KR20180088397A - 화학선택적 티오에테르 산화에 의한 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산의 제조 방법 - Google Patents
화학선택적 티오에테르 산화에 의한 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산의 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
본 발명은 농약적으로 효과적인 물질을 제조하는데 중간체로서 사용되는 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산의 제조 방법에 관한 것이다
다수의 공보는 그의 제조에 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산이 필요한 농약적으로 효과적인 물질을 개시하고 있다. 요컨대, WO2008/125214 A1은 제초적으로 효과적인 4-(4-트리플루오로메틸-3-티오벤조일)피라졸을 개시한다. WO 2012/126932 A1은 WO 2008/125214 A1에 개시된 화합물과 페닐 고리에서의 치환 패턴이 유사한 것을 포함하여, 제초적으로 효과적인 N-(1,3,4-옥사디아졸-2-일)아릴카복사미드를 개시한다.
WO 2008/125214 A1에는 또한 2-메틸-4-트리플루오로메틸-3-메틸설포닐벤조산의 제조 방법이 개시되어 있다. 이 방법에서는, 3-플루오로-2-메틸-4-트리플루오로메틸벤조산을 수소화나트륨 및 소듐 티오메틸레이트와 반응시켜 2-메틸-3-메틸티오-4-트리플루오로메틸벤조산을 제공한 다음, 이를 2-메틸-3-메틸설포닐-4-트리플루오로메틸벤조산으로 산화시킨다.
이 방법의 단점은 저온에서 적어도 2 몰 당량의 부틸리튬으로 3-플루오로-2-메틸-4-트리플루오로메틸벤조산을 금속화시킨 후, 독성 메틸 요오드화물과 반응시킴으로써 메틸기를 도입시키는 것뿐만 아니라 제조하기 어려운 3-플루오로-2-메틸-4-트리플루오로메틸벤조산을 사용하는 것이다. 이 공정은 복잡하고, 메틸기 도입시의 낮은 수율 (이론치의 50.7%) 때문에 비경제적이다.
전이금속 촉매화에 의해 클로로방향족을 시안화한 후, 산기로 시아노기를 비누화하여 치환된 벤조산을 제조하는 방법도 공지되어 있다. 이 방법은 독성이 높은 시안화물뿐만 아니라 고비용의 화학적으로 민감한 촉매를 사용하는 것이 단점이다. 이 경우에는 사람과 환경에 대한 피해가 없게끔 폐류의 복잡한 처리가 반드시 이루어져야 한다.
또한, 리튬알킬 또는 리튬아릴과 같은 유기금속 화합물의 도움으로 설폭시드기를 금속과 교환시킬 수 있고, 이어서 생성된 종을 이산화탄소와 반응시켜 카복실산을 수득할 수 있다는 것이 공지되어 있다. 그러나, 이러한 타입의 반응에서는 치환체 유형에 따라 원치 않는 반응이 일어난다.
본 발명의 목적은 선행 기술로부터 공지된 방법의 단점을 극복한 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따라서, 1,3-디클로로-2-알킬-4-트리플루오로메틸벤젠으로부터 출발하여 시안화물 또는 전이금속 촉매를 사용하지 않고 이중 티올화, 티오에테르기의 선택적 산화, 설폭시드기의 금속 교환, 잔류 티오에테르기의 카복실화 및 산화의 반응 순서에 의해 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산을 제조할 수 있다는 것이 밝혀졌다.
따라서, 본 발명은 화학식 (I)의 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산의 제조 방법을 제공하며, 이 방법은
a) 제1 단계에서, 1,3-디클로로-2-알킬-4-트리플루오로메틸벤젠 (II)을 티올레이트 (IV)와 반응시켜 아릴 비스티오에테르 (III)를 제공하고,
b) 제2 단계에서, 아릴 비스티오에테르 (III)를 산화제와 선택적으로 반응시켜 아릴 모노설폭시드 모노티오에테르 (V)를 제공하고,
c) 제3 단계에서, 설폭시드기를 금속으로 교환시키고 이렇게 수득한 유기 금속 화합물을 벤조산 (VII)으로 전환시키고,
d) 제4 단계에서, 잔존하는 티오기를 임의로 산화 촉매의 존재하에 산화제로 산화시키는 것을 특징으로 하고:
e) 여기서, 치환체들은 다음과 같이 정의된다:
R1 및 R2는 서로 독립적으로 염소, 불소, 메톡시 및 에톡시로 이루어진 군으로부터 선택된 s개의 라디칼로 치환된 C1-4 알킬 또는 페닐이고,
R3은 염소, 불소, 메톡시 및 에톡시로 이루어진 군으로부터의 s 라디칼로 치환된 C1-10 알킬 또는 페닐이고,
M1은 리튬, 나트륨 또는 칼륨이고,
M2는 마그네슘, 리튬 또는 아연이고,
X는 클로라이드, 브로마이드 또는 아이오다이드이고,
m은 0 또는 1이고,
n은 1 또는 2이고,
s는 0, 1, 2 또는 3이다.
