KR20210136088A - 인쇄 데이터를 프로세싱하고 이러한 인쇄 데이터에 따라 인쇄하기 위한 방법 및 디바이스 - Google Patents
인쇄 데이터를 프로세싱하고 이러한 인쇄 데이터에 따라 인쇄하기 위한 방법 및 디바이스 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210136088A KR20210136088A KR1020217032189A KR20217032189A KR20210136088A KR 20210136088 A KR20210136088 A KR 20210136088A KR 1020217032189 A KR1020217032189 A KR 1020217032189A KR 20217032189 A KR20217032189 A KR 20217032189A KR 20210136088 A KR20210136088 A KR 20210136088A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- scan
- print data
- vector
- pattern
- processing
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법은 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터를 획득하는 단계(S10)를 포함한다. 벡터 인쇄 데이터는 스캔 스트립들의 벡터 인쇄 데이터로 분할되고(S12), 각각의 스캔 스트립은 스캔 속도와 연관된다. 벡터 인쇄 데이터의 스큐 변환이 각각의 스캔 스트립에서 수행된다(S14). 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 스캔 속도의 크기에 비례하는 크기로 수행된다. 동일한 원리들에 따라 패턴을 인쇄하기 위한 방법, 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스 및 인쇄 디바이스가 또한 개시된다.
Description
본원에서 제시된 기술은 일반적으로 인쇄를 위한 방법들 및 디바이스들, 특히 마스크 라이터(mask writer)들 또는 직접 라이터(direct writer)들과 같은, 패턴 생성을 위한 디바이스들 및 방법들에 관한 것이다.
오늘날 반도체 산업에서, 레이저-기반 마스크 라이터(laser-based mask writer)들에 의해 생성되는 마스크들은 상이한 종류들의 고급 칩들 및 이미지 디바이스들의 제조에 일반적으로 사용된다. 예컨대 전자 패킹을 위한 직접 라이터들은 또한 오늘날에도 표준이다. 지난 몇 년 동안, 더 크고 더 정확한 디스플레이들의 생산도 또한 엄청나게 증가해 왔다. 따라서, 예컨대 마이크로-리소그래피 인쇄 프로세스들이 더 빠르고 더 정확하고 더 저렴하게 이루어지는 것이 요구되고 있다.
마이크로-리소그래피 인쇄 프로세스들의 분야에서, 마스크 라이터들 또는 직접 라이터들은 하나 또는 여러 개의 정밀 레이저 빔들을 제공하는 기록 헤드를 기반으로 할 수 있다. 기록 헤드 및 기록이 수행되도록 의도된 기판은 기록 헤드 또는 기판 또는 둘 모두를 이동시킴으로써 서로에 대해 이동가능하다. 상대적인 모션(relative motion)에 따라 조정되는 레이저 빔의 전력(power)을 변경함으로써, 노출 패턴이 기판상에 기록될 수 있다.
일반적인 방법은 전체 패턴을 스캔 스트립들로 분할하는 것이며, 여기서 레이저 빔들은 기판의 표면을 노출시키는 반면에, 기판에 대한 기록 헤드의 포지션은 기판의 한 측으로부터 다른 측까지 스캔한다. 기판에 대한 기록 헤드의 포지션은 스캔 이전의 포지션으로 리턴(return)되며, 기판에 대한 기록 헤드의 포지션은 노출될 새로운 스캔 스트립을 선택하기 위해 스캔에 수직인 방향으로 스테핑된다(stepped).
인쇄 속력을 더 높이기 위해, 일부 인쇄 디바이스들은 스캔 동안 스캔 방향에 수직인 스위프 동작(sweep action)을 적용한다. 그 결과, 레이저 빔은 각각의 스캔에 대해 스캔 스트립의 더 큰 폭을 커버할 수 있다. 레이저 빔의 스위프는 예컨대 음향-광학 편향기(acusto-optic deflector)들에 의해 수행되어, 제한된 스위프 폭을 갖지만 매우 짧은 리셋 시간을 가질 수 있다.
인쇄 속력을 증가시키기 위한 추가 접근접은 기록 헤드에 하나 초과의 레이저 빔을 제공하는 것이며, 이는 다수의 레이저 빔들의 동시 병렬 기록이 개별적으로 제어될 수 있게 한다.
이러한 접근법들의 하나의 나머지 단점은 스캔후 기록 헤드가 리셋되는 시간인데, 왜냐하면 이는 비교적 먼 거리들에 걸쳐 기계적 움직임들과 관련되기 때문이다. 이러한 스캔 리셋을 위한 시간은 인쇄에 이용할 수 있는 시간을 감소시킨다.
본 기술의 일반적인 목적은 보다 시간 효율적인 인쇄를 수행하는 것이다.
앞의 목적은 독립항들에 따른 방법들 및 디바이스들에 의해 달성된다. 바람직한 실시예들은 종속항들에 정의되어 있다.
일반적으로 말하자면, 제1 양상에서, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법은 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 벡터 인쇄 데이터는 스캔 스트립들로 분할되며, 각각의 스캔 스트립은 스캔 속도와 연관된다. 벡터 인쇄 데이터의 스큐 변환이 각각의 스캔 스트립에 대해 수행된다. 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 스캔 속도의 크기에 비례하는 크기로 수행된다.
제2 양상에서, 패턴을 인쇄하기 위한 방법은 제1 양상에 따른 인쇄 데이터의 프로세싱을 포함한다. 인쇄 프로세스는 벡터 인쇄 데이터, 및 벡터 인쇄 데이터에 기반하는 비트맵 인쇄 데이터 중 적어도 하나에 기반하여 제어된다.
제3 양상에서, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스는 프로세싱 회로 및 메모리를 포함한다. 메모리는 프로세싱 회로에 의해 실행 가능한 명령들을 포함하며, 프로세싱 회로는 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터를 획득하고, 벡터 인쇄 데이터를 벡터 인쇄 데이터 스캔 스트립들로 분할하며 ― 각각의 스캔 스트립은 스캔 속도와 연관됨 ―, 그리고 각각의 스캔 스트립의 벡터 인쇄 데이터의 스큐 변환을 수행하도록 동작한다. 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 스캔 속도의 크기에 비례하는 크기로 수행된다.
제4 양상에서, 인쇄 디바이스는 제3 양상에 따른 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스, 인쇄 헤드 및 제어 유닛을 포함한다. 인쇄 헤드는 기판에 대해 이동가능하다. 제어 유닛은 스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터에 기반하여 인쇄 헤드의 동작 및 상대 모션을 제어하도록 배열된다.
