KR20190050973A - 고무 조성물 - Google Patents
고무 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20190050973A KR20190050973A KR1020197006232A KR20197006232A KR20190050973A KR 20190050973 A KR20190050973 A KR 20190050973A KR 1020197006232 A KR1020197006232 A KR 1020197006232A KR 20197006232 A KR20197006232 A KR 20197006232A KR 20190050973 A KR20190050973 A KR 20190050973A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- rubber
- diene rubber
- mass
- liquid diene
- group
- Prior art date
Links
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 title claims abstract description 120
- 239000005060 rubber Substances 0.000 title claims abstract description 120
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 152
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 141
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 75
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 55
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 44
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 25
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 25
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 82
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 68
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 claims description 27
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 23
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical group CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 19
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 claims description 16
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 16
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 claims description 16
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 claims description 16
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 12
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 12
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 claims description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 7
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 6
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 6
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 20
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 15
- 230000006872 improvement Effects 0.000 abstract description 13
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 87
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 39
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 28
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 26
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 20
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 20
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 19
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 15
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 15
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 12
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 12
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 9
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 9
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 9
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002897 diene group Chemical group 0.000 description 8
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 6
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 4
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 4
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 4
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VBQCFYPTKHCPGI-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-methylpentan-2-ylperoxy)cyclohexane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)CCC)CCCCC1 VBQCFYPTKHCPGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WELCTFWFQMLKRY-UHFFFAOYSA-N 3-(2,2-dimethoxyethylsilyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCC[SiH2]CC(OC)OC WELCTFWFQMLKRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006232 furnace black Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 3
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOC=C AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(dodecylsulfanylmethyl)-6-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCCCCCC)=C1 VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpenta-1,3-diene Chemical compound CC=CC(C)=C RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanethiol Chemical compound CCO[Si](CCS)(OCC)OCC DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanethiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCS LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQBHYWDCHSZDQU-UHFFFAOYSA-N 4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)-n-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1NC1=CC=C(C(C)(C)CC(C)(C)C)C=C1 GQBHYWDCHSZDQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 2
- BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N Dibenzylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CNCC1=CC=CC=C1 BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100434170 Oryza sativa subsp. japonica ACR2.1 gene Proteins 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003568 Sodium, potassium and calcium salts of fatty acids Substances 0.000 description 2
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 2
- MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N Terpinolene Chemical compound CC(C)=C1CCC(C)=CC1 MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- YLPJWBQVQIERHM-UHFFFAOYSA-M [Co].C(C)[Al](CC)Cl Chemical compound [Co].C(C)[Al](CC)Cl YLPJWBQVQIERHM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LXXUYORAHKLDLS-UHFFFAOYSA-N [Li]C1CCC([Li])C(CC)C1 Chemical compound [Li]C1CCC([Li])C(CC)C1 LXXUYORAHKLDLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAHWPYUMFXYFJY-UHFFFAOYSA-N beta-myrcene Chemical compound CC(C)=CCCC(=C)C=C UAHWPYUMFXYFJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 2
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 2
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N lithium;hexane Chemical compound [Li+].CCCCC[CH2-] CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000010734 process oil Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorobenzoyl) 2,4-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCIHZDWTJCGMDK-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C GCIHZDWTJCGMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSYRAUUZGRPOHS-BQYQJAHWSA-N (3E)-2-methylocta-1,3-diene Chemical compound CCCC\C=C\C(C)=C NSYRAUUZGRPOHS-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- ZTJHDEXGCKAXRZ-FNORWQNLSA-N (3e)-octa-1,3,7-triene Chemical compound C=CCC\C=C\C=C ZTJHDEXGCKAXRZ-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEGHWJKOEXHMAZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)butane Chemical compound CC(C)(C)OOC(CCC)OOC(C)(C)C BEGHWJKOEXHMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KABXCMUKNKDRHI-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropan-2-yl hydroxy carbonate Chemical compound COCC(C)(OC)OC(=O)OO KABXCMUKNKDRHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CORMBJOFDGICKF-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethoxy 2-vinyl benzene Natural products COC1=CC(OC)=C(C=C)C(OC)=C1 CORMBJOFDGICKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- UBRWPVTUQDJKCC-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(2-tert-butylperoxypropan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)OOC(C)(C)C)=C1 UBRWPVTUQDJKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUSXYCTXXLYBGJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C=C)C(C(C)C)=C1 OUSXYCTXXLYBGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVTGQMLRTKFKAM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=C(C=C)C=C1 VVTGQMLRTKFKAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C=C)=CC=CC3=CC2=C1 UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIOCRZSYHQYVSG-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)-n,n-diethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CCC1=CC=C(C=C)C=C1 BIOCRZSYHQYVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTZRYAAOQPNAKU-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-carboxy-3-cyanobutyl)diazenyl]-4-cyanopentanoic acid Chemical compound N#CC(C)CC(C(O)=O)N=NC(C(O)=O)CC(C)C#N PTZRYAAOQPNAKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAPFXKIIQDWHMM-UHFFFAOYSA-N 2-[ethoxy(methyl)silyl]oxyprop-1-ene-1-thiol Chemical compound SC=C(C)O[SiH](OCC)C OAPFXKIIQDWHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropent-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(Br)=C XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCCl)(OCC)OCC IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCl CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDELBHCVXBSVPJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C=C)C(C)=C1 PDELBHCVXBSVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2,4,4-trimethylpentane Chemical group CC(C)(C)CC(C)(C)OO MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NCCN1 BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQVVPOMBWBKNRS-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-yl)propyl-triethoxysilane Chemical compound C1=CC=C2SC(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=NC2=C1 KQVVPOMBWBKNRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IABJHLPWGMWHLX-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-yl)propyl-trimethoxysilane Chemical compound C1=CC=C2SC(CCC[Si](OC)(OC)OC)=NC2=C1 IABJHLPWGMWHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVIFKGXGIZTRCS-UHFFFAOYSA-N 3-(2,2-diethoxyethylsilyl)propane-1-thiol Chemical compound CCOC(OCC)C[SiH2]CCCS GVIFKGXGIZTRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNAYHAHZEPCGAN-UHFFFAOYSA-N 3-(trimethoxymethylsilyl)propane-1-thiol Chemical compound COC(OC)(OC)[SiH2]CCCS GNAYHAHZEPCGAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQMRXALBJIVORP-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCS DQMRXALBJIVORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSVGALJCOODHN-UHFFFAOYSA-N 3-diethoxysilyloxyprop-1-ene-1-thiol Chemical compound SC=CCO[SiH](OCC)OCC GNSVGALJCOODHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 4-(morpholin-4-yldisulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SSN1CCOCC1 HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPPHXULEHGYZRW-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2,4-dimethyl-2-phenyldiazenylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC1=CC=CC=C1 OPPHXULEHGYZRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZMVLMVFYMGSMY-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-methylpentan-2-yl)-1-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(NC(C)CC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ZZMVLMVFYMGSMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 5-triethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(N)CCN ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAYDIULWQAGCHX-UHFFFAOYSA-N C(=O)(OOCCC(CC)C)OOC(=O)OOCCC(CC)C Chemical compound C(=O)(OOCCC(CC)C)OOC(=O)OOCCC(CC)C AAYDIULWQAGCHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMWKCNHRPXGGFF-UHFFFAOYSA-N C(C1(CS1)C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)OC.S(=O)(=O)(O)O.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound C(C1(CS1)C)(=O)OCCC[Si](OC)(OC)OC.S(=O)(=O)(O)O.C(C(=C)C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC LMWKCNHRPXGGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC Chemical compound CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKFGZHGVWONCTD-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CCC[Si](OC)(OC)OC SKFGZHGVWONCTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMSINRARNNWSHY-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC NMSINRARNNWSHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 239000005662 Paraffin oil Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 241001584775 Tunga penetrans Species 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- STLLXWLDRUVCHL-UHFFFAOYSA-N [2-[1-[2-hydroxy-3,5-bis(2-methylbutan-2-yl)phenyl]ethyl]-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenyl] prop-2-enoate Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(C(C)C=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC)C(C)(C)CC)OC(=O)C=C)=C1O STLLXWLDRUVCHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N [2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenyl] prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)OC(=O)C=C)=C1O IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZEZSORUWZUMNU-UHFFFAOYSA-N [Li]CCCC[Li] Chemical compound [Li]CCCC[Li] BZEZSORUWZUMNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N abietic acid Chemical class C([C@@H]12)CC(C(C)C)=CC1=CC[C@@H]1[C@]2(C)CCC[C@@]1(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Natural products CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006271 aliphatic hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- VYBREYKSZAROCT-UHFFFAOYSA-N alpha-myrcene Natural products CC(=C)CCCC(=C)C=C VYBREYKSZAROCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N aminothiocarboxamide Natural products NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229920006272 aromatic hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010692 aromatic oil Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- WPKWPKDNOPEODE-UHFFFAOYSA-N bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)diazene Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)N=NC(C)(C)CC(C)(C)C WPKWPKDNOPEODE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005618 boron oxoacid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- IMJGQTCMUZMLRZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dien-2-ylbenzene Chemical compound C=CC(=C)C1=CC=CC=C1 IMJGQTCMUZMLRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADKBGLXGTKOWIU-UHFFFAOYSA-N butanediperoxoic acid Chemical compound OOC(=O)CCC(=O)OO ADKBGLXGTKOWIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000006231 channel black Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBUXRMKDJWEXRL-ROUUACIJSA-N cis-body Chemical compound O=C([C@H]1N(C2=O)[C@H](C3=C(C4=CC=CC=C4N3)C1)CC)N2C1=CC=C(F)C=C1 SBUXRMKDJWEXRL-ROUUACIJSA-N 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007799 cork Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 230000001808 coupling effect Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011243 crosslinked material Substances 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N diethylhydroxylamine Chemical compound CCN(O)CC FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 1
- POSWICCRDBKBMH-UHFFFAOYSA-N dihydroisophorone Natural products CC1CC(=O)CC(C)(C)C1 POSWICCRDBKBMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N dimethylmethane Natural products CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001599 direct drying Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 229930004069 diterpene Natural products 0.000 description 1
- 150000004141 diterpene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical compound CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005087 graphitization Methods 0.000 description 1
- 229920005555 halobutyl Polymers 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical class [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000000415 inactivating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- RLAWWYSOJDYHDC-BZSNNMDCSA-N lisinopril Chemical compound C([C@H](N[C@@H](CCCCN)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(O)=O)C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 RLAWWYSOJDYHDC-BZSNNMDCSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- ITUWQZXQRZLLCR-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctadecylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCCCCCCCC ITUWQZXQRZLLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZCCLNYLUGNUKQ-UHFFFAOYSA-N n-(4-nitrosophenyl)hydroxylamine Chemical class ONC1=CC=C(N=O)C=C1 DZCCLNYLUGNUKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1CCCCC1 DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTJMBLSQUBVMS-UHFFFAOYSA-N n-[[2-cyanopropan-2-yl(formyl)amino]hydrazinylidene]formamide Chemical compound N#CC(C)(C)N(C=O)NN=NC=O CYTJMBLSQUBVMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHYIQOBTIWVRZ-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylhydroxylamine Chemical compound CC(C)NO ODHYIQOBTIWVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N naphthalene;potassium Chemical compound [K].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYCWTIQTBADSKK-UHFFFAOYSA-N neodymium triethylalumane Chemical compound [Nd].C(C)[Al](CC)CC ZYCWTIQTBADSKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000013966 potassium salts of fatty acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 235000013875 sodium salts of fatty acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC(C)(C)C SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOEYNURYLFDCEV-UHFFFAOYSA-N tert-butyl hydroxy carbonate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OO YOEYNURYLFDCEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWSZXUOMATYHHI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl octaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OOC(C)(C)C BWSZXUOMATYHHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000006234 thermal black Substances 0.000 description 1
- 238000001757 thermogravimetry curve Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- FPBXRRDHCADTAL-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-nitropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC[N+]([O-])=O FPBXRRDHCADTAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASAOXGWSIOQTDI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(2-triethoxysilylethyltetrasulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCSSSSCC[Si](OCC)(OCC)OCC ASAOXGWSIOQTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLFNHRIZTXWZHT-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltrisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC KLFNHRIZTXWZHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPPXVBLDIDEHBA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-nitropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC[N+]([O-])=O QPPXVBLDIDEHBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSXKIRYGYMKWSK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(2-trimethoxysilylethyltetrasulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCSSSSCC[Si](OC)(OC)OC JSXKIRYGYMKWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOFGNZOFJYBHIN-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyltrisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSSCCC[Si](OC)(OC)OC KOFGNZOFJYBHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L21/00—Compositions of unspecified rubbers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B60—VEHICLES IN GENERAL
- B60C—VEHICLE TYRES; TYRE INFLATION; TYRE CHANGING; CONNECTING VALVES TO INFLATABLE ELASTIC BODIES IN GENERAL; DEVICES OR ARRANGEMENTS RELATED TO TYRES
- B60C1/00—Tyres characterised by the chemical composition or the physical arrangement or mixture of the composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08C—TREATMENT OR CHEMICAL MODIFICATION OF RUBBERS
- C08C19/00—Chemical modification of rubber
- C08C19/25—Incorporating silicon atoms into the molecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/42—Introducing metal atoms or metal-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/04—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L15/00—Compositions of rubber derivatives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L15/00—Compositions of rubber derivatives
- C08L15/02—Rubber derivatives containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L7/00—Compositions of natural rubber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L9/00—Compositions of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L9/00—Compositions of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
- C08L9/06—Copolymers with styrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2312/00—Crosslinking
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/80—Technologies aiming to reduce greenhouse gasses emissions common to all road transportation technologies
- Y02T10/86—Optimisation of rolling resistance, e.g. weight reduction
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Tires In General (AREA)
Abstract
[과제] 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물 중의 필러의 분산 상태가 물성 향상을 위해서는 이상적이고, 또한 내마모성 및 인장 강도 등의 기계 강도 등이 우수한 가교물이 얻어지는 고무 조성물 및 그 가교물, 그리고, 구름 저항 성능이 향상되고, 조종 안정성의 향상을 달성할 수 있는 그 조성물 또는 그 가교물을 일부에 사용한 타이어를 제공한다.