본 발명에 따른 방법의 주요 이점은 다음과 같다:
- 전이금속 촉매의 사용 없이 화합물 (II)에서의 두 염소 치환체의 우수한 분리,
- 과아세트산 또는 H2O2와 같은 유리한 시약으로 선택적인 티오에테르 산화,
- 유리하고 취급이 용이한 이산화탄소와 함께 단순한 유기 금속 시약의 도움으로 카복실산 기의 생성.
화학식 (I), (II), (III), (IV), (V), (VI) 및 (VII)에서 탄소 원자를 2개 초과하여 갖는 알킬 라디칼은 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 알킬 라디칼은, 예를 들면 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, n-, 이소-, t- 또는 2-부틸이다.
소듐 티오메틸레이트 (NaSMe) 및 포타슘 티오메틸레이트 (KSMe)가 티올레이트 (IV)로서 특히 적합하다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계에서, 화학식 (IV)의 화합물은 화학식 (II)의 화합물을 기준으로 2:1 내지 4:1 몰 당량의 정량적 비율로 사용된다. 2:1 내지 3:1의 정량적 비율이 바람직하고, 2.5:1의 정량적 비율이 특히 바람직하다.
화학식 (IV)의 화합물은 상응하는 티올 및 염기, 예컨대 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 토금속 수산화물, 알칼리 금속 탄산염, 알칼리 금속 아세테이트, 알칼리 금속 알콜레이트 및 유기 염기로부터 동계에서 (in-situ) 또는 외부에서 (ex-situ) 제조될 수 있다. 적합한 염기는 LiOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2, Na2CO3, K2CO3, Cs2CO3, NaOAc, KOAc, LiOAc, NaOMe, NaOEt, NaO-t-Bu, KO-t-Bu, 트리알킬아민, 알킬피리딘, 포스파젠 및 1,8-디아자비사이클로[5.4.0]운데센이다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계의 반응은 일반적으로 아세토니트릴, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디메틸설폭시드 또는 N-메틸-2-피롤리돈과 같은 용매 중에서 수행된다. 디메틸설폭시드, 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드 및 N-메틸-2-피롤리돈이 바람직하고, 디메틸설폭시드가 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계의 반응은 일반적으로 0 내지 100 ℃, 바람직하게는 20 내지 70 ℃, 특히 바람직하게는 30 내지 40 ℃의 온도에서 수행된다. 반응은 또한 승압 또는 감압하에 수행될 수 있다.
과량의 화합물 (IV)은 화합물 (III)의 부분 탈메틸화를 초래할 수 있다. 이는 Me2SO4, MeI, MeBr, MeCl 또는 디메틸 카보네이트와 같은 알킬화제를 보충함으로써 보완할 수 있다. Me2SO4가 바람직하다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계에서, 산화제는 화학식 (III)의 화합물을 기준으로 2:1 내지 4:1 몰 당량의 정량적 비율로 사용된다. 1.5:1 내지 3.5:1이 바람직하고, 3:1이 특히 바람직하다. 적합한 산화제는 H2O2, 과아세트산 또는 메타-클로로퍼벤조산이다. H2O2가 바람직하다. 놀랍게도, 이때 트리플루오로메틸기에 대해 파라 위치의 티오에테르기가 선택적으로 산화되어 설폭시드로 된다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계의 반응은 일반적으로 아세토니트릴, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 톨루엔, 클로로벤젠, 디클로로메탄, 아세트산 또는 프로피온산과 같은 용매 중에서 수행된다. 디클로로메탄, 아세트산 및 프로피온산이 바람직하고, 아세트산 및 프로피온산이 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계의 반응에서, 당업자에게 공지된 바나듐 또는 철을 기반으로 한 산화 촉매를 사용할 수도 있다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계의 반응은 일반적으로 0 내지 50 ℃, 바람직하게는 10 내지 30 ℃ 및 특히 바람직하게는 20 ℃의 온도에서 수행된다. 반응은 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 제3 단계에서, (V) 타입의 화합물에서의 설폭시드기는 유기 금속 화합물의 도움으로 금속으로 교환된다. 사용된 유기 금속 시약은 M2가 마그네슘, 아연 또는 리튬이고 R3이 메틸, 에틸, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 헥실, 페닐, 비닐, 알릴 및 메시틸로 이루어진 그룹으로부터의 라디칼인 화학식 (VI)의 화합물이다. M2가 Mg이고, X는 Cl 또는 Br이며, R3은 이소프로필, 부틸, 헥실 또는 에틸로 이루어진 그룹으로부터의 라디칼인 그리냐드 화합물이 바람직하다. 이소프로필마그네슘 클로라이드, 에틸마그네슘 브로마이드 및 부틸마그네슘 클로라이드가 특히 바람직하다.