제5 양상에서, 컴퓨터 프로그램은 명령들을 포함하며, 명령들은 프로세싱 회로에 의해 실행될 때, 프로세싱 회로로 하여금 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터를 획득하게 하고, 벡터 인쇄 데이터를 벡터 인쇄 데이터 스캔 스트립들로 분할하게 하며 ― 각각의 스캔 스트립은 스캔 속도와 연관됨 ―, 그리고 각각의 스캔 스트립의 벡터 인쇄 데이터의 스큐 변환을 수행하게 한다. 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 스캔 속도의 크기에 따르는 크기로 수행된다.
제안된 기술의 한 가지 장점은 시스템 전체 스루풋을 증가시키는 것이다. 다른 장점들은 상세한 설명을 읽을 경우에 인식될 것이다.
본 발명은, 본 발명의 추가 목적들 및 장점들과 함께, 첨부 도면들과 함께 하기의 상세한 설명을 참조함으로써 잘 이해될 수 있다.
도 1은 인쇄 디바이스의 예를 예시한다.
도 2는 레이저 편향기의 동작을 개략적으로 예시한다.
도 3은 방위각의 원점을 개략적으로 예시한다.
도 4a는 방위각 조정 없이 인쇄 헤드의 모션을 개략적으로 예시한다.
도 4b는 방위각 조정을 갖는 인쇄 헤드의 모션을 개략적으로 예시한다.
도 5는 스캔 데이터의 데이터 경로의 예를 예시한다.
도 6은 양-방향 스캔들이 사용될 때 방위각의 원점을 개략적으로 예시한다.
도 7은 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법의 실시예의 흐름도를 예시한다.
도 8은 스큐 변환을 예시한다.
도 9는 인쇄될 패턴의 부분을 예시한다.
도 10은 도 9의 패턴의 양-방향 스캔 스큐 변환을 예시한다.
도 11은 패턴을 인쇄하기 위한 방법의 실시예의 단계들의 흐름도를 예시한다.
도 12는 인쇄 디바이스의 실시예를 개략적으로 예시한다.
도 1은 인쇄 디바이스의 예를 예시한다.
도 2는 레이저 편향기의 동작을 개략적으로 예시한다.
도 3은 방위각의 원점을 개략적으로 예시한다.
도 4a는 방위각 조정 없이 인쇄 헤드의 모션을 개략적으로 예시한다.
도 4b는 방위각 조정을 갖는 인쇄 헤드의 모션을 개략적으로 예시한다.
도 5는 스캔 데이터의 데이터 경로의 예를 예시한다.
도 6은 양-방향 스캔들이 사용될 때 방위각의 원점을 개략적으로 예시한다.
도 7은 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법의 실시예의 흐름도를 예시한다.
도 8은 스큐 변환을 예시한다.
도 9는 인쇄될 패턴의 부분을 예시한다.
도 10은 도 9의 패턴의 양-방향 스캔 스큐 변환을 예시한다.
도 11은 패턴을 인쇄하기 위한 방법의 실시예의 단계들의 흐름도를 예시한다.
도 12는 인쇄 디바이스의 실시예를 개략적으로 예시한다.
도면들 전체에 걸쳐, 유사하거나 대응하는 엘리먼트들에 대해 동일한 참조 번호들이 사용된다.
제안된 기술에 대한 더 용이한 이해를 위해, 종래 기술의 인쇄 디바이스들 및 인쇄 방법들의 일부 양상들의 간략한 개요를 먼저 설명하는 것이 유용할 수 있다.
도 1은 전형적으로 마이크로-리소그래피 인쇄 프로세스에 사용되는 인쇄 디바이스(1)의 일례를 예시한다. 기판 지지체(12)는 레이저 광의 노출에 의해 패터닝되도록 의도된 기판(10)을 운반한다. 레이저 유닛(20)은 레이저 광을 인쇄 헤드(30)에 제공한다. 이러한 예에서, 레이저 유닛에는 제어 유닛(50)에 의해 제공되는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터에 따라 레이저 광의 전력을 변조하는 레이저 변조기(22)가 제공된다. 레이저 변조는 예컨대 음향-광학 변조기들을 사용하여 제공될 수 있다.
이러한 예에서, 인쇄 헤드(30)는, 브리지(bridge)(34)에 의해 지지되면서, X로 표시된 방향으로 기판(10)의 폭에 걸쳐 이동 가능하다. 모션은 이 예에서 인쇄 헤드(30) 내에 제공되거나 또는 이에 부착된 스캔 모션 유닛(32)에 의해 스캔 방향(44)으로 생성된다. 스캔 모션은 또한 제어 유닛(50)에 의해 제어되어, 예컨대 레이저 전력 변조와 동기화된다. 스캔은 인쇄 헤드(30)와 스캔 영역(10) 사이의 상대적인 기계적 모션으로서 정의된다. 스캔 동안, 즉 X 방향으로 기판(10)의 폭에 걸쳐 인쇄 헤드(30)의 모션 동안 기판(10)의 특정 부분 영역은 레이저 광에 노출된다. 이 부분 영역을 스캔 스트립(40)으로서 지칭된다. 스캔 스트립의 노출은 아래에서 추가로 논의될 것이다.
대안적인 예들에서, 기판(10)을 대신 이동시키거나, 인쇄 헤드(30)를 정지 상태로 유지시키거나, 또는 조정된 방식으로 기판(10)과 인쇄 헤드(30) 둘 모두를 이동시킴으로써 스캔이 생성될 수 있다.
스캔이 완료된 후, 인쇄 헤드(30)는 원래 포지션으로 리턴하고, 이 예에서, 브리지는 스캔 스트립 스테핑 유닛(36)에 의해 스캔 방향에 수직인 방향으로 일정 거리만큼 스테핑된다. Y로 표시된 방향의 이 스텝은 스캔 스트립 폭과 동일할 수 있으며, 이에 따라 다가오는 스캔 스트립(40)의 노출된 영역은 이전 스캔 스트립(40)에 연결된다. 이러한 방식으로, 전체 기판(10)이 레이저 광에 노출될 수 있다.
다른 실시예들에서, Y 방향으로의 스테핑은 또한 스캔 스트립 폭과 상이할 수 있고, 전형적으로 스캔 스트립 폭보다 작을 수 있다. 그러한 실시예에서, 기판(10)의 각각의 스폿(spot)은 레이저 광에 여러 번 노출될 것이다. 이는 예컨대 인쇄 프로세스에서 사소한 시스템 오류들을 균등하게 하는데 유용할 수 있다.
스캔 스트립 스테핑 유닛(36)의 제어는 스캔 모션 유닛(32)의 제어와 동기화된다.