[해결 수단] 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물에서 유래하는 관능기를 갖는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 를 0.1 ∼ 50 질량부, 및 필러 (C) 를 20 ∼ 200 질량부 함유하는 고무 조성물이며, 상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가, 하기 (i) ∼ (iii);(i) 중량 평균 분자량 (Mw) 이 15,000 ∼ 120,000, (ii) 비닐 함량이 70 몰% 이하, (iii) 변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수가 1 ∼ 30 개, 를 만족하는, 고무 조성물.
[해결 수단] 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물에서 유래하는 관능기를 갖는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 를 0.1 ∼ 50 질량부, 및 필러 (C) 를 20 ∼ 200 질량부 함유하는 고무 조성물이며, 상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가, 하기 (i) ∼ (iii);(i) 중량 평균 분자량 (Mw) 이 15,000 ∼ 120,000, (ii) 비닐 함량이 70 몰% 이하, (iii) 변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수가 1 ∼ 30 개, 를 만족하는, 고무 조성물.
Description
본 발명은 고무 조성물에 관한 것이다.
종래부터, 천연 고무나 스티렌부타디엔 고무 등의 고무 성분에 대하여 실리카나 카본 블랙 등의 필러를 배합함으로써 기계 강도를 향상시킨 고무 조성물이, 내마모성이나 기계 강도를 필요로 하는 타이어 용도 등에 널리 사용되고 있다. 이 필러가 배합된 고무 조성물의 가교물 중의 필러의 분산 상태가, 그 가교물의 물성 (예를 들어, 기계 물성, 내마모성 및 구름 저항) 에 영향을 미치고 있을 가능성이 지적되고 있다. 그러나, 이 필러를 배합한 고무 조성물은, 고무와 필러의 친화성은 반드시 높은 것은 아니기 때문에, 또 필러끼리에서 상호 작용이 발생하기 때문에, 필러의 분산성이 충분하지 않은 경우, 가교물의 물성의 향상을 위한 이상적인 분산 상태가 아닌 경우가 있다.
고무 조성물 중의 필러 분산성을 향상시키는 수단으로서, 관능기를 갖는 액상 고무를 사용하는 방법이 여러 가지 검토되어 있다 (예를 들어 특허문헌 1 및 2 참조.).
그러나, 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물의 물성에는, 종래, 양립하여 향상되는 것이 곤란하다고 여겨지는 물성 (예를 들어, 내마모성의 향상과 구름 저항의 향상) 이 있고, 종래 기술에서는 아직도 개선의 여지가 있었다.
또, 이 물성의 향상에는 그 가교물 중의 필러의 분산 상태가 관여할 가능성이 있지만, 예를 들어, 고무 조성물 중의 필러의 분산성 향상의 지표가 되는 페인 효과의 저감을 충분히 달성한다는 시점에서는, 종래의 기술에서는 아직도 개선의 여지가 있었다.
본 발명은, 상기의 실정을 감안하여 이루어진 것이며, 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물 중의 필러의 분산 상태가 물성 향상을 위해서는 이상적이고, 또한 내마모성 및 인장 강도 등의 기계 강도 등이 우수한 가교물이 얻어지는 고무 조성물 및 그 가교물, 그리고, 구름 저항 성능이 향상되고, 조종 안정성의 향상을 달성할 수 있는 그 조성물 또는 그 가교물을 일부에 사용한 타이어를 제공한다.
본 발명자들이, 예의 검토를 실시한 결과, 특정한 변성 액상 디엔계 고무 등을 고무 조성물에 함유시킴으로써, 그 고무 조성물로부터 얻어진 가교물에서는 필러의 분산 상태가 물성 향상을 위해서는 이상적이고, 또한, 인장 강도 등의 기계 강도, 내마모성 등이 우수하고, 또 그 조성물 또는 그 가교물을 일부에 사용한 타이어는 조종 안정성, 구름 저항 성능이 향상되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 이하 [1] ∼ [7] 에 관한 것이다.
[1] 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물에서 유래하는 관능기를 갖는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 를 0.1 ∼ 50 질량부, 및 필러 (C) 를 20 ∼ 200 질량부 함유하는 고무 조성물이며,
상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가, 하기 (i) ∼ (iii)
(i) 중량 평균 분자량 (Mw) 이 15,000 ∼ 120,000,
(ii) 비닐 함량이 70 몰% 이하,
(iii) 변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수가 1 ∼ 30 개, 를 만족하는, 고무 조성물.
[화학식 1]
(식 (1) 중, R1 은 탄소수 1 내지 6 의 2 가의 알킬렌기이고, R2, R3 및 R4 는 각각 독립적으로, 메톡시기, 에톡시기, 페녹시기, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기를 나타낸다. 단, R2, R3 및 R4 중 적어도 1 개는 메톡시기, 에톡시기 또는 페녹시기이다.)
[2] 상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 38 ℃ 에 있어서의 용융 점도가 1 ∼ 4,000 ㎩·s 인, [1] 에 기재된 고무 조성물.
[3] 상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가 이소프렌 및/또는 부타디엔의 단량체 단위를 포함하는 중합체인, [1] 또는 [2] 에 기재된 고무 조성물.
[4] 상기 고형 고무 (A) 가, 천연 고무, 스티렌부타디엔 고무, 부타디엔 고무 및 이소프렌 고무에서 선택되는 1 종 이상인, [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 고무 조성물.
[5] 상기 필러 (C) 가, 카본 블랙 및 실리카에서 선택되는 적어도 1 종인, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 고무 조성물.
[6] [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 고무 조성물을 가교시킨 가교물.
[7] [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 고무 조성물 또는 [6] 에 기재된 가교물을 적어도 일부에 사용한 타이어.
본 발명에 의하면, 그 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물에서는, 필러의 분산 상태가 물성 향상에는 이상적이고, 또한 인장 강도 등의 기계 강도, 내마모성 등이 우수한 가교물이 얻어지고, 그 조성물 또는 가교물로부터는, 예를 들어, 조종 안정성, 구름 저항 성능이 향상된 타이어가 얻어진다.
[고형 고무 (A)]
본 발명의 고무 조성물에서 사용하는 고형 고무 (A) 란, 20 ℃ 에 있어서 고형상 (固形狀) 으로 취급할 수 있는 고무를 말하며, 고형 고무 (A) 의 100 ℃ 에 있어서의 무니 점도 ML1+4 는 통상적으로 20 ∼ 200 의 범위에 있다. 상기 고형 고무 (A) 로는, 예를 들어, 천연 고무, 스티렌부타디엔 고무 (이하, 「SBR」 이라고도 한다.), 부타디엔 고무, 이소프렌 고무, 부틸 고무, 할로겐화 부틸 고무, 에틸렌프로필렌디엔 고무, 부타디엔아크릴로니트릴 공중합체 고무, 클로로프렌 고무, 아크릴 고무, 불소 고무, 및 우레탄 고무 등을 들 수 있다. 이들 고형 고무 (A) 중에서도, 천연 고무, SBR, 부타디엔 고무, 및 이소프렌 고무가 바람직하고, 천연 고무, 및 SBR 이 더욱 바람직하다. 이들 고형 고무 (A) 는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
상기 고형 고무 (A) 의 수 평균 분자량 (Mn) 은, 얻어지는 고무 조성물 및 가교물에 있어서의 특성을 충분히 발휘시키는 관점에서, 80,000 이상인 것이 바람직하고, 100,000 ∼ 3,000,000 의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서의 수 평균 분자량이란, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량이다.
상기 천연 고무로는, 예를 들어 SMR (말레이시아산 TSR), SIR (인도네시아산 TSR), STR (태국산 TSR) 등의 TSR (Technically Specified Rubber) 이나 RSS (Ribbed Smoked Sheet) 등의 타이어 공업에 있어서 일반적으로 사용되는 천연 고무, 고순도 천연 고무, 에폭시화 천연 고무, 수산기화 천연 고무, 수소 첨가 천연 고무, 그래프트화 천연 고무 등의 개질 천연 고무를 들 수 있다. 그 중에서도, 품질의 편차가 적은 점, 및 입수 용이성의 점에서, SMR20, STR20 이나 RSS#3 이 바람직하다. 이들 천연 고무는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
SBR 로는, 타이어 용도에 사용되는 일반적인 것을 사용할 수 있지만, 구체적으로는, 스티렌 함량이 0.1 ∼ 70 질량% 인 것이 바람직하고, 5 ∼ 50 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 35 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 또, 비닐 함량이 0.1 ∼ 60 질량% 인 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 55 질량% 인 것이 보다 바람직하다.
SBR 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 100,000 ∼ 2,500,000 인 것이 바람직하고, 150,000 ∼ 2,000,000 인 것이 보다 바람직하고, 200,000 ∼ 1,500,000 인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 범위인 경우, 가공성과 기계 강도를 양립할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서의 중량 평균 분자량이란, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 의 측정으로부터 구한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이다.
본 발명에 있어서 사용하는 SBR 의 시차 열 분석법에 의해 구한 유리 전이 온도는, ―95 ∼ 0 ℃ 인 것이 바람직하고, ―95 ∼ ―5 ℃ 인 것이 보다 바람직하다. 유리 전이 온도를 상기 범위로 함으로써, SBR 의 점도를 취급이 용이한 범위로 할 수 있다.
본 발명에 있어서 사용할 수 있는 SBR 은, 스티렌과 부타디엔을 공중합하여 얻어진다. SBR 의 제조 방법에 대해서 특별히 제한은 없고, 유화 중합법, 용액 중합법, 기상 중합법, 벌크 중합법 어느 것도 이용할 수 있지만, 이들 제조 방법 중에서도, 유화 중합법, 용액 중합법이 바람직하다.
유화 중합 스티렌부타디엔 고무 (이하, E-SBR 이라고도 한다.) 는, 공지 또는 공지에 준하는 통상적인 유화 중합법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들어, 소정량의 스티렌 및 부타디엔 단량체를 유화제의 존재하에 유화 분산하고, 라디칼 중합 개시제에 의해 유화 중합함으로써 얻어진다.
용액 중합 스티렌부타디엔 고무 (이하, S-SBR 이라고도 한다.) 는, 통상적인 용액 중합법에 의해 제조할 수 있고, 예를 들어, 용매 중에서 아니온 중합 가능한 활성 금속을 사용하여, 원하는 바에 따라 극성 화합물의 존재하, 스티렌 및 부타디엔을 중합한다.
용매로는, 예를 들어, n-부탄, n-펜탄, 이소펜탄, n-헥산, n-헵탄, 이소옥탄 등의 지방족 탄화수소;시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로펜탄 등의 지환식 탄화수소;벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 용매는 통상적으로, 단량체 농도가 1 ∼ 50 질량% 가 되는 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.
아니온 중합 가능한 활성 금속으로는, 예를 들어, 리튬, 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속;베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨 등의 알칼리 토금속;란탄, 네오디뮴 등의 란타노이드계 희토류 금속 등을 들 수 있다. 이들 활성 금속 중에서도 알칼리 금속 및 알칼리 토금속이 바람직하고, 알칼리 금속이 보다 바람직하다. 또한 알칼리 금속 중에서도, 유기 알칼리 금속 화합물이 보다 바람직하게 사용된다.