유기 금속 시약은 또한 LiCl과 조합하여 사용될 수 있다. 시약은 테트라하이드로푸란, 2-메틸테트라하이드로푸란, 디옥산, 디에틸 에테르, tert-부틸 메틸 에테르 또는 사이클로펜틸 메틸 에테르와 같은 용매 중에서의 용액으로서 사용된다. 이들 용매의 혼합물도 적합하다. 유기 금속 시약은 화학식 (V)의 화합물을 기준으로 2:1 내지 0.7:1 몰 당량의 정량적 비율로 사용된다. 1:1 내지 1.5:1이 바람직하고, 1.1:1이 특히 바람직하다.
화학식 (V)의 화합물은 일반적으로 본 발명에 따른 방법의 제3 단계의 반응에서 용매에 용해된다. 적합한 용매는 테트라하이드로푸란, 2-메틸테트라하이드로푸란, 디옥산, 디에틸 에테르, tert-부틸 메틸 에테르, 톨루엔, 크실렌 및 사이클로펜틸 메틸 에테르이다. 톨루엔, 테트라하이드로푸란 및 2-메틸테트라하이드로푸란이 바람직하고, 톨루엔이 특히 바람직하다.
유기 금속 종의 형성 후, 이는 이산화탄소, 디메틸 카보네이트 또는 디에틸 카보네이트와 같은 친전자체로 포착된다. 이산화탄소가 바람직하다. 친전자체는 일반적으로 과량 (1.1 내지 20 몰 당량)으로 사용된다.
본 발명에 따른 방법의 제3 단계의 반응은 일반적으로 -80 내지 0 ℃, 바람직하게는 -30 내지 -10 ℃, 특히 바람직하게는 -25 ℃의 온도에서 수행된다. 반응은 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 제4 단계에서, 화합물 (VII)의 티오기는 임의로 산화 촉매의 존재하에 과산화수소로 산화된다. 적합한 산화 촉매는 Na2WO4, Na2MoO4 및 이들의 수화물뿐만 아니라 아세트산, 포름산 또는 트리플루오로아세트산과 같은 유기산과 조합된 황산이다.
산화 촉매는 화학식 (VII)의 화합물을 기준으로 1 내지 20 몰%의 양으로 사용된다. 5 내지 15 몰%가 바람직하고, 10 몰%가 특히 바람직하다.
과산화수소는 화학식 (VII)의 화합물을 기준으로 2 내지 10 몰 당량, 바람직하게는 3 내지 8 몰 당량, 특히 바람직하게는 3.5 내지 5 몰 당량으로 사용된다. 일반적으로 과산화수소는 20 내지 35% 세기의 수용액으로서 사용된다.
본 발명에 따른 방법의 제4 단계의 반응은 일반적으로 30 내지 110 ℃, 바람직하게는 40 내지 80 ℃, 특히 바람직하게는 50 내지 70 ℃의 온도에서 수행된다. 반응은 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 제4 단계의 반응은 일반적으로 용매 중에서 수행된다. 적합한 용매는 톨루엔, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 아세트산, 포름산 및 물이다. 톨루엔, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 포름산 및 물이 바람직하다. 톨루엔, 부틸 아세테이트, 아세트산 및 물이 특히 바람직하다.
