸헥실아크릴레이트 200 중량부, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 8 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.4 중량부, 용제로서 아세트산에틸 312 중량부를 주입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하고, 플라스크 내의 액온을 65 ℃ 부근으로 유지하여 6 시간 중합 반응을 실시하여, 아크릴계 폴리머 용액 (40 중량％) 을 제조하였다. 상기 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은 54 만, 유리 전이 온도 (Tg) 는 －68 ℃, 산가는 0.0 이었다.

상기 아크릴계 폴리머 용액 (40 중량％) 을 아세트산에틸로 20 중량％ 로 희석시키고, 이 용액 중의 고형분 100 중량부에 대해, 아니온계 계면 활성제인 폴리옥시에틸렌노닐프로페닐페닐에테르황산암모늄 (상품명「아쿠알론 HS-10」, 다이이치 공업 제약사 제조) 0.3 중량부, 가교제로서 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (상품명「콜로네이트 HX」, 닛폰 폴리우레탄 공업사 제조) 3 중량부, 가교 촉매로서 디라우르산디부틸주석 (상품명「OL-1」, 도쿄 파인 케미컬사 제조, 0.5 중량％ 아세트산에틸 용액) 0.03 중량부, 가교 지연제로서 아세틸아세톤을 전체 용제량에 대해 3 중량부를 첨가하여 혼합 교반을 실시하여, 아크릴계 점착제 조성물을 제조하였다.

(E-MASK (1) 의 제조)

PET 필름의 편면에 실리콘계 박리 처리제에 의한 박리 처리가 실시된 이형 시트를 준비하였다. 이 이형 시트의 박리면 (상기 박리 처리가 실시된 면) 상에 상기 아크릴계 점착제 조성물을 바르고, 130 ℃ 에서 1 분간 건조시켜, 두께 10 ㎛ 의 아크릴계 점착제층 (점착층) 을 형성하였다. 그 아크릴계 점착제층을 상기 탑 코트 부착 기재의 타방의 면 (제 2 면, 즉 상기 탑 코트층이 형성되어 있지 않은 면) 에 첩합한 후, 50 ℃, 15 ％ RH 의 환경하에서 3 일간 양생 (에이징) 하여, 표면 보호 필름 (점착 시트) 인 E-MASK (1) 을 얻었다. 이 표면 보호 필름 (E-MASK (1)) 은, 상기 다른 층 (C) 로서 상기 탑 코트 부착 기재를 갖고, 상기 점착층으로서 상기 아크릴계 점착제층을 갖는다.

[E-MASK (2) 의 제조 방법]

아크릴계 점착제층 (점착층) 의 두께를 10 ㎛ 에서 20 ㎛ 로 변경한 것 이외에는 상기 E-MASK (1) 의 제조 방법과 동일한 제조 방법으로, 표면 보호 필름 (E-MASK (2)) 을 제조하였다. 이 표면 보호 필름 (E-MASK (2)) 은, 상기 다른 층 (C) 로서 상기 탑 코트 부착 기재를 갖고, 상기 점착층으로서 상기 아크릴계 점착제층을 갖는다.

[E-MASK (3) 의 제조 방법]

이하와 같이 하여, E-MASK (3) 을 제조하였다.

((메트)아크릴계 폴리머의 제조)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 2-에틸헥실아크릴레이트 (2EHA) 100 중량부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 (4HBA) 10 중량부, 아크릴산 (AA) 0.02 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2 중량부, 아세트산에틸 157 중량부를 주입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하고, 플라스크 내의 액온을 65 ℃ 부근으로 유지하여 6 시간 중합 반응을 실시하여, (메트)아크릴계 폴리머 용액 (40 중량％) 을 제조하였다. 상기 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은 54 만, 유리 전이 온도 (Tg) 는 －67 ℃ 였다.