또한, 본원의 대안적인 예들에서, 스캔 스트립 스테핑은 기판(10)을 이동시키거나, 브리지(34)를 정지 상태로 유지시키거나, 또는 기판(10)과 브리지 둘 모두를 조정된 방식으로 이동시킴으로써 또한 획득될 수 있다.
레이저 빔의 직경보다 더 넓은 폭들의 스캔 스트립들(40)을 획득하기 위해, 전형적으로 마이크로스위프들을 활용하는 접근법이 적용된다. 이는 본 예에서 인쇄 헤드(30)에 연결된 레이저 편향기(38)에 의해 달성된다.
이러한 레이저 편향기(38)의 동작에 대한 개략도가 도 2에 도시되어 있다. 레이저 빔(60)은 인쇄 헤드(30)에 제공된다. 레이저 편향기(38)의 영향이 차단되면, 레이저 빔은 선(62A)을 따라 직선 방향으로 계속되고 지점(64A)에서 기판(10)에 충돌한다. 레이저 편향기(38)가 턴-온(turn-on)되는 경우에, 레이저 빔은 예컨대 선(62B)을 따라 편향되어, 지점(64B)에서 기판(10)에 충돌할 수 있다. 대안적으로, 레이저 편향기(38)는 예컨대 선(62C)을 따라 레이저 빔을 편향시켜서, 레이저 빔을 지점(64C)에서 기판(10)에 충돌시킨다. 그러한 방식으로, 레이저 편향기(38)는 레이저 빔(60)이 스캔 스트립(40)의 전체 폭 내에서 기판(10)을 노출시키는 지점을 결정할 수 있다. 레이저 편향기(38)는 예컨대, 음향-광학 편향을 사용하여 실현될 수 있다. 이러한 편향 가능성은 종종 스캔 중에 사용되어, 레이저 빔은 스캔 중에, 즉 스캔 모션과 동시에 스캔 스트립의 폭에 걸쳐 여러번 소위 마이크로스위프(microsweep)로 스위프된다. 레이저 편향기(38)에 대한 리셋 시간은 전형적으로 매우 짧으며, 하나의 마이크로스위프의 끝과 다음 마이크로스위프의 시작 사이의 시간은 이러한 맥락에서 무시할 수 있다.
그러나, 스캔 및 스위프를 동시에 수행하는 것은 추가 고려사항들을 발생시킨다. 도 3은 동시 스캔 및 스위프가 사용되는 기판(10)의 한 상황을 예시한다. 스캔이 시작될 때, 인쇄 헤드는 기판(10)의 좌측에 위치하고, 레이저 빔은 스캔 스트립(40)의 한 에지에서 기판(10)에 충돌한다. 스캔 스트립(40)의 제1 경계(41)로부터 스캔 스트립(40)의 제2 경계(42)까지 스위프 방향(43)으로의 마이크로스위프의 시간 동안, 레이저 빔은 Y 방향으로 스캔 스트립의 반대쪽으로 스위프-오버되는(swept over) 반면에, 동시에 스캔 모션은 스캔 방향(44)으로 거리 d만큼 인쇄 헤드를 이동시켰다. 이는 레이저 빔이 Y 방향에 비해 약간 기울어진 선(66)을 따를 것임을 의미한다. 다시 말해서, 마이크로스위프들이 수행되는 동안 인쇄 헤드가 일정한 속력으로 이동하며, 이는 마이크로스위프 노출이 방위각으로 불리는 각도 α로 이루어지게 한다. 따라서, 그 결과, 추가 조치들이 취해지지 않으면, 각각의 스캔 스트립 내에서 이러한 방위각으로 인쇄 패턴이 왜곡될 것이다.
이러한 왜곡들을 보상하는 하나의 표준 방식은 마이크로스위프 광 편향이 모션에 의해 생성된 각도와 반대 각도에서 발생하도록 인쇄 헤드(30)의 방위각을 기계적으로 조정하는 것이다. 따라서, 노출은 광학 헤드 움직임 방향에 수직이 되도록 교정될 수 있다. 이는 도 4a 및 도 4b에 개략적으로 예시된다. 도 4a에서, 조정되지 않은 인쇄 헤드(30)는 기판에 수직인 방향에서 본 것으로 예시되어 있다. 실선들은 마이크로스위프 시작의 인쇄 헤드(30)의 포지션을 표시하며, 점선들(30')은 마이크로스위프 끝의 포지션을 표시한다. 이후, 레이저 빔의 경로는 선(66)을 따른다.
도 4b에서, 인쇄 헤드(30), 또는 적어도 마이크로스위프의 정렬은 방위각에 대응하는 각도 α로 배열된다. 실선들은 마이크로스위프의 시작의 인쇄 헤드(30)의 포지션을 표시하며, 점선들은 마이크로스위프의 끝의 포지션을 표시한다. 여기서, 선(66)이 이제 스캔 방향에 수직이 되고 인쇄된 패턴의 왜곡들이 없음을 알 수 있다.
도 3, 도 4a 및 도 4b에 예시된 방위각들은 예시를 위해 매우 과장된 것임에 유의해야 한다. 전형적인 방위각들은 수십분의 1도 내지 몇 도일 수 있다.
마지막으로, 완성도를 위해, 오늘날의 많은 인쇄 디바이스들은 인쇄 헤드들을 사용하여 하나 초과의 레이저 빔을 병렬로 제공하는 것이 언급될 수 있다. 그러면, 빔들은 전형적으로 스캔 방향으로 나란히 제공되고, 전형적으로 동기화된 스위프들과 동시에 동작한다. 스캔 속도와 상이한 빔들 간의 거리들은 모든 빔들이 기판의 특정 영역에 전달될 때 그 영역의 모든 부분들이 빔들 중 하나의 빔으로부터의 레이저 광에 노출되도록 적응된다. 그러나, 방위각의 원리들과 이에 대한 보정은 위에서 더 논의한 것과 동일하다.
인쇄될 패턴을 정의하는 스캔 데이터의 데이터 경로에 대한 개략적인 예시가 도 5에 도시된다. 패턴을 나타내는 데이터는 여기에서 디자인 컴퓨터(70)로 표시된 일종의 프로세싱 유닛에서 생성된다. 이 디자인 컴퓨터(70)는 인쇄 시스템의 일부일 수 있거나, 또는 외부에서 제공되는 컴퓨터일 수 있다. 디자인 컴퓨터(70)로부터의 출력은 전형적으로 인쇄될 패턴을 나타내거나 정의하는 디자인 데이터(72)이다. 또한, 전형적으로, 이러한 디자인 데이터(72)는 벡터 표현으로 제공되며, 즉 인쇄될 패턴은 오브젝트들, 및 오브젝트들의 포지션 및 크기를 정의함으로써 설명된다. 디자인 데이터(72)는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)에 의해 인쇄 디바이스(1)에서 수신된다. 대안적인 예에서, 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)는 또한 외부 유닛으로서 제공될 수 있다.