유기 알칼리 금속 화합물로는, 예를 들어, n-부틸리튬, sec-부틸리튬, t-부틸리튬, 헥실리튬, 페닐리튬, 스틸벤리튬 등의 유기 모노리튬 화합물;디리티오메탄, 1,4-디리티오부탄, 1,4-디리티오-2-에틸시클로헥산, 1,3,5-트리리티오벤젠 등의 다관능성 유기 리튬 화합물;나트륨나프탈렌, 칼륨나프탈렌 등을 들 수 있다. 그 중에서도 유기 리튬 화합물이 바람직하고, 유기 모노리튬 화합물이 보다 바람직하다. 유기 알칼리 금속 화합물의 사용량은, 요구되는 S-SBR 의 분자량에 따라 적절히 결정된다. 유기 알칼리 금속 화합물은, 디부틸아민, 디헥실아민, 디벤질아민 등의 제 2 급 아민과 반응시켜, 유기 알칼리 금속 아미드로서 사용할 수도 있다.
극성 화합물로는, 아니온 중합에 있어서, 반응을 실활시키지 않고, 부타디엔 부위의 마이크로 구조나 스티렌의 공중합체 사슬 중의 분포를 조정하기 위해서 통상적으로 사용되는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 디부틸에테르, 테트라하이드로푸란, 에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 에테르 화합물;테트라메틸에틸렌디아민, 트리메틸아민 등의 3 급 아민;알칼리 금속 알콕시드, 포스핀 화합물 등을 들 수 있다.
중합 반응의 온도는, 통상적으로 ―80 ∼ 150 ℃, 바람직하게는 0 ∼ 100 ℃, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 90 ℃ 의 범위이다. 중합 양식은, 회분식 혹은 연속식 중 어느 것이어도 된다. 또, 스티렌 및 부타디엔의 랜덤 공중합성을 향상시키기 위해서, 중합계 중의 스티렌 및 부타디엔의 조성비가 특정 범위가 되도록, 반응액 중에 스티렌 및 부타디엔을 연속적 혹은 단속적으로 공급하는 것이 바람직하다.
중합 반응은, 중합 정지제로서 메탄올, 이소프로판올 등의 알코올을 첨가하여 정지할 수 있다. 중합 반응 정지 후의 중합 용액은, 직접 건조나 스팀 스트립핑 등에 의해 용매를 분리하여, 목적으로 하는 S-SBR 을 회수할 수 있다. 또한, 용매를 제거하기 전에, 미리 중합 용액과 신전유를 혼합하고, 유전 (油展) 고무로서 회수해도 된다.
상기 SBR 로는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위이면, SBR 에 관능기가 도입된 변성 SBR 을 사용해도 된다. 관능기로는, 예를 들어 아미노기, 알콕시실릴기, 수산기, 에폭시기, 카르복실기 등을 들 수 있다.
변성 SBR 의 제조 방법으로는, 예를 들어, 중합 정지제를 첨가하기 전에, 중합 활성 말단과 반응할 수 있는 4염화주석, 테트라클로로실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디에톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 테트라글리시딜-1,3-비스아미노메틸시클로헥산, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 등의 커플링제나, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, N-비닐피롤리돈 등의 중합 말단 변성제, 또는 일본 공개특허공보 2011-132298호에 기재된 그 밖의 변성제를 첨가하는 방법을 들 수 있다. 이 변성 SBR 에 있어서, 관능기가 도입되는 중합체의 위치에 대해서는 중합 말단이어도 되고, 중합체 사슬의 측사슬이어도 된다.
상기 부타디엔 고무로는, 예를 들어, 4할로겐화 티탄-트리알킬알루미늄계, 디에틸알루미늄클로라이드-코발트계, 트리알킬알루미늄-3불화붕소-니켈계, 디에틸알루미늄클로라이드-니켈계 등의 치글러계 촉매;트리에틸알루미늄-유기산 네오디뮴-루이스산계 등의 란타노이드계 희토류 금속 촉매, 또는 S-SBR 과 마찬가지로 유기 알칼리 금속 화합물을 사용하여 중합된, 시판되는 부타디엔 고무를 사용할 수 있다. 치글러계 촉매에 의해 중합된 부타디엔 고무가, 시스체 함량이 높아 바람직하다. 또, 란타노이드계 희토류 금속 촉매를 사용하여 얻어지는 초고시스체 함량의 부타디엔 고무를 사용해도 된다.
부타디엔 고무의 비닐 함량은, 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 바람직하게는 40 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다. 비닐 함량이 50 질량% 를 초과하면, 구름 저항 성능이 악화되는 경향이 있다. 비닐 함량의 하한은 특별히 한정되지 않는다. 또 유리 전이 온도는 비닐 함량에 따라 변화하지만, ―40 ℃ 이하인 것이 바람직하고, ―50 ℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.
부타디엔 고무의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 90,000 ∼ 2,000,000 인 것이 바람직하고, 150,000 ∼ 1,500,000 인 것이 보다 바람직하다. Mw 가 상기 범위에 있는 경우, 가공성과 기계 강도가 양호해진다.
상기 부타디엔 고무는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위이면, 그 일부가 다관능형 변성제, 예를 들어 4염화주석, 4염화규소, 에폭시기를 분자 내에 갖는 알콕시실란, 또는 아미노기 함유 알콕시실란과 같은 변성제를 사용함으로써 분기 구조 또는 극성 관능기를 가지고 있어도 된다.
상기 이소프렌 고무로는, 예를 들어, 4할로겐화 티탄-트리알킬알루미늄계, 디에틸알루미늄클로라이드-코발트계, 트리알킬알루미늄-3불화붕소-니켈계, 디에틸알루미늄클로라이드-니켈계 등의 치글러계 촉매;트리에틸알루미늄-유기산 네오디뮴-루이스산계 등의 란타노이드계 희토류 금속 촉매, 또는 S-SBR 과 마찬가지로 유기 알칼리 금속 화합물을 사용하여 중합된, 시판되는 이소프렌 고무를 사용할 수 있다. 치글러계 촉매에 의해 중합된 이소프렌 고무가, 시스체 함량이 높아 바람직하다. 또, 란타노이드계 희토류 금속 촉매를 사용하여 얻어지는 초고시스체 함량의 이소프렌 고무를 사용해도 된다.
이소프렌 고무의 비닐 함량은 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 바람직하게는 40 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다. 비닐 함량이 50 질량% 를 초과하면, 구름 저항 성능이 악화되는 경향이 있다. 비닐 함량의 하한은 특별히 한정되지 않는다. 또 유리 전이 온도는 비닐 함량에 따라 변화하지만, ―20 ℃ 이하인 것이 바람직하고, ―30 ℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.
이소프렌 고무의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 90,000 ∼ 2,000,000 인 것이 바람직하고, 150,000 ∼ 1,500,000 인 것이 보다 바람직하다. Mw 가 상기 범위에 있는 경우, 가공성과 기계 강도가 양호해진다.
상기 이소프렌 고무는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위이면, 그 일부가 다관능형 변성제, 예를 들어 4염화주석, 4염화규소, 에폭시기를 분자 내에 갖는 알콕시실란, 또는 아미노기 함유 알콕시실란과 같은 변성제를 사용함으로써 분기 구조 또는 극성 관능기를 가지고 있어도 된다.
[변성 액상 디엔계 고무 (B)]
본 발명의 고무 조성물에서 사용하는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 란, 액상의 중합체이고, 중량 평균 분자량 (Mw) 이 15,000 ∼ 120,000 의 범위, 비닐 함량이 70 몰% 이하이고, 전술한 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물에서 유래하는 관능기를 갖고, 그 관능기의 변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수가 1 ∼ 30 개의 범위에 있는 것을 말한다. 본 발명의 고무 조성물에 있어서, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가 포함됨으로써, 고무 조성물 중의 필러 (C) 의 분산 상태가, 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물의 물성 발현을 위해서 이상적이고, 예를 들어, 고무 조성물 중의 필러 (C) 의 분산성 향상되고, 그 고무 조성물의 가교물의 페인 효과도 충분히 저감되는 경우가 있다. 또, 그 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물의, 내마모성 등의 기계 강도가 우수하다. 또한, 예를 들어 그 가교물을 타이어 등으로서 사용한 경우에는, 조종 안정성이 향상되고, 구름 저항 성능도 향상된다. 그 상세한 메커니즘은 불분명하지만, 고무 조성물에 있어서 변성 액상 디엔계 고무 (B) 는 후술하는 필러 (C) 와의 반응성이 높기 때문에 필러 (C) 와 결합하기 쉽고, 필러 (C) 의 응집을 저감하고, 고무 조성물 중의 필러 (C) 의 분산 상태가, 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물의 물성 발현을 위해서 이상적인 것으로 추정되며, 예를 들어 고무 조성물 중의 필러 (C) 의 분산성이 향상되고, 그 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물의 페인 효과를 충분히 저감하는 것으로 추정된다. 또 고형 고무에 변성 액상 디엔계 고무 (B) 에 대한 뒤엉킴이 크기 때문에, 그 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물의, 내마모성 등의 기계 강도가 우수한 것으로 추정된다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 원료가 되는 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 는, 그 중합체를 구성하는 단량체 단위로서 공액 디엔 단위를 포함한다. 공액 디엔으로는, 예를 들어, 부타디엔, 이소프렌;2,3-디메틸부타디엔, 2-페닐부타디엔, 1,3-펜타디엔, 2-메틸-1,3-펜타디엔, 1,3-헥사디엔, 1,3-옥타디엔, 1,3-시클로헥사디엔, 2-메틸-1,3-옥타디엔, 1,3,7-옥타트리엔, 미르센, 및 클로로프렌 등의 부타디엔 및 이소프렌 이외의 공액 디엔 (b1) 을 들 수 있다. 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 에 포함되는 공액 디엔 단위로는, 부타디엔 및/또는 이소프렌의 단량체 단위가 포함되어 있는 것이 바람직하다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 원료가 되는 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 는, 그 중합체를 구성하는 전체 단량체 단위 중, 50 질량% 이상이 부타디엔 및/또는 이소프렌의 단량체 단위인 것이 바람직한 일 양태이다. 부타디엔 단위 및 이소프렌 단위의 합계 함유량은, 액상 디엔계 고무 (B') 의 전체 단량체 단위에 대하여 60 ∼ 100 질량% 인 것이 바람직하고, 70 ∼ 100 질량% 인 것이 보다 바람직하다.
상기 액상 디엔계 고무 (B') 에 포함될 수 있는 부타디엔 단위 및 이소프렌 단위 이외의 다른 단량체 단위로는, 전술한 부타디엔 및 이소프렌 이외의 공액 디엔 (b1) 단위, 방향족 비닐 화합물 (b2) 단위 등을 들 수 있다.
방향족 비닐 화합물 (b2) 로는, 예를 들어, 스티렌, α-메틸스티렌, 2-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 4-프로필스티렌, 4-t-부틸스티렌, 4-시클로헥실스티렌, 4-도데실스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 2,4-디이소프로필스티렌, 2,4,6-트리메틸스티렌, 2-에틸-4-벤질스티렌, 4-(페닐부틸)스티렌, 1-비닐나프탈렌, 2-비닐나프탈렌, 비닐안트라센, N,N-디에틸-4-아미노에틸스티렌, 비닐피리딘, 4-메톡시 스티렌, 모노클로로스티렌, 디클로로스티렌, 및 디비닐벤젠 등을 들 수 있다. 이들 방향족 비닐 화합물 중에서는, 스티렌, α-메틸스티렌, 및 4-메틸스티렌이 바람직하다.
상기 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 에 있어서의, 부타디엔 단위 및 이소프렌 단위 이외의 다른 단량체 단위의 함유량은, 50 질량% 가 바람직하고, 40 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 비닐 방향족 화합물 (b2) 단위가 상기 범위 이하이면, 고무 조성물의 가공성이 향상되는 경향이 있다.
상기 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 로는, 공액 디엔 및 필요에 따라 포함되는 공액 디엔 이외의 다른 단량체를, 예를 들어, 유화 중합법, 또는 용액 중합법 등에 의해 중합하여 얻어지는 중합체가 바람직하다.
상기 유화 중합법으로는, 공지 또는 공지에 준하는 방법을 적용할 수 있다. 예를 들어, 소정량의 공액 디엔을 포함하는 단량체를 유화제의 존재하에 유화 분산하고, 라디칼 중합 개시제에 의해 유화 중합한다.
유화제로는, 예를 들어 탄소수 10 이상의 장사슬 지방산 염 및 로진산 염 등을 들 수 있다. 장사슬 지방산 염으로는, 예를 들어, 카프르산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 올레산, 스테아르산 등의 지방산의 칼륨 염 또는 나트륨 염 등을 들 수 있다.