R1 및 R2가 특정 치환체인 화학식 (III)의 화합물은 신규하며 본 발명에 따른 방법의 제2 단계의 출발 물질로서 매우 적합하다. 따라서, 본 발명은 추가로 하기 화학식 (III)의 화합물을 제공한다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 염소, 불소, 메톡시 및 에톡시로 이루어진 군으로부터 선택된 s개의 라디칼로 치환된 C1-4 알킬 또는 페닐이고,
s는 1, 2 또는 3이다.
바람직하게는, 화학식 (III)에서의 R1 및 R2는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필 또는 n-부틸이다. 특히 바람직하게는, R1 및 R2는 각 경우 메틸이다.
화학식 (V)의 화합물이 또한 신규하며, 본 발명에 따른 방법의 제3 단계의 출발 물질로서 매우 적합하다. 따라서, 본 발명은 하기 화학식 (V)의 화합물을 제공한다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 염소, 불소, 메톡시 및 에톡시로 이루어진 군으로부터 선택된 s개의 라디칼로 치환된 C1-4 알킬 또는 페닐이고,
s는 1, 2 또는 3이다.
바람직하게는, 화학식 (V)에서의 R1 및 R2는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필 또는 n-부틸이다. 특히 바람직하게는, R1 및 R2는 각 경우 메틸이다.
본 발명에 따른 방법의 단계 2에서는 상당 과량의 산화제뿐만 아니라 비교적 고온 및 상대적으로 긴 반응시간을 사용하여 화학식 (VIII)의 화합물을 제공한다. 화학식 (VIII)의 화합물이 또한 신규하며, 농약적으로 효과적인 다른 화합물의 출발 물질로서 작용할 수 있다. 따라서, 본 발명은 하기 화학식 (VIII)의 화합물을 추가로 제공한다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 염소, 불소, 메톡시 및 에톡시로 이루어진 군으로부터 선택된 s개의 라디칼로 치환된 C1-4 알킬 또는 페닐이고,
s는 1, 2 또는 3이다.
n은 1 또는 2이다.
하기 실시예는 이에 제한 없이 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
2-
메틸
-3-(
메틸설포닐
)-4-(
트리플루오로메틸
)벤조산의 제조
단계
1: 2
-
메틸
-1,3-
비스
(
메틸설파닐
)-4-(
트리플루오로메틸
)벤젠
2,4-디클로로-3-메틸트리플루오로벤젠 (29.7 g, 130 mmol, 1 eq.)을 먼저 150 ml의 DMSO에 도입하고, 맑은 용액이 형성될 때까지 10분 동안 교반하였다. NaSMe (24 g, 325 mmol, 2.5 eq.)를 빙냉하에 나누어 첨가하였다. 발열이 가라앉으면, 혼합물을 40 ℃로 가열하고, 20시간 동안 후-교반하였다. 실온으로 냉각시킨 후, Me2SO4 3.3 g (26 mmol, 0.2 eq.)을 첨가하고, 혼합물을 30분 동안 후-교반하였다. 냉각하면서, 20% 세기 NaOH 30 ml를 첨가하고, 혼합물을 30분 동안 후-교반하였다. 혼합물을 물 250 ml로 희석하고, 메틸사이클로헥산으로 3회 추출하였다. 합쳐진 유기상을 물 및 포화 염화나트륨 용액으로 세척하고, Na2SO4 상에서 건조시키고, 용매를 감압하에 제거하였다. 2-메틸-1,3-비스(메틸설파닐)-4-(트리플루오로메틸)벤젠 29.5 g (88% 수율)을 무색 오일로서 수득하였다.
1H NMR (600MHz, CDCl3) δ = 7.53 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 2.65 (s, 3H), 2.50 (s, 3H), 2.26 (s, 3H). GC/MS: m/e = 252 (M); 237 (M-H3C . ).
단계
2: 2
-
메틸
-3-
메틸설파닐
-1-
메틸설피닐
-4-(
트리플루오로메틸
)벤젠
2-메틸-1,3-비스(메틸설파닐)-4-(트리플루오로메틸)벤젠 (2 g, 7.9 mmol, 1 eq.)을 먼저 0.5 ml의 아세트산 (8.7 mmol, 1.1 eq.)에 도입하였다. 2.05 ml의 35% 세기 H2O2 용액 (23.8 mmol, 3 eq.)을 1시간에 걸쳐 계량하고, 혼합물을 실온에서 2시간 동안 후-교반하였다. 혼합물을 중아황산염 용액과 혼합하여 과산화물을 파괴시켰다. 아세트산을 회전 증발기에서 제거하였다. 물 및 디클로로메탄을 첨가하고, 유기상을 분리하였다. 이것을 물 및 중탄산염 용액으로 세척한 후, 회전 증발기에서 용매를 제거하였다. 이로써 2-메틸-3-메틸설파닐-1-메틸설피닐-4-(트리플루오로메틸)벤젠을 백색 고체로서 75%의 수율로 수득하였다. 존재하는 모든 양의 비스-설폭시드 (R1 = R2 = Me, n = 1인 일반 화합물 (VIII))은 MeOH/물로 재결정하거나, 크로마토그래피하여 분리할 수 있다.