인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)는 벡터 디자인 데이터(72)를 수신한다. 전형적으로, 디자인 컴퓨터로부터의 벡터 디자인 데이터(72)의 시스템의 내부-포맷 벡터 인쇄 데이터(82)로의 변환이 존재한다. 이는 벡터 디자인 데이터(72)에 대해 상이한 포맷들을 갖는 상이한 종류들의 디자인 컴퓨터 시스템들로부터 벡터 디자인 데이터(72)를 수신하는 것을 가능하게 한다. 그 다음에, 내부-포맷 벡터 인쇄 데이터(82)는 사용될 각각의 개별 스캔 스트립에 대한 벡터 인쇄 데이터(84)로 분할된다. 다시 말해서, 패턴은 다수의 단편 패턴들로 세분화되며, 다수의 단편 패턴들의 각각은 단일 스캔 스트립 내에서 인쇄할 패턴을 정의한다. 마지막으로, 각각의 개별 스캔 스트립에 대한 벡터 인쇄 데이터(84)는 비트맵 데이터(86)로 추가로 래스터화된다(rasterized). 래스터화(rasterization)는 마이크로스위프들 동안 상이한 전력 변조들 간의 분해능 및 개별 레이저 빔 폭들에 대응하도록 수행된다. 따라서, 비트맵 데이터(86)의 각각의 값은 기판(10)의 각각의 지점에서 요청된 노출 크기에 이상적으로 대응한다.
비트맵 데이터(86)는 인쇄 어레인지먼트(2)의 제어 유닛(50)으로 전달된다. 비트맵 데이터(86)는 스캔 및 마이크로스위프 포지션들에 따라 레이저 변조를 제어하기 위해 제어 유닛(50)에서 사용된다.
앞서 추가로 설명된 바와 같이, 전형적인 종래 기술의 인쇄 시스템은 단지 한 스캔 방향으로만 기판을 노출하고 다른 방향으로 인쇄 헤드의 리턴 동안 실제 인쇄가 보류된다.
효율성과 스루풋을 향상시키기 위한 한 가지 가능한 접근법은 양방향들로 노출을 수행하는 것이다. 그러나, 리턴 스캔 동안의 노출이 기존 시스템에서 직접 구현되는 경우에, 스캔 방향이 방향을 변경할 때 스위프의 방위각이 사인(sign)을 변경하기 때문에 방위각에 대한 보상은 리턴 스캔에서 작용하지 않을 것이다. 이는 도 6에서 개략적으로 예시된다. 여기서는 방위각 조정이 없는 상황이 예시된다. 순방향 스캔 방향에서는 방위각 α가 존재할 것인데 반면에, 리턴 스캔 방향에는 크기가 동일하지만 방향이 반대인 방위각이 존재할 것이다. 그 결과는 단일 방위각 조정에 의해 보상될 수 없는 물고기 뼈-형 스위프 패턴(fishbone-like sweep pattern)이다.
적어도 이론적으로 가능한 하나의 솔루션은 반대 사인들을 갖는 2개의 방위각들을 사용하는 것일 것이다. 제1 각도는 순방향 스캔 방향에서 사용되고, 제2 반대 각도는 리턴 스캔 방향에서 사용된다. 그러나 이는 몇 초마다 방위각을 터닝(turning)하기 위한 복잡한 기계-전기 솔루션을 요구한다. 그러한 재-포지셔닝(re-positioning)의 정확도에 대한 요구들은 매우 높으며, 이는 그러한 솔루션을 실제로 달성하기 어렵게 하거나 적어도 극도로 복잡하고 고가의 장비와 연관되게 한다.
대안적인 바람직한 솔루션은 방위각을 일정하게 유지하고, 바람직하게는 0에 가깝게 유지하고, 대신에 변조기 신호를 제어하는 패턴 데이터가, 스캔 스트립마다, 즉 인쇄 헤드의 상대 스캔 마다 스큐 각도 교번 사인으로 패턴 데이터를 변환함으로써 결과적인 방위각 매스매치를 보상하도록 하는 것이다. 이는 양-방향 노출을 사용하여 시스템 전체 스루풋을 증가시킬 가능성들을 강화시킨다.
패턴 데이터에 역 스큐 보상(inverse skew compensation)을 추가하여 모든 스캔 스트립 사이에서 양의 스큐 각도와 음의 스큐 각도를 교번함으로써, 양-방향 스캔 노출이 적용된 경우에도 노출이 다시 예정대로 진행될 것이다.
그러나, 역 스큐 보상의 사용은 순방향 및 리턴 스캔 시나리오에 제한되지 않는다. 이는 또한 다른 상황들에도 적용가능하다. 우선, 역 스큐 보상은 방위각에 맞게 조정된 인쇄 헤드를 장착하는 대안으로 모노-지향 스캔 노출(mono-directed scan exposure)의 일반적인 시스템에 적용될 수 있다는 점에 유의할 수 있다.
이러한 접근법은 또한 인쇄될 실제 패턴에 따라 다른 스캔 속도들을 사용하는 것을 가능하게 할 수 있다. 가능한 한 높은 정밀도를 요구하지 않는 패턴들에서, 스캔 속도가 증가될 수 있고 따라서 전체 프로세싱 시간을 감소시킬 수 있다. 인쇄 데이터에 역 스큐 보상을 적용함으로써, 방위각을 기계적으로 재조정할 필요 없이, 아이템(item) 별로 이러한 속력 변경들이 수행될 수 있다.
게다가, 상이한 스캔 속도들의 사용은 심지어 하나의 동일한 패턴 내에서 구현될 수도 있다. 패턴이 상이한 정확도 요구들을 갖는 스캔 스트립들을 포함하는 경우에, 상이한 스캔 스트립들에 상이한 스캔 속력들이 할당될 수 있다. 역 스큐 보상이 각각의 스캔 스트립에 대해 개별적으로 수행되기 때문에, 역 스큐 보상은 그 특정 스캔 스트립에 사용되도록 의도된 실제 스캔 속력으로 수행될 수 있다.
스위프의 속력을 변경하기 위한 유사한 가능성이 있다. 보통의 경우에, 스위프 속력은 일정하다. 그러나, 특정 애플리케이션들 및 특정 패턴들의 경우에, 상이한 스캔 스트립들에 대한 다양한 스위프 속력이 유리할 수 있다.