분산제로는 통상적으로, 물이 사용되고, 중합시의 안정성이 저해되지 않는 범위에서, 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용매를 포함하고 있어도 된다.
라디칼 중합 개시제로는, 예를 들어 과황산암모늄이나 과황산칼륨과 같은 과황산염, 유기 과산화물, 과산화수소 등을 들 수 있다.
얻어지는 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 의 분자량을 조정하기 위해서, 연쇄 이동제를 사용해도 된다. 연쇄 이동제로는, 예를 들어, t-도데실메르캅탄, n-도데실메르캅탄 등의 메르캅탄류;4염화탄소, 티오글리콜산, 디테르펜, 터피놀렌, γ-테르피넨, α-메틸스티렌 다이머 등을 들 수 있다.
유화 중합의 온도는, 사용하는 라디칼 중합 개시제의 종류 등에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 통상적으로 0 ∼ 100 ℃ 의 범위, 바람직하게는 0 ∼ 60 ℃ 의 범위이다. 중합 양식은, 연속 중합, 회분 중합 중 어느 것이어도 된다.
중합 반응은, 중합 정지제의 첨가에 의해 정지할 수 있다. 중합 정지제로는, 예를 들어, 이소프로필하이드록실아민, 디에틸하이드록실아민, 하이드록실아민 등의 아민 화합물, 하이드로퀴논이나 벤조퀴논 등의 퀴논계 화합물, 아질산나트륨 등을 들 수 있다.
중합 반응 정지 후, 필요에 따라 노화 방지제를 첨가해도 된다. 중합 반응 정지 후, 얻어진 라텍스로부터 필요에 따라 미반응 단량체를 제거하고, 이어서, 염화나트륨, 염화칼슘, 염화칼륨 등의 염을 응고제로 하고, 필요에 따라 질산, 황산 등의 산을 첨가하여 응고계의 pH 를 소정의 값으로 조정하면서, 상기 액상 디엔계 고무 (B') 를 응고시킨 후, 분산 용매를 분리함으로써 중합체를 회수한다. 이어서 물 세정, 및 탈수 후, 건조시킴으로써, 상기 액상 디엔계 고무 (B') 가 얻어진다. 또한, 응고시에, 필요에 따라 미리 라텍스와 유화 분산액으로 한 신전유를 혼합하고, 유전한 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 로서 회수해도 된다.
상기 용액 중합법으로는, 공지 또는 공지에 준하는 방법을 적용할 수 있다. 예를 들어, 용매 중에서, 치글러계 촉매, 메탈로센계 촉매, 아니온 중합 가능한 활성 금속 또는 활성 금속 화합물을 사용하여, 필요에 따라 극성 화합물의 존재하에서, 공액 디엔을 포함하는 단량체를 중합한다.
용매로는, 예를 들어, n-부탄, n-펜탄, 이소펜탄, n-헥산, n-헵탄, 이소옥탄 등의 지방족 탄화수소;시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로펜탄 등의 지환식 탄화수소;벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 등을 들 수 있다.
아니온 중합 가능한 활성 금속으로는, 예를 들어, 리튬, 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속;베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨 등의 알칼리 토금속;란탄, 네오디뮴 등의 란타노이드계 희토류 금속 등을 들 수 있다. 아니온 중합 가능한 활성 금속 중에서도 알칼리 금속 및 알칼리 토금속이 바람직하고, 알칼리 금속이 보다 바람직하다.
아니온 중합 가능한 활성 금속 화합물로는, 유기 알칼리 금속 화합물이 바람직하다. 유기 알칼리 금속 화합물로는, 예를 들어, 메틸리튬, 에틸리튬, n-부틸리튬, sec-부틸리튬, t-부틸리튬, 헥실리튬, 페닐리튬, 스틸벤리튬 등의 유기 모노리튬 화합물;디리티오메탄, 디리티오나프탈렌, 1,4-디리티오부탄, 1,4-디리티오-2-에틸시클로헥산, 1,3,5-트리리티오벤젠 등의 다관능성 유기 리튬 화합물;나트륨나프탈렌, 칼륨나프탈렌 등을 들 수 있다. 이들 유기 알칼리 금속 화합물 중에서도 유기 리튬 화합물이 바람직하고, 유기 모노리튬 화합물이 보다 바람직하다.
유기 알칼리 금속 화합물의 사용량은, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 및 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 용융 점도, 분자량 등에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 공액 디엔을 포함하는 전체 단량체 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.01 ∼ 3 질량부의 양으로 사용된다.
상기 유기 알칼리 금속 화합물은, 디부틸아민, 디헥실아민, 디벤질아민 등의 제 2 급 아민과 반응시켜, 유기 알칼리 금속 아미드로서 사용할 수도 있다.
극성 화합물은, 아니온 중합에 있어서, 통상적으로, 반응을 실활시키지 않고, 공액 디엔 부위의 마이크로 구조를 조정하기 위해서 사용된다. 극성 화합물로는, 예를 들어, 디부틸에테르, 테트라하이드로푸란, 에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 에테르 화합물;테트라메틸에틸렌디아민, 트리메틸아민 등의 3 급 아민;알칼리 금속 알콕시드, 포스핀 화합물 등을 들 수 있다. 극성 화합물은, 유기 알칼리 금속 화합물에 대하여, 통상적으로 0.01 ∼ 1000 몰의 양으로 사용된다.
용액 중합의 온도는, 통상적으로 ―80 ∼ 150 ℃ 의 범위, 바람직하게는 0 ∼ 100 ℃ 의 범위, 보다 바람직하게는 10 ∼ 90 ℃ 의 범위이다. 중합 양식은 회분식 혹은 연속식 중 어느 것이어도 된다.
중합 반응은, 중합 정지제의 첨가에 의해 정지할 수 있다. 중합 정지제로는, 예를 들어, 메탄올, 이소프로판올 등의 알코올을 들 수 있다. 얻어진 중합 반응액을 메탄올 등의 빈용매에 부어, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 를 석출시키거나, 중합 반응액을 물로 세정하고, 분리 후, 건조시킴으로써 상기 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 를 단리할 수 있다.
상기 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 의 제조 방법으로는, 상기 방법 중에서도, 용액 중합법이 바람직하다.
이와 같이 하여 얻어진 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 는, 그대로 후술하는 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물에서 유래하는 관능기에 의한 변성이 실시되어도 되지만, 그 액상 디엔계 고무 중에 포함되는 불포화 결합의 적어도 일부를 수소 첨가한 후에 변성이 실시되어도 된다.
상기 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 는 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물 (이하, 실란 화합물 (1) 이라고도 칭한다.) 에서 유래하는 관능기에 의해 변성되고, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 로서 사용된다.
[화학식 2]
상기 식 (1) 중, R1 은 탄소수 1 내지 6 의 2 가의 알킬렌기이다. 2 가의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기로는, 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기를 들 수 있다. R2, R3 및 R4 는 각각 독립적으로, 메톡시기, 에톡시기, 페녹시기, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기를 나타낸다. 단, R2, R3 및 R4 중 적어도 1 개는 메톡시기, 에톡시기 또는 페녹시기이다.
상기 실란 화합물 (1) 로는, 예를 들어, 메르캅토메틸렌메틸디에톡시실란, 메르캅토메틸렌트리에톡시실란, 2-메르캅토에틸트리메톡시실란, 2-메르캅토에틸트리에톡시실란, 2-메르캅토에틸메톡시디메틸실란, 2-메르캅토에틸에톡시디메틸실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필디메톡시메틸실란, 3-메르캅토프로필디에톡시메틸실란, 3-메르캅토프로필디메톡시에틸실란, 3-메르캅토프로필디에톡시에틸실란, 3-메르캅토프로필메톡시디메틸실란, 3-메르캅토프로필에톡시디메틸실란 등을 들 수 있다. 이들 실란 화합물은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
실란 화합물 (1) 의 메르캅토기 (-SH) 가, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 에 포함되는 탄소-탄소 불포화 결합에 라디칼 부가 반응함으로써, 실란 화합물 (1) 에서 유래하는 관능기, 구체적으로는 하기 식 (2) 로 나타내는 부분 구조를 관능기로서 갖는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가 얻어진다.
[화학식 3]
상기 식 (2) 중의 R1, R2, R3 및 R4 의 정의 및 구체예 등은, 식 (2) 중의 R1, R2, R3 및 R4 의 정의 및 구체예 등과 동일하다.
실란 화합물 (1) 에서 유래하는 관능기의 변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수는 1 ∼ 30 개이고, 1 ∼ 25 개가 바람직하고, 1 ∼ 20 개가 보다 바람직하다. 평균 관능기 수가 1 미만인 경우에는, 필러 (C) 와의 친화성이 낮고, 고무 조성물 중의 필러 분산성을 개선할 수 없고, 그 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물에서는, 원하는 물성 향상이 없는 경우, 예를 들어, 페인 효과의 저감이 충분히 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편 평균 관능기 수가 30 을 초과하는 경우에는, 그 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물이어도 원하는 물성 향상이 없이 악화되는 경향, 예를 들어 페인 효과의 저감은 보이지 않고, 또 내마모성도 악화되는 경향이 있다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수는, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 관능기의 당량 (g/eq) 과 스티렌 환산의 수 평균 분자량 Mn 으로부터 구할 수 있다.
(1 분자당 평균 관능기 수) = [(수 평균 분자량 Mn) / (스티렌 단위의 분자량) × (공액 디엔 및 필요에 따라 포함되는 공액 디엔 이외의 다른 단량체 단위의 평균 분자량)] / (관능기의 당량)
또한, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 관능기의 당량은, 관능기 1 개당 결합하고 있는 부타디엔 및 필요에 따라 포함되는 부타디엔 이외의 다른 단량체의 질량을 의미한다. 관능기의 당량은, 1H-NMR 또는 13C-NMR 을 사용하여 관능기 유래의 피크와 중합체 주사슬에서 유래하는 피크의 면적비로부터 산출할 수 있다. 또한, 관능기 유래의 피크란, 알콕시기 유래의 피크를 가리킨다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 에 있어서의 실란 화합물 (1) 의 부가량은, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 100 질량부에 대하여 1 ∼ 60 질량부가 바람직하고, 1 ∼ 50 질량부가 보다 바람직하고, 1 ∼ 40 질량부가 더욱 바람직하다. 부가된 변성 화합물량이 60 질량부보다 많은 경우에는, 필러 (C) 에 대한 변성 액상 디엔계 고무의 반응성이 부족하고, 필러 (C) 의 분산성 효과가 부족하고, 얻어지는 가교물의 원하는 물성 향상이 없는 경향, 예를 들어, 페인 효과가 충분히 작아지지 않는 경향, 또 내마모성도 저하되는 경향이 있다. 1 질량부보다 낮은 경우에는, 필러 (C) 의 분산성 효과가 부족하고, 필러 (C) 의 분산 상태가 얻어지는 가교물의 물성 발현을 위해서는 이상적으로 되지 않는 경향, 예를 들어 페인 효과의 저감 효과가 충분히 얻어지지 않는 경향이 있다. 또한, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 중에 부가된 실란 화합물 (1) 의 부가량은, 예를 들어, 핵자기 공명 분광법 등의 각종 분석 기기를 사용하여 구할 수 있다.
실란 화합물 (1) 을, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 에 부가시키는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 액상 디엔계 고무 중에 실란 화합물 (1), 또한 필요에 따라 라디칼 촉매를 첨가하여, 유기 용매의 존재하 또는 비존재하에 가열하는 방법을 채용할 수 있다. 사용하는 라디칼 발생제에는 특별히 제한은 없고, 통상적으로 시판되고 있는 유기 과산화물, 아조계 화합물, 과산화수소 등을 사용할 수 있다.
상기 유기 과산화물로는, 예를 들어, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드, 3,3,5-트리메틸시클로헥사논퍼옥사이드, 메틸시클로헥사논퍼옥사이드, 아세틸아세톤퍼옥사이드, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필 벤젠하이드로퍼옥사이드, 파라멘탄하이드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸하이드로퍼옥사이드, 디t-부틸퍼옥사이드, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 비스(t-부틸퍼옥시이소프로필)벤젠, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, 2.5-헥사노일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 과산화숙신산, 과산화벤조일 및 그 치환체, 2,4-디클로로벤조일퍼옥사이드, 메타톨루오일퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, t-부틸-2-에틸헥사노에이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카보네이트, 디메톡시이소프로필퍼옥시카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시아세테이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시옥타노에이트, t-부틸퍼옥시3,3,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, t-부틸퍼옥시카보네이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, t-부틸퍼옥시이소부티레이트 등을 들 수 있다.
상기 아조계 화합물로는, 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-(2-이미다졸린-2-일)프로판), 2,2'-아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄), 2,2'-아조비스(2-메틸프로판), 2,2'-아조비스(2-하이드록시메틸프로피온니트릴), 4,4'-아조비스(4-시아노발레릭애시드), 디메틸2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2-시아노-2-프로필아조포름아미드, 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등을 들 수 있다.