1H-NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.10 (d, J = 8.3 Hz, 1H) 7.85 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 2.71 (s, 3H), 2.64 (s, 3H), 2.29 (s, 3H). GC/MS: m/e = 268.
단계
3: 2
-
메틸
-3-
메틸설파닐
-4-(
트리플루오로메틸
)벤조산
모든 작업은 보호 가스하에서 수행하였다. 60 ml의 톨루엔을 먼저 넣고, -25 ℃로 냉각시켰다. 2-메틸-3-메틸설파닐-1-메틸설피닐-4-(트리플루오로메틸)벤젠 (10 g, 36.4 mmol, 1 eq.)을 40 ml의 톨루엔에 용해시켰다. 다른 용기에서, 3.26 몰 EtMgBr/2-메틸테트라하이드로푸란 용액 15 ml를 우선 도입하고, 24.3 ml의 테트라하이드로푸란 및 9.3 ml의 2-메틸테트라하이드로푸란으로 희석시켰다. 생성된 그리냐드 용액의 적정 농도는 1.03M이다.
이어, 2-메틸-3-메틸설파닐-1-메틸설피닐-4-(트리플루오로메틸)벤젠 및 EtMgBr의 용액을 -25 ℃에서 30 분에 걸쳐 반응 플라스크에 동시에 적가하였다. 혼합물을 이 온도에서 40분간 후-교반한 다음, 건조 CO2를 도입하였다. 내부 온도는 -10 ℃ 이하로 유지하였다. 반응 용액을 실온에 도달시킨 다음, 진한 HCl과 혼합하였다. 상을 분리하여 수성상을 톨루엔으로 2회 후-세척하였다. 합쳐진 유기상을 1N 수성 NaOH로 염기성으로 만들었다. 수성상을 분리하고, 유기상을 1N NaOH로 2회 후-추출하였다. 수성상을 진한 HCl로 pH 0-1로 조정한 다음에, 에틸 아세테이트로 3회 추출하였다. 합쳐진 유기상을 Na2SO4 상에서 건조시킨 다음, 용매를 감압하에 제거하였다. 2-메틸-3-메틸설파닐-4-(트리플루오로메틸)벤조산 6.2 g (NMR 정량화에 따른 수율 59%)을 약간 누르스름한 황색 고체로서 분리하였다.
단계
4: 2
-
메틸
-3-(
메틸설포닐
)-4-(
트리플루오로메틸
)벤조산
2-메틸-3-(메틸설파닐)-4-(트리플루오로메틸)벤조산 (9.6 g, 38 mmol, 1 eq.)을 60 ml의 n-부틸 아세테이트에 용해시키고, 1.1 g (3.8 mmol, 0.1 eq.)의 텅스텐산나트륨 이수화물을 첨가하였다. 혼합물을 격렬하게 교반하고, 55 ℃로 가열하였다. 주입 펌프를 사용하여 내부 온도 55-60 ℃에서 35% 세기 과산화수소 용액 16.2 ml (190 mmol, 5 eq.)을 2시간에 걸쳐 계량하였다. 혼합물을 이 온도에서 8 내지 10시간 동안 추가로 교반하였다. 그런 다음, 혼합물을 냉각시키고, 묽은 HCl로 pH 0으로 조정하였다. 반응 용액을 60 ℃로 가열하고, 상을 뜨거운 채로 분리하였다. 대부분의 n-부틸 아세테이트를 감압하에 제거하였다. 생성된 농후 슬러리를 냉각시키고, 소량의 톨루엔과 혼합하였다. 침전물을 흡입 여과하고, 물로 세척하고 건조시켰다. 2-메틸-3-(메틸설포닐)-4-(트리플루오로메틸)벤조산 8.7 g (수율 81%)을 백색 고체로서 수득하였다.
일반 화합물 (VIII)의 제조
실시예
: 2-
메틸
-1,3-
비스
(
메틸설포닐
)-4-(
트리플루오로메틸
)벤젠
0.7 g의 2-메틸-1,3-비스(메틸설파닐)-4-(트리플루오로메틸)벤젠 (2.77 mmol, 1 eq.)을 먼저 디클로로메탄 (50 ml)에 도입하였다. 5 g의 메타-클로로퍼벤조산 (22 mmol, 8 eq.)을 실온에서 첨가하고, 혼합물을 20시간 동안 교반하였다. 생성된 현탁액을 여과하고, 여액을 중탄산염 수용액 및 염화나트륨 수용액으로 세척하였다. 감압하에서 용매를 제거하여 백색 고체를 얻고, 이를 재결정화를 위해 이소프로판올 50 ml 중에서 가열한 후 냉각시키고 여과하였다. 건조시켜 2-메틸-1,3-비스(메틸설포닐)-4-(트리플루오로메틸)벤젠 0.76 g (86% 수율)을 백색 결정으로서 수득하였다.
1H-NMR (600 MHz, CD3CN): δ 8.48 (d, 1H, J = 8.6 Hz) 8.08 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 3.35 (s, 3H), 3.26 (s, 3H), 3.11 (s, 3H). LC/MS (ESI-neg): m/e = 315.0 (M-1).
Claims (15)
- 화학식 (I)의 2-알킬-4-트리플루오로메틸-3-알킬설포닐벤조산의 제조 방법으로서,
a) 제1 단계에서, 1,3-디클로로-2-알킬-4-트리플루오로메틸벤젠 (II)을 티올레이트 (IV)와 반응시켜 아릴 비스티오에테르 (III)를 제공하고,
b) 제2 단계에서, 아릴 비스티오에테르 (III)를 산화제와 선택적으로 반응시켜 아릴 모노설폭시드 모노티오에테르 (V)를 제공하고,
c) 제3 단계에서, 설폭시드기를 금속으로 교환시키고 이렇게 수득한 유기 금속 화합물을 벤조산 (VII)으로 전환시키고,
d) 제4 단계에서, 잔존하는 티오기를 임의로 산화 촉매의 존재하에 산화제로 산화시키는 것을 특징으로 하고:
e) 상기 치환체들은 다음과 같이 정의된다:
R1 및 R2는 서로 독립적으로 염소, 불소, 메톡시 및 에톡시로 이루어진 군으로부터 선택된 s개의 라디칼로 치환된 C1-4 알킬 또는 페닐이고,
R3은 염소, 불소, 메톡시 및 에톡시로 이루어진 군으로부터의 s 라디칼로 치환된 C1-10 알킬 또는 페닐이고,
M1은 리튬, 나트륨 또는 칼륨이고,
M2는 마그네슘, 리튬 또는 아연이고,
X는 클로라이드, 브로마이드 또는 아이오다이드이고,
m은 0 또는 1이고,
n은 1 또는 2이고,
s는 0, 1, 2 또는 3이다. - 제1항에 있어서, NaSMe 또는 KSMe가 티올레이트 (IV)로서 사용되는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 티올레이트 (IV)는 화학식 (II)의 화합물을 기준으로 2:1 내지 3:1의 몰비로 사용되는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 단계에서, 디메틸설폭시드, 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드 또는 N-메틸-2-피롤리돈이 용매로서 사용되는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 단계에서 H2O2가 선택적 산화를 위해 사용되는 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 단계에서 아세트산, 프로피온산 또는 디클로로메탄이 용매로서 사용되는 방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 각 경우 화학식 (VII)의 화합물을 기준으로 5 내지 15 몰% 양의 Na2WO4 및 3 내지 8 몰 당량의 양의 과산화수소가 산화 촉매로서 사용되는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 제3 단계에서, 에틸마그네슘 브로마이드, 부틸마그네슘 클로라이드 또는 이소프로필마그네슘 클로라이드가 유기 금속 화합물로서 사용되는 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 제3 단계에서 톨루엔, 테트라하이드로푸란 또는 2-메틸테트라하이드로푸란이 용매로서 사용되는 방법.
- 제10항에 있어서, R1 및 R2는 메틸, 에틸 n-프로필, 이소프로필 또는 n-부틸인 화합물.
- 제12항에 있어서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필 또는 n-부틸인 화합물.
- 제14항에 있어서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필 또는 n-부틸인 화합물.
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