스큐 보상은 벡터 데이터 도메인에서 또는 픽셀 데이터 도메인에서 다양한 방식들로 패턴 데이터에 추가될 수 있다. 픽셀 도메인에서, 스큐 보상은, 시간이 많이 걸리고 패턴 에지들의 매끄러움(smoothness)을 감소시킬 수 있는 동작을 고정 각도에서 픽셀 리샘플링함으로써 대부분의 경우에 수행될 수 있다.
벡터 데이터 도메인에서, 스큐 보상은 단순히 모든 각각의 벡터 코너 지점에 수평 시프트 dx를 추가하는 것을 의미하며, 여기서 이며, α는 교번 방위각이고, 그리고 y는 코너 지점의 스캔 스트립 내부의 y 좌표이다. 따라서, 변환 그 자체는 매우 간단하다. 그러나, 사소한 단점은 모든 각각의 수직 직선을 각진 선으로 변환하여 래스터화 시간을 증가시킨다는 점이다.
도 7은 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법의 실시예의 흐름도를 예시한다. 단계(S10)에서, 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터가 획득된다. 벡터 인쇄 데이터는 외부 소스에서 수신될 수 있거나 또는 인쇄 시스템 그 자체 내에서 생성될 수 있다. 단계(S12)에서, 벡터 인쇄 데이터는 스캔 스트립들의 벡터 인쇄 데이터로 분할된다. 각각의 스캔 스트립은 스캔 속도와 연관된다. 보통의 모노-지향 스캔 노출의 경우에, 이 스캔 속도는 모든 스캔 스트립들에 대해 동일하다. 상이한 의도된 스캔 속도들을 갖는 스캔 노출들의 경우에, 연관된 스캔 속도는 각각의 스캔 스트립 간에 상이할 수 있다. 다시 말해서, 스캔 속도는 획득된 인쇄 데이터에 따라 인쇄하기 위한 의도된 스캔 속도이다. 양-방향 스캔 노출의 경우에, 스캔의 속력은 각각의 스캔 스트립마다 동일하지만, 방향은 교번하며, 즉 스캔 속도는 2개의 연속 스캔 스트립들 사이에서 자신의 사인을 변경한다.
단계(S14)에서, 벡터 인쇄 데이터의 스큐 변환이 각각의 스캔 스트립에서 수행된다. 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 스캔 속도의 크기에 비례하는 크기로 수행된다.
앞서 추가로 설명된 바와 같이, 바람직하게 각각의 스캔 스트립은 제1 및 제2 선형 경계를 가지며, 제1 및 제2 선형 경계 둘 모두는 개개의 연관된 스캔 속도의 방향에 평행하다. 이후, 제1 선형 경계로부터 제2 선형 경계까지 스위프 방향이 정의된다.
따라서, 바람직하게는, 스위프 방향은 스캔 동안 스캔 속도에 수직인 의도된 스위프의 방향이다.
따라서, 스큐 변환을 도입하기 위한 바람직한 솔루션은 패턴 데이터를 스캔 스트립들로 분할한 후 벡터 도메인에 스큐 보상을 추가하는 것일 것이다. 양-방향 스캔 노출에서, 교번하는 각도 스큐 변환들은 특정 스캔 스트립 스캔 방향에 속하는 데이터 세트로 정확히 세팅된다.
원리는 도 8에서 예시된다. 제1 선형 경계(41) 및 제2 선형 경계(42)를 갖는 스캔 스트립(40)이 도시되어 있다. 벡터 오브젝트(101)는 그의 선택된 특징들의 좌표들에 의해 정의된다. 예시된 예에서, 벡터 오브젝트(101)는 자신의 코너들(102)의 좌표들에 의해 정의되는 직사각형이다. 스큐 변환에서, 오브젝트의 코너들은 다음과 같이 개개의 거리 dx만큼 시프트된다:
여기서, α는 앞서 언급된 바와같이 교번 방위각이다. 이러한 시프트는 화살표(105)로 표시된 의도된 스캔 방향과 비교하여 반대 방향에서 발생한다. 시프트된 코너들(103)은 새로운 벡터 오브젝트(104), 본 예에서는 평행사변형을 정의한다.
다시 말해서, 각각의 스캔 스트립의 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 벡터 인쇄 데이터의 좌표들을 이동하는 것을 포함한다. 좌표들은 좌표들과 제1 선형 경계(41) 사이의 거리에 비례하는 스큐 거리만큼 이동된다.
달리 말하면, 스큐 거리와 좌표 및 제1 선형 경계 사이의 거리 간의 비율은 스위프의 속력과 스캔 속도의 크기간의 비율과 동일하다.
많은 수직 선들을 갖는 전형적인 패턴들에 대한 증가된 래스터화 시간은 이 목적을 위해 컴퓨터를 증가시킴으로써 핸들링될 수 있다.
스큐 변환들을 수행할 때, 원래의 스캔 스트립 경계 외부에 배치된 각진 작은 데이터 부분을 손실하지 않도록 스캔 스트립들의 폭이 동시에 확장되어야 한다. 이는 도 8에서 스캔 스트립의 끝들에 표시된다. 이러한 확장은 이며, 여기서 는 전체 마이크로스위프 높이에서의, 즉 제1 선형 경계(41)와 제2 선형 경계(42) 사이의 전체 거리에 걸친 전체 스큐 폭이다. 따라서 는 다음과 같이 정의된다.
전형적인 시스템에서, 모든 스캔 스트립들의 길이는 동일하며, 따라서 변환은 양 단부들에서 모든 스캔 스트립들에 걸쳐 대칭적으로 확장되어야 한다.
전형적인 경우에, 스캔 스트립의 종횡비는 훨씬 더 크며, 즉 스캔 스트립의 길이는 스캔 스트립의 폭보다 훨씬 더 크다. 도 8의 예시는 단지 원리들을 설명하기 위한 것일 뿐이다. 이는 실제 경우의 방위각이 전형적으로 훨씬 더 작고, 스캔 스트립의 각각 측의 확장이 스캔 스트립의 길이보다 훨씬 더 작다는 것을 의미한다.
양-방향 스캔 인쇄를 준비하는 실시예에서, 즉 벡터 인쇄 데이터가 양-방향 스캔 인쇄를 위해 의도된 경우, 결과적으로, 스캔 속도는 연속적인 스캔 스트립들에 대해 교번 방향들로 지향된다.
도 9는 인쇄될 패턴의 스캔 스트립들(40)의 커플(couple)을 예시한다. 패턴의 상이한 오브젝트들은 벡터 인쇄 데이터에 의해 정의된다. 이러한 패턴이 양-방향 스캔 인쇄를 사용하여 인쇄되려면, 스큐 변환이 필요하다.
도 10은 대응 스큐 변환된 스캔 스트립들을 예시한다. 여기서, 패턴의 오브젝트들은 방위각에 대응하는 각도로 기울어진다. 패턴 오브젝트의 기울기는 변화하는 스캔 방향으로 인해 연속 스캔 스트립들에서 반대 방향이다. 양-방향 스캔 인쇄에서 이러한 스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터를 사용하면, 인쇄된 패턴이 도 9에 정의된 바와같이 원래의 패턴들과 유사한 결과를 초래한다.
스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터가 생성되면, 인쇄 데이터 프로세싱을 계속하는 일반적인 절차를 따르는 것이 바람직하다. 이를 위해, 스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터는 도 7의 단계 S16에 표시된 바와 같이 바람직하게 비트맵 인쇄 데이터로 변환된다. 이후, 이러한 비트맵 데이터는 전형적으로 실제 인쇄 동작을 제어하기 위해 인쇄 어레인지먼트에 제공된다.
도 11은 패턴을 인쇄하기 위한 방법의 실시예의 단계들의 흐름도를 예시한다. 단계(S20)에서, 인쇄 데이터는 스큐 변환을 포함하는 앞서 설명된 실시예들 중 어느 하나에 따라, 예컨대 도 7에 따라 프로세싱된다. 단계(S22)에서, 인쇄 프로세스는 앞서 설명된 바와같이 생성된 벡터 인쇄 데이터 또는 비트맵 인쇄 데이터에 기반하여 제어된다.
인쇄 프로세스를 제어하는 것은 인쇄 데이터의 프로세싱의 단계에서 사용되는 스캔 속도와 동일하도록 인쇄 프로세스의 스캔 속도를 제어하는 것을 포함할 수 있다.
인쇄 프로세스를 제어하는 것은 또한 인쇄 데이터의 프로세싱의 단계에서 사용되는 스위프 속력과 동일하도록 인쇄 프로세스의 스위프 속력을 제어하는 것을 포함할 수 있다.
인쇄가 양-방향 스캔 인쇄를 활용하는 경우, 인쇄 프로세스를 제어하는 것은 연속 스캔들 사이에서 스캔 속도 방향을 반전시키는 것을 포함할 수 있다.
인쇄 프로세스의 제어에서, 기판에 대한 인쇄 헤드의 상대적인 모션이 전형적으로 제어된다. 이러한 모션은 이동 가능한 인쇄 헤드와 정지 기판에 의해 달성될 수 있다. 대안적으로, 이러한 모션은 정지 인쇄 헤드와 이동 가능한 기판에 의해 달성될 수 있다. 다른 대안에서, 이는 이동 가능한 인쇄 헤드 및 이동 가능한 기판 둘 모두에 의해 달성될 수 있다.
앞서 설명된 방법들은 마이크로-리소그래피 인쇄 프로세스에 적용될 수 있다. 방법들은 마스크 기록 프로세스 또는 직접 기록 프로세스를 위해 수행될 수 있다.
스큐 변환 프로세스는 전형적으로 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스에서 이루어진다. 도 12에서, 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)는 인쇄 디바이스(1)의 일부로서 예시된다. 그러나, 대안적으로, 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)는 또한 프로세싱된 비트맵 데이터를 인쇄 어레인지먼트에 제공하는 외부 디바이스로서 제공될 수 있다. 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)는 전형적으로 프로세싱 회로(89) 및 메모리(88)를 포함한다. 메모리(88)는 프로세싱 회로(89)에 의해 실행 가능한 명령들을 포함한다. 이에 의해, 프로세싱 회로(89)는 벡터 인쇄 데이터를 벡터 인쇄 데이터 스캔 스트립들로 분할하기 위해 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터를 획득하도록 동작하게 된다. 각각의 스캔 스트립은 스캔 속도와 연관된다. 프로세싱 회로(89)는 추가로, 각각의 스캔 스트립의 벡터 인쇄 데이터의 스큐 변환을 수행하여, 변환된 벡터 인쇄 데이터(85)를 제공하도록 동작하게 된다. 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 스캔 속도의 크기에 비례하는 크기로 수행된다.
바람직하게는, 스캔 속도는 인쇄 데이터에 따라 인쇄하기 위한 의도된 스캔 속도이다.
일 실시예에서, 각각의 스캔 스트립은 개개의 연관된 스캔 속도의 방향에 평행한 제1 및 제2 선형 경계를 가지며, 여기서 스위프 방향은 제1 선형 경계로부터 제2 선형 경계까지 정의된다.
일 실시예에서, 스위프 방향은 스캔 동안 스캔 속도에 수직인 의도된 스위프의 방향이다.
일 실시예에서, 각각의 스캔 스트립에서의 스큐 변환은 좌표들과 제1 선형 경계 사이의 거리에 비례하는 스큐 거리만큼 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 벡터 인쇄 데이터의 좌표들을 이동시키는 것을 포함한다. 바람직하게, 스큐 거리와 좌표들 및 제1 선형 경계 사이의 거리 간의 비율은 스위프의 속력과 스캔 속도의 크기간의 비율과 동일하다.
일 실시예에서, 벡터 인쇄 데이터는 양-방향 스캔 인쇄를 위해 의도된다. 이후, 스캔 속도는 연속적인 스캔 스트립과 비교하여 교번 방향들로 지향될 수 있다.
일 실시예에서, 프로세싱 회로에 의해 실행 가능한 명령들은 프로세싱 회로가 스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터를 비트맵 인쇄 데이터로 변환하게 동작하도록 한다.
따라서, 도 12의 실시예에 따른 전체 인쇄 디바이스(1)는 본원에서 앞서 설명된 것에 따라 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스를 포함한다. 인쇄 디바이스(1)는 기판에 대해 이동 가능한 인쇄 헤드(30), 및 제어 유닛(50)을 더 포함한다. 제어 유닛(50)은 스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터에 기반하여 인쇄 헤드(30)의 동작 및 상대 모션을 제어하도록 배열된다.
제어 유닛(50)은 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)에서 사용되는 스캔 속도와 동일하도록 기판에 대한 인쇄 헤드(30)의 상대 스캔 속도를 제어하도록 배열될 수 있다.
일 실시예에서, 제어 유닛(50)은 스캔 속도의 방향을 가로지르는, 기판에 대한 인쇄 헤드(30)의 상대 스위프 속력을 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)에서 사용되는 스위프 속력과 동일하게 제어하도록 배열된다.
일 실시예에서, 제어 유닛(50)은 연속적인 스캔들 사이에서 스캔 속도 방향을 반전시키도록 배열된다.
일 실시예에서, 제어 유닛(50)은 인쇄 프로세스 동안 다른 것을 이동시키면서 인쇄 헤드 또는 기판을 정지 상태로 유지하기 위해 배열된다. 대안적으로, 인쇄 헤드와 기판 둘 모두가 동시에 이동되도록 제어될 수 있다.
인쇄 디바이스(1)는 마이크로-리소그래피 인쇄 디바이스일 수 있다. 일부 실시예들에서, 인쇄 디바이스는 마스크 기록 디바이스 또는 직접 기록 디바이스이다.
스큐 변환은 본원에서 앞서 설명된 바와 같이 바람직하게는 프로세싱 회로에 의해 수행된다. 결과적으로, 이러한 스큐 변환 프로세스는 전형적으로 컴퓨터 프로그램으로서 제공된다. 따라서, 일 실시예에서, 컴퓨터 프로그램은 명령들을 포함하며, 명령들은 프로세싱 회로에 의해 실행될 때, 프로세싱 회로로 하여금 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터를 획득하게 하고, 벡터 인쇄 데이터를 벡터 인쇄 데이터 스캔 스트립들로 분할하게 하며 - 각각의 스캔 스트립은 스캔 속도와 연관됨 -, 그리고 각각의 스캔 스트립의 벡터 인쇄 데이터의 스큐 변환을 수행하게 한다. 스큐 변환은 개개의 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 스캔 속도의 크기에 따르는 크기로 수행된다.
앞서 설명된 실시예들은 본 발명의 몇 가지 예시적인 예들로서 이해되어야 한다. 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 실시예들에 대해 다양한 수정들, 조합들 및 변경들이 이루어질 수 있다는 것을 당업자에 의해 이해될 것이다. 특히, 기술적으로 가능한 경우, 상이한 실시예들의 상이한 부분 솔루션들은 다른 구성들로 조합될 수 있다. 그러나, 본 발명의 범위는 첨부된 청구항들에 의해 정의된다.
Claims (22)
- 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법으로서,
인쇄될 상기 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터(72)를 획득하는 단계(S10);
상기 벡터 인쇄 데이터(72)를 스캔 스트립들(40)로 분할하는 단계(S12) ― 각각의 스캔 스트립(40)은 스캔 속도와 연관됨 ―; 및
각각의 스캔 스트립(40)의 벡터 인쇄 데이터(84)의 스큐 변환을 수행하는 단계를 포함하며;
상기 스큐 변환은 개개의 상기 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 상기 스캔 속도의 크기에 비례하는 크기로 수행되는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 스캔 속도는 상기 인쇄 데이터에 따라 인쇄하기 위한 의도된 스캔 속도인, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
각각의 스캔 스트립(40)은 제1 선형 경계(41) 및 제2 선형 경계(42)를 가지며, 상기 제1 선형 경계(41) 및 상기 제2 선형 경계(42) 둘 모두는 개개의 상기 연관된 스캔 속도의 방향에 평행하고, 상기 제1 선형 경계(41)로부터 상기 제2 선형 경계(42)로 스위프 방향(sweep direction)(43)이 정의되는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 제3 항에 있어서,
상기 스위프 방향(43)은 스캔 동안 상기 스캔 속도에 수직인 의도된 스위프의 방향인, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 제3 항 또는 제4 항에 있어서,
각각의 스캔 스트립(40)에서의 상기 스큐 변환은 상기 벡터 인쇄 데이터(84)의 좌표들(102)과 상기 제1 선형 경계(41) 사이의 거리(y)에 비례하는 스큐 거리(dx) 만큼 개개의 상기 스캔 속도와 반대 방향으로 상기 좌표들(102)을 이동시키는 것을 포함하는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 제5 항에 있어서,
상기 스큐 거리(dx)와 상기 좌표들(102) 및 상기 제1 선형 경계(41) 사이의 상기 거리(y) 간의 비율은 상기 스위프의 속력과 상기 스캔 속도의 크기 사이의 비율과 동일한, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 제1 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 벡터 인쇄 데이터는 양-방향 스캔 인쇄를 위해 의도되고, 이에 의해 상기 스캔 속도는 연속적인 스캔 스트립들(40)에 대해 교번 방향들로 지향되는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터(85)를 비트맵 인쇄 데이터(86)로 변환하는 단계(S16)를 더 포함하는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 방법. - 패턴을 인쇄하기 위한 방법으로,
제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 따라 인쇄 데이터를 프로세싱하는 단계(S20);
상기 벡터 인쇄 데이터 및 상기 비트맵 인쇄 데이터 중 적어도 하나에 기반하여 인쇄 프로세스를 제어하는 단계(S22)를 포함하는, 패턴을 인쇄하기 위한 방법. - 제9 항에 있어서,
상기 인쇄 데이터를 프로세싱하는 단계는 제7 항에 따라 수행되고, 상기 인쇄 프로세스를 제어하는 단계(S22)는 연속 스캔들 사이에서 스캔 속도 방향을 반전시키는 단계를 포함하는, 패턴을 인쇄하기 위한 방법. - 제9 항 또는 제10 항에 있어서,
상기 인쇄 프로세스를 제어하는 단계(S22)는 기판에 대한 인쇄 헤드의 상대 모션(relative motion)을 제어하는 단계를 포함하는, 패턴을 인쇄하기 위한 방법. - 제9 항 내지 제11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인쇄 프로세스는 마이크로-리소그래피 인쇄 프로세스(micro-lithographic printing process)인, 패턴을 인쇄하기 위한 방법. - 제12 항에 있어서,
상기 인쇄 프로세스는 마스크 기록 프로세스 또는 직접 기록 프로세스인, 패턴을 인쇄하기 위한 방법. - 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80)로서,
프로세싱 회로(89); 및
메모리(88)를 포함하며;
상기 메모리(88)는 상기 프로세싱 회로(89)에 의해 실행 가능한 명령들을 포함하며;
상기 프로세싱 회로(89)는,
상기 인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터(72)를 획득하며;
상기 벡터 인쇄 데이터(72)를 스캔 스트립들(40)의 벡터 인쇄 데이터(84)로 분할하며 ― 각각의 스캔 스트립(40)은 스캔 속도와 연관됨 ―; 그리고
각각의 스캔 스트립(40)의 상기 벡터 인쇄 데이터(84)의 스큐 변환을 수행하도록 동작하며;
상기 스큐 변환은 개개의 상기 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 상기 스캔 속도의 크기에 비례하는 크기로 수행되는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80). - 제14 항에 있어서,
상기 벡터 인쇄 데이터는 양-방향 스캔 인쇄를 위해 의도되고, 이에 의해 상기 스캔 속도는 연속적인 스캔 스트립들(40)과 비교하여 교번 방향들로 지향되는, 인쇄될 패턴을 정의하는 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80). - 인쇄 디바이스(1)로서,
제14 항 또는 제15 항에 따라 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스(80);
상기 기판(10)에 대해 이동 가능한 인쇄 헤드(30); 및
제어 유닛(50)을 포함하며;
상기 제어 유닛(50)은 상기 스큐 변환된 벡터 인쇄 데이터에 기반하여 상기 인쇄 헤드(30)의 동작 및 상대 모션을 제어하도록 배열되는, 인쇄 디바이스(1). - 제16 항에 있어서,
상기 제어 유닛(16)은 상기 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스에서 사용되는 상기 스캔 속도와 동일하도록 상기 기판(10)에 대한 상기 인쇄 헤드(30)의 상대 스캔 속도를 제어하도록 배열되는, 인쇄 디바이스(1). - 제16 항 또는 제17 항에 있어서,
상기 제어 유닛(50)은 상기 인쇄 데이터를 프로세싱하기 위한 디바이스에서 사용되는 스위프 속력과 동일하도록 상기 스캔 속도의 방향(44)을 가로지르는, 상기 기판(10)에 대한 상기 인쇄 헤드(30)의 상대 스위프 속력을 제어하도록 배열되는, 인쇄 디바이스(1). - 제16 항 내지 제18 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인쇄 헤드(30) 및 상기 기판(10) 중 적어도 하나는 인쇄 프로세스 동안 이동 가능한, 인쇄 디바이스(1). - 제16 항 내지 제19 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인쇄 디바이스(10)는 마이크로-리소그래피 인쇄 디바이스인, 인쇄 디바이스(1). - 제20 항에 있어서,
상기 인쇄 디바이스(1)는 마스크 기록 디바이스 또는 직접(direct) 기록 디바이스인, 인쇄 디바이스(1). - 명령들을 포함하는 컴퓨터 프로그램으로서,
상기 명령들은, 프로세싱 회로(89)에 의해 실행될 때, 상기 프로세싱 회로(89)로 하여금,
인쇄될 패턴에 대한 벡터 인쇄 데이터(72)를 획득하게 하며;
상기 벡터 인쇄 데이터(72)를 스캔 스트립들(40)의 벡터 인쇄 데이터(84)로 분할하게 하며 ― 각각의 스캔 스트립(40)은 스캔 속도와 연관됨 ―; 그리고
각각의 스캔 스트립(40)의 상기 벡터 인쇄 데이터(84)의 스큐 변환을 수행하게 하며;
상기 스큐 변환은 개개의 상기 스캔 속도와 반대 방향으로 그리고 상기 스캔 속도의 크기에 따르는 크기로 수행되는, 명령들을 포함하는 컴퓨터 프로그램.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE1950302 | 2019-03-11 | ||
SE1950302-8 | 2019-03-11 | ||
PCT/EP2020/056083 WO2020182680A1 (en) | 2019-03-11 | 2020-03-06 | Method and device for processing print data and for printing according to such print data |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210136088A true KR20210136088A (ko) | 2021-11-16 |
Family
ID=69804867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217032189A KR20210136088A (ko) | 2019-03-11 | 2020-03-06 | 인쇄 데이터를 프로세싱하고 이러한 인쇄 데이터에 따라 인쇄하기 위한 방법 및 디바이스 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11762300B2 (ko) |
KR (1) | KR20210136088A (ko) |
CN (1) | CN113574457A (ko) |
WO (1) | WO2020182680A1 (ko) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4541712A (en) * | 1981-12-21 | 1985-09-17 | Tre Semiconductor Equipment Corporation | Laser pattern generating system |
US4620288A (en) * | 1983-10-26 | 1986-10-28 | American Semiconductor Equipment Technologies | Data handling system for a pattern generator |
JP5916312B2 (ja) * | 2011-08-04 | 2016-05-11 | 株式会社ミマキエンジニアリング | インクジェットプリンタおよびその印刷方法 |
TWI753865B (zh) * | 2015-11-03 | 2022-02-01 | 以色列商奧寶科技有限公司 | 用於高解析度電子圖案化的無針跡直接成像 |
CN206470535U (zh) * | 2016-10-09 | 2017-09-05 | 激光影像***有限责任公司 | 扫描*** |
-
2020
- 2020-03-06 KR KR1020217032189A patent/KR20210136088A/ko unknown
- 2020-03-06 CN CN202080020709.1A patent/CN113574457A/zh active Pending
- 2020-03-06 WO PCT/EP2020/056083 patent/WO2020182680A1/en active Application Filing
- 2020-03-06 US US17/437,273 patent/US11762300B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020182680A1 (en) | 2020-09-17 |
CN113574457A (zh) | 2021-10-29 |
US11762300B2 (en) | 2023-09-19 |
US20220171289A1 (en) | 2022-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0956516B1 (en) | Method and apparatus for the production of a structure by focused laser radiation on a photosensitively coated substrate | |
US7046266B1 (en) | Scanner system | |
EP0082479B1 (en) | Laser pattern generating system | |
EP1921506A2 (en) | Position Detecting Method and Device, Patterning Device, and Subject to be detected | |
KR20070122369A (ko) | 묘화 시스템 | |
JP4179477B2 (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP4823751B2 (ja) | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JPH10282684A (ja) | レーザ描画装置 | |
KR20210136088A (ko) | 인쇄 데이터를 프로세싱하고 이러한 인쇄 데이터에 따라 인쇄하기 위한 방법 및 디바이스 | |
JP2001330966A (ja) | レーザ描画装置 | |
JP2008527750A (ja) | 同期ラスタ走査リソグラフィ・システム | |
JP4532381B2 (ja) | 描画方法および装置 | |
US20090073511A1 (en) | Method of and system for drawing | |
KR20210119309A (ko) | 묘화 장치, 데이터 처리 장치, 묘화 방법, 및 묘화 데이터 생성 방법 | |
JP4179478B2 (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP4448075B2 (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JPH10216967A (ja) | レーザ描画装置 | |
JP2007079383A (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
CN114415481B (zh) | 一种基于转镜的激光直写***的刻写方法及装置 | |
CN115735158A (zh) | 用于控制激光束的聚焦的装置和方法 | |
KR20230031774A (ko) | 묘화 장치, 묘화 방법, 및 기억 매체에 기록된 프로그램 | |
JP6109692B2 (ja) | データ補正方法、データ変換方法、データ補正装置、データ変換装置、描画システムおよびプログラム | |
JP2024046030A (ja) | テンプレート生成装置、描画システム、テンプレート生成方法およびプログラム | |
JPH07117398B2 (ja) | パターン面積の測定装置 | |
JP2007286528A (ja) | 描画データ取得方法および装置 |