상기 방법에서 사용되는 유기 용매로는, 일반적으로는 탄화수소계 용매, 할로겐화 탄화수소계 용매를 들 수 있다. 이들 유기 용매 중에서도, n-부탄, n-헥산, n-헵탄, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 탄화수소계 용매가 바람직하다.
또한, 상기 방법에 의해 변성 화합물을 부가하는 반응을 실시할 때에는, 부반응을 억제하는 관점 등에서 노화 방지제를 첨가해도 된다.
이 때에 사용하는 바람직한 노화 방지제로는, 예를 들어, 2,6-디t-부틸-4-메틸페놀 (BHT), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부티리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀) (AO-40), 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[3-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸 (AO-80), 2,4-비스[(옥틸티오)메틸]-6-메틸페놀 (Irganox1520L), 2,4-비스[(도데실티오)메틸]-6-메틸페놀 (Irganox1726), 2-[1-(2-하이드록시-3,5-디t-펜틸페닐)에틸]-4,6-디t-펜틸페닐아크릴레이트 (SumilizerGS), 2-t부틸-6-(3-t-부틸-2-하이드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐아크릴레이트 (SumilizerGM), 6-t-부틸-4-[3-(2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일옥시)프로필]-2-메틸페놀 (SumilizerGP), 아인산트리스(2,4-디t-부틸페닐) (Irgafos168), 디옥타데실3,3'-디티오비스프로피오네이트, 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, N-페닐-N'-(1,3-디메틸부틸)-p-페닐렌디아민 (녹락 6C), 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트 (LA-77Y), N,N-디옥타데실하이드록실아민 (Irgastab FS 042), 비스(4-t-옥틸페닐)아민 (Irganox5057) 등을 들 수 있다. 상기 노화 방지제는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
노화 방지제의 첨가량은, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 100 질량부에 대하여 0 ∼ 10 질량부가 바람직하고, 0 ∼ 5 질량부가 보다 바람직하다.
이 변성 액상 디엔계 고무 (B) 에 있어서, 관능기가 도입되는 위치에 대해서는 중합 말단이어도 되고, 중합체 사슬의 측사슬이어도 되지만, 복수의 관능기를 용이하게 도입할 수 있다는 관점에서, 중합 사슬의 측사슬인 것이 바람직하다. 또 상기 관능기는 1 종 단독으로 포함되어 있어도 되고 2 종 이상 포함되어 있어도 된다. 따라서, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 는, 변성 화합물 1 종에 의해 변성된 것이어도 되고, 또 2 종 이상의 변성 화합물로 변성되어 있어도 된다.
미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 와 실란 화합물 (1) 의 혼합 비율은, 예를 들어, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수가 원하는 값이 되도록 적절히 설정하면 되지만, 예를 들어, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 와 실란 화합물 (1) 의 질량비 (B')/(1) 가 0.3 ∼ 300 이 되도록 혼합하면 된다.
특정한 성상을 갖는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 를 제조하는 수법으로는, 실란 화합물 (1) 을 라디칼 부가하는 반응을 적절한 반응 온도에 있어서, 충분한 반응 시간으로 반응시키는 것이 유효하다. 예를 들어, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 에 실란 화합물 (1) 을 부가시키는 반응에 있어서의 온도는 10 ∼ 200 ℃ 가 바람직하고, 50 ℃ ∼ 180 ℃ 가 보다 바람직하다. 또 반응 시간은 1 ∼ 200 시간이 바람직하고, 1 ∼ 100 시간이 보다 바람직하고, 1 ∼ 50 시간이 더욱 바람직하다.
상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 38 ℃ 에서 측정한 용융 점도는, 1 ∼ 4,000 ㎩·s 가 바람직하고, 1 ∼ 3,500 ㎩·s 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3,000 ㎩·s 가 더욱 바람직하다. 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 용융 점도가 상기 범위 내이면, 얻어지는 고무 조성물의 유연성이 향상되기 때문에, 가공성이 향상된다. 또한, 본 발명에 있어서 액상 디엔계 고무 (B) 의 용융 점도는, 38 ℃ 에 있어서 브룩필드형 점도계에 의해 측정한 값이다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 15,000 ∼ 120,000 이며, 15,000 ∼ 100,000 이 바람직하고, 15,000 ∼ 80,000 이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서 액상 디엔계 고무 (B) 의 Mw 는, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 의 측정으로부터 구한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이다. 상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 Mw 가 상기 범위 내이면, 제조시의 공정 통과성이 우수하고, 경제성이 양호해진다. 또, 본 발명의 고무 조성물의 가공성이 양호해지고, 또 얻어지는 고무 조성물 중의 후술하는 필러 (C) 의 친화성이 향상되기 때문에, 고무 조성물을 제조할 때에 필러 (C) 의 근방에 존재하기 쉬워지고, 그 결과 고무 조성물 중의 필러 (C) 의 분산 상태가 얻어지는 가교물의 물성 발현을 위해서는 이상적이 되는 (예를 들어, 필러 (C) 의 분산성의 향상에 기여하는) 것으로 추정된다. 그 때문에, 경우에 따라서는, 그 가교물의 페인 효과가 충분히 작아지고, 가교물에서의 필러 (C) 의 분산성이 우수하다. 또, 그 변성 액상 고무 (B) 가 필러 (C) 의 근방에 존재하기 쉬워지는 결과, 내마모성이 우수한 가교물이 얻어진다. 이들로부터, 예를 들어, 그 가교물로 이루어지는 타이어 등은, 조종 안정성, 구름 저항 성능 등이 양호해진다. 본 발명에 있어서는, Mw 가 상이한 2 종 이상의 변성 액상 디엔계 고무 (B) 를 조합하여 사용해도 된다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.0 ∼ 20.0 이 바람직하고, 1.0 ∼ 15.0 이 보다 바람직하고, 1.0 ∼ 10.0 이 더욱 바람직하다. Mw/Mn 이 상기 범위 내이면, 얻어지는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 점도의 편차가 작고, 보다 바람직하다. 또한, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는, GPC 의 측정에 의해 구한 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw)/수 평균 분자량 (Mn) 의 비를 의미한다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 비닐 함량은 70 몰% 이하이고, 65 몰% 이하가 바람직하다. 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 비닐 함량은, 0.5 몰% 이상이 바람직하고, 1 몰% 이상이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서, 「비닐 함량」 이란, 변성 액상 디엔계 고무에 포함되는, 이소프렌 단위, 부타디엔 단위 및 이소프렌 단위, 부타디엔 단위 이외의 공액 디엔 (b1) 단위의 합계 100 몰% 중, 1,2-결합 또는 3,4-결합으로 결합을 하고 있는 공액 디엔 단위 (1,4-결합 이외로 결합을 하고 있는 공액 디엔 단위) 의 합계 몰% 를 의미한다. 비닐 함량은, 1H-NMR 을 사용하여 1,2-결합 또는 3,4-결합으로 결합을 하고 있는 공액 디엔 단위 유래의 피크와 1,4-결합으로 결합을 하고 있는 공액 디엔 단위에서 유래하는 피크의 면적비로부터 산출할 수 있다.
비닐 함량이 70 몰% 를 초과하면, 변성 액상 고무 (B) 와 고형 고무 (A) 의 상용성이 나빠지기 때문에, 필러 (C) 의 고무 조성물 중의 분산 상태가 얻어지는 가교물의 물성 발현을 위해서는 이상적이라고는 할 수 없고, 예를 들어 고무 조성물 중의 분산성이 악화되어 버리는 경우도 있어, 얻어지는 가교물의 페인 효과의 저감이 보이지 않는 경향이 있다. 또, 얻어지는 가교물의 내마모성도 악화되는 경향이 있다.
또한, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 비닐 함량은, 예를 들어, 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 를 제조할 때에 사용하는 용매의 종류, 필요에 따라 사용되는 극성 화합물, 중합 온도 등을 제어함으로써 원하는 값으로 할 수 있다.
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 유리 전이 온도 (Tg) 는, 이소프렌 단위, 부타디엔 단위 및 공액 디엔 (b1) 단위의 비닐 함량, 공액 디엔 (b1) 의 종류, 공액 디엔 이외의 단량체에서 유래하는 단위의 함량 등에 따라 변화할 수 있지만, ―150 ∼ 50 ℃ 가 바람직하고, ―130 ∼ 50 ℃ 가 보다 바람직하고, ―130 ∼ 30 ℃ 가 더욱 바람직하다. Tg 가 상기 범위이면, 예를 들어, 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물로 이루어지는 타이어의 구름 저항 성능이 양호해진다. 또 점도가 높아지는 것을 억제할 수 있어 취급이 용이해진다.
상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 는, 1 종 단독으로 사용되어도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 는, 그 제조에 사용하는 중합 촉매에서 유래하는 촉매 잔류물 양이, 금속 환산으로 0 ∼ 200 ppm 의 범위에 있는 것이 바람직하다. 예를 들어, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 원료가 되는 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 를 제조하기 위한 중합 촉매로서 유기 리튬 화합물 등의 유기 알칼리 금속을 사용한 경우에는, 촉매 잔류물 양의 기준이 되는 금속은, 리튬 등의 알칼리 금속이 된다. 촉매 잔류물 양이 상기 범위에 있음으로써, 가공 등 할 때에 택이 저하되지 않고, 또 본 발명의 고무 조성물로부터 얻어지는 가교물의 내열성, 타이어의 구름 저항 성능이 향상된다. 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 제조에 사용하는 중합 촉매에서 유래하는 촉매 잔류물 양으로는, 금속 환산으로, 보다 바람직하게는 0 ∼ 150 ppm, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 100 ppm 이다. 또한, 촉매 잔류물 양은, 예를 들어 편광 제만 원자 흡광 분광 광도계를 사용함으로써 측정할 수 있다.
액상 디엔계 고무의 촉매 잔류물 양을 이와 같은 특정한 양으로 하는 방법으로는, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 또는 원료가 되는 미변성의 액상 디엔계 고무 (B') 를 정제하고, 촉매 잔류물을 충분히 제거하는 방법 등을 들 수 있다. 정제하는 방법으로는, 물 혹은 온수, 또는 메탄올, 아세톤 등으로 대표되는 유기 용매 혹은 초임계 유체 이산화탄소에 의한 세정이 바람직하다. 세정 횟수로는, 경제적인 관점에서 1 ∼ 20 회가 바람직하고, 1 ∼ 10 회가 보다 바람직하다. 또, 세정 온도로는, 20 ∼ 100 ℃ 가 바람직하고, 40 ∼ 90 ℃ 가 보다 바람직하다. 또 중합 반응 전에, 중합의 저해를 실시하는 불순물을 증류나 흡착제에 의해 제거하고, 단량체의 순도를 높인 후에 중합을 실시하는 것에 의해서도, 필요한 중합 촉매량이 적어도 되기 때문에, 촉매 잔류물 양을 저감할 수 있다. 또, 상기와 동일한 관점에서, 본 발명의 고형 고무 (A), 변성 액상 디엔계 고무 (B) 및 필러 (C) 를 함유하는 고무 조성물 중의 촉매 잔류물 양이, 금속 환산으로 0 ∼ 200 ppm 인 것이 바람직하고, 0 ∼ 150 ppm 이 보다 바람직하고, 0 ∼ 100 ppm 이 더욱 바람직하다. 이 경우의 촉매 잔류물 양은 고형 고무 (A), 변성 액상 디엔계 고무 (B) 및/또는 그 고무 조성물 중에 포함되는 그 외 임의 성분의 제조에 사용하는 중합 촉매에서 유래하는 촉매 잔류물 양이어도 된다.
본 발명의 고무 조성물에 있어서, 고형 고무 (A) 100 질량부에 대한 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 함유량은, 0.1 ∼ 50 질량부이며, 0.1 ∼ 45 질량부가 바람직하고, 0.5 ∼ 40 질량부가 보다 바람직하고, 1 ∼ 40 질량부가 더욱 바람직하고, 2 ∼ 40 질량부가 보다 더 바람직하다. 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 함유량이 상기 범위 내이면, 고무 조성물 중에서의 필러 (C) 의 분산 상태가 이상적이 되고 (예를 들어, 얻어지는 가교물에서의 페인 효과의 저감 효과), 내마모성의 향상이 보이며, 예를 들어 타이어 등의 조종 안정성, 구름 저항 성능 등이 양호해진다.
