KR20210011437A - Magnetic levitation system for transporting carriers, carrier for magnetic levitation system, processing system for vertically processing substrates, and method of transporting carriers - Google Patents

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Abstract

캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100)이 설명된다. 자기 부상 시스템은, 캐리어(10)를 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩하기 위한 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들(120)을 포함한다. 추가적으로, 자기 부상 시스템은 캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이동시키기 위한 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 갖는 구동 유닛(130)을 포함한다. 하나 이상의 제1 액추에이터들(121) 및 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열된다.A magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T is described. The magnetic levitation system includes one or more magnetic bearings 120 with one or more first actuators 121 for contactlessly holding the carrier 10 in the carrier transport space 15. Additionally, the magnetic levitation system includes a drive unit 130 having one or more second actuators 132 for moving the carrier 10 in the transport direction T. One or more first actuators 121 and one or more second actuators 132 are arranged over the carrier transport space 15.

Description

캐리어를 이송하기 위한 자기 부상 시스템, 자기 부상 시스템을 위한 캐리어, 기판을 수직으로 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템, 및 캐리어를 이송하는 방법Magnetic levitation system for transporting carriers, carrier for magnetic levitation system, processing system for vertically processing substrates, and method of transporting carriers

[0001] 본 개시내용의 실시예들은, 캐리어들, 특히 대면적 기판들의 프로세싱 동안 사용되는 캐리어들의 이송을 위한 장치들 및 방법들에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 개시내용의 실시예들은, 수직 기판 프로세싱, 예컨대 디스플레이 생산을 위한 대면적 기판들 상의 재료 증착을 위해 프로세싱 시스템들에서 이용가능한 캐리어들의 비접촉식 이송을 위한 장치들 및 방법들에 관한 것이다. 특히, 본 개시내용의 실시예들은 진공 프로세싱 시스템들에서의 캐리어 이송을 위한 자기 부상 시스템들 및 방법들에 관한 것이다.[0001] Embodiments of the present disclosure relate to apparatuses and methods for transporting carriers, particularly carriers used during processing of large area substrates. More specifically, embodiments of the present disclosure relate to apparatuses and methods for vertical substrate processing, such as non-contact transfer of carriers available in processing systems for material deposition on large area substrates for display production. . In particular, embodiments of the present disclosure relate to magnetic levitation systems and methods for carrier transport in vacuum processing systems.

[0002] 기판 상에서의 층 증착을 위한 기법들은, 예컨대, 스퍼터 증착(sputter deposition), PVD(physical vapor deposition), CVD(chemical vapor deposition) 및 열적 증발(thermal evaporation)을 포함한다. 코팅된 기판들은 몇몇 애플리케이션들에서 그리고 몇몇 기술 분야들에서 사용될 수 있다. 예컨대, 코팅된 기판들은 디스플레이 디바이스들의 분야에서 사용될 수 있다. 디스플레이 디바이스들은, 정보를 디스플레이하기 위한 텔레비전 스크린들, 컴퓨터 모니터들, 모바일 폰들, 다른 핸드-헬드 디바이스들 등의 제조에서 사용될 수 있다. 전형적으로, 디스플레이들은 상이한 재료들의 층들의 스택으로 기판을 코팅함으로써 생산된다.[0002] Techniques for layer deposition on a substrate include, for example, sputter deposition, physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD), and thermal evaporation. Coated substrates can be used in some applications and in some fields of technology. For example, coated substrates can be used in the field of display devices. Display devices can be used in the manufacture of television screens, computer monitors, mobile phones, other hand-held devices, etc. for displaying information. Typically, displays are produced by coating a substrate with a stack of layers of different materials.

[0003] 층 스택을 증착하기 위해, 프로세싱 모듈들의 인-라인 어레인지먼트(in-line arrangement)가 사용될 수 있다. 인-라인 프로세싱 시스템은 복수의 후속적인 프로세싱 모듈들, 이를테면, 증착 모듈들 및 선택적으로 추가의 프로세싱 모듈들, 예컨대 세정 모듈들 및/또는 에칭 모듈들을 포함하며, 복수의 기판들이 인-라인 프로세싱 시스템에서 연속적으로 또는 준-연속적으로 프로세싱될 수 있도록, 프로세싱 양상들이 프로세싱 모듈들에서 후속적으로 수행된다.[0003] To deposit the layer stack, an in-line arrangement of processing modules can be used. The in-line processing system comprises a plurality of subsequent processing modules, such as deposition modules and optionally additional processing modules, such as cleaning modules and/or etch modules, the plurality of substrates being in the in-line processing system. Processing aspects are subsequently performed in the processing modules so that they can be processed continuously or semi-continuously in the.

[0004] 기판은 캐리어, 즉, 기판을 운반(carrying)하기 위한 운반 디바이스에 의해 운반될 수 있다. 캐리어는 전형적으로, 이송 시스템을 사용하여 진공 시스템을 통해 이송된다. 이송 시스템은, 하나 이상의 이송 경로들을 따라, 기판이 상부에 포지셔닝된 캐리어를 전달하도록 구성될 수 있다. 적어도 2개의 이송 경로들, 예컨대, 캐리어를 순방향(forward direction)으로 이송하기 위한 제1 이송 경로 및 캐리어를 순방향에 대향하는 리턴 방향(return direction)으로 이송하기 위한 제2 이송 경로가 진공 시스템 내에 서로 나란히(next to each other) 제공될 수 있다.[0004] The substrate can be carried by a carrier, ie a transport device for carrying the substrate. Carriers are typically transported through a vacuum system using a transport system. The transfer system may be configured to transfer a carrier with a substrate positioned thereon along one or more transfer paths. At least two conveying paths, e.g., a first conveying path for conveying the carrier in a forward direction and a second conveying path for conveying the carrier in a return direction opposite to the forward direction, are each other in the vacuum system. It can be provided next to each other.

[0005] 디스플레이 디바이스의 기능성은 전형적으로, 미리 결정된 범위 내에 있어야 하는 재료의 코팅 두께에 따라 좌우된다. 고해상도 디스플레이 디바이스들을 획득하기 위해서는, 재료들의 증착과 관련한 기술적 난제들이 마스터될 필요가 있다. 특히, 진공 시스템을 통한 기판 캐리어들 및/또는 마스크 캐리어들의 정확하고 원활한 이송은 난제이다. 예컨대, 이동하는 부품들의 마모로 인한 입자 생성은 제조 프로세스를 악화시킬 수 있다. 따라서, 입자 생성을 감소시키거나 최소화하면서 프로세싱 시스템들에서 캐리어들을 이송하는 것에 대한 요구가 있다. 또한, 예컨대 적은 비용들로 고온 진공 환경들을 위한 견고한 캐리어 이송 시스템들을 제공하는 것은 난제들이다.[0005] The functionality of the display device typically depends on the coating thickness of the material, which should be within a predetermined range. In order to obtain high-resolution display devices, the technical challenges associated with the deposition of materials need to be mastered. In particular, accurate and smooth transfer of substrate carriers and/or mask carriers through a vacuum system is a challenge. For example, particle generation due to wear of moving parts can worsen the manufacturing process. Thus, there is a need for transporting carriers in processing systems while reducing or minimizing particle generation. In addition, it is a challenge to provide robust carrier transport systems for high temperature vacuum environments, for example at low cost.

[0006] 따라서, 종래 기술의 적어도 일부 문제점들을 극복하는 개선된 진공 프로세싱 시스템들을 제공하는 것뿐만 아니라 캐리어들의 이송을 위한 개선된 장치들 및 방법들에 대한 지속적인 요구가 있다.[0006] Thus, there is a continuing need for improved apparatuses and methods for transporting carriers as well as providing improved vacuum processing systems that overcome at least some of the problems of the prior art.

[0007] 상기 내용을 고려하면, 독립항들에 따른, 캐리어를 이송하기 위한 자기 부상 시스템, 자기 부상 시스템을 위한 캐리어, 기판을 수직으로 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템, 및 캐리어를 이송하는 방법이 제공된다. 추가적인 양상들, 장점들, 및 특징들은 종속항들, 상세한 설명, 및 첨부 도면들로부터 명백하다.[0007] In view of the above, a magnetic levitation system for transporting a carrier, a carrier for a magnetic levitation system, a processing system for vertically processing a substrate, and a method of transporting a carrier according to the independent claims are provided. Additional aspects, advantages, and features are apparent from the dependent claims, the detailed description, and the accompanying drawings.

[0008] 본 개시내용의 일 양상에 따르면, 캐리어를 이송 방향으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템이 제공된다. 자기 부상 시스템은, 캐리어를 캐리어 이송 공간 내에 비접촉식으로 홀딩하기 위한 하나 이상의 제1 액추에이터들을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들을 포함한다. 추가적으로, 자기 부상 시스템은 캐리어를 이송 방향으로 이동시키기 위한 하나 이상의 제2 액추에이터들을 갖는 구동 유닛을 포함한다. 하나 이상의 제1 액추에이터들 및 하나 이상의 제2 액추에이터들은 캐리어 이송 공간 위에 배열된다.[0008] According to one aspect of the present disclosure, a magnetic levitation system for transporting a carrier in a transport direction is provided. The magnetic levitation system includes one or more magnetic bearings with one or more first actuators for contactlessly holding a carrier in a carrier transport space. Additionally, the magnetic levitation system includes a drive unit having one or more second actuators for moving the carrier in the transport direction. One or more first actuators and one or more second actuators are arranged over the carrier transport space.

[0009] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 자기 부상 시스템을 위한 캐리어가 제공된다. 캐리어는 대상물(object)을 운반하기 위한 메인 바디를 포함한다. 메인 바디는 제1 단부, 및 제1 단부 반대편의 제2 단부를 포함한다. 제1 단부는 자기 부상 시스템의 하나 이상의 자기 베어링들의 하나 이상의 제1 액추에이터들과 상호작용하기 위한 하나 이상의 제1 자기 대응부(magnetic counterpart)들을 포함한다. 추가적으로, 제1 단부는 자기 부상 시스템의 구동 유닛의 하나 이상의 제2 액추에이터들과 상호작용하기 위한 하나 이상의 제2 자기 대응부들을 포함한다. 메인 바디의 제2 단부는 자기 부상 시스템의 비접촉식 안내 어레인지먼트의 하나 이상의 수동적 자기 베어링(passive magnetic bearing)들과 상호작용하기 위한 제3 자기 대응부를 포함한다.[0009] According to another aspect of the present disclosure, a carrier for a magnetic levitation system is provided. The carrier includes a main body for carrying an object. The main body includes a first end and a second end opposite the first end. The first end includes one or more first magnetic counterparts for interacting with one or more first actuators of one or more magnetic bearings of the magnetic levitation system. Additionally, the first end includes one or more second magnetic counterparts for interacting with one or more second actuators of the drive unit of the magnetic levitation system. The second end of the main body includes a third magnetic counterpart for interacting with one or more passive magnetic bearings of the non-contact guide arrangement of the magnetic levitation system.

[0010] 본 개시내용의 추가의 양상에 따르면, 기판을 수직 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템이 제공된다. 프로세싱 시스템은 프로세싱 디바이스를 포함하는 적어도 하나의 진공 프로세싱 챔버를 포함한다. 추가적으로, 프로세싱 시스템은 하나 이상의 캐리어들을 이송 방향으로 이송하기 위한 하나 이상의 자기 부상 시스템들을 포함한다. 하나 이상의 자기 부상 시스템들은, 캐리어를 캐리어 이송 공간 내에 비접촉식으로 홀딩하기 위한 하나 이상의 제1 액추에이터들을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들을 포함한다. 또한, 하나 이상의 자기 부상 시스템들은 캐리어를 이송 방향으로 이동시키기 위한 하나 이상의 제2 액추에이터들을 갖는 구동 유닛을 포함한다. 하나 이상의 제1 액추에이터들 및 하나 이상의 제2 액추에이터들은 캐리어 이송 공간 위에 배열된다.[0010] According to a further aspect of the disclosure, a processing system for vertical processing a substrate is provided. The processing system includes at least one vacuum processing chamber containing a processing device. Additionally, the processing system includes one or more magnetic levitation systems for transporting one or more carriers in a transport direction. One or more magnetic levitation systems include one or more magnetic bearings with one or more first actuators for contactlessly holding a carrier within a carrier transport space. In addition, the one or more magnetic levitation systems comprise a drive unit having one or more second actuators for moving the carrier in the direction of transport. One or more first actuators and one or more second actuators are arranged over the carrier transport space.

[0011] 본 개시내용의 또 다른 양상에 따르면, 캐리어를 이송하는 방법이 제공된다. 방법은, 캐리어 이송 공간 위에 배열된 하나 이상의 제1 액추에이터들을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들을 사용하여 캐리어를 캐리어 이송 공간 내에 비접촉식으로 홀딩하는 단계를 포함한다. 또한, 방법은, 캐리어 이송 공간 위에 배열된 하나 이상의 제2 액추에이터들을 갖는 구동 유닛을 사용하여 캐리어를 이송 방향으로 이송하는 단계를 포함한다.[0011] According to another aspect of the present disclosure, a method of transporting a carrier is provided. The method includes contactlessly holding a carrier in the carrier transport space using one or more magnetic bearings having one or more first actuators arranged over the carrier transport space. The method also includes transferring the carrier in the transfer direction using a drive unit having one or more second actuators arranged over the carrier transfer space.

[0012] 실시예들은 또한, 개시된 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이며, 각각의 설명된 방법 양상을 수행하기 위한 장치 부분들을 포함한다. 이러한 방법 양상들은, 하드웨어 컴포넌트들에 의해, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터에 의해, 이들 둘의 임의의 조합에 의해, 또는 임의의 다른 방식으로 수행될 수 있다. 게다가, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한, 설명된 장치를 동작시키기 위한 방법들에 관한 것이다. 설명된 장치를 동작시키기 위한 방법들은 장치의 모든 각각의 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.[0012] Embodiments also relate to apparatuses for performing the disclosed methods, including apparatus portions for performing each described method aspect. These method aspects may be performed by hardware components, by a computer programmed by suitable software, by any combination of the two, or in any other way. In addition, embodiments according to the present disclosure also relate to methods for operating the described apparatus. Methods for operating the described apparatus include method aspects for performing all respective functions of the apparatus.

[0013] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로, 앞서 간략히 요약된 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부 도면들은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이고, 하기에서 설명된다:
도 1은 본원에서 설명된 실시예들에 따른 자기 부상 시스템의 개략도를 도시하고;
도 2 내지 도 5는 본원에서 설명된 추가의 실시예들에 따른 자기 부상 시스템들의 개략도들을 도시하고;
도 6은 본원에서 설명된 일부 실시예들에 따른, 비대칭적 캐리어들을 위한 2개의 자기 부상 시스템들의 어레인지먼트의 개략도를 도시하고;
도 7은 본원에서 설명된 일부 실시예들에 따른, 대칭적 캐리어들을 위한 2개의 자기 부상 시스템들의 어레인지먼트의 개략도를 도시하고;
도 8은 본원에서 설명된 실시예들에 따라 기판을 수직으로 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템의 개략도를 도시하고; 그리고
도 9는 본원에서 설명된 실시예들에 따라 캐리어를 이송하는 방법을 예시하기 위한 흐름도를 도시한다.[0013] In such a way that the above-listed features of the present disclosure may be understood in detail, a more specific description of the present disclosure briefly summarized above may be made with reference to embodiments. The accompanying drawings relate to embodiments of the present disclosure and are described below:
1 shows a schematic diagram of a magnetic levitation system according to embodiments described herein;
2-5 show schematic diagrams of magnetic levitation systems according to further embodiments described herein;
6 shows a schematic diagram of an arrangement of two magnetic levitation systems for asymmetric carriers, according to some embodiments described herein;
7 shows a schematic diagram of an arrangement of two magnetic levitation systems for symmetric carriers, according to some embodiments described herein;
8 shows a schematic diagram of a processing system for vertically processing a substrate in accordance with embodiments described herein; And
9 shows a flow chart to illustrate a method of transporting a carrier according to embodiments described herein.

[0014] 이제 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세하게 참조될 것이며, 다양한 실시예들의 하나 이상의 예들이 도면들에서 예시된다. 도면들의 다음의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 지칭한다. 개별적인 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명으로 제공되며, 본 개시내용의 제한으로서 의도되지 않는다. 또한, 일 실시예의 부분으로서 예시되거나 또는 설명되는 특징들은, 또 다른 추가적인 실시예를 산출하기 위해, 다른 실시예들에 대해 또는 다른 실시예들과 함께 사용될 수 있다. 설명은 그러한 수정들 및 변형들을 포함하도록 의도된다.[0014] Reference will now be made in detail to various embodiments of the present disclosure, and one or more examples of various embodiments are illustrated in the drawings. Within the following description of the drawings, like reference numbers refer to like components. Only the differences for the individual embodiments are described. Each example is provided as a description of the disclosure and is not intended as a limitation of the disclosure. In addition, features illustrated or described as part of an embodiment may be used with respect to or in conjunction with other embodiments, to yield another additional embodiment. The description is intended to include such modifications and variations.

[0015] 도 1을 예시적으로 참조하면, 본 개시내용에 따라 캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100)이 설명된다. 이송 방향(T)은 도 1의 도면용지 평면(paper plane)에 수직이다.[0015] Referring to FIG. 1 by way of example, a magnetic levitation system 100 for transferring a carrier 10 in a transfer direction T according to the present disclosure is described. The conveying direction T is perpendicular to the paper plane of FIG. 1.

[0016] 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 자기 부상 시스템(100)은, 캐리어(10)를 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩하기 위한 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들(120)을 포함한다. 캐리어 이송 공간(15)은, 이송 경로를 따라 이송 방향으로의 캐리어의 이송 동안 캐리어가 배열되는 구역으로 이해될 수 있다. 특히, 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 캐리어 이송 공간은, 수직 방향으로 연장되는 높이(H) 및 수평 방향으로 연장되는 폭(W)을 갖는 수직 캐리어 이송 공간일 수 있다. 예컨대, H/W의 종횡비는 H/W ≥ 5, 특히 H/W ≥ 10일 수 있다. 또한, 자기 부상 시스템(100)은, 캐리어(10)를 이송 방향으로 이동시키기 위한 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 갖는 구동 유닛(130)을 포함한다. 하나 이상의 제1 액추에이터들(121) 및 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열된다.[0016] According to embodiments that can be combined with any of the other embodiments described herein, the magnetic levitation system 100 comprises at least one first for non-contact holding the carrier 10 within the carrier transport space 15. And one or more magnetic bearings 120 with actuators 121. The carrier transport space 15 can be understood as a region in which carriers are arranged during transport of the carrier in the transport direction along the transport path. In particular, as illustrated by way of example in FIG. 1, the carrier transport space may be a vertical carrier transport space having a height H extending in a vertical direction and a width W extending in the horizontal direction. For example, the aspect ratio of H/W may be H/W ≥ 5, especially H/W ≥ 10. Further, the magnetic levitation system 100 includes a drive unit 130 having one or more second actuators 132 for moving the carrier 10 in the transport direction. One or more first actuators 121 and one or more second actuators 132 are arranged over the carrier transport space 15.

[0017] 따라서, 본원에서 설명된 바와 같은 자기 부상 시스템의 실시예들은, 특히 고온 진공 환경들에서 캐리어들의 정확하고 원활한 이송과 관련하여 종래의 캐리어 이송 장치들에 비해 개선된다. 또한, 본원에서 설명된 바와 같은 실시예들은 유익하게, 종래의 캐리어 이송 장치들에 비해 더 적은 생산 비용들로 더 견고한 비접촉식 캐리어 이송을 제공한다. 특히, 본원에서 설명된 바와 같은 자기 부상 시스템의 실시예들은 제조 허용오차들, 변형, 및 열적 팽창에 대해 더 둔감하다. 또한, 유익하게, 자기 부상 시스템을 챔버에 더 간단하게 통합하는 것이 제공된다.[0017] Accordingly, embodiments of the magnetic levitation system as described herein are improved over conventional carrier transfer devices, particularly with respect to accurate and smooth transfer of carriers in high temperature vacuum environments. Further, embodiments as described herein advantageously provide a more robust contactless carrier transport with lower production costs compared to conventional carrier transport devices. In particular, embodiments of the magnetic levitation system as described herein are more insensitive to manufacturing tolerances, deformation, and thermal expansion. It is also advantageously provided to more simply integrate the magnetic levitation system into the chamber.

[0018] 본 개시내용의 다양한 추가의 실시예들이 더 상세하게 설명되기 전에, 본원에서 사용되는 일부 용어들에 대한 일부 양상들이 설명된다.[0018] Before various additional embodiments of the present disclosure are described in more detail, some aspects of some terms used herein are described.

[0019] 본 개시내용에서 "자기 부상 시스템"은, 자기력을 사용함으로써 비접촉 방식으로 대상물, 예컨대 캐리어를 홀딩하도록 구성된 시스템으로서 이해될 수 있다. 본 개시내용에서, "부상하는" 또는 "부상"이라는 용어는 대상물, 예컨대 기판 또는 마스크를 운반하는 캐리어의 상태를 의미하며, 여기서 대상물은 기계적인 접촉이나 지지 없이 부유(float)한다. 또한, 대상물을 이동시키거나 이송하는 것은, 구동력, 예컨대 부상력과는 상이한 방향의 힘을 제공하는 것을 의미하며, 여기서 대상물은 하나의 포지션으로부터 다른 상이한 포지션, 예컨대 이송 방향을 따라 상이한 포지션으로 이동된다. 예컨대, 기판 또는 마스크를 운반하는 캐리어는 부상될 수 있는데, 즉, 중력을 상쇄(counteract)시키는 힘에 의해 부상될 수 있고, 부상된 채로 중력에 평행한 방향과는 상이한 방향으로 이동될 수 있다.[0019] A "magnetic levitation system" in the present disclosure may be understood as a system configured to hold an object, such as a carrier, in a non-contact manner by using magnetic force. In the present disclosure, the term "floating" or "floating" refers to the state of a carrier carrying an object, such as a substrate or mask, wherein the object floats without mechanical contact or support. In addition, moving or conveying an object means providing a force in a direction different from a driving force, e.g. a levitation force, where the object is moved from one position to another, e.g., a different position along the transport direction. . For example, a carrier carrying a substrate or mask can be floated, ie, can be floated by a force that counteracts gravity, and can be moved in a direction different from a direction parallel to gravity while being floated.

[0020] 본 개시내용에서, "비접촉식"이라는 용어는, 중량, 예컨대 캐리어의 중량, 특히 기판 또는 마스크를 운반하는 캐리어의 중량이 기계적인 접촉 또는 기계적인 힘들에 의해 홀딩되는 것이 아니라 자기력에 의해 홀딩된다는 의미로 이해될 수 있다. 다시 말해서, 본원의 설명 전반에 걸쳐 사용된 바와 같은 "비접촉식"이라는 용어는, 캐리어가 기계적인 힘들, 즉, 접촉력들 대신 자기력들을 사용하여 부상 또는 부유 상태로 홀딩된다는 점에서 이해될 수 있다.[0020] In the present disclosure, the term "contactless" means that the weight, such as the weight of the carrier, in particular the weight of the carrier carrying the substrate or mask, is not held by mechanical contact or by mechanical forces, but by magnetic force. Can be understood. In other words, the term "contactless" as used throughout the description herein can be understood in that the carrier is held in a floating or floating state using mechanical forces, ie magnetic forces instead of contact forces.

[0021] 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이, 캐리어(10)는 상부 챔버 벽(212)과 최하부 챔버 벽(211) 사이의 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩된다. 특히, 상부 챔버 벽(212)은 진공 챔버의 천장일 수 있다. 따라서, 최하부 챔버 벽(211)은 진공 챔버의 최하부 벽일 수 있다.[0021] As schematically shown in FIG. 1, the carrier 10 is held in a contactless manner in a carrier transfer space 15 between the upper chamber wall 212 and the lower chamber wall 211. In particular, the upper chamber wall 212 may be the ceiling of the vacuum chamber. Thus, the lowermost chamber wall 211 may be the lowermost wall of the vacuum chamber.

[0022] 본 개시내용에서, "캐리어"는, 기판 캐리어로 또한 지칭되는, 기판을 홀딩하도록 구성된 캐리어로서 이해될 수 있다. 예컨대, 캐리어는 대면적 기판을 운반하기 위한 기판 캐리어일 수 있다. 자기 부상 시스템의 실시예들은 또한, 다른 캐리어 타입들, 예컨대 마스크 캐리어들을 위해 사용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 따라서, 추가적으로 또는 대안적으로, 캐리어는 마스크를 운반하도록 구성된 캐리어일 수 있다.[0022] In the present disclosure, a “carrier” can be understood as a carrier configured to hold a substrate, also referred to as a substrate carrier. For example, the carrier may be a substrate carrier for carrying a large area substrate. It should be understood that embodiments of the magnetic levitation system may also be used for other carrier types, such as mask carriers. Thus, additionally or alternatively, the carrier may be a carrier configured to carry a mask.

[0023] 본 개시내용에서, "기판"이라는 용어는 특히, 실질적으로 비가요성 기판들, 예컨대 웨이퍼, 사파이어 등과 같은 투명한 크리스털의 슬라이스들, 또는 유리 플레이트를 포괄할 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 이들로 제한되지 않으며, "기판"이라는 용어는 또한, 웹 또는 포일과 같은 가요성 기판들을 포괄할 수 있다. "실질적으로 비가요성"이라는 용어는 "가요성"과 구별되는 것으로 이해된다. 구체적으로, 실질적으로 비가요성 기판은 소정의 정도의 유연성(예컨대 0.5 mm 이하의 두께를 갖는 유리 플레이트)을 가질 수 있으며, 실질적으로 비가요성 기판의 유연성은 가요성 기판들에 비해 작다. 본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 기판은 재료 증착에 적합한 임의의 재료로 제조될 수 있다. 예컨대, 기판은, 증착 프로세스에 의해 코팅될 수 있는 유리(예컨대, 소다-석회 유리(soda-lime glass), 보로실리케이트 유리 등), 금속, 폴리머, 세라믹, 화합물 재료들, 탄소 섬유 재료들 또는 임의의 다른 재료 또는 재료들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 제조될 수 있다.[0023] In the present disclosure, the term “substrate” may in particular encompass substantially non-flexible substrates, such as slices of a transparent crystal such as a wafer, sapphire, or the like, or a glass plate. However, the present disclosure is not limited to these, and the term “substrate” may also encompass flexible substrates such as a web or foil. The term “substantially inflexible” is understood to be distinct from “flexible”. Specifically, the substantially non-flexible substrate may have a certain degree of flexibility (eg, a glass plate having a thickness of 0.5 mm or less), and the flexibility of the substantially non-flexible substrate is less than that of flexible substrates. In accordance with the embodiments described herein, the substrate may be made of any material suitable for material deposition. For example, the substrate may be glass (e.g., soda-lime glass, borosilicate glass, etc.), metal, polymer, ceramic, compound materials, carbon fiber materials or any It may be made of a material selected from the group consisting of different materials or combinations of materials.