(아크릴 올리고머의 제조)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기, 적하 깔때기를 구비한 4 구 플라스크에, 톨루엔 100 중량부, 디시클로펜타닐메타크릴레이트 (DCPMA) (상품명 : FA-513M, 히타치 화성 공업사 제조) 60 중량부, 메틸메타크릴레이트 (MMA) 40 중량부 및 연쇄 이동제로서 티오글리콜산메틸 3.5 중량부를 투입하였다. 그리고, 70 ℃ 에서 질소 분위기하에서 1 시간 교반한 후, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2 중량부를 투입하고, 70 ℃ 에서 2 시간 반응시키고, 계속해서 80 ℃ 에서 4 시간 반응시킨 후에, 90 ℃ 에서 1 시간 반응시켜, 아크릴 올리고머를 얻었다. 상기 아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은 4000 이고, 유리 전이 온도 (Tg) 는 144 ℃ 였다.

(점착제 용액의 제조)

상기 (메트)아크릴계 폴리머 용액 (40 중량％) 을 아세트산에틸로 20 중량％ 로 희석시키고, 이 용액 500 중량부 (고형분 100 중량부) 에, 상기 아크릴 올리고머 (고형분 0.5 중량부), 실리콘 성분인 옥시알킬렌 사슬을 갖는 오르가노폴리실록산 (KF-353, 신에츠 화학 공업사 제조) 을 아세트산에틸로 10 ％ 로 희석시킨 용액 2 중량부 (고형분 0.2 중량부), 대전 방지제인 알칼리 금속염 (이온성 화합물) 으로서, 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 (LiN(CF₃SO₂)₂ : LiTFSI, 도쿄 화성 공업사 제조) 를 아세트산에틸로 1 ％ 로 희석시킨 용액 15 중량부 (고형분 0.15 중량부), 가교제로서, 3 관능 이소시아네이트 화합물인 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (닛폰 폴리우레탄 공업사 제조, 콜로네이트 HX) 3.5 중량부 (고형분 3.5 중량부), 2 관능 이소시아네이트 화합물인 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산 (미츠이 화학사 제조, 타케네이트 600) 0.3 중량부 (고형분 0.3 중량부), 가교 촉매로서 디라우르산디부틸주석 (1 중량％ 아세트산에틸 용액) 2 중량부 (고형분 0.02 중량부) 를 첨가하고, 혼합 교반을 실시하여, 아크릴계 점착제 용액을 제조하였다.

(대전 방지 처리 필름의 제조)

대전 방지제 (솔벡스사 제조, 마이크로 솔버 RMd-142, 산화주석과 폴리에스테르 수지를 주성분으로 한다) 10 중량부를, 물 30 중량부와 메탄올 70 중량부로 이루어지는 혼합 용매로 희석시킴으로써 대전 방지제 용액을 제조하였다.

얻어진 대전 방지제 용액을, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 : 38 ㎛) 상에 바 코터를 사용하여 도포하고, 130 ℃ 에서 1 분간 건조시킴으로써 용제를 제거하여 대전 방지층 (두께 : 0.2 ㎛) 을 형성하여, 대전 방지 처리 필름을 제조하였다.

(E-MASK (3) 의 제조)

상기 아크릴계 점착제 용액을, 상기 대전 방지 처리 필름의 대전 방지 처리면과는 반대의 면에 도포하고, 130 ℃ 에서 2 분간 가열하여, 두께 15 ㎛ 의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 상기 점착제층의 표면에, 편면에 실리콘 처리를 실시한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 25 ㎛) 의 실리콘 처리면을 첩합하여, 표면 보호 필름 (점착 시트) 인 E-MASK (3) 을 얻었다. 이 표면 보호 필름 (E-MASK (3)) 은, 상기 다른 층 (C) 로서 상기 대전 방지 처리 필름을 갖고, 상기 점착층으로서 상기 아크릴계 점착제층을 갖는다.

[물 접촉각의 측정]

전술한 바와 같이 하여 제조한, 상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 에 대해, 하기의 측정 방법으로, 상기 점착층 표면의 물 접촉각 d₂ 를 측정하였다. 즉, 먼저, 상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 을, 실온 (24 ± 2 ℃), 상대 습도 (50 ± 20 ％) 의 조건하에서 24 시간 정치 (靜置) 하고, 그 후, 상기 다른 층 (C) 를 박리하여 상기 점착층을 노출시켰다. 다음으로, 물 접촉각 측정 장치 (상품명「DM-301」, 쿄와 계면 과학사 제조) 를 사용하여, 액적법에 의해, 실온 (24 ± 2 ℃), 상대 습도 (50 ± 20 ％) 의 분위기하에서, 상기 다른 층 (C) 가 첩부되어 있었던 상기 점착층 표면에, 약 4.0 ㎕ 의 물방울을 적하하고, 적하로부터 1 초 후의 피착체 표면과 적하 물방울 단부의 접선으로 이루어지는 각도를 측정하여, 물 접촉각 (°) 으로 하였다. 또한, 측정 샘플 내의 5 점에서 동일한 측정을 하고, 그 5 점의 측정값의 평균값을, 상기 점착층 표면의 물 접촉각 d₂ (°) 로 하였다.

또한, 동일한 방법으로, 상기 수지층 (B) 표면에 상기 점착층 및 상기 다른 층 (C) 가 없는, 상기 각 실시예 및 비교예의 광학 필름 (하드 코트 필름) 에 있어서의 상기 수지층 (B) 표면의 물 접촉각 d₁ (°) 을 측정하였다.

상기 물 접촉각 d₁ 및 d₂ 의 측정 결과를, 하기 표 1 ∼ 6 에 나타낸다. 하기 표 1 ∼ 6 에 나타내는 바와 같이, E-MASK (1), E-MASK (2), E-MASK (3) 중 어느 것을 사용해도, 상기 점착층 표면의 물 접촉각 d₂ 가, 상기 수지층 (B) 표면의 물 접촉각 d₁ 의 90 ％ 이하 (10 ％ 이상 감소) 였다.

[제품 SPV 시험]

전술한 바와 같이 하여 제조한, 상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 에 대해, 하기의 측정 방법으로,「링 자국」,「오염」및「스톱 마크」의 각 특성을 측정하고, 평가하였다. 이들 측정 및 평가를, 본 실시예에 있어서, 합쳐서「제품 SPV 시험」이라고 한다.

〈링 자국 : 평가 방법〉

상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 을, 가로세로 40 ㎜ × 40 ㎜ 로 컷하여, 측정 샘플로 하였다. 이 측정 샘플의 광 투과성 기재측을, 점착제 부착 아크릴판에 첩부한 후에, 상기 측정 샘플의 보호 필름 (상기 다른 층 (C)) 을 일단 박리하고, 기포를 넣은 상태에서 재차 첩부하였다. 이것을, 실온 (24 ± 2 ℃), 상대 습도 (50 ± 20 ％) 의 조건하에서 소정의 시간 (120 시간 또는 240 시간) 방치 후, 상기 보호 필름을 벗겨 기포의 자국이 보이는지의 여부를 확인하였다.

〈링 자국 : 판정 기준〉

240 시간 방치 후에, 암실 밖에서도 링 자국이 보이지 않은 경우에는 ○ 로 판정하고, 동일한 조건에서 링 자국이 보인 경우에는 × 로 판정하였다.

〈오염 : 평가 방법〉

상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 을, 가로세로 40 ㎜ × 40 ㎜ 로 컷하여, 측정 샘플로 하였다. 이 측정 샘플의 광 투과성 기재측을, 점착제 부착 아크릴판에 첩부하고, 소정 조건 (60 ℃, 60 ℃/습도 90 ％) 의 오븐에 투입하였다. 상기 오븐으로는, 항온기 (에스펙 주식회사 제조, 상품명 PH(H)-202), 또는 저온 항온 항습기 (에스펙 주식회사 제조, 상품명 PL-2J) 를 사용하였다. 그 후, 소정 시간 (120 시간, 240 시간, 또는 500 시간) 에서 상기 측정 샘플을 꺼내고, 상기 측정 샘플의 보호 필름 (상기 다른 층 (C)) 을 박리하였다. 그 박리 후의 점착층 표면에 점착 테이프 (니치반 주식회사 제조, 상품명「셀로테이프 대권 CT405AP-24」) 를 첩부하고, 그 후, 시인에 의해 오염을 확인하였다.

〈오염 : 판정 기준〉

500 시간 방치 후에, 암실 밖에서도 오염이 보이지 않은 경우에는 ○ 로 판정하고, 동일한 조건에서 오염이 보인 경우에는 × 로 판정하였다.

〈스톱 마크 : 평가 방법〉

상기 다른 층 (C) 를 갖는 하드 코트 필름 (광학 필름) 을, 가로세로 25 ㎜ × 100 ㎜ 로 컷하여, 측정 샘플로 하였다. 이 측정 샘플의 광 투과성 기재측을, 점착제 부착 아크릴판에 첩부하고, 소정 조건 (60 ℃, 40 ℃/습도 92 ％) 의 오븐에 투입하였다. 상기 오븐으로는, 항온기 (에스펙 주식회사 제조, 상품명 PH(H)-202), 또는 저온 항온 항습기 (에스펙 주식회사 제조, 상품명 PL-2J) 를 사용하였다. 그 후, 소정 시간 (120 시간) 에서 상기 측정 샘플을 꺼내고, 상기 측정 샘플의 보호 필름 (상기 다른 층 (C)) 의 면적의 절반을 박리한 시점에서 일단 박리를 멈추고, 나머지 보호 필름을 박리하였다. 시인에 의해 스톱 마크 (상기 보호 필름의 자국) 이 보이는지의 여부를 확인하였다.

〈스톱 마크 : 판정 기준〉

120 시간 방치 후에, 암실 밖에서도 스톱 마크가 보이지 않은 경우에는 ○ 로 판정하고, 동일한 조건에서 스톱 마크가 보인 경우에는 × 로 판정하였다.

이상과 같이 하여 측정한 규소 원자수 비율 (Si 원소 비율), 크레이터링의 유무, 및 제품 SPV 시험 결과를, 하기 표 7 에 정리하여 나타낸다. 하기 표 7 에 있어서,「HC 표면 1 ㎚ 의 Si 원소 비율」은, 상기 수지층 (B) 또는 비교예의 상기 수지층에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 또는 비교예의 상기 광 투과성 기재와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서의, 탄소, 질소, 산소 및 규소의 원자수의 합계에 대한 규소 원자수의 비율을 의미한다.

상기 표 7 에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 요건을 모두 만족하는 실시예의 광학 필름은, 크레이터링도 없고, 제품 SPV 시험 결과도 모두 양호했던 점에서, 표시 특성 불량이 억제되어 있는 것이 확인되었다. 이에 반해, 비교예 2 는, Si 원소 비율이 4.7 ％ 로, 본 발명의 조건 (5.0 ∼ 9.0 ％) 을 만족하지 않았다. 그 결과, 비교예 2 는, 제품 SPV 시험 결과는 양호했지만, 크레이터링이 있었다. 또, 비교예 3 은, Si 원소 비율이 9.2 ％ 로, 본 발명의 조건 (5.0 ∼ 9.0 ％) 을 만족하지 않았다. 그 결과, 비교예 3 은, 크레이터링은 없었지만, 제품 SPV 시험 결과가 불량이었다. 또, 비교예 1 은, Si 원소 비율이 1.2 ％ 로, 본 발명의 조건 (5.0 ∼ 9.0 ％) 으로부터 크게 벗어나 있었다. 그 결과, 비교예 1 에서는, 크레이터링이 다발하고 있었다. 이 때문에, 비교예 1 의 광학 필름은, 제품 SPV 시험 결과를 확인할 것도 없이, 실용에 견딜 수 없는 것이 분명했기 때문에, 제품 SPV 시험은 실시하지 않았다.

이상, 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 표시 특성 불량이 억제 또는 방지된 광학 필름, 광학 필름의 제조 방법, 광학 부재 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다. 본 발명의 광학 필름의 용도는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 임의의 다양한 용도의 화상 표시 장치에 대해 사용할 수 있다.

이 출원은, 2020년 8월 26일에 출원된 일본 특허출원 2020-143056호 및 2021년 3월 25일에 출원된 일본 특허출원 2021-051002호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시의 전부를 여기에 받아들인다.

10, 10' : 광학 필름
11 : 광 투과성 기재 (A)
12 : 방현층 (B)
12a : 수지층 형성 수지
12b : 입자
12c : 틱소트로피 부여제
13 : 점착층
20 : 다른 층 (C)

Claims

광 투과성 기재 (A) 상에 수지층 (B) 가 형성되고,
상기 수지층 (B) 를 구성하는 원소가, 규소를 포함하고,
상기 수지층 (B) 중에 있어서, 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 표면으로부터 1 ㎚ 의 깊이에서의 원자수가, 하기 수식 (1) 을 만족하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
5.0 ≤ [(n_Si/n_total) × 100] ≤ 9.0 (1)
상기 수식 (1) 중, n_total 은, 탄소, 질소, 산소 및 규소의 원자수의 합계이고, n_Si 는, 규소 원자수이다.
제 1 항에 있어서,
상기 수지층 (B) 의 두께가 1.0 ∼ 5.0 ㎛ 인 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 수지층 (B) 가, 표면 조정제를 포함하고,
상기 표면 조정제를 구성하는 원소가, 규소를 포함하는 광학 필름.
제 3 항에 있어서,
상기 표면 조정제가, 디메틸실록산 골격을 갖는 규소 화합물을 포함하는 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 수지층 (B) 가, 관능기를 갖는 올리고머와 모노머의 공중합체에 의해 형성되어 있는 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 수지층 (B) 가, 하드 코트층인 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 수지층 (B) 에 있어서의 상기 광 투과성 기재 (A) 와 반대측의 면 상에, 점착층에 의해 다른 층 (C) 가 첩부되어 있는 광학 필름.
제 7 항에 있어서,
상기 점착층이, 하기 수식 (2) 의 조건을 만족하는 광학 필름.
(d₁ － d₂)/d₁ ≥ 0.10 (2)
상기 수식 (2) 중, d₁ 은, 상기 수지층 (B) 표면에 상기 점착층 및 상기 다른 층 (C) 가 없는 경우에 있어서의 상기 수지층 (B) 표면의 물 접촉각 (°) 이고, d₂ 는, 상기 점착층으로부터 상기 다른 층 (C) 를 박리한 후에 있어서의 상기 점착층 표면의 물 접촉각 (°) 이다.
제 7 항에 있어서,
상기 다른 층 (C) 가, 유리 또는 수지 필름인 광학 필름.
상기 광 투과성 기재 (A) 상에, 상기 수지층 (B) 를, 상기 수식 (1) 을 만족하도록 형성하는 수지층 (B) 형성 공정을 포함하고,
상기 수지층 (B) 형성 공정이, 상기 광 투과성 기재 (A) 상에 수지층 형성용 도공액을 도공하는 도공 공정과, 도공한 상기 수지층 형성용 도공액을 건조시켜 도막을 형성하는 도막 형성 공정을 포함하고,
상기 수지층 형성용 도공액이, 수지와, 규소 원소 함유 첨가제와, 희석 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 제조 방법.
제 10 항에 있어서,
상기 수지층 (B) 형성 공정이, 추가로 상기 도막을 경화시키는 경화 공정을 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
제 10 항에 있어서,
상기 광학 필름이, 상기 수지층 (B) 가, 표면 조정제를 포함하고, 상기 표면 조정제를 구성하는 원소가, 규소를 포함하는 광학 필름이고,
상기 규소 원소 함유 첨가제가, 상기 표면 조정제인 광학 필름의 제조 방법.
제 10 항에 있어서,
상기 희석 용매가, MIBK (메틸이소부틸케톤) 및 시클로펜타논을 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 포함하는 광학 부재.
제 14 항에 있어서,
편광판인 광학 부재.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름, 또는 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 포함하는 광학 부재를 포함하는 화상 표시 장치.