[필러 (C)]
본 발명의 고무 조성물에서 사용하는 필러 (C) 로는, 예를 들어, 카본 블랙, 실리카, 클레이, 마이카, 탄산칼슘, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄, 황산바륨, 산화티탄, 유리 섬유, 섬유상 필러, 유리 벌룬 등의 무기 필러;수지 입자, 목분, 및 코르크 분말 등의 유기 필러 등을 들 수 있다. 이와 같은 필러가 고무 조성물에 포함됨으로써, 기계 강도, 내열성, 또는 내후성 등의 물성의 개선, 경도의 조정, 고무의 증량을 할 수 있다. 기계 강도의 향상 등의 물성의 개선 등의 관점에서는, 상기 필러 (C) 중에서도, 카본 블랙 및 실리카가 바람직하다.
상기 카본 블랙으로는, 예를 들어, 퍼니스 블랙, 채널 블랙, 서멀 블랙, 아세틸렌 블랙, 및 케첸 블랙 등을 들 수 있다. 가교 속도나 기계 강도 향상의 관점에서는, 이들 카본 블랙 중에서도, 퍼니스 블랙이 바람직하다. 이들 카본 블랙은, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
상기 카본 블랙의 평균 입경으로는, 분산성, 기계 강도, 경도 등을 향상시키는 관점에서 5 ∼ 100 ㎚ 가 바람직하고, 5 ∼ 80 ㎚ 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 70 ㎚ 가 더욱 바람직하다. 또한, 카본 블랙의 평균 입경은, 투과형 전자 현미경에 의해 입자의 직경을 측정하여 그 평균값을 산출함으로써 구할 수 있다.
상기 퍼니스 블랙의 시판품으로는, 예를 들어, 미츠비시 화학 주식회사 「다이아 블랙」, 토카이 카본 주식회사 제조 「시스트」 등을 들 수 있다. 아세틸렌 블랙의 시판품으로는, 예를 들어, 덴키 화학 공업 주식회사 제조 「덴카 블랙」 등을 들 수 있다. 케첸 블랙의 시판품으로는, 예를 들어, 라이온 주식회사 제조 「ECP600JD」 등을 들 수 있다.
상기 카본 블랙은, 고형 고무 (A) 에 대한 젖음성, 분산성 등을 향상시키는 관점에서, 질산, 황산, 염산 또는 이들의 혼합 산 등에 의한 산 처리나, 공기 존재하에서의 열 처리에 의한 표면 산화 처리를 실시해도 된다. 또, 본 발명의 고무 조성물 및 이 조성물로부터 얻어지는 가교물의 기계 강도 향상의 관점에서, 흑연화 촉매의 존재하에 2,000 ∼ 3,000 ℃ 에서 열 처리를 실시해도 된다. 또한, 흑연화 촉매로는, 붕소, 붕소 산화물 (예를 들어, B2O2, B2O3, B4O3, B4O5 등), 붕소옥소산 (예를 들어, 오르토 붕산, 붕산, 4붕산 등) 및 그 염, 붕소 탄화물 (예를 들어, B4C, B6C 등), 질화붕소 (BN), 그 밖의 붕소 화합물이 적합하게 사용된다.
상기 카본 블랙은, 분쇄 등에 의해 입도를 조정한 후, 사용할 수도 있다. 카본 블랙의 분쇄에는, 고속 회전 분쇄기 (해머 밀, 핀 밀, 케이지 밀) 나 각종 볼 밀 (전동 밀, 진동 밀, 유성 밀), 교반 밀 (비즈 밀, 애트라이터, 유통 관형 밀, 애뉼러 밀) 등을 사용할 수 있다.
상기 실리카로는, 습식 실리카 (함수 규산), 건식 실리카 (무수 규산), 규산칼슘, 규산알루미늄 등을 들 수 있다. 이들 실리카 중에서도, 가공성, 기계 강도 및 내마모성을 한층 향상시키는 관점에서, 습식 실리카가 바람직하다. 이들 실리카는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
실리카의 평균 입경은, 가공성, 구름 저항 성능, 기계 강도, 및 내마모성을 향상시키는 관점에서, 0.5 ∼ 200 ㎚ 가 바람직하고, 5 ∼ 150 ㎚ 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 100 ㎚ 가 더욱 바람직하다. 또한, 실리카의 평균 입경은, 투과형 전자 현미경에 의해 입자의 직경을 측정하여, 그 평균값을 산출함으로써 구할 수 있다.
이들 카본 블랙 및 실리카 중에서도, 얻어지는 고무 조성물 및 그 가교물의 구름 저항 성능 향상 등의 관점에서는, 실리카가 보다 바람직하다.
본 발명의 고무 조성물에 있어서, 고형 고무 (A) 100 질량부에 대한 필러 (C) 의 함유량은 20 ∼ 200 질량부이며, 20 ∼ 180 질량부가 바람직하고, 25 ∼ 150 질량부가 보다 바람직하다. 필러 (C) 의 함유량이 상기 범위 내이면, 가공성, 구름 저항 성능, 기계 강도 및 내마모성이 향상된다.
또 필러 (C) 로서, 실리카 및 카본 블랙 이외의 필러를 사용하는 경우에는, 그 함유량은, 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 20 ∼ 120 질량부가 바람직하고, 20 ∼ 90 질량부가 보다 바람직하고, 20 ∼ 80 질량부가 더욱 바람직하다.
이들 필러 (C) 는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
[그 밖의 성분]
본 발명의 고무 조성물은, 그 고무를 가교하기 위해서, 추가로 가교제 (D) 를 함유하고 있어도 된다. 가교제 (D) 로는, 예를 들어, 황, 황 화합물, 산소, 유기 과산화물, 페놀 수지, 아미노 수지, 퀴논 및 퀴논디옥심 유도체, 할로겐 화합물, 알데히드 화합물, 알코올 화합물, 에폭시 화합물, 금속 할로겐화물 및 유기 금속 할로겐화물, 및 실란 화합물 등을 들 수 있다. 황 화합물로는, 예를 들어, 모르폴린디술파이드, 및 알킬페놀디술파이드 등을 들 수 있다. 유기 과산화물로는, 예를 들어, 시클로헥사논퍼옥사이드, 메틸아세토아세테이트퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디t-부틸퍼옥사이드, 및 1,3-비스(t-부틸퍼옥시이소프로필)벤젠 등을 들 수 있다. 이들 가교제 (D) 는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 상기 가교제 (D) 는, 가교물의 역학 물성의 관점에서, 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 10 질량부, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.8 ∼ 5 질량부 함유된다.
본 발명의 고무 조성물은, 예를 들어 고무를 가교 (가황) 하기 위한 가교제 (D) 로서 황, 황 화합물 등이 포함되어 있는 경우에는, 추가로 가황 촉진제 (E) 를 함유하고 있어도 된다. 가황 촉진제 (E) 로는, 예를 들어, 구아니딘계 화합물, 술펜아미드계 화합물, 티아졸계 화합물, 티우람계 화합물, 티오우레아계 화합물, 디티오카르바민계 화합물, 알데히드-아민계 화합물, 알데히드-암모니아계 화합물, 이미다졸린계 화합물, 및 크산테이트계 화합물 등을 들 수 있다. 이들 가황 촉진제 (E) 는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 상기 가황 촉진제 (E) 는, 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부 함유된다.
본 발명의 고무 조성물은, 예를 들어 고무를 가교 (가황) 하기 위한 가교제 (D) 로서 황, 황 화합물 등이 포함되어 있는 경우에는, 추가로 가황 보조제 (F) 를 함유하고 있어도 된다. 가황 보조제 (F) 로는, 예를 들어, 스테아르산 등의 지방산, 아연화 등의 금속 산화물, 스테아르산아연 등의 지방산 금속염을 들 수 있다. 이들 가황 보조제 (F) 는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 상기 가황 보조제 (F) 는, 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부 함유된다.
본 발명의 고무 조성물에서는, 필러 (C) 로서 실리카를 함유하는 경우에는, 실란 커플링제를 함유하는 것이 바람직한 일 양태이다. 실란 커플링제로는, 예를 들어, 술파이드계 화합물, 메르캅토계 화합물, 비닐계 화합물, 아미노계 화합물, 글리시독시계 화합물, 니트로계 화합물, 클로로계 화합물 등을 들 수 있다.
술파이드계 화합물로는, 예를 들어, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드, 비스(2-트리에톡시실릴에틸)테트라술파이드, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)테트라술파이드, 비스(2-트리메톡시실릴에틸)테트라술파이드, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)트리술파이드, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)트리술파이드, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)디술파이드, 비스(3-트리메톡시실릴프로필)디술파이드, 3-트리메톡시실릴프로필-N,N-디메틸티오카르바모일테트라술파이드, 3-트리에톡시실릴프로필-N,N-디메틸티오카르바모일테트라술파이드, 2-트리메톡시실릴에틸-N,N-디메틸티오카르바모일테트라술파이드, 3-트리메톡시실릴프로필벤조티아졸테트라술파이드, 3-트리에톡시실릴프로필벤조티아졸테트라술파이드, 3-트리에톡시실릴프로필메타크릴레이트모노술파이드, 3-트리메톡시실릴프로필메타크릴레이트모노술파이드 등을 들 수 있다.
메르캅토계 화합물로는, 예를 들어, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 2-메르캅토에틸트리메톡시실란, 및 2-메르캅토에틸트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
비닐계 화합물로는, 예를 들어 비닐트리에톡시실란, 및 비닐트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
아미노계 화합물로는, 예를 들어, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸)아미노프로필트리에톡시실란, 및 3-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
글리시독시계 화합물로는, 예를 들어, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 및 γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란 등을 들 수 있다.
니트로계 화합물로는, 예를 들어, 3-니트로프로필트리메톡시실란, 및 3-니트로프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
클로로계 화합물로는, 예를 들어, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란, 2-클로로에틸트리메톡시실란, 및 2-클로로에틸트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
이들 실란 커플링제는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 이들 실란 커플링제 중에서도, 첨가 효과가 큰 관점 및 비용의 관점에서, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)디술파이드, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드, 및 3-메르캅토프로필트리메톡시실란이 바람직하다.
상기 실란 커플링제는, 실리카 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0.1 ∼ 30 질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 20 질량부, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 15 질량부 함유된다. 실란 커플링제의 함유량이 상기 범위 내이면, 분산성, 커플링 효과, 보강성, 내마모성이 향상된다.
본 발명의 고무 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 가공성, 유동성 등의 개량을 목적으로 하여, 필요에 따라 실리콘 오일, 아로마 오일, TDAE (Treated Distilled Aromatic Extracts), MES (Mild Extracted Solvates), RAE (Residual Aromatic Extracts), 파라핀 오일, 나프텐 오일 등의 프로세스 오일, 지방족 탄화수소 수지, 지환족 탄화수소 수지, C9 계 수지, 로진계 수지, 쿠마론·인덴계 수지, 페놀계 수지 등의 수지 성분을 연화제로서 함유하고 있어도 된다. 본 발명의 고무 조성물이 상기 프로세스 오일을 연화제로서 함유하는 경우에는, 그 함유량은, 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여 50 질량부보다 적은 것이 바람직하다.
본 발명의 고무 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 내후성, 내열성, 내산화성 등의 향상을 목적으로 하여, 필요에 따라 노화 방지제, 왁스, 산화 방지제, 활제 (滑劑), 광 안정제, 스코치 방지제, 가공 보조제, 안료나 색소 등의 착색제, 난연제, 대전 방지제, 광택 제거제, 블로킹 방지제, 자외선 흡수제, 이형제, 발포제, 항균제, 곰팡이 방지제, 향료 등의 첨가제를 함유해도 된다. 산화 방지제로는, 예를 들어, 힌다드페놀계 화합물, 인계 화합물, 락톤계 화합물, 하이드록실계 화합물 등을 들 수 있다. 노화 방지제로는, 예를 들어, 아민-케톤계 화합물, 이미다졸계 화합물, 아민계 화합물, 페놀계 화합물, 황계 화합물 및 인계 화합물 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는, 1 종 단독으로 사용되어도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
[고무 조성물의 제조 방법]
본 발명의 고무 조성물의 제조 방법은, 상기 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 고무 조성물의 제조에 사용하는 장치로는, 예를 들어, 니더 루더, 브라벤더, 밴버리 믹서, 인터널 믹서 등의 접선식 또는 맞물림식의 밀폐식 혼련기, 단축 압출기, 2 축 압출기, 믹싱 롤, 및 롤러 등을 들 수 있다. 상기 고무 조성물을 제조는, 통상적으로 70 ∼ 270 ℃ 의 온도 범위에서 실시할 수 있다.
[가교물]
본 발명의 고무 조성물을 가교함으로써, 가교물을 얻을 수 있다. 고무 조성물의 가교 조건은, 그 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다. 예를 들어, 황 또는 황 화합물을 가교제로 하고, 고무 조성물을 금형에 의해 가교 (가황) 하는 경우에는, 가교 온도는 통상적으로 120 ∼ 200 ℃, 가압 조건은 통상적으로 0.5 ∼ 2.0 ㎫ 로 하고, 가교 (가황) 할 수 있다.