[0024] 본 개시내용에서, "대면적 기판"이라는 용어는 0.5 ㎡ 이상의, 특히 1 ㎡ 이상의 면적을 갖는 메인 표면을 갖는 기판을 지칭한다. 일부 실시예들에서, 대면적 기판은, 약 0.67 ㎡의 기판(0.73 × 0.92 m)에 대응하는 GEN 4.5, 약 1.4 ㎡의 기판(1.1 m × 1.3 m)에 대응하는 GEN 5, 약 4.29 ㎡의 기판(1.95 m × 2.2 m)에 대응하는 GEN 7.5, 약 5.7 ㎡의 기판(2.2 m × 2.5 m)에 대응하는 GEN 8.5, 또는 심지어 약 8.7 ㎡의 기판(2.85 m × 3.05 m)에 대응하는 GEN 10일 수 있다. GEN 11 및 GEN 12와 같은 훨씬 더 큰 세대(generation)들 및 대응하는 기판 면적들이 유사하게 구현될 수 있다. 또한, 기판 두께는 0.1 내지 1.8 mm, 특히 약 0.9 mm 이하, 이를테면, 0.7 mm 또는 0.5일 수 있다.[0024] In the present disclosure, the term “large area substrate” refers to a substrate having a main surface having an area of at least 0.5 m 2, in particular at least 1 m 2. In some embodiments, the large area substrate is GEN 4.5 corresponding to a substrate of about 0.67 m 2 (0.73 × 0.92 m), GEN 5 corresponding to a substrate of about 1.4 m 2 (1.1 m × 1.3 m), of about 4.29 m 2 GEN 7.5 corresponding to a substrate (1.95 m × 2.2 m), GEN 8.5 corresponding to a substrate of about 5.7 m2 (2.2 m × 2.5 m), or even a GEN corresponding to a substrate of about 8.7 m (2.85 m × 3.05 m) May be 10. Even larger generations such as GEN 11 and GEN 12 and corresponding substrate areas can similarly be implemented. In addition, the substrate thickness may be 0.1 to 1.8 mm, in particular about 0.9 mm or less, such as 0.7 mm or 0.5.

[0025] 본 개시내용에서, "이송 방향"이라는 용어는 캐리어가 이송 경로를 따라 이송되는 방향으로서 이해될 수 있다. 전형적으로, 이송 방향은 본질적으로 수평인 방향일 수 있다.[0025] In the present disclosure, the term "transfer direction" can be understood as the direction in which the carrier is conveyed along the conveying path. Typically, the transport direction can be an essentially horizontal direction.

[0026] 본 개시내용에서, "자기 베어링"은 대상물, 예컨대 본원에서 설명된 바와 같은 캐리어를 비접촉 방식으로, 즉, 물리적 접촉 없이 홀딩하거나 지지하도록 구성된 베어링으로서 이해될 수 있다. 따라서, 본원에서 설명된 바와 같은 하나 이상의 자기 베어링들은, 캐리어가 베이스 구조, 예컨대 도 1에 도시된 바와 같은 상부 챔버 벽(212)으로부터 미리 결정된 거리에 비접촉식으로 홀딩되도록, 캐리어에 작용하는 자기력을 생성하도록 구성될 수 있다. 특히, 하나 이상의 자기 베어링들(120)은, 상부 챔버 벽(212)과 캐리어(10) 사이의 갭(122)의 수직 폭이 본질적으로 일정하게 유지될 수 있도록, 본질적으로 수직 방향(V)으로 작용하는 자기력을 생성하도록 구성될 수 있다.[0026] In the present disclosure, a “magnetic bearing” can be understood as a bearing configured to hold or support an object, such as a carrier as described herein, in a contactless manner, ie without physical contact. Thus, one or more magnetic bearings as described herein create a magnetic force acting on the carrier such that the carrier is non-contactly held at a predetermined distance from the base structure, e.g., upper chamber wall 212 as shown in FIG. Can be configured to In particular, the one or more magnetic bearings 120 are essentially in a vertical direction (V) so that the vertical width of the gap 122 between the upper chamber wall 212 and the carrier 10 can be kept essentially constant. It can be configured to generate an acting magnetic force.

[0027] 본원에서 설명된 일부 실시예들은 "수직 방향"의 개념을 수반한다. 수직 방향은 중력이 연장되는 방향과 실질적으로 평행한 방향인 것으로 고려된다. 수직 방향은, 예컨대 최대 15°의 각도만큼, 정확한 수직으로부터 벗어날 수 있다(정확한 수직은 중력에 의해 정의됨). 또한, 본원에서 설명된 일부 실시예들은 "측방향(lateral direction)"의 개념을 수반할 수 있다. 측방향은 수직 방향과 구별되는 것으로 이해되어야 한다. 측방향은 중력에 의해 정의된 정확한 수직 방향에 수직일 수 있거나 또는 실질적으로 수직일 수 있다.[0027] Some embodiments described herein involve the concept of “vertical orientation”. The vertical direction is considered to be a direction substantially parallel to the direction in which gravity extends. The vertical direction can deviate from the correct vertical, eg by an angle of up to 15° (exact vertical is defined by gravity). Further, some embodiments described herein may involve the concept of "lateral direction". It should be understood that the lateral direction is distinct from the vertical direction. The lateral direction may be perpendicular to the exact vertical direction defined by gravity or may be substantially perpendicular.

[0028] 본 개시내용에서, 하나 이상의 자기 베어링들의 "제1 액추에이터"는 자기 베어링들의 능동적이고 제어가능한 엘리먼트로서 이해될 수 있다. 특히, 하나 이상의 제1 액추에이터들은 제어가능한 자석, 이를테면, 전자석을 포함할 수 있다. 하나 이상의 제1 액추에이터들의 자기장은 상부 챔버 벽(212)과 캐리어(10) 사이의 거리를 유지 및/또는 조정하기 위해 능동적으로 제어가능할 수 있다. 다시 말해서, 하나 이상의 자기 베어링들의 "제1 액추에이터"는, 캐리어에 작용하는 자기 부상력을 제공하기 위한 제어가능하고 조정가능한 자기장을 갖는 엘리먼트로서 이해될 수 있다.[0028] In the present disclosure, the “first actuator” of one or more magnetic bearings may be understood as an active and controllable element of magnetic bearings. In particular, the one or more first actuators may comprise a controllable magnet, such as an electromagnet. The magnetic field of one or more first actuators may be actively controllable to maintain and/or adjust the distance between the upper chamber wall 212 and the carrier 10. In other words, the "first actuator" of one or more magnetic bearings can be understood as an element with a controllable and adjustable magnetic field for providing a magnetic levitation force acting on the carrier.

[0029] 따라서, 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)은 캐리어를 비접촉식으로 홀딩하도록 구성된다. 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)은 캐리어(10), 특히 캐리어의 최상부 부분에 배열될 수 있다. 캐리어의 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)은 하나 이상의 자기 베어링들(120)의 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)과 자기적으로 상호작용할 수 있다. 특히, 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)은 수동적 자기 엘리먼트들일 수 있다. 예컨대, 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)은, 자성 재료, 이를테면, 강자성 재료, 영구 자석으로 제조될 수 있거나, 또는 영구 자기 특성들을 가질 수 있다.[0029] Thus, the one or more first actuators 121 are configured to hold the carrier contactlessly. As illustratively shown in FIG. 1, one or more first magnetic counterparts 181 may be arranged on the carrier 10, in particular in the uppermost portion of the carrier. One or more first magnetic counterparts 181 of the carrier may magnetically interact with one or more first actuators 121 of one or more magnetic bearings 120. In particular, the one or more first magnetic counterparts 181 may be passive magnetic elements. For example, the one or more first magnetic counterparts 181 may be made of a magnetic material, such as a ferromagnetic material, a permanent magnet, or may have permanent magnetic properties.

[0030] 예컨대, 하나 이상의 제1 액추에이터들에 인가되는 전류와 같은 출력 파라미터는, 상부 챔버 벽(212)과 캐리어(10) 사이의 거리와 같은 입력 파라미터에 따라 제어될 수 있다. 예컨대, 상부 챔버 벽(212)과 캐리어(10) 사이의 거리(예컨대, 도 1에 표시된 갭(122))는 거리 센서에 의해 측정될 수 있고, 하나 이상의 제1 액추에이터들의 자기장 세기는 측정된 거리에 따라 설정될 수 있다. 특히, 미리 결정된 임계값을 초과하는 거리의 경우에 자기장 세기는 증가될 수 있고, 임계값 미만인 거리의 경우에 자기장 세기는 감소될 수 있다. 하나 이상의 제1 액추에이터들은 폐루프 또는 피드백 제어로 제어될 수 있다.[0030] For example, an output parameter, such as a current applied to one or more first actuators, may be controlled according to an input parameter, such as a distance between the upper chamber wall 212 and the carrier 10. For example, the distance between the upper chamber wall 212 and the carrier 10 (e.g., the gap 122 shown in FIG. 1) may be measured by a distance sensor, and the magnetic field strength of one or more first actuators is the measured distance. It can be set according to. In particular, in the case of a distance exceeding a predetermined threshold value, the magnetic field strength may be increased, and in the case of a distance less than the threshold value, the magnetic field strength may be decreased. One or more of the first actuators may be controlled with closed loop or feedback control.

[0031] 본 개시내용에서, "구동 유닛"은 이송 방향으로 비접촉 방식으로 본원에서 설명된 바와 같은 대상물, 예컨대 캐리어를 이동시키도록 구성된 유닛으로 이해될 수 있다. 특히, 본원에서 설명된 바와 같은 구동 유닛은 이송 방향으로 캐리어에 작용하는 자기력을 생성하도록 구성될 수 있다. 따라서, 구동 유닛은 선형 모터일 수 있다. 예컨대, 선형 모터는 철심(iron-core) 선형 모터일 수 있다. 대안적으로, 선형 모터는 무철심(ironless) 선형 모터일 수 있다. 캐리어의 수동적 자기 엘리먼트들과 선형 모터의 철심이 상호작용할 가능성으로 인해, 무철심 선형 모터는 수직력들에 의해 야기되는 캐리어에 대한 비틀림 모멘트를 방지하는 데 유익할 수 있다.[0031] In the present disclosure, a “drive unit” may be understood as a unit configured to move an object, such as a carrier, as described herein in a non-contact manner in the transport direction. In particular, the drive unit as described herein can be configured to generate a magnetic force acting on the carrier in the direction of transport. Thus, the drive unit may be a linear motor. For example, the linear motor may be an iron-core linear motor. Alternatively, the linear motor may be an ironless linear motor. Due to the possibility that the passive magnetic elements of the carrier and the iron core of the linear motor will interact, the ironless linear motor can be beneficial in preventing a torsional moment about the carrier caused by normal forces.

[0032] 더 구체적으로, 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 구동 유닛은 전형적으로, 캐리어를 이송 방향으로 비접촉식으로 이동시키도록 구성된 하나 이상의 제2 액추에이터들을 포함한다. 하나 이상의 제2 액추에이터들은 하나 이상의 제어가능한 자석들, 예컨대 전자석들일 수 있다. 따라서, 하나 이상의 제2 액추에이터들은 이송 방향으로 캐리어에 이동력을 가하도록 능동적으로 제어가능할 수 있다. 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)은 캐리어(10), 특히 캐리어의 최상부 부분에 배열될 수 있다. 캐리어의 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)은 구동 유닛(130)의 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)과 자기적으로 상호작용할 수 있다. 특히, 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)은 수동적 자기 엘리먼트들일 수 있다. 예컨대, 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)은, 자성 재료, 이를테면, 강자성 재료, 영구 자석으로 제조될 수 있거나, 또는 영구 자기 특성들을 가질 수 있다.[0032] More specifically, as illustratively shown in FIG. 1, the drive unit typically includes one or more second actuators configured to non-contactly move the carrier in the transport direction. The one or more second actuators may be one or more controllable magnets, such as electromagnets. Thus, the one or more second actuators may be actively controllable to apply a moving force to the carrier in the transport direction. As illustratively shown in FIG. 1, one or more second magnetic counterparts 182 may be arranged on the carrier 10, in particular in the uppermost portion of the carrier. One or more second magnetic counterparts 182 of the carrier may magnetically interact with one or more second actuators 132 of the drive unit 130. In particular, the one or more second magnetic counterparts 182 may be passive magnetic elements. For example, the one or more second magnetic counterparts 182 may be made of a magnetic material, such as a ferromagnetic material, a permanent magnet, or may have permanent magnetic properties.

[0033] 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제1 액추에이터들(121) 및 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 대기 공간(atmospheric space)(110)에 배열된다. "대기 공간"이라는 표현은 대기압 조건들, 즉, 대략 1.0 bar를 갖는 공간으로 이해될 수 있다. 예컨대, 대기 공간은 진공 챔버 외측에 제공된 공간일 수 있다. 대안적으로, 대기 공간은 진공 챔버 내부에 제공된 대기 박스 또는 대기 컨테이너(명확하게 도시되지 않음)에 의해 제공될 수 있다.[0033] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, one or more first actuators 121 and one or more second actuators 132, as illustratively shown in FIG. 1. Are arranged in an atmospheric space 110. The expression "atmospheric space" can be understood as a space with atmospheric conditions, ie approximately 1.0 bar. For example, the atmosphere space may be a space provided outside the vacuum chamber. Alternatively, the atmosphere space may be provided by an atmosphere box or an atmosphere container (not clearly shown) provided inside the vacuum chamber.

[0034] 도 1을 예시적으로 참조하면, 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 하나 이상의 제1 액추에이터들(121) 및 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은, 특히 진공 챔버, 예컨대 진공 프로세싱 챔버(210)의 상부 챔버 벽(212)의 외측 표면에 부착될 수 있다. 따라서, 유익하게, 하나 이상의 자기 베어링들의 능동적 엘리먼트들은, 장착 및/또는 유지보수를 위해 쉽게 접근할 수 있는 위치에 배열되어 비용들을 절감시킨다. 일 예에 따르면, 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 상부 챔버 벽(212)의 외측 표면은 하나 이상의 제1 액추에이터들(121) 및 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 수용하기 위한 수용부(reception)들을 포함할 수 있다.[0034] Referring illustratively to FIG. 1, according to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, one or more first actuators 121 and one or more second actuators 132, In particular, it may be attached to the outer surface of the vacuum chamber, for example the upper chamber wall 212 of the vacuum processing chamber 210. Thus, advantageously, the active elements of the one or more magnetic bearings are arranged in an easily accessible location for mounting and/or maintenance to reduce costs. According to one example, as exemplarily shown in FIG. 1, the outer surface of the upper chamber wall 212 is a receiving for receiving one or more first actuators 121 and one or more second actuators 132 May contain receptions.

[0035] 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 자기 부상 시스템은 캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 안내하기 위한 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)를 더 포함한다. 전형적으로, 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)는 캐리어 이송 공간(15)의 하부 부분(15L)에 배열된다. 예컨대, 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)는 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)을 포함할 수 있다. 특히, 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)은 수직으로 배열될 수 있다. 따라서, 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)은, 도 1에 예시적으로 표시된 바와 같이, 수평 방향, 특히 측방향(L)으로 캐리어에 작용하는 자기력을 제공하도록 구성된다.[0035] As illustratively shown in FIG. 1, according to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the magnetic levitation system is a non-contact type for guiding the carrier 10 in the transport direction T. It further includes a guide arrangement (140). Typically, the non-contact guide arrangement 140 is arranged in the lower part 15L of the carrier conveying space 15. For example, the contactless guide arrangement 140 may include one or more passive magnetic bearings 125. In particular, as exemplarily shown in FIG. 1, one or more passive magnetic bearings 125 may be arranged vertically. Thus, one or more passive magnetic bearings 125 are configured to provide a magnetic force acting on the carrier in a horizontal direction, in particular a lateral direction (L), as exemplarily indicated in FIG. 1.

[0036] 예컨대, 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)은 수직으로 평행하게 배열된 수동적 자기 엘리먼트들에 의해 제공될 수 있다. 전형적으로, 캐리어의 제3 자기 대응부(183)에 대한 수용부를 제공하도록 적어도 2개의 수동적 자기 엘리먼트들이 배열된다. 따라서, 캐리어의 존재 시에, 제3 자기 대응부(183)는, 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)의 대향하게 배열된 수동적 자기 엘리먼트들 사이에 배열된다. 전형적으로, 제3 자기 대응부(183)는 수동적 자기 엘리먼트를 포함한다. 도 1에서, 수동적 자기 엘리먼트들의 N극(north pole) 부분은 해칭 패턴(hatching pattern)에 의해 개략적으로 표시된다. 수동적 자기 엘리먼트들의 S극(south pole) 부분은 N극(north pole) 부분에 인접한 블랭크 엘리먼트로 표현된다.[0036] For example, as illustratively shown in FIG. 1, one or more passive magnetic bearings 125 may be provided by passive magnetic elements arranged vertically and in parallel. Typically, at least two passive magnetic elements are arranged to provide a receiving portion for the third magnetic counterpart 183 of the carrier. Thus, in the presence of the carrier, the third magnetic counterpart 183 is arranged between opposingly arranged passive magnetic elements of one or more passive magnetic bearings 125. Typically, the third magnetic counterpart 183 comprises a passive magnetic element. In FIG. 1, the north pole portion of passive magnetic elements is schematically indicated by a hatching pattern. The south pole portion of the passive magnetic elements is represented by a blank element adjacent to the north pole portion.

[0037] 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, 전형적으로, 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)과 제3 자기 대응부(183)의 수동적 자기 엘리먼트들은, 제3 자기 대응부(183)의 수동적 자기 엘리먼트의 S극 부분이 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)의 수동적 자기 엘리먼트(도 1에 도시된 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)의 우측)의 S극 부분과 대향하도록, 배열된다. 따라서, 제3 자기 대응부(183)의 수동적 자기 엘리먼트의 N극 부분은 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)의 수동적 자기 엘리먼트(도 1에 도시된 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)의 좌측)의 N극 부분과 대향할 수 있다. 따라서, 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)과 제3 자기 대응부(183)의 수동적 자기 엘리먼트들은, 제3 자기 대응부(183)의 수동적 자기 엘리먼트와 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)의 수동적 자기 엘리먼트 사이에 자기 척력(repulsive magnetic force)들이 작용하도록 배열될 수 있다. 명확하게 도시되지는 않았지만, 대안적으로 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)과 제3 자기 대응부(183)의 수동적 자기 엘리먼트들은, 제3 자기 대응부(183)의 수동적 자기 엘리먼트와 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)의 수동적 자기 엘리먼트들 사이에 자기 인력(attractive magnetic force)들이 작용하도록 배열될 수 있음이 이해되어야 한다.[0037] As illustratively shown in FIG. 1, typically, the passive magnetic elements of the third magnetic counterpart 183 and one or more passive magnetic bearings 125 are the passive magnetic elements of the third magnetic counterpart 183. The south pole portion of is arranged to face the south pole portion of the passive magnetic element (right side of the non-contact guide arrangement 140 shown in FIG. 1) of one or more passive magnetic bearings 125. Accordingly, the N-pole portion of the passive magnetic element of the third magnetic counterpart 183 is the N-pole of the passive magnetic element (left side of the non-contact guide arrangement 140 shown in FIG. 1) of one or more passive magnetic bearings 125. You can face the part. Accordingly, the passive magnetic elements of the one or more passive magnetic bearings 125 and the third magnetic counterpart 183 are passive magnetic elements of the third magnetic counterpart 183 and the passive magnetic elements of the one or more passive magnetic bearings 125. It may be arranged such that repulsive magnetic forces act between the magnetic elements. Although not clearly shown, alternatively, the passive magnetic elements of the one or more passive magnetic bearings 125 and the third magnetic counterpart 183 are, respectively, the passive magnetic elements of the third magnetic counterpart 183 and the one or more passive magnetic elements. It should be appreciated that attractive magnetic forces may be arranged to act between passive magnetic elements of magnetic bearings 125.

[0038] 따라서, 유익하게, 캐리어의 비접촉식 측방향 안내가 제공될 수 있다. 또한, 수동적 안내 어레인지먼트를 제공하는 것은 적은 비용들로 고온 진공 환경들에서 견고한 캐리어 이송을 제공하기에 특히 아주 적합하다는 것이 주목되어야 한다.[0038] Thus, advantageously, a non-contact lateral guidance of the carrier can be provided. In addition, it should be noted that providing a passive guiding arrangement is particularly well suited to providing robust carrier transport in high temperature vacuum environments at low costs.

[0039] 본 개시내용에서, "수동적 자기 베어링"은, 적어도 장치가 동작 중이 아닌 동안, 능동적 제어 또는 조정을 받지 않는 수동적 자기 엘리먼트들을 갖는 베어링으로 이해될 수 있다. 특히, 수동적 자기 베어링은, 자기장, 예컨대 정적 자기장을 생성하도록 구성될 수 있다. 다시 말해서, 수동적 자기 베어링은, 조정가능한 자기장을 생성하도록 구성되지 않을 수 있다. 예컨대, 하나 이상의 수동적 자기 베어링들의 자기 엘리먼트들은, 자성 재료, 이를테면, 강자성 재료, 영구 자석으로 제조될 수 있거나, 또는 영구 자기 특성들을 가질 수 있다.[0039] In the present disclosure, a “passive magnetic bearing” may be understood as a bearing having passive magnetic elements that are not subject to active control or adjustment, at least while the device is not in operation. In particular, passive magnetic bearings can be configured to generate a magnetic field, such as a static magnetic field. In other words, passive magnetic bearings may not be configured to generate an adjustable magnetic field. For example, the magnetic elements of one or more passive magnetic bearings may be made of a magnetic material, such as a ferromagnetic material, a permanent magnet, or may have permanent magnetic properties.

[0040] 따라서, 본원에서 사용되는 바와 같은 "수동적 자기 엘리먼트"또는 "수동 자석"은, 예컨대 피드백 제어를 통해 능동적으로 제어되지 않는 자석으로 이해될 수 있다. 예컨대, 수동 자석의 자기장 세기와 같은 어떤 출력 파라미터도, 거리와 같은 입력 파라미터에 따라 제어되지 않는다. "수동적 자기 엘리먼트"또는 "수동 자석"은 오히려, 임의의 피드백 제어 없이 캐리어의 측면 안정화를 제공할 수 있다. 예컨대, 본원에서 설명된 바와 같은 "수동적 자기 엘리먼트" 또는 "수동 자석"은 하나 이상의 영구 자석들을 포함할 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, "수동적 자기 엘리먼트" 또는 "수동 자석"은, 능동적으로 제어되지 않을 수 있는 하나 이상의 전자석들을 포함할 수 있다.[0040] Thus, a “passive magnetic element” or “passive magnet” as used herein can be understood as a magnet that is not actively controlled, eg through feedback control. For example, no output parameters, such as the magnetic field strength of a passive magnet, are controlled according to input parameters such as distance. A "passive magnetic element" or "passive magnet" may rather provide lateral stabilization of the carrier without any feedback control. For example, a “passive magnetic element” or “passive magnet” as described herein may include one or more permanent magnets. Alternatively or additionally, a “passive magnetic element” or “passive magnet” may include one or more electromagnets that may not be actively controlled.

[0041] 도 2를 예시적으로 참조하면, 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 자기 부상 시스템은 이송 방향(T)을 가로지르는 측방향(L)으로 캐리어(10)에 복원력(F)을 가하도록 구성된 적어도 하나의 안정화 자석(161)을 갖는 적어도 하나의 측면 안정화 디바이스(160)를 더 포함한다. 예컨대, 적어도 하나의 안정화 자석(161)은, 특히 대기 공간에서 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열될 수 있다. 특히, 적어도 하나의 안정화 자석(161)은 상부 챔버 벽(212)의 외측 표면에 부착될 수 있다. 전형적으로, 적어도 하나의 안정화 자석(161)은 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)에 대해 측방향으로 거리를 두고(at a lateral distance) 배열될 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 적어도 하나의 안정화 자석(161)은 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)에 대해 측방향으로 거리를 두고 배열될 수 있다.[0041] Referring illustratively to FIG. 2, according to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the magnetic levitation system is configured to carry the carrier 10 in a lateral direction L transverse to the transport direction T. It further comprises at least one side stabilizing device 160 having at least one stabilizing magnet 161 configured to apply a restoring force F to ). For example, at least one stabilizing magnet 161 can be arranged above the carrier transport space 15, in particular in an atmospheric space. In particular, at least one stabilizing magnet 161 may be attached to the outer surface of the upper chamber wall 212. Typically, at least one stabilizing magnet 161 may be arranged at a lateral distance with respect to one or more first actuators 121. Additionally or alternatively, the at least one stabilizing magnet 161 may be arranged at a laterally distanced relative to the one or more second actuators 132.

[0042] 따라서, 유익하게, 측면 안정화 디바이스(160)는 캐리어의 측방향 변위의 경우에서 캐리어(10)에 복원력을 가함으로써 미리 결정된 측방향 포지션에서 캐리어를 안정화시킬 수 있다. 복원력(F)은 캐리어(10)를 미리 결정된 측방향 포지션으로 다시(back) 밀거나 당긴다. 따라서, 유익하게, 측면 안정화 디바이스(160)는 측방향(L)으로 캐리어 이송 공간(15)으로부터의 캐리어의 변위를 상쇄시키도록 구성된 안정화 힘(stabilization force)을 생성할 수 있다. 다시 말해서, 측면 안정화 디바이스(160)는, 캐리어가 미리 결정된 측방향 포지션 또는 평형(equilibrium) 포지션(도 2에 예시적으로 도시됨)으로부터 측방향(L)으로 변위될 때, 캐리어를 다시 캐리어 이송 공간(15)으로 밀고 그리고/또는 당기는 복원력(F)을 생성하도록 구성될 수 있다.[0042] Thus, advantageously, the lateral stabilization device 160 can stabilize the carrier in a predetermined lateral position by applying a restoring force to the carrier 10 in case of lateral displacement of the carrier. The restoring force F pushes or pulls the carrier 10 back to a predetermined lateral position. Thus, advantageously, the lateral stabilization device 160 can generate a stabilization force configured to counteract the displacement of the carrier from the carrier transport space 15 in the lateral direction L. In other words, the side stabilization device 160 transfers the carrier back to the carrier when the carrier is displaced laterally (L) from a predetermined lateral position or equilibrium position (illustratively shown in FIG. 2). It may be configured to create a restoring force (F) pushing and/or pulling into space (15).

[0043] 도 2에 예시적으로 도시된 바와 같이, 적어도 하나의 안정화 자석(161)은 N극(north pole)과 S극(south pole)을 갖는 수동 자석일 수 있다. 일부 실시예들에서, 적어도 하나의 안정화 자석은 이송 방향으로 하나가 다른 하나 뒤에 놓이는 식으로 배열될 수 있는 복수의 수동 자석들을 포함할 수 있다. 전형적으로, (자석 내부에서 S극으로부터 N극으로 이어지는) 적어도 하나의 안정화 자석 내부의 자기장 라인들의 방향은 본질적으로 측방향(L)에 대응할 수 있다.[0043] As exemplarily shown in FIG. 2, the at least one stabilizing magnet 161 may be a passive magnet having a north pole and a south pole. In some embodiments, the at least one stabilizing magnet may comprise a plurality of passive magnets that may be arranged such that one lies behind the other in the transport direction. Typically, the direction of the magnetic field lines inside the at least one stabilizing magnet (running from S pole to N pole inside the magnet) may essentially correspond to the lateral direction L.

[0044] 캐리어 이송 공간(15)으로부터 측방향(L)으로의 캐리어(10)의 변위가, 측면 안정화 디바이스(160)의 적어도 하나의 안정화 자석(161)과 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162) 사이에 자기 척력을 유발하여 그 변위를 상쇄시키는 방식으로, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)이 캐리어(10)에 부착될 수 있다. 따라서, 유익하게, 캐리어는 홀딩 동안 그리고 이송 경로를 따르는 캐리어의 이송 동안, 도 2에 도시된 평형 포지션에 유지된다.[0044] The displacement of the carrier 10 in the lateral direction L from the carrier transport space 15 is magnetic between at least one stabilizing magnet 161 and at least one carrier stabilizing magnet 162 of the side stabilizing device 160 At least one carrier stabilizing magnet 162 may be attached to the carrier 10 in a manner that induces a repulsive force to cancel its displacement. Thus, advantageously, the carrier is held in the equilibrium position shown in Fig. 2 during holding and during the transport of the carrier along the transport path.

[0045] 도 2에 예시적으로 도시된 바와 같이, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)은, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162) 내부의 자기장 라인들의 방향이 본질적으로 측방향(L)에 대응하도록 배열된 N극(north pole) 및 S극(south pole)을 갖는 수동 자석일 수 있다.[0045] As exemplarily shown in FIG. 2, the at least one carrier stabilizing magnet 162 is arranged such that the direction of the magnetic field lines inside the at least one carrier stabilizing magnet 162 essentially corresponds to the lateral direction (L). It may be a passive magnet having a north pole and a south pole.

[0046] 특히, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)은 측면 안정화 디바이스(160)의 적어도 하나의 안정화 자석(161)과 비교하여 역방향으로 배열될 수 있어서, 캐리어가 평형 포지션에 배열될 때, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)의 N극(north pole)은 적어도 하나의 안정화 자석(161)의 S극(south pole)에 가깝게 배열되고 그 S극에 의해 끌어당겨지며, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)의 S극(south pole)은 측면 안정화 디바이스(160)의 적어도 하나의 안정화 자석(161)의 N극(north pole)에 가깝게 배열되고 그 N극에 의해 끌어당겨진다. 캐리어가 평형 포지션으로부터 제1 측방향으로(예컨대, 도 2의 좌측을 향해) 변위될 때, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)의 N극(north pole)은 측면 안정화 디바이스(160)의 적어도 하나의 안정화 자석(161)의 N극(north pole)에 접근하며, 이는 복원력을 유발하여 캐리어가 다시 평형 포지션을 향하게 강제(urging)한다. 캐리어가 평형 포지션으로부터 제2(반대) 측방향으로(예컨대, 도 2의 우측을 향해) 변위될 때, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)의 S극(south pole)은 측면 안정화 디바이스(160)의 적어도 하나의 안정화 자석(161)의 S극(south pole)에 접근하며, 이는 복원력을 유발하여 캐리어가 다시 평형 포지션을 향하게 강제한다. 따라서, 측면 안정화 디바이스(160)는, 캐리어의 측방향 이동들이 감소 또는 방지될 수 있도록, 캐리어를 미리 결정된 측방향 포지션에 안정화시킨다.[0046] In particular, the at least one carrier stabilizing magnet 162 may be arranged in a reverse direction compared to the at least one stabilizing magnet 161 of the side stabilizing device 160, so that when the carrier is arranged in an equilibrium position, at least one carrier The north pole of the stabilizing magnet 162 is arranged close to the south pole of the at least one stabilizing magnet 161 and is attracted by the S pole, and at least one carrier stabilizing magnet 162 The south pole of the lateral stabilization device 160 is arranged close to the north pole of at least one stabilizing magnet 161 of the side stabilization device 160 and is attracted by the N pole. When the carrier is displaced from the equilibrium position in a first lateral direction (e.g., towards the left in FIG. 2), the north pole of the at least one carrier stabilizing magnet 162 is at least one of the side stabilizing device 160 Approaching the north pole of the stabilizing magnet 161 of, this causes a restoring force to force the carrier back into the equilibrium position. When the carrier is displaced from the equilibrium position in a second (opposite) lateral direction (e.g., towards the right in FIG. 2), the south pole of the at least one carrier stabilizing magnet 162 is the side stabilizing device 160 Approaching the south pole of the at least one stabilizing magnet 161 of, this causes a restoring force to force the carrier back towards the equilibrium position. Thus, the lateral stabilization device 160 stabilizes the carrier in a predetermined lateral position so that lateral movements of the carrier can be reduced or prevented.

[0047] 도 3을 예시적으로 참조하면, 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 자기 부상 시스템은 안전 어레인지먼트(safety arrangement)(170)를 더 포함한다. 전형적으로, 안전 어레인지먼트(170)는 캐리어 이송 공간(15)의 적어도 하나의 측면에 제공된 측방향 가드 안내 엘리먼트(lateral guard guiding element)(171)를 포함한다. 예컨대, 측방향 가드 안내 엘리먼트(171)는 상부 챔버 벽의 내측 표면에 부착될 수 있다. 특히, 측방향 가드 안내 엘리먼트(171)는, 적어도 하나의 안정화 자석(161)으로부터 측방향으로 이격될 수 있어서, 캐리어(10)에 부착된 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)이 측방향 가드 안내 엘리먼트(171)와 적어도 하나의 안정화 자석(161) 사이에 배열될 수 있다. 도 3에 예시적으로 도시된 바와 같이, 캐리어의 존재 시에, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)과 측방향 가드 안내 엘리먼트(171) 사이에 갭이 제공된다. 측방향 가드 안내 엘리먼트(171)는 안내 레일 또는 연이은(in a row) 복수의 안내 핀들로서 구현될 수 있다.[0047] Referring illustratively to FIG. 3, according to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the magnetic levitation system further includes a safety arrangement 170. Typically, the safety arrangement 170 comprises a lateral guard guiding element 171 provided on at least one side of the carrier transport space 15. For example, the lateral guard guide element 171 can be attached to the inner surface of the upper chamber wall. In particular, the lateral guard guiding element 171 may be laterally spaced apart from the at least one stabilizing magnet 161, so that the at least one carrier stabilizing magnet 162 attached to the carrier 10 is guided by the lateral guard. It may be arranged between the element 171 and at least one stabilizing magnet 161. As illustratively shown in FIG. 3, in the presence of a carrier, a gap is provided between the at least one carrier stabilizing magnet 162 and the lateral guard guiding element 171. The lateral guard guide element 171 can be implemented as a guide rail or a plurality of guide pins in a row.

[0048] 도 3에 예시적으로 도시된 바와 같이, 추가적으로 또는 대안적으로, 안전 어레인지먼트(170)는, 예컨대 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)이 비활성화되는 경우, 캐리어(10)에 대한 수직 안전 지지를 제공하기 위한 안전 롤러(172)를 포함할 수 있다. 전형적으로, 안전 롤러(172)는 상부 챔버 벽(212)의 내측 표면에 부착된 홀더(173)에 연결된다. 안전 롤러를 홀딩하는 홀더는 또한, 측방향 가드 안내 엘리먼트로서 기능할 수 있다.[0048] As illustratively shown in FIG. 3, additionally or alternatively, the safety arrangement 170 provides vertical safety support for the carrier 10, for example when one or more of the first actuators 121 are deactivated. It may include a safety roller 172 for. Typically, the safety roller 172 is connected to a holder 173 attached to the inner surface of the upper chamber wall 212. The holder holding the safety roller can also function as a lateral guard guiding element.

[0049] 도 3에 도시된 바와 같이, 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 도 2를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같은 2개의 측면 안정화 디바이스들이 제공될 수 있다. 예컨대, 제1 측면 안정화 디바이스(160A)는 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)에 대해 측방향으로 거리를 두고 제공될 수 있고, 제2 안정화 디바이스(160B)는 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)에 대해 측방향으로 거리를 두고 제공될 수 있다.[0049] As shown in FIG. 3, according to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, two side stabilization devices as illustratively described with reference to FIG. 2 may be provided. . For example, a first side stabilization device 160A may be provided at a laterally distanced distance relative to one or more first actuators 121, and the second stabilization device 160B may be provided with one or more second actuators 132. May be provided laterally at a distance to

[0050] 도 3을 예시적으로 참조하면, 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 보호 엘리먼트(protective element)(163), 예컨대 보호 스트립이 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)에 부착될 수 있다. 특히, 보호 엘리먼트(163)는, 측방향 가드 안내 엘리먼트(171)를 향하는 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)의 측면 및/또는 홀더(173)를 향하는 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)의 측면에 부착될 수 있다.[0050] Referring illustratively to FIG. 3, according to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, a protective element 163, such as a protective strip, is formed by at least one carrier stabilizing magnet ( 162). In particular, the protection element 163 is a side of the at least one carrier stabilizing magnet 162 facing the lateral guard guide element 171 and/or the side of the at least one carrier stabilizing magnet 162 facing the holder 173 Can be attached to

[0051] 도 4를 예시적으로 참조하면, 하나 이상의 제1 액추에이터들과 하나 이상의 제2 액추에이터들의 비대칭적 어레인지먼트를 갖는 자기 부상 시스템의 실시예가 설명된다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 도 4에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)은 이송될 캐리어(10)의 무게 중심(G) 위에 중앙에 배열될 수 있다. 특히, 도 4의 실시예를 참조하면, "캐리어의 무게 중심(G) 위에 중앙에 배열되는"이라는 표현은, 캐리어의 무게 중심(G)을 통해 연장되는 수직 평면(111)이 또한 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 통해 연장된다는 점에서 이해될 수 있다. 다시 말해서, 캐리어의 무게 중심(G)을 통해 연장되는 수직 평면(111)은 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)과 교차할 수 있다. 특히, 수직 평면(111)은, 예컨대 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)의 중심으로부터 ± 10%의 편차로, 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)의 중심과 대체로(approximately) 교차할 수 있다. 일 예에 따르면, 수직 평면(111)은 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)에 대한 대칭 평면을 나타낼 수 있다. 도 4에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)에 대해 측방향에 배열될 수 있다. 특히, 하나 이상의 제2 액추에이터들(132) 모두는 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)의 동일한 측면(예컨대, 도 4의 좌측)에 인접하게 배열될 수 있다. 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같은 양상들 및 특징들은 또한, 도 4에 도시된 실시예에 적용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.[0051] Referring illustratively to FIG. 4, an embodiment of a magnetic levitation system having an asymmetric arrangement of one or more first actuators and one or more second actuators is described. According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, as illustratively shown in FIG. 4, one or more of the first actuators 121 is the center of gravity of the carrier 10 to be transported. (G) can be arranged in the center above. In particular, referring to the embodiment of FIG. 4, the expression “arranged in the center above the center of gravity G of the carrier” means that the vertical plane 111 extending through the center of gravity G of the carrier is also One can be understood in that it extends through the actuators 121. In other words, the vertical plane 111 extending through the center of gravity G of the carrier may intersect one or more first actuators 121. In particular, the vertical plane 111 may approximately intersect the center of the one or more first actuators 121, for example with a deviation of ± 10% from the center of the one or more first actuators 121. According to an example, the vertical plane 111 may represent a plane of symmetry with respect to one or more first actuators 121. As illustratively shown in FIG. 4, one or more second actuators 132 may be arranged laterally with respect to one or more first actuators 121. In particular, all of the one or more second actuators 132 may be arranged adjacent to the same side of the one or more first actuators 121 (eg, the left side of FIG. 4 ). It is to be understood that aspects and features as described with reference to FIGS. 1 to 3 may also be applied to the embodiment shown in FIG. 4.

[0052] 도 5를 예시적으로 참조하면, 하나 이상의 제1 액추에이터들과 하나 이상의 제2 액추에이터들의 대칭적 어레인지먼트를 갖는 자기 부상 시스템의 실시예가 설명된다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 도 5에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 이송될 캐리어(10)의 무게 중심 위에 중앙에 배열될 수 있다.[0052] Referring illustratively to FIG. 5, an embodiment of a magnetic levitation system having a symmetrical arrangement of one or more first actuators and one or more second actuators is described. According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, as illustratively shown in FIG. 5, one or more of the second actuators 132 is the center of gravity of the carrier 10 to be transported. Can be arranged in the center on top.

[0053] 특히, 도 5의 실시예를 참조하면, "캐리어의 무게 중심(G) 위에 중앙에 배열되는"이라는 표현은, 캐리어의 무게 중심(G)을 통해 연장되는 수직 평면(111)이 또한, 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 통해 연장된다는 점에서 이해될 수 있다. 다시 말해서, 캐리어의 무게 중심(G)을 통해 연장되는 수직 평면(111)은 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)과 교차할 수 있다. 특히, 수직 평면(111)은, 예컨대 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)의 중심으로부터 ± 10%의 편차로, 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)의 중심과 대체로 교차할 수 있다. 일 예에 따르면, 수직 평면(111)은 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)에 대한 대칭 평면을 나타낼 수 있다.[0053] In particular, referring to the embodiment of FIG. 5, the expression "arranged in the center above the center of gravity G of the carrier" means that the vertical plane 111 extending through the center of gravity G of the carrier is also It can be understood in that it extends through the second actuators 132. In other words, the vertical plane 111 extending through the center of gravity G of the carrier may cross one or more second actuators 132. In particular, the vertical plane 111 may generally intersect the center of the one or more second actuators 132, for example with a deviation of ± 10% from the center of the one or more second actuators 132. According to an example, the vertical plane 111 may represent a plane of symmetry with respect to one or more second actuators 132.

[0054] 도 5에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)은 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제1 그룹(121A) 및 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제2 그룹(121B)을 포함할 수 있다. 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제1 그룹(121A) 및 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제2 그룹(121B)은 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)에 대해 측방향에 배열될 수 있다. 특히, 도 5에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제1 그룹(121A)은 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)의 제1 측면에 인접하게 배열될 수 있고, 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제2 그룹(121B)은 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)의 제2 측면에 인접하게 배열될 수 있으며, 제2 측면은 제1 측면의 반대편이다. 예컨대, 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제1 그룹(121A)과 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제2 그룹(121B)은 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)에 대해 대칭적으로 배열될 수 있다. 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같은 양상들 및 특징들은 또한, 도 5에 도시된 실시예에 적용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.[0054] As illustratively shown in FIG. 5, the one or more first actuators 121 may include a first group 121A of one or more first actuators and a second group 121B of one or more first actuators. have. A first group 121A of one or more first actuators and a second group 121B of one or more first actuators may be arranged laterally with respect to one or more second actuators 132. In particular, as exemplarily shown in FIG. 5, the first group 121A of one or more first actuators may be arranged adjacent to the first side of the one or more second actuators 132, and One second group of actuators 121B may be arranged adjacent to the second side of one or more second actuators 132, the second side being opposite to the first side. For example, a first group 121A of one or more first actuators and a second group 121B of one or more first actuators may be arranged symmetrically with respect to one or more second actuators 132. It is to be understood that aspects and features as described with reference to FIGS. 1 to 3 may also be applied to the embodiment shown in FIG. 5.

[0055] 도 4 및 도 5를 예시적으로 참조하면, 본 개시내용에 따른 캐리어(10)는 대상물, 예컨대 기판 또는 마스크를 운반하기 위한 메인 바디(13)를 포함한다. 예컨대, 메인 바디(13)는 기판 또는 마스크를 홀딩하도록 구성된 캐리어 플레이트로서 구현될 수 있다. 대안적으로, 메인 바디(13)는 기판 또는 마스크를 홀딩하도록 구성된 캐리어 프레임으로서 구현될 수 있다. 도 4 및 도 5에 예시적으로 도시된 바와 같이, 메인 바디는 제1 단부(11) 및 제2 단부(12)를 갖는다. 제2 단부(12)는 제1 단부(11)의 반대편이다. 메인 바디(13)의 제1 단부(11)는 자기 부상 시스템의 하나 이상의 자기 베어링들(120)의 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)과 상호작용하기 위한 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)을 포함한다. 제1 단부(11)는 자기 부상 시스템의 구동 유닛(130)의 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)과 상호작용하기 위한 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)을 더 포함한다. 추가적으로, 메인 바디(13)의 제2 단부(12)는 자기 부상 시스템의 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)의 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)과 상호작용하기 위한 제3 자기 대응부(183)를 포함한다.[0055] Referring illustratively to FIGS. 4 and 5, a carrier 10 according to the present disclosure comprises a main body 13 for carrying an object, such as a substrate or a mask. For example, the main body 13 may be implemented as a carrier plate configured to hold a substrate or a mask. Alternatively, the main body 13 can be implemented as a carrier frame configured to hold a substrate or mask. As illustratively shown in FIGS. 4 and 5, the main body has a first end 11 and a second end 12. The second end 12 is opposite to the first end 11. The first end 11 of the main body 13 has one or more first magnetic counterparts 181 for interacting with one or more first actuators 121 of one or more magnetic bearings 120 of the magnetic levitation system. Includes. The first end 11 further comprises one or more second magnetic counterparts 182 for interacting with one or more second actuators 132 of the drive unit 130 of the magnetic levitation system. Additionally, the second end 12 of the main body 13 comprises a third magnetic counterpart 183 for interacting with one or more passive magnetic bearings 125 of the non-contact guide arrangement 140 of the magnetic levitation system. do.

[0056] 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)의 최상부 표면(181S)과 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)의 최상부 표면(182S)은 동일한 배향을 갖는다. 더 구체적으로, 도 4 및 도 5에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)의 최상부 표면과 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)의 최상부 표면은 실질적으로 수평이다. 예컨대, 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)의 최상부 표면과 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)의 최상부 표면은 동일 평면에 있을 수 있다. 대안적으로, 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)의 최상부 표면과 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)의 최상부 표면 사이에는 작은 단차(step), 예컨대 ST ≤ 2 mm, 특히 ST ≤ 1 mm인 단차(ST)가 제공될 수 있다.[0056] According to some embodiments, which may be combined with any other embodiments described herein, the top surface 181S of one or more first magnetic counterparts 181 and of one or more second magnetic counterparts 182. The top surface 182S has the same orientation. More specifically, as illustratively shown in FIGS. 4 and 5, the top surface of the one or more first magnetic counterparts 181 and the top surface of the one or more second magnetic counterparts 182 are substantially horizontal. . For example, a top surface of the one or more first magnetic counterparts 181 and a top surface of the one or more second magnetic counterparts 182 may be coplanar. Alternatively, a small step between the top surface of the one or more first magnetic counterparts 181 and the top surface of the one or more second magnetic counterparts 182, such as ST ≤ 2 mm, in particular ST ≤ 1 mm A phosphorus step ST may be provided.

[0057] 도 4 및 도 5에 예시적으로 도시된 바와 같이, 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 제3 자기 대응부(183)는 제1 표면(183A) 및 제2 표면(183B)을 포함한다. 제2 표면(183B)은 제1 표면(183A)의 반대편이다. 전형적으로, 제1 표면(183A)의 배향 및 제2 표면(183B)의 배향은 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)의 최상부 표면 및 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)의 최상부 표면에 수직이다.[0057] As illustratively shown in FIGS. 4 and 5, according to some embodiments, which may be combined with any of the other embodiments described herein, the third magnetic counterpart 183 has a first surface 183A. ) And a second surface 183B. The second surface 183B is opposite to the first surface 183A. Typically, the orientation of the first surface 183A and the orientation of the second surface 183B are perpendicular to the top surface of the one or more first magnetic counterparts 181 and the top surface of the one or more second magnetic counterparts 182. to be.

[0058] 일부 실시예들에 따르면, 도 4에 예시적으로 도시된 바와 같이, 캐리어(10)는 비대칭적 캐리어일 수 있는데, 즉, 캐리어가 수직 배향에 있을 때 무게 중심(G)을 통해 연장되는 수직 평면(111)에 대해 대칭적이지 않을 수 있다. 대안적으로, 도 5에 예시적으로 도시된 바와 같이, 캐리어(10)는 대칭적 캐리어일 수 있는데, 즉, 캐리어가 수직 배향에 있을 때 무게 중심(G)을 통해 연장되는 수직 평면(111)에 대해 대칭적일 수 있다.[0058] According to some embodiments, as exemplarily shown in FIG. 4, the carrier 10 may be an asymmetric carrier, that is, a vertical plane extending through the center of gravity G when the carrier is in a vertical orientation. It may not be symmetric about (111). Alternatively, as exemplarily shown in FIG. 5, the carrier 10 may be a symmetric carrier, that is, a vertical plane 111 extending through the center of gravity G when the carrier is in a vertical orientation. It can be symmetric about

[0059] 도 4 및 도 5로부터, 캐리어의 치수는 전형적으로 캐리어 이송 공간(15)의 치수에 대응한다는 것이 이해되어야 한다. 따라서, 캐리어는 캐리어 이송 공간(15)의 높이(H)에 대응하는 높이(HC)를 가질 수 있다. 또한, 캐리어는 캐리어 이송 공간(15)의 폭(W)에 대응하는 폭(WC)을 가질 수 있다. 따라서, HC/WC의 종횡비는 HC/WC ≥ 5, 특히 HC/WC ≥ 10일 수 있다.It should be understood from FIGS. 4 and 5 that the dimensions of the carrier typically correspond to the dimensions of the carrier transport space 15. Accordingly, the carrier may have a height H C corresponding to the height H of the carrier transport space 15. In addition, the carrier may have a width W C corresponding to the width W of the carrier transport space 15. Thus, the aspect ratio of the H C / W C may be a H C / W C ≥ 5, especially H C / W C ≥ 10.

[0060] 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 도 2 및 도 3을 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)이 캐리어(10)의 제1 단부(11)에 부착될 수 있다. 도 6 및 도 7에 예시적으로 도시된 바와 같이, 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)은 비대칭적 캐리어(도 6 참조)뿐만 아니라 대칭적 캐리어(도 7 참조)를 위해 제공될 수 있다. 또한, 도 3을 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 보호 엘리먼트(163), 예컨대 보호 스트립이 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)에 부착될 수 있다.[0060] According to some embodiments, which may be combined with any other embodiments described herein, as illustratively described with reference to FIGS. 2 and 3, at least one carrier stabilizing magnet 162 is a carrier ( 10) can be attached to the first end (11). As exemplarily shown in FIGS. 6 and 7, at least one carrier stabilizing magnet 162 may be provided for an asymmetric carrier (see FIG. 6) as well as a symmetric carrier (see FIG. 7 ). Further, as exemplarily described with reference to FIG. 3, a protective element 163, such as a protective strip, may be attached to at least one carrier stabilizing magnet 162.

[0061] 도 6을 예시적으로 참조하면, 개개의 비대칭적 캐리어들을 이송하기 위한 2개의 비대칭적 자기 부상 시스템들의 어레인지먼트가 설명된다. 특히, 제1 이송 경로(T1)를 제공하는 제1 비대칭적 자기 부상 시스템(101)은 제2 이송 경로(T2)를 제공하는 제2 비대칭적 자기 부상 시스템(102) 옆에 제공될 수 있다. 특히, 제2 비대칭적 자기 부상 시스템(102)은 제1 비대칭적 자기 부상 시스템(101)으로부터 수평으로 오프셋된다. 따라서, 전형적으로, 제2 이송 경로(T2)는 제1 이송 경로(T1)로부터 수평으로 오프셋된다. 도 6으로부터 확인될 수 있는 바와 같이, 제1 비대칭적 자기 부상 시스템(101)의 컴포넌트들은 제2 비대칭적 자기 부상 시스템(102)의 컴포넌트들에 실질적으로 대응할 수 있다. 따라서, 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같은 특징들은 또한, 도 6에 도시된 예시적인 실시예에 적용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 도 6에 도시된 바와 같이, 제1 비대칭적 자기 부상 시스템(101)과 제2 비대칭적 자기 부상 시스템(102)의 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)는 공통 지지 구조(145)에 연결될 수 있다. 도 6에 예시적으로 도시된 바와 같이, 공통 지지 구조(145)는 최하부 챔버 벽(211)에 커플링될 수 있다.[0061] Referring illustratively to FIG. 6, an arrangement of two asymmetric magnetic levitation systems for transporting individual asymmetric carriers is described. In particular, a first asymmetric magnetic levitation system 101 providing a first transport path T1 may be provided next to a second asymmetric magnetic levitation system 102 providing a second transport path T2. In particular, the second asymmetric magnetic levitation system 102 is horizontally offset from the first asymmetric magnetic levitation system 101. Thus, typically, the second conveying path T2 is horizontally offset from the first conveying path T1. As can be seen from FIG. 6, the components of the first asymmetric magnetic levitation system 101 may substantially correspond to the components of the second asymmetric magnetic levitation system 102. Accordingly, it should be understood that features as described with reference to FIGS. 1 to 3 may also be applied to the exemplary embodiment shown in FIG. 6. As shown in FIG. 6, the contactless guide arrangement 140 of the first asymmetric magnetic levitation system 101 and the second asymmetric magnetic levitation system 102 may be connected to a common support structure 145. As exemplarily shown in FIG. 6, the common support structure 145 may be coupled to the lowermost chamber wall 211.

[0062] 도 7을 예시적으로 참조하면, 개개의 대칭적 캐리어들을 이송하기 위한 2개의 대칭적 자기 부상 시스템들의 어레인지먼트가 설명된다. 특히, 제1 이송 경로(T1)를 제공하는 제1 대칭적 자기 부상 시스템(103)은 제2 이송 경로(T2)를 제공하는 제2 대칭적 자기 부상 시스템(104) 옆에 제공될 수 있다. 특히, 제2 대칭적 자기 부상 시스템(104)은 제1 대칭적 자기 부상 시스템(103)으로부터 수평으로 오프셋된다. 따라서, 제2 이송 경로(T2)는 제1 이송 경로(T1)로부터 수평으로 오프셋된다. 도 7로부터 확인될 수 있는 바와 같이, 제1 대칭적 자기 부상 시스템(103)의 컴포넌트들은 제2 대칭적 자기 부상 시스템(104)의 컴포넌트들에 실질적으로 대응할 수 있다. 또한, 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명된 바와 같은 특징들은 또한, 도 7에 도시된 예시적인 실시예에 적용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 도 7에 도시된 바와 같이, 제1 대칭적 자기 부상 시스템(103)과 제2 대칭적 자기 부상 시스템(104)의 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)는 공통 지지 구조(145)에 연결될 수 있다. 도 7에 예시적으로 도시된 바와 같이, 공통 지지 구조(145)는 최하부 챔버 벽(211)에 커플링될 수 있다.[0062] Referring illustratively to FIG. 7, an arrangement of two symmetrical magnetic levitation systems for transporting individual symmetrical carriers is described. In particular, a first symmetrical magnetic levitation system 103 providing a first conveying path T1 may be provided next to a second symmetrical magnetic levitation system 104 providing a second conveying path T2. In particular, the second symmetrical magnetic levitation system 104 is horizontally offset from the first symmetrical magnetic levitation system 103. Accordingly, the second transport path T2 is horizontally offset from the first transport path T1. As can be seen from FIG. 7, the components of the first symmetrical magnetic levitation system 103 can substantially correspond to the components of the second symmetrical magnetic levitation system 104. In addition, it should be understood that features as described with reference to FIGS. 1 to 4 may also be applied to the exemplary embodiment shown in FIG. 7. As shown in FIG. 7, the contactless guide arrangement 140 of the first symmetrical magnetic levitation system 103 and the second symmetrical magnetic levitation system 104 may be connected to a common support structure 145. As exemplarily shown in FIG. 7, the common support structure 145 may be coupled to the lowermost chamber wall 211.

[0063] 또한, 도 7에 예시적으로 도시된 바와 같이, 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 상부 챔버 벽(212)은 별도의 플레이트 엘리먼트, 특히 터브형(tub-like) 플레이트 엘리먼트로서 구현될 수 있다. 따라서, 유익하게, 하나 이상의 자기 베어링들의 하나 이상의 제1 액추에이터들 및 구동 유닛의 하나 이상의 제2 액추에이터들은, 상부 챔버 벽이 챔버의 측벽들에 장착되기 전에 상부 챔버 벽에 미리-장착될 수 있다. 미리-장착된 하나 이상의 제1 액추에이터들 및 미리-장착된 하나 이상의 제2 액추에이터들을 갖는 상부 챔버 벽을 제공하는 것은 어셈블리 절차를 용이하게 할 수 있고 비용들을 줄일 수 있다. 따라서, 종래 기술에 비해, 유익하게, 챔버에 대한 더 간단한 인터페이스가 제공된다.[0063] In addition, as exemplarily shown in FIG. 7, according to some embodiments, which may be combined with any other embodiments described herein, the upper chamber wall 212 is a separate plate element, in particular a tub-shaped It can be implemented as a (tub-like) plate element. Thus, advantageously, one or more first actuators of the one or more magnetic bearings and one or more second actuators of the drive unit can be pre-mounted to the upper chamber wall before the upper chamber wall is mounted to the side walls of the chamber. Providing an upper chamber wall with pre-mounted one or more first actuators and pre-mounted one or more second actuators can facilitate the assembly procedure and reduce costs. Thus, compared to the prior art, advantageously, a simpler interface to the chamber is provided.

[0064] 도 8을 예시적으로 참조하면, 본 개시내용에 따라 기판을 수직으로 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템(200)이 설명된다. 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 프로세싱 시스템(200)은 프로세싱 디바이스(205)를 포함하는 적어도 하나의 진공 프로세싱 챔버(210)를 포함한다. 특히, 전형적으로, 프로세싱 디바이스(205)는 진공 프로세싱 챔버(210) 내에 배열되고, 프로세싱 디바이스(205)는, 증착 소스, 증발 소스, 및 스퍼터 소스로 구성된 그룹으로부터 선택될 수 있다. "진공"이라는 용어는, 예컨대 10 mbar 미만의 진공 압력을 갖는 기술적 진공의 의미로 이해될 수 있다. 전형적으로, 본원에서 설명된 바와 같은 진공 챔버 내의 압력은 10-5 mbar 내지 약 10-8 mbar, 더 전형적으로는 10-5 mbar 내지 10-7 mbar, 훨씬 더 전형적으로는 약 10-6 mbar 내지 약 10-7 mbar일 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 진공 챔버 내의 압력은 진공 챔버 내의 증발된 재료의 부분 압력 또는 총 압력(이는, 증발된 재료만이 진공 챔버 내에 증착될 성분으로서 존재할 때 거의 동일할 수 있음)인 것으로 고려될 수 있다. 일부 실시예들에서, 진공 챔버 내의 총 압력은 특히 진공 챔버 내에 증발된 재료 외에 제2 성분(이를테면, 가스 등)이 존재하는 경우에는, 약 10-4 mbar 내지 약 10-7 mbar의 범위일 수 있다. 따라서, 진공 챔버는 "진공 증착 챔버", 즉, 진공 증착을 위해 구성된 진공 챔버일 수 있다.Referring illustratively to FIG. 8, a processing system 200 for vertically processing a substrate in accordance with the present disclosure is described. According to embodiments that may be combined with any of the other embodiments described herein, processing system 200 includes at least one vacuum processing chamber 210 containing processing device 205. In particular, typically, the processing device 205 is arranged within the vacuum processing chamber 210, and the processing device 205 may be selected from the group consisting of a deposition source, an evaporation source, and a sputter source. The term "vacuum" can be understood in the sense of a technical vacuum, for example with a vacuum pressure of less than 10 mbar. Typically, the pressure in the vacuum chamber as described herein is from 10 -5 mbar to about 10 -8 mbar, more typically from 10 -5 mbar to 10 -7 mbar, even more typically from about 10 -6 mbar May be about 10 -7 mbar. According to some embodiments, the pressure in the vacuum chamber is considered to be the partial pressure or the total pressure of the evaporated material in the vacuum chamber (which can be approximately the same when only the evaporated material is present as a component to be deposited in the vacuum chamber). Can be. In some embodiments, the total pressure in the vacuum chamber may range from about 10 -4 mbar to about 10 -7 mbar, particularly when a second component (such as gas, etc.) is present in addition to the evaporated material in the vacuum chamber. have. Thus, the vacuum chamber may be a “vacuum deposition chamber”, ie, a vacuum chamber configured for vacuum deposition.

[0065] 또한, 도 8에 예시적으로 도시된 바와 같이, 프로세싱 시스템(200)은 하나 이상의 캐리어들을 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 하나 이상의 자기 부상 시스템들을 포함한다. 예컨대, 프로세싱 시스템(200)은 제1 자기 부상 시스템(100A) 및 제2 자기 부상 시스템(100B)을 포함할 수 있다. 제1 자기 부상 시스템(100A) 및 제2 자기 부상 시스템(100B)은, 특히 도 1 내지 7을 참조하여 설명된 바와 같이 본원에서 설명된 임의의 실시예들에 따라 구성될 수 있다. 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 이송 경로(T1)를 제공하는 제1 자기 부상 시스템(100A)은 제2 이송 경로(T2)를 제공하는 제2 자기 부상 시스템(100B) 옆에 제공될 수 있다. 특히, 제2 자기 부상 시스템(100B)은 제1 자기 부상 시스템(100A)으로부터 수평으로 오프셋된다. 따라서, 제2 이송 경로(T2)는 제1 이송 경로(T1)로부터 수평으로 오프셋된다.[0065] Further, as exemplarily shown in FIG. 8, the processing system 200 includes one or more magnetic levitation systems for transporting one or more carriers in the transport direction T. For example, the processing system 200 may include a first magnetic levitation system 100A and a second magnetic levitation system 100B. The first magnetic levitation system 100A and the second magnetic levitation system 100B may be configured according to any of the embodiments described herein, particularly as described with reference to FIGS. 1 to 7. As shown in FIG. 8, a first magnetic levitation system 100A providing a first transport path T1 may be provided next to a second magnetic levitation system 100B providing a second transport path T2. have. In particular, the second magnetic levitation system 100B is horizontally offset from the first magnetic levitation system 100A. Accordingly, the second transport path T2 is horizontally offset from the first transport path T1.

[0066] 프로세싱 시스템(200)의 하나 이상의 자기 부상 시스템들은: 캐리어(10)를 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩하기 위한 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들(120)을 포함한다. 추가적으로, 하나 이상의 자기 부상 시스템들은 캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이동시키기 위한 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 갖는 구동 유닛(130)을 포함한다. 하나 이상의 제1 액추에이터들(121) 및 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열된다.[0066] One or more magnetic levitation systems of the processing system 200 include: one or more magnetic bearings 120 with one or more first actuators 121 for non-contact holding the carrier 10 within the carrier transport space 15. Include. Additionally, one or more magnetic levitation systems comprise a drive unit 130 having one or more second actuators 132 for moving the carrier 10 in the transport direction T. One or more first actuators 121 and one or more second actuators 132 are arranged over the carrier transport space 15.

[0067] 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 프로세싱 시스템(200)은 캐리어를, 도 8에 예시적으로 표시된 바와 같이 경로 스위치 방향(S)으로, 제1 이송 경로(T1)로부터 제2 이송 경로(T2)로 이동시키도록 구성된 트랙 스위치 어셈블리(190)를 더 포함할 수 있다. 전형적으로, 경로 스위치 방향(S)은 측방향(L)에 대응한다. 또한, 트랙 스위치 어셈블리(190)는 캐리어를, 제1 및 제2 이송 경로들로부터 수평으로 오프셋된 프로세싱 포지션(T3)으로 이동시키도록 구성될 수 있다. 또한, 도 8에서 양방향 화살표들(144)로 예시적으로 표시된 바와 같이, 제1 자기 부상 시스템(100A)과 제2 자기 부상 시스템(100B)의 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)는, 경로 스위치 방향(S)으로의 캐리어의 이동을 가능하게 하기 위해 수직 방향으로 이동가능할 수 있다. 또한, 도 8에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크(206)(예컨대, 에지 배제 마스크)가 프로세싱 포지션(T3)과 프로세싱 디바이스(205) 사이에 제공될 수 있다.[0067] According to some embodiments, which may be combined with any of the other embodiments described herein, the processing system 200 transfers the carrier in the path switch direction S, as illustratively indicated in FIG. A track switch assembly 190 configured to move from the transfer path T1 to the second transfer path T2 may be further included. Typically, the path switch direction S corresponds to the lateral direction L. Further, the track switch assembly 190 may be configured to move the carrier to the processing position T3 horizontally offset from the first and second transport paths. In addition, as exemplarily indicated by double-sided arrows 144 in FIG. 8, the non-contact guide arrangement 140 of the first magnetic levitation system 100A and the second magnetic levitation system 100B is in the path switch direction S It may be movable in a vertical direction to enable movement of the carrier to ). Further, as illustratively shown in FIG. 8, a mask 206 (eg, an edge exclusion mask) may be provided between the processing position T3 and the processing device 205.

[0068] 도 9에 도시된 흐름도를 예시적으로 참조하여, 본 개시내용에 따라 캐리어를 이송하는 방법(300)이 설명된다. 본원에서 설명된 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 방법(300)은 하나 이상의 자기 베어링들(120)을 사용하여 캐리어(10)를 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩하는 단계(도 9에서 블록(310)으로 표현됨)를 포함한다. 하나 이상의 자기 베어링들(120)은 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열된 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 갖는다. 또한, 방법(300)은 구동 유닛(130)을 사용하여 캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하는 단계(도 9에서 블록(320)으로 표현됨)를 포함한다. 구동 유닛(130)은, 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열되는 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 갖는다.[0068] With illustrative reference to the flow chart shown in FIG. 9, a method 300 of transporting a carrier in accordance with the present disclosure is described. According to embodiments that can be combined with any of the other embodiments described herein, the method 300 uses one or more magnetic bearings 120 to transfer the carrier 10 into the carrier transport space 15 in a non-contact manner. And holding (represented by block 310 in FIG. 9). One or more magnetic bearings 120 have one or more first actuators 121 arranged above the carrier transport space 15. The method 300 also includes the step of transporting the carrier 10 in the transport direction T using the drive unit 130 (represented by block 320 in FIG. 9 ). The drive unit 130 has one or more second actuators 132 arranged over the carrier transport space 15.

[0069] 상기 내용을 고려하면, 종래 기술에 비해, 본 개시내용의 실시예들은 유익하게, 특히 고품질 디스플레이 제조를 위해 고온 진공 환경들에서 캐리어들의 정확하고 원활한 이송과 관련하여 개선된, 자기 부상 시스템, 프로세싱 시스템, 및 캐리어를 이송하는 방법을 제공한다는 것이 이해되어야 한다. 또한, 본원에서 설명된 실시예들은 유익하게, 종래의 캐리어 이송 장치들에 비해 더 적은 생산 비용들로 더 견고한 비접촉식 캐리어 이송을 제공한다.[0069] In view of the above, compared to the prior art, embodiments of the present disclosure are advantageously improved, particularly with respect to the accurate and smooth transport of carriers in high temperature vacuum environments for high-quality display manufacturing. , And it should be understood that a method of transporting a carrier is provided. Further, the embodiments described herein advantageously provide a more robust contactless carrier transport with lower production costs compared to conventional carrier transport devices.

[0070] 전술한 바가 실시예들에 관한 것이지만, 다른 및 추가의 실시예들이 기본적인 범위를 벗어나지 않으면서 구상될 수 있고, 범위는 다음의 청구항들에 의해 결정된다.[0070] While the foregoing relates to embodiments, other and further embodiments may be envisioned without departing from the basic scope, the scope being determined by the following claims.

Claims (19)

캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100)으로서,
상기 캐리어(10)를 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩하기 위한 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들(120); 및
상기 캐리어(10)를 상기 이송 방향(T)으로 이동시키기 위한 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 갖는 구동 유닛(130)을 포함하며,
상기 하나 이상의 제1 액추에이터들(121) 및 상기 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 상기 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).As a magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T,
One or more magnetic bearings 120 having one or more first actuators 121 for non-contact holding the carrier 10 in the carrier transport space 15; And
And a drive unit 130 having one or more second actuators 132 for moving the carrier 10 in the transport direction T,
The one or more first actuators 121 and the one or more second actuators 132 are arranged above the carrier transport space 15,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항에 있어서,
상기 하나 이상의 제1 액추에이터들(131) 및 상기 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 대기 공간(atmospheric space)에 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method of claim 1,
The one or more first actuators 131 and the one or more second actuators 132 are arranged in an atmospheric space,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 하나 이상의 제1 액추에이터들(131) 및 상기 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은, 특히 진공 챔버(210)의 상부 챔버 벽(212)의 외측 표면에 부착되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to claim 1 or 2,
The one or more first actuators 131 and the one or more second actuators 132 are attached, in particular, to the outer surface of the upper chamber wall 212 of the vacuum chamber 210.
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 캐리어(10)를 상기 이송 방향(T)으로 안내하기 위한 비접촉식 안내 어레인지먼트(contactless guiding arrangement)(140)를 더 포함하며,
상기 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)는 상기 캐리어 이송 공간(15)의 하부 부분(15L)에 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 3,
Further comprising a contactless guiding arrangement (140) for guiding the carrier (10) in the transport direction (T),
The non-contact guide arrangement 140 is arranged in the lower portion 15L of the carrier transfer space 15,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제4 항에 있어서,
상기 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)는 하나 이상의 수동적 자기 베어링(passive magnetic bearing)들(125)을 포함하는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method of claim 4,
The non-contact guide arrangement 140 comprises one or more passive magnetic bearings 125,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이송 방향(T)을 가로지르는 측방향(L)으로 상기 캐리어(10)에 복원력(F)을 가하도록 구성된 적어도 하나의 안정화 자석(stabilization magnet)(161)을 갖는 적어도 하나의 측면 안정화 디바이스(160)를 더 포함하는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 5,
At least one side stabilization device having at least one stabilization magnet 161 configured to apply a restoring force F to the carrier 10 in a lateral direction L transverse to the conveying direction T ( 160),
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제6 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 안정화 자석(161)은, 특히 대기 공간에서 상기 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method of claim 6,
The at least one stabilizing magnet 161 is arranged above the carrier transport space 15, in particular in an atmospheric space,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
안전 어레인지먼트(safety arrangement)(170)를 더 포함하며,
상기 안전 어레인지먼트(170)는, 상기 캐리어 이송 공간(15)의 적어도 하나의 측면에 제공된 측방향 가드 안내 엘리먼트(lateral guard guiding element), 및 상기 캐리어(10)를 위해 수직 안전 지지를 제공하기 위한 안전 롤러로 이루어진 그룹의 적어도 하나의 엘리먼트를 포함하는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 7,
It further comprises a safety arrangement (170),
The safety arrangement 170 is a lateral guard guiding element provided on at least one side of the carrier transport space 15, and a safety for providing vertical safety support for the carrier 10 Comprising at least one element of the group consisting of rollers,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 캐리어 이송 공간(15)은, 수직 방향으로 연장되는 높이(H) 및 수평 방향으로 연장되는 폭(W)을 갖는 수직 캐리어 이송 공간이고,
여기서 H/W의 종횡비는 H/W ≥ 5인,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 8,
The carrier transport space 15 is a vertical carrier transport space having a height H extending in a vertical direction and a width W extending in the horizontal direction,
Here, the aspect ratio of H/W is H/W ≥ 5,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)은 이송될 상기 캐리어(10)의 무게 중심 위에 중앙에 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 9,
The one or more first actuators 121 are arranged centrally on the center of gravity of the carrier 10 to be transported,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 상기 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)에 대해 측방향에 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 10,
The one or more second actuators 132 are arranged laterally with respect to the one or more first actuators 121,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 이송될 상기 캐리어(10)의 무게 중심 위에 중앙에 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 9,
The one or more second actuators 132 are arranged centrally on the center of gravity of the carrier 10 to be transported,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 제1 항 내지 제9 항 또는 제12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)은 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제1 그룹(121A) 및 하나 이상의 제1 액추에이터들의 제2 그룹(121B)을 포함하고, 상기 제1 그룹(121A)과 상기 제2 그룹(121B)은 상기 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)에 대해 대칭적으로 배열되는,
캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 자기 부상 시스템(100).The method according to any one of claims 1 to 9 or 12,
The one or more first actuators 121 include a first group 121A of one or more first actuators and a second group 121B of one or more first actuators, and the first group 121A and the first Two groups 121B are arranged symmetrically with respect to the one or more second actuators 132,
Magnetic levitation system 100 for transporting the carrier 10 in the transport direction T. 자기 부상 시스템을 위한 캐리어(10)로서,
대상물(object)을 운반하기 위한 메인 바디(13)를 포함하며,
상기 메인 바디는 제1 단부(11) 및 상기 제1 단부(11) 반대편의 제2 단부(12)를 갖고,
상기 제1 단부(11)는 상기 자기 부상 시스템의 하나 이상의 자기 베어링들(120)의 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)과 상호작용하기 위한 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)을 포함하고, 상기 제1 단부(11)는 상기 자기 부상 시스템의 구동 유닛(130)의 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)과 상호작용하기 위한 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)을 더 포함하고, 그리고
상기 제2 단부(12)는 상기 자기 부상 시스템의 비접촉식 안내 어레인지먼트(140)의 하나 이상의 수동적 자기 베어링들(125)과 상호작용하기 위한 제3 자기 대응부(183)를 포함하는,
자기 부상 시스템을 위한 캐리어(10).As a carrier 10 for a magnetic levitation system,
It includes a main body 13 for carrying an object,
The main body has a first end (11) and a second end (12) opposite the first end (11),
The first end 11 comprises one or more first magnetic counterparts 181 for interacting with one or more first actuators 121 of one or more magnetic bearings 120 of the magnetic levitation system, The first end 11 further comprises one or more second magnetic counterparts 182 for interacting with one or more second actuators 132 of the drive unit 130 of the magnetic levitation system, and
The second end 12 comprises a third magnetic counterpart 183 for interacting with one or more passive magnetic bearings 125 of the non-contact guidance arrangement 140 of the magnetic levitation system,
Carrier (10) for magnetic levitation system. 제14 항에 있어서,
상기 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)의 최상부 표면과 상기 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)의 최상부 표면은 동일 평면에 있는,
자기 부상 시스템을 위한 캐리어(10).The method of claim 14,
The top surface of the one or more first magnetic counterparts 181 and the top surface of the one or more second magnetic counterparts 182 are coplanar,
Carrier (10) for magnetic levitation system. 제14 항 또는 제15 항에 있어서,
상기 제3 자기 대응부(183)는 제1 표면(183A) 및 제2 표면(183B)을 갖고, 상기 제2 표면(183B)은 상기 제1 표면(183A)의 반대편이고, 그리고 상기 제1 표면(183A)의 배향 및 상기 제2 표면(183B)의 배향은 상기 하나 이상의 제1 자기 대응부들(181)의 최상부 표면 및 상기 하나 이상의 제2 자기 대응부들(182)의 최상부 표면에 수직인,
자기 부상 시스템을 위한 캐리어(10).The method of claim 14 or 15,
The third magnetic counterpart 183 has a first surface 183A and a second surface 183B, the second surface 183B is opposite to the first surface 183A, and the first surface The orientation of (183A) and the orientation of the second surface (183B) are perpendicular to the top surface of the one or more first magnetic counterparts 181 and the top surface of the one or more second magnetic counterparts 182,
Carrier (10) for magnetic levitation system. 제14 항 내지 제16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 캐리어(10)의 제1 단부(11)에 부착된 적어도 하나의 캐리어 안정화 자석(162)을 더 포함하는,
자기 부상 시스템을 위한 캐리어(10).The method according to any one of claims 14 to 16,
Further comprising at least one carrier stabilizing magnet (162) attached to the first end (11) of the carrier (10),
Carrier (10) for magnetic levitation system. 기판을 수직으로 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템(200)으로서,
프로세싱 디바이스(205)를 포함하는 적어도 하나의 진공 프로세싱 챔버(210); 및
하나 이상의 캐리어들(10)을 이송 방향(T)으로 이송하기 위한 하나 이상의 자기 부상 시스템들(100)을 포함하며,
상기 하나 이상의 자기 부상 시스템들은,
상기 캐리어(10)를 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩하기 위한 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들(120), 및
상기 캐리어(10)를 상기 이송 방향(T)으로 이동시키기 위한 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 갖는 구동 유닛(130)을 포함하고,
상기 하나 이상의 제1 액추에이터들(131) 및 상기 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)은 상기 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열되는,
기판을 수직으로 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템(200).A processing system 200 for vertically processing a substrate, comprising:
At least one vacuum processing chamber 210 containing a processing device 205; And
One or more magnetic levitation systems 100 for transporting one or more carriers 10 in a transport direction T,
The one or more magnetic levitation systems,
One or more magnetic bearings 120 having one or more first actuators 121 for non-contact holding the carrier 10 in the carrier transport space 15, and
And a drive unit 130 having one or more second actuators 132 for moving the carrier 10 in the transport direction T,
The one or more first actuators 131 and the one or more second actuators 132 are arranged above the carrier transport space 15,
A processing system 200 for vertically processing a substrate. 캐리어(10)를 이송하는 방법(300)으로서,
캐리어 이송 공간(15) 위에 배열된 하나 이상의 제1 액추에이터들(121)을 갖는 하나 이상의 자기 베어링들(120)을 사용하여 상기 캐리어(10)를 상기 캐리어 이송 공간(15) 내에 비접촉식으로 홀딩하는 단계(310); 및
상기 캐리어 이송 공간(15) 위에 배열된 하나 이상의 제2 액추에이터들(132)을 갖는 구동 유닛(130)을 사용하여 상기 캐리어(10)를 이송 방향(T)으로 이송하는 단계(320)를 포함하는,
캐리어(10)를 이송하는 방법(300).As a method 300 of transporting the carrier 10,
Non-contact holding of the carrier 10 in the carrier transfer space 15 using one or more magnetic bearings 120 with one or more first actuators 121 arranged over the carrier transfer space 15 (310); And
A step (320) of transferring the carrier (10) in the transfer direction (T) using a drive unit (130) having one or more second actuators (132) arranged over the carrier transfer space (15). ,
Method 300 of transporting the carrier 10.
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