가교물 중으로부터의, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 추출률은, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 더욱 바람직하다.
또한, 상기 추출률은, 가교물 2 g 을 톨루엔 400 ㎖ 중에 침지하고, 23 ℃ 에서 48 시간 후에 톨루엔 중에 추출된 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 양으로부터 산출할 수 있다.
본 발명의 고무 조성물 및 그 고무 조성물의 가교물은, 타이어의 적어도 일부로서 사용할 수도 있다. 이와 같이 하여 얻어지는 타이어는, 필러 (C) 의 분산 상태가 이상적인 상태로 되어 있기 (예를 들어, 페인 효과가 충분히 저감되어 있기) 때문에, 구름 저항 성능이 우수하고, 또 내마모성이 양호하다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
본 실시예 및 비교예에 있어서 사용한 각 성분은 이하와 같다.
<고형 고무 (A)>
용액 중합 스티렌부타디엔 고무:HPR355 (JSR 주식회사 제조 (알콕시실란으로 커플링하여 말단에 도입, R1, R2 및 R3=-OCH3, R4 및 R5=H, n=3), 스티렌 함량:28 질량%, 비닐 함량 56 질량%)
부타디엔 고무:BR01 (JSR 주식회사 제조, Mw:55 만, 시스체 함유량 95 질량%)
천연 고무:STR20 (VON BUNDIT 사 제조)
유화 중합 스티렌부타디엔 고무:JSR1500 (JSR 주식회사 제조)
<변성 액상 디엔계 고무 (B)>
후술하는 제조예 1 ∼ 11 에서 얻어진 변성 액상 디엔계 고무 및 제조예 12 ∼ 14 에서 얻어진 액상 디엔계 고무
<필러 (C)>
실리카 :ULTRASIL7000GR (에보닉 데구사 재팬 제조, 습식 실리카, 평균 입경 14 ㎚)
카본 블랙:다이아 블랙 I (N220) (미츠비시 화학 주식회사 제조, 평균 입경 20 ㎚))
<가교제 (D)>
황 (미분 (微粉) 황 200 메시, 츠루미 화학 공업 주식회사 제조)
<가황 촉진제 (E)>
가황 촉진제 (1):녹셀러 CZ-G (오우치 신코 화학 공업 주식회사 제조)
가황 촉진제 (2):녹셀러 D (오우치 신코 화학 공업 주식회사 제조)
가황 촉진제 (3):녹셀러 TBT-N (오우치 신코 화학 공업 주식회사 제조)
가황 촉진제 (4):산세라 NS (산신 화학 공업 주식회사 제조)
가황 촉진제 (5):녹셀러 M (오우치 신코 화학 공업 주식회사 제조)
<가황 보조제 (F)>
스테아르산:루낙 S-20 (카오 주식회사 제조)
아연화 :산화아연 (사카이 화학 공업 주식회사 제조)
<임의 성분>
TDAE :VivaTec500 (H & R 사 제조)
실란 커플링제 (1):Si-75 (에보닉 데구사 재팬 제조)
실란 커플링제 (2):A-137 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조)
노화 방지제 (1) :녹락 6C (오우치 신코 화학 공업 주식회사 제조)
노화 방지제 (2) :안테이지 RD (카와구치 화학 공업 주식회사 제조)
왁스 :선타이트 S (세이코 화학 주식회사 제조)
제조예 1:변성 액상 디엔계 고무 (B-1) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1220 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 131 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-1) 을 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-1) 640 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 4.5 g 과 (3-메르캅토프로필)트리에톡시실란 78 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-1) 을 얻었다.
제조예 2:변성 액상 디엔계 고무 (B-2) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1280 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 66 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-2) 를 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-2) 700 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 5.0 g 과 (3-메르캅토프로필)트리메톡시실란 8.8 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-2) 를 얻었다.
제조예 3:변성 액상 디엔계 고무 (B-3) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1280 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 66 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-3) 을 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-3) 650 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 4.6 g 과 (3-메르캅토프로필)트리메톡시실란 66 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-3) 을 얻었다.
제조예 4:변성 액상 디엔계 고무 (B-4) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1320 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 33 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-4) 를 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-4) 700 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 5.0 g 과 (3-메르캅토프로필)트리메톡시실란 21 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-4) 를 얻었다.
제조예 5:변성 액상 디엔계 고무 (B-5) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1880 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 9.9 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 810 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-5) 를 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-5) 710 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 5.0 g 과 (3-메르캅토프로필)트리메톡시실란 4.2 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-5) 를 얻었다.
제조예 6:변성 액상 디엔계 고무 (B-6) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1880 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 7.8 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 이소프렌 810 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-6) 을 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-6) 690 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 3.9 g 과 (3-메르캅토프로필)트리메톡시실란 35 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-6) 을 얻었다.
제조예 7:변성 액상 디엔계 고무 (B-7) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1280 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 66 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-7) 을 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-7) 700 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산 1.0 g 과 (3-메르캅토프로필)트리에톡시실란 50 g 을 첨가하고, 105 ℃ 에서 8 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-7) 을 얻었다.
제조예 8:변성 액상 디엔계 고무 (B-8) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1280 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 66 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-8) 을 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-8) 700 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산 4.1 g 과 (3-메르캅토프로필)트리에톡시실란 198 g 을 첨가하고, 105 ℃ 에서 8 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-8) 을 얻었다.
제조예 9:변성 액상 디엔계 고무 (B-9) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 헥산 50 g 및 n-부틸리튬 (17 질량% 헥산 용액) 1565 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, N,N,N',N'-테트라메틸에틸렌디아민 52 g 과, 미리 조제한 부타디엔, 스티렌의 혼합물 (부타디엔 900 g 과 스티렌 100 g 을 봄베 내에서 혼합) 1000 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-9) 를 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-9) 180 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 1.2 g 과 (3-메르캅토프로필)트리메톡시실란 518 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-9) 를 얻었다.
제조예 10:변성 액상 디엔계 고무 (B-10) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1400 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 89 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, N,N,N',N'-테트라메틸에틸렌디아민 4.9 g 과, 부타디엔 1215 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-10) 을 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-10) 580 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 4.1 g 과 (3-메르캅토프로필)트리에톡시실란 133 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 24 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-10) 을 얻었다.
제조예 11:변성 액상 디엔계 고무 (B-11) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1280 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 66 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-11) 을 얻었다.
계속해서, 용량 1 ℓ 의 오토클레이브 중에, 얻어진 미변성 액상 디엔계 고무 (B'-11) 700 g 을 투입하고, 60 ℃ 에서 3 시간 교반을 하면서 질소 탈기를 하였다. 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산 8.2 g 과 (3-메르캅토프로필)트리에톡시실란 433 g 을 첨가하고, 105 ℃ 에서 8 시간 반응시켜, 변성 액상 디엔계 고무 (B-11) 을 얻었다.
제조예 12:액상 디엔계 고무 (B-12) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1300 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 52 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 이소프렌 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 액상 디엔계 고무 (B-12) 를 얻었다.
제조예 13:액상 디엔계 고무 (B-13) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1220 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 131 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 액상 디엔계 고무 (B-13) 을 얻었다.
제조예 14:액상 디엔계 고무 (B-14) 의 제조
충분히 건조시킨 5 ℓ 오토클레이브를 질소 치환하고, 시클로헥산 1280 g 및 sec-부틸리튬 (10.5 질량% 시클로헥산 용액) 66 g 을 투입하고, 50 ℃ 로 승온한 후, 교반 조건 아래, 중합 온도를 50 ℃ 가 되도록 제어하면서, 부타디엔 1350 g 을 축차 첨가하여, 1 시간 중합하였다. 그 후 메탄올을 첨가하여 중합 반응을 정지시키고, 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액에 물을 첨가하여 교반하고, 물로 중합체 용액을 세정하였다. 교반을 종료하고, 중합체 용액상과 수상이 분리되어 있는 것을 확인한 후, 물을 분리하였다. 세정 종료 후의 중합체 용액을 70 ℃ 에서 24 시간 진공 건조시킴으로써, 미변성 액상 디엔계 고무 (B-14) 를 얻었다.
또한, 제조예에서 얻어진 변성 액상 디엔계 고무 등의 각 물성의 측정 방법 및 산출 방법은 이하와 같다.
(중량 평균 분자량의 측정 방법)
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 Mw 는, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의해 표준 폴리스티렌 환산 분자량으로 구하였다. 측정 장치 및 조건은, 이하와 같다.
·장치 :토소 주식회사 제조 GPC 장치 「GPC8020」
·분리 칼럼 :토소 주식회사 제조 「TSKgelG4000HXL」
·검출기 :토소 주식회사 제조 「RI-8020」
·용리액 :테트라하이드로푸란
·용리액 유량:1.0 ㎖/분
·샘플 농도 :5 ㎎/10 ㎖
·칼럼 온도 :40 ℃
(비닐 함량)
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 비닐 함량을, 니혼 전자 주식회사 제조 1H-NMR (500 ㎒) 을 사용하고, 샘플/중클로로포름 = 50 ㎎/1 ㎖ 의 농도, 적산 횟수 1024 회로 측정하였다. 얻어진 스펙트럼의 비닐화된 디엔 화합물 유래의 이중 결합의 피크와, 비닐화되어 있지 않은 디엔 화합물 유래의 이중 결합의 피크의 면적비로부터, 비닐 함량을 산출하였다.
(유리 전이 온도)
변성 액상 디엔계 고무 (B) 10 ㎎ 을 알루미늄 팬에 채취하고, 시차 주사 열량 측정 (DSC) 에 의해 10 ℃/분의 승온 속도 조건에 있어서 서모그램을 측정하고, DDSC 의 피크 탑의 값을 유리 전이 온도로 하였다.
(38 ℃ 에 있어서의 용융 점도의 측정 방법)
변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 38 ℃ 에 있어서의 용융 점도를 브룩필드형 점도계 (BROOKFIELD ENGINEERING LABS. INC. 제조) 에 의해 측정하였다.
(변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수)
변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수는, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 관능기의 당량 (g/eq) 과 스티렌 환산의 수 평균 분자량 Mn 으로부터 구할 수 있다.
(1 분자당 평균 관능기 수) = [(수 평균 분자량 Mn) / (스티렌 단위의 분자량) × ((공액 디엔 및 필요에 따라 포함되는 공액 디엔 이외의 다른 단량체 단위의 평균 분자량)] / (관능기의 당량)
또한, 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 관능기의 당량은, 관능기 1 개당 결합하고 있는 부타디엔 및 필요에 따라 포함되는 부타디엔 이외의 다른 단량체의 질량을 의미한다. 관능기의 당량은, 1H-NMR 또는 13C-NMR 을 사용하여 관능기 유래의 피크와 중합체 주사슬에서 유래하는 피크의 면적비로부터 산출할 수 있다. 또한, 관능기 유래의 피크란, 알콕시기 유래의 피크를 가리킨다.
이하, 제조예 1 ∼ 14 에서 얻어진 변성 액상 디엔계 고무 (B-1) ∼ (B-11) 및 액상 디엔계 고무 (B-12) ∼ (B-14) 의 물성을 표 1 에 정리한다.
실시예 1 ∼ 11 및 비교예 1 ∼ 11
표 2, 3, 4 에 기재한 배합 비율 (질량부) 에 따라서, 고형 고무 (A), 변성 액상 디엔계 고무 (B), 필러 (C), TDAE, 실란 커플링제, 아연화, 스테아르산, 왁스, 및 노화 방지제를, 각각 밀폐식 밴버리 믹서에 투입하여 개시 온도 60 ℃, 수지 온도가 150 ℃ 가 되도록 6 분간 혼련한 후, 믹서 외로 취출하여 실온까지 냉각시켰다. 이어서, 이 혼합물을 재차 밴버리 믹서에 넣고, 가황제 및 가황 촉진제를 첨가하여 개시 온도 50 ℃, 도달 온도 100 ℃ 가 되도록 75 초 혼련함으로써 고무 조성물을 얻었다.
또, 얻어진 고무 조성물을 프레스 성형 (실시예 1 ∼ 9, 11 및 비교예 1 ∼ 7, 10 ∼ 11 은 160 ℃, 30 ∼ 50 분, 실시예 10 및 비교예 8 ∼ 9 는 145 ℃, 20 ∼ 30 분) 하여 가황 고무 시트 (두께 2 ㎜) 를 제조하고, 하기 방법에 기초하여, 페인 효과, 구름 저항 성능, 내마모성을 평가하였다. 그 결과를 표 2, 3, 4 에 나타낸다.
또한, 각 평가의 측정 방법은 이하와 같다.
(페인 효과)
실시예 및 비교예에서 제조한 고무 조성물의 시트로부터 세로 40 ㎜ × 가로 5 ㎜ 의 시험편을 잘라내고, GABO 사 제조 동적 점탄성 측정 장치를 사용하여, 측정 온도 25 ℃, 변형 0.5 % 의 저장 탄성률 E' (0.5 %) 와, 변형 5.0 % 의 저장 탄성률 E' (5.0 %) 를 측정하고, E' (0.5 %) 와 E' (5.0 %) 의 차 (절대값) 를 산출하였다. 각 실시예 및 비교예의 수치는, 표 2 의 비교예 1, 표 3 의 비교예 8, 표 4 의 비교예 10 의 값을 100 으로 했을 때의 상대값이다. 수치가 작을수록 페인 효과가 저감되고 실리카의 분산성이 양호한 것을 나타낸다.
(구름 저항 성능)
실시예 및 비교예에서 제조한 고무 조성물의 시트로부터 세로 40 ㎜ × 가로 5 ㎜ 의 시험편을 잘라내고, GABO 사 제조 동적 점탄성 측정 장치를 사용하여, 측정 온도 60 ℃, 주파수 10 ㎐, 정적 변형 10 %, 동적 변형 2 % 의 조건으로, tanδ 를 측정하고, 구름 저항 성능의 지표로 하였다. 각 실시예 및 비교예의 수치는, 표 2 의 비교예 1, 표 3 의 비교예 8, 표 4 의 비교예 10 의 값을 100 으로 했을 때의 상대값이다. 또한, 수치가 작을수록 고무 조성물의 구름 저항 성능이 양호하다.
(내마모성)
JIS K 6264 에 준거하여, 10 N 하중하, 마모 거리 40 m 에서의 DIN 마모량을 측정하였다. 표 2 에 있어서의 각 실시예 및 비교예의 수치는, DIN 마모량의 역수에 있어서 표 2 의 비교예 1, 표 3 의 비교예 8, 표 4 의 비교예 10 의 값을 100 으로 했을 때의 상대값이다. 또한, 수치가 클수록 마모량이 적어 내마모성이 양호하다.
산업상 이용가능성
본 발명의 고무 조성물은 가공성, 필러 분산성이 우수할 뿐만 아니라, 가교제를 첨가하는 등 하여 가교성의 고무 조성물로 했을 경우, 그 조성물로부터 얻어지는 가교물 중의 필러의 분산 상태가 물성 향상을 위해서는 이상적이고 (예를 들어, 페인 효과의 저감이 보이고), 내마모성의 향상 등이 보이는 우수한 가교물을 부여하기 때문에, 타이어 용도, 공업용 벨트, 공업용 고무 호스 등의 공업용 부재 용도 등에 적합하게 사용할 수 있다. 특히, 타이어 용도 등에 가교물을 사용한 경우에는, 구름 저항 성능이 향상될 뿐만 아니라, 조종 안정성의 향상을 달성할 수 있기 때문에 유용하다.
Claims (7)
- 고형 고무 (A) 100 질량부에 대하여, 하기 식 (1) 로 나타내는 실란 화합물에서 유래하는 관능기를 갖는 변성 액상 디엔계 고무 (B) 를 0.1 ∼ 50 질량부, 및 필러 (C) 를 20 ∼ 200 질량부 함유하는 고무 조성물이며,
상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가, 하기 (i) ∼ (iii)
(i) 중량 평균 분자량 (Mw) 이 15,000 ∼ 120,000,
(ii) 비닐 함량이 70 몰% 이하,
(iii) 변성 액상 디엔계 고무 (B) 1 분자당 평균 관능기 수가 1 ∼ 30 개, 를 만족하는, 고무 조성물.
[화학식 1]
(식 (1) 중, R1 은 탄소수 1 내지 6 의 2 가의 알킬렌기이고, R2, R3 및 R4 는 각각 독립적으로, 메톡시기, 에톡시기, 페녹시기, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기를 나타낸다. 단, R2, R3 및 R4 중 적어도 1 개는 메톡시기, 에톡시기 또는 페녹시기이다.) - 제 1 항에 있어서,
상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 의 38 ℃ 에 있어서의 용융 점도가 1 ∼ 4,000 ㎩·s 인, 고무 조성물. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 변성 액상 디엔계 고무 (B) 가 이소프렌 및/또는 부타디엔의 단량체 단위를 포함하는 중합체인, 고무 조성물. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고형 고무 (A) 가, 천연 고무, 스티렌부타디엔 고무, 부타디엔 고무 및 이소프렌 고무에서 선택되는 1 종 이상인, 고무 조성물. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 필러 (C) 가, 카본 블랙 및 실리카에서 선택되는 적어도 1 종인, 고무 조성물. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 고무 조성물을 가교시킨 가교물.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 고무 조성물 또는 제 6 항에 기재된 가교물을 적어도 일부에 사용한 타이어.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2016-171606 | 2016-09-02 | ||
JP2016171606 | 2016-09-02 | ||
PCT/JP2017/031561 WO2018043700A1 (ja) | 2016-09-02 | 2017-09-01 | ゴム組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190050973A true KR20190050973A (ko) | 2019-05-14 |
KR102394016B1 KR102394016B1 (ko) | 2022-05-04 |
Family
ID=61300969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197006232A KR102394016B1 (ko) | 2016-09-02 | 2017-09-01 | 고무 조성물 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11034821B2 (ko) |
EP (1) | EP3508527B1 (ko) |
JP (2) | JP7458146B2 (ko) |
KR (1) | KR102394016B1 (ko) |
CN (1) | CN109642054B (ko) |
CA (1) | CA3035654C (ko) |
HU (1) | HUE062162T2 (ko) |
PT (1) | PT3508527T (ko) |
TW (1) | TWI733892B (ko) |
WO (1) | WO2018043700A1 (ko) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3677637B1 (en) * | 2017-09-01 | 2023-03-01 | Kuraray Co., Ltd. | Tire rubber compositions |
JP7153655B2 (ja) | 2017-09-01 | 2022-10-14 | 株式会社クラレ | 重荷重タイヤ用ゴム組成物およびタイヤ |
JP7112408B2 (ja) * | 2017-09-01 | 2022-08-03 | 株式会社クラレ | 重荷重タイヤ用ゴム組成物およびタイヤ |
JP7112406B2 (ja) * | 2017-09-01 | 2022-08-03 | 株式会社クラレ | タイヤ用ゴム組成物 |
CA3074423A1 (en) * | 2017-09-01 | 2019-03-07 | Kuraray Co., Ltd. | High-grip tire rubber compositions |
EP3677634B1 (en) * | 2017-09-01 | 2022-03-23 | Kuraray Co., Ltd. | Rubber composition for high grip tire |
CA3104993A1 (en) * | 2018-06-29 | 2020-01-02 | Kuraray Co., Ltd. | Rubber compositions |
JP7240787B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2023-03-16 | 株式会社クラレ | 共役ジエン系グラフト重合体、およびその製造方法 |
CN114402021B (zh) * | 2019-09-20 | 2023-12-08 | 株式会社可乐丽 | 共轭二烯系接枝聚合物及其制造方法 |
WO2021132286A1 (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-01 | 株式会社クラレ | 水添共役ジエン系グラフト重合体、及びその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61197646A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-01 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ゴム配合油 |
JP2000344949A (ja) | 1999-03-31 | 2000-12-12 | Nippon Mitsubishi Oil Corp | 自動車タイヤトレッド用ゴム組成物 |
JP2002114874A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-16 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 変性ジエン系ゴム組成物 |
JP2013249359A (ja) | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Bridgestone Corp | ゴム組成物及びタイヤ |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01259888A (ja) | 1987-10-05 | 1989-10-17 | Fuji Denshi Kogyo Kk | ダイスを用いた自動遊技機 |
WO2003087187A1 (fr) * | 2002-04-15 | 2003-10-23 | Toagosei Co., Ltd. | Composition de resine durcissable aux rayonnements actiniques et produit de durcissement de cette derniere |
CN1965266B (zh) * | 2004-06-11 | 2010-12-15 | 旭化成电子材料株式会社 | 柔版印刷板用感光树脂及其制造方法 |
JP4808080B2 (ja) * | 2005-11-17 | 2011-11-02 | 日東電工株式会社 | 鋼板補強シート |
JP4783356B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2011-09-28 | 住友ゴム工業株式会社 | ゴム組成物 |
WO2008145155A1 (en) * | 2007-05-30 | 2008-12-04 | Pirelli Tyre S.P.A. | Tire and crosslinkable elastomeric composition |
JP4406018B2 (ja) * | 2007-06-21 | 2010-01-27 | 住友ゴム工業株式会社 | サイドウォール用ゴム組成物、ならびに空気入りタイヤ |
JP2010189613A (ja) | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Bridgestone Corp | タイヤ |
JP5507990B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2014-05-28 | 住友ゴム工業株式会社 | ブレーカートッピング用ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
CN103562297A (zh) * | 2011-06-01 | 2014-02-05 | 竹本油脂株式会社 | 无机填充材料用分散剂及其制备方法 |
US9492363B1 (en) * | 2012-01-16 | 2016-11-15 | American Spraytech, L.L.C. | Aerosol sprayable color composition |
WO2014021002A1 (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-06 | 住友ゴム工業株式会社 | トレッド用ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
JP6218559B2 (ja) * | 2013-10-30 | 2017-10-25 | 株式会社クラレ | ゴム組成物 |
CN106068302A (zh) | 2014-03-14 | 2016-11-02 | 株式会社可乐丽 | 橡胶组合物 |
-
2017
- 2017-09-01 CN CN201780053284.2A patent/CN109642054B/zh active Active
- 2017-09-01 PT PT178467031T patent/PT3508527T/pt unknown
- 2017-09-01 JP JP2018537433A patent/JP7458146B2/ja active Active
- 2017-09-01 US US16/329,567 patent/US11034821B2/en active Active
- 2017-09-01 EP EP17846703.1A patent/EP3508527B1/en active Active
- 2017-09-01 WO PCT/JP2017/031561 patent/WO2018043700A1/ja unknown
- 2017-09-01 HU HUE17846703A patent/HUE062162T2/hu unknown
- 2017-09-01 TW TW106129994A patent/TWI733892B/zh active
- 2017-09-01 CA CA3035654A patent/CA3035654C/en active Active
- 2017-09-01 KR KR1020197006232A patent/KR102394016B1/ko active IP Right Grant
-
2023
- 2023-08-30 JP JP2023140079A patent/JP2023175717A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61197646A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-01 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ゴム配合油 |
JP2000344949A (ja) | 1999-03-31 | 2000-12-12 | Nippon Mitsubishi Oil Corp | 自動車タイヤトレッド用ゴム組成物 |
JP2002114874A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-16 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 変性ジエン系ゴム組成物 |
JP2013249359A (ja) | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Bridgestone Corp | ゴム組成物及びタイヤ |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
One copy of Kuraray's 'Liquid Rubber Products' catalog. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PT3508527T (pt) | 2023-05-26 |
CN109642054A (zh) | 2019-04-16 |
EP3508527B1 (en) | 2023-05-17 |
CA3035654A1 (en) | 2018-03-08 |
CN109642054B (zh) | 2021-05-18 |
HUE062162T2 (hu) | 2023-09-28 |
TWI733892B (zh) | 2021-07-21 |
WO2018043700A1 (ja) | 2018-03-08 |
EP3508527A4 (en) | 2020-01-15 |
EP3508527A1 (en) | 2019-07-10 |
US11034821B2 (en) | 2021-06-15 |
CA3035654C (en) | 2023-11-21 |
JPWO2018043700A1 (ja) | 2019-06-24 |
US20190218376A1 (en) | 2019-07-18 |
KR102394016B1 (ko) | 2022-05-04 |
TW201821441A (zh) | 2018-06-16 |
JP7458146B2 (ja) | 2024-03-29 |
JP2023175717A (ja) | 2023-12-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7518603B2 (ja) | ゴム組成物 | |
KR102550882B1 (ko) | 타이어용 고무 조성물 | |
KR102394016B1 (ko) | 고무 조성물 | |
KR20160134689A (ko) | 고무 조성물 | |
KR102550282B1 (ko) | 타이어용 고무 조성물 | |
KR102550283B1 (ko) | 고그립 타이어용 고무 조성물 | |
KR102550883B1 (ko) | 중하중 타이어용 고무 조성물 및 타이어 | |
KR20160134690A (ko) | 고무 조성물 | |
JPWO2019044893A1 (ja) | 重荷重タイヤ用ゴム組成物およびタイヤ | |
KR102542093B1 (ko) | 고그립 타이어용 고무 조성물 | |
KR20200130274A (ko) | 변성 액상 디엔계 중합체 및 고무 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |