KR20170139600A - 광경화성 수지 조성물, 이것을 이용하는 경화막의 제조 방법 및 당해 경화막을 포함하는 적층체 - Google Patents

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Abstract

2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제를 함유하고,
상기 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 상기 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 상기 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시키는, 광경화성 수지 조성물.
식(1) : X+Y+Z=100
식(2) : X≥50
식(3) : 3≤Y≤20
식(4) : 25≤Z≤40

Description

광경화성 수지 조성물, 이것을 이용하는 경화막의 제조 방법 및 당해 경화막을 포함하는 적층체
본 발명은 광경화성 수지 조성물, 이것을 이용하는 경화막의 제조 방법 및 당해 경화막을 포함하는 적층체에 관한 것이다.
투명 기재(基材) 필름에 하드 코팅층을 형성하기 위한 광경화성 수지 조성물로서는, 예를 들면, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 광중합 개시제를 포함하는 광경화성 수지 조성물이 알려져 있었다(특허문헌 1).
일본공개특허 특개2009-204725호 공보
상기 특허문헌 1에 기재된 광경화성 수지 조성물은, 얻어지는 경화막의 표면 경도(연필 경도)가 반드시 충분히 만족할 수 있는 것은 아니었다.
본 발명은 이하의 〔1〕∼〔5〕에 기재된 발명을 포함한다.
〔1〕 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제를 함유하고, 상기 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 상기 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 상기 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시키는, 광경화성 수지 조성물.
식(1) : X+Y+Z=100
식(2) : X≥50
식(3) : 3≤Y≤20
식(4) : 25≤Z≤40
〔2〕 상기 폴리로탁산이 (메타)아크릴로일기를 갖는, 〔1〕기재의 광경화성 수지 조성물.
〔3〕 〔1〕 또는 〔2〕기재의 광경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하여 조성물층을 얻는 공정과, 상기 조성물층에 노광하여 상기 조성물층을 경화시키는 공정을 포함하는 경화막의 제조 방법.
〔4〕 기재와, 상기 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 경화막을 구비하고, 상기 경화막이 〔1〕 또는 〔2〕기재의 광경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 적층체.
〔5〕 상기 기재가 다층 구조인 〔4〕기재의 적층체.
〔6〕 상기 기재가 (메타)아크릴 수지를 포함하는 〔4〕 또는 〔5〕기재의 적층체.
〔7〕 〔5〕 또는 〔6〕기재의 적층체를 구비하는 표시 장치.
본 발명의 광경화성 수지 조성물을 이용하면, 충분한 표면 경도를 가지고 또한 외관이 양호한 경화막이 얻어진다.
도 1은, 적층체의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는, 표시 장치의 제 1의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은, 표시 장치의 제 2의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
이하, 본 발명의 적합한 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다. 본 명세서 중, 「(메타)아크릴레이트」란 아크릴레이트와 메타크릴레이트의 총칭을 나타내고, 「(메타)아크릴로일기」란 아크릴로일기와 메타크릴로일기의 총칭을 나타내며, 「(메타)아크릴 수지」란 아크릴 수지와 메타크릴 수지의 총칭을 나타낸다.
[광경화성 수지 조성물]
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제를 함유한다.
2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜비스β-(메타)아크릴로일옥시프로피네이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리(2-히드록시에틸)이소시아네이트디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 2,3-비스(메타)아크릴로일옥시에틸옥시메틸[2.2.1]헵탄, 폴리1,2-부타디엔디(메타)아크릴레이트, 1,2-비스(메타)아크릴로일옥시메틸헥산, 노나에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라데칸에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 10-데칸디올(메타)아크릴레이트, 3,8-비스(메타)아크릴로일옥시메틸트리시클로[5.2.10]데칸, 수소 첨가 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴로일옥시디에톡시페닐)프로판, 1,4-비스((메타)아크릴로일옥시메틸)시클로헥산, 히드록시피발산 에스테르네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 에폭시 변성 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
<폴리로탁산>
폴리로탁산은, 복수의 환상(環狀) 분자의 개구부가 직쇄상 분자에 의해 꼬치 형상으로 관통되고, 복수의 환상 분자가 직쇄상 분자를 포접(包接)하여 이루어지는 유사 폴리로탁산의 양 말단(직쇄상 분자의 양 말단)에, 환상 분자가 유리되지 않도록 블록기를 배치하여 이루어진다.
(직쇄상 분자)
폴리로탁산에 포함되는 직쇄상 분자는, 환상 분자에 포접되고, 비공유결합적으로 일체화할 수 있는 분자 또는 물질로서, 직쇄상의 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「직쇄상 분자」란, 고분자를 포함하는 분자 및 기타 상기의 요건을 충족시키는 모든 물질을 말한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「직쇄상 분자」의 「직쇄」는 실질적으로 「직쇄」인 것을 의미한다. 즉, 회전자인 환상 분자가 회전 가능, 또는 직쇄상 분자 상에서 환상 분자가 슬라이딩 또는 이동 가능하면, 직쇄상 분자는 분기쇄를 갖고 있어도 된다. 또한, 「직쇄」의 길이는, 직쇄상 분자 상에서 환상 분자가 슬라이딩 또는 이동 가능하면, 그 길이에 특별히 제한은 없다.
직쇄상 분자로서는, 예를 들면. 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리(메타)아크릴산, 셀룰로오스계 수지(카르복시메틸셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스 등), 폴리아크릴아미드, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐아세탈계 수지, 폴리비닐메틸에테르, 폴리아민, 폴리에틸렌이민, 카제인, 젤라틴, 전분, 또는 이들의 공중합체 등의 친수성 폴리머; 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 기타 올레핀계 단량체와의 공중합 수지 등), 폴리에스테르 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리스티렌계 수지(폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합 수지 등), 아크릴계 수지(폴리메틸메타크릴레이트, (메타)아크릴산 에스테르 공중합체, 아크릴로니트릴-메틸아크릴레이트 공중합 수지 등), 폴리카보네이트 수지, 폴리우레탄 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합 수지, 폴리비닐부티랄 수지 등의 소수성 폴리머; 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다.
친수성 폴리머 중에서는, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 및 폴리에틸렌글리콜과 폴리프로필렌글리콜의 공중합체가 바람직하다. 소수성 폴리머 중에서는, 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔, 폴리테트라히드로푸란, 폴리디메틸실록산, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌이 바람직하다. 직쇄상 분자로서는 친수성 폴리머가 보다 바람직하고, 폴리에틸렌글리콜이 더 바람직하다.
직쇄상 분자는 그 분자량이 1,000 이상, 예를 들면 1,000∼1,000,000, 바람직하게는 5,000 이상, 예를 들면 5,000∼1,000,000 또는 5,000∼500,000, 보다 바람직하게는 10,000 이상, 예를 들면 10,000∼1,000,000, 10,000∼500,000 또는 10,000∼300,000인 것이 좋다. 또한, 직쇄상 분자가 생분해성 분자이면, 환경에 대한 부하가 적어, 「친환경(에코로지컬)」인 점에서 바람직하다.
직쇄상 분자는, 그 양 말단에 반응기를 갖는 것이 바람직하다. 이 반응기를 가짐으로써, 블록기와 용이하게 반응할 수 있다. 반응기는, 이용하는 블록기에 의존하나, 예를 들면 수산기, 아미노기, 카르복실기, 티올기 등을 들 수 있다.
(환상 분자)
환상 분자는, 상기 직쇄상 분자를 포접 가능한 환상 분자이면, 어느 환상 분자여도 이용할 수 있다.
또한, 본 명세서에 있어서, 「환상 분자」란, 환상 분자를 포함한 다양한 환상 물질을 말한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「환상 분자」란, 실질적으로 환상인 분자 또는 물질을 말한다. 즉, 「실질적으로 환상이다」란, 영자의 「C」와 같이, 완전하게 폐환(閉環)이 아닌 것을 포함하는 뜻이고, 영자의 「C」의 일단과 다단이 결합하고 있지 않고 포개진 나선 구조를 갖는 것도 포함하는 뜻이다. 또한, 후술하는 「비시클로 분자」에 대한 환에 대해서도, 「환상 분자」의 「실질적으로 환상이다」와 동일하게 정의할 수 있다. 즉, 「비시클로 분자」의 일방의 환 또는 쌍방의 환은, 영자의 「C」와 같이, 완전하게 폐환이 아닌 것이어도 되고, 영자의 「C」의 일단과 타단이 결합하고 있지 않고 포개진 나선 구조를 갖는 것이어도 된다.
환상 분자로서, 예를 들면, 다양한 시클로덱스트린류(예를 들면 α-시클로덱스트린, β-시클로덱스트린, γ-시클로덱스트린, 디메틸시클로덱스트린 및 글루코실시클로덱스트린, 이들의 유도체 또는 변성체 등), 크라운에테르류, 벤조크라운류, 디벤조크라운류 및 디시클로헥사노크라운류, 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다.
상술한 시클로덱스트린류 및 크라운에테르류 등은, 그 종류에 따라 환상 분자의 개구부의 크기가 상이하다. 따라서, 이용하는 직쇄상 분자의 종류, 구체적으로는 이용하는 직쇄상 분자를 원기둥 형상이라고 판단한 경우, 그 원기둥의 단면의 직경, 직쇄상 분자의 소수성 또는 친수성 등에 따라, 이용하는 환상 분자를 선택할 수 있다. 또한, 개구부가 상대적으로 큰 환상 분자와, 상대적으로 직경이 작은 원기둥 형상의 직쇄상 분자를 이용한 경우, 환상 분자의 개구부에 2 이상의 직쇄상 분자를 포접할 수도 있다. 이 중, 시클로덱스트린류는 생분해성을 갖기 때문에, 상술한 「친환경」인 점에서 바람직하다.
환상 분자로서 α-시클로덱스트린을 이용하는 것이 바람직하다.
직쇄상 분자를 포접하는 환상 분자의 개수(포접량)는, 환상 분자가 시클로덱스트린인 경우, 그 최대 포접량을 1로 하면 0.05∼0.60이 바람직하고, 0.10∼0.50이 더 바람직하고, 0.20∼0.40이 더 바람직하다. 0.05 미만에서는 도르래 효과가 발현되지 않는 경우가 있고, 0.60을 초과하면, 환상 분자인 시클로덱스트린이 너무 조밀하게 배치되어 시클로덱스트린의 가동성이 저하하는 경우가 있고, 또한 시클로덱스트린 자체의 유기 용제에 대한 비용해성이 강화되어버려, 얻어지는 폴리로탁산의 유기 용제에 대한 용해성도 저하하는 경우가 있다.
환상 분자는 그 환의 외측에 반응기를 갖는 것이 바람직하다. 환상 분자끼리를 결합 또는 가교할 때, 이 반응기를 이용하여 용이하게 반응을 행할 수 있다. 반응기는, 이용하는 가교제 등에도 의존하나, 예를 들면 수산기, 아미노기, 카르복실기, 티올기, 알데히드기 등을 들 수 있다. 또한, 직쇄상 분자와 블록기의 반응(블록화 반응) 시에 블록기와 반응하지 않는 기를 이용하는 것이 좋다.
(블록기)
블록기는, 환상 분자가 직쇄상 분자에 의해 꼬치 형상이 된 형태를 보지(保持)하는 기이면, 어떠한 기를 이용해도 된다. 이와 같은 기로서, 예를 들면 「큰 부피」를 갖는 기 및/또는 「이온성」을 갖는 기 등을 들 수 있다. 여기서, 「기」라는 것은, 분자기 및 고분자기를 포함한 다양한 기를 의미한다. 또한, 「이온성」을 갖는 기의 「이온성」과, 환상 분자가 갖는 「이온성」이 서로 영향을 줌으로써, 예를 들면 서로 반발함으로써, 환상 분자가 직쇄상 분자에 의해 꼬치 형상이 된 형태를 보지할 수 있다.
또한, 블록기는, 상술과 같이, 꼬치 형상이 된 형태를 보지하는 것이면, 고분자의 주쇄여도 되고 측쇄여도 된다. 블록기가 고분자 A인 경우, 매트릭스로서 고분자 A가 있고 그 일부에 본 실시형태에 관련된 화합물(폴리로탁산)이 포함되는 형태여도 되고, 반대로 매트릭스로서 본 실시형태에 관련된 화합물이 있고 그 일부에 고분자 A가 포함되는 형태여도 된다. 이와 같이, 다양한 특성을 갖는 고분자 A와 조합함으로써, 본 실시형태에 관련된 화합물의 특성과 고분자 A의 특성을 조합하여 갖는 복합 재료를 형성할 수 있다.
구체적으로는, 분자기의 블록기로서, 2,4-디니트로페닐기, 3,5-디니트로페닐기 등의 디니트로페닐기류, 시클로덱스트린류, 아다만탄기류, 트리틸기류, 플루오레세인류 및 피렌류, 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면, 환상 분자로서 α-시클로덱스트린 및 직쇄상 분자로서 폴리에틸렌글리콜을 이용하는 경우의 블록기로서, 시클로덱스트린류, 2,4-디니트로페닐기, 3,5-디니트로페닐기 등의 디니트로페닐기류, 아다만탄기류, 트리틸기류, 플루오레세인류 및 피렌류, 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다.
다음에, 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물에 바람직하게 이용할 수 있는 변성 폴리로탁산에 대하여 설명한다. 본 실시형태에서는 이하에 설명하는 변성을 복수 병용한 폴리로탁산을 바람직하게 이용할 수 있다.
<가교 폴리로탁산>
가교 폴리로탁산은, 2개 이상의 폴리로탁산이 그 환상 분자끼리가 화학 결합되어 있는 화합물을 말하고, 이 2개의 환상 분자는 동일해도 되고 상이해도 된다. 이 때, 화학 결합은 단순한 결합이여도 되고, 다양한 원자 또는 분자를 개재한 결합이어도 된다.
또한 환상 분자가 가교환 구조를 갖는 분자, 즉 제 1 및 제 2 환을 갖는 「비시클로 분자」를 이용할 수 있다. 이 경우, 예를 들면 「비시클로 분자」와 직쇄상 분자를 혼합하고, 「비시클로 분자」의 제 1 환 및 제 2 환에 직쇄상 분자를 꼬치 형상으로 포접하여 가교 폴리로탁산을 얻을 수 있다.
이 가교 폴리로탁산은 직쇄상 분자에 꼬치 형상으로 관통되어 있는 환상 분자가 당해 직쇄상을 따라 이동 가능하기 때문에(도르래 효과), 점탄성을 가지고, 장력이 가해져도, 이 도르래 효과에 의해 당해 장력을 균일하게 분산시켜, 내부 응력을 완화할 수 있다.
<소수화 수식 폴리로탁산>
폴리로탁산의 환상 분자가 α-시클로덱스트린 등의 시클로덱스트린류인 경우, 본 실시형태에서는 시클로덱스트린의 수산기의 적어도 하나가 다른 유기기(소수기)에 의해 치환된 소수화 수식 폴리로탁산은, 도막 형성 조성물에 포함되는 용제에 대한 용해성이 향상하기 때문에, 더 바람직하게 이용된다.
소수기의 구체예로서, 예를 들면 알킬기, 벤질기, 벤젠 유도체 함유기, 아실기, 실릴기, 트리틸기, 질산 에스테르기, 토실기, 광경화 부위로서 알킬 치환 에틸렌성 불포화기, 열경화 부위로서 알킬 치환 에폭시기 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기의 소수성 수식 폴리로탁산에 있어서는, 상술한 소수기의 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 갖고 있어도 된다.
상기 소수기에 따른 수식도는, 시클로덱스트린의 수산기가 수식될 수 있는 최대수를 1로 하면, 0.02 이상인 것이 바람직하고, 0.04 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.06 이상인 것이 더 바람직하다.
0.02 미만이면, 유기 용제에 대한 용해성이 충분한 것이 되지 않아, 불용성물(이물 부착 등에 유래하는 돌기부)이 생성되는 경우가 있다.
여기서, 시클로덱스트린의 수산기가 수식될 수 있는 최대수란, 바꿔 말하면, 수식하기 전에 시클로덱스트린이 가지고 있었던 전체 수산기수이다. 수식도란, 바꿔 말하면, 수식된 수산기수의 전체 수산기수에 대한 비이다.
또한, 소수기는 적어도 1개이면 되지만, 그 경우, 시클로덱스트린환 1개에 대하여 1개의 소수기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 관능기를 갖고 있는 소수기를 도입함으로써, 다른 폴리머와의 반응성을 향상시키는 것이 가능해진다.
<불포화 이중 결합을 갖는 폴리로탁산>
환상 분자 상당 부분에 불포화 결합기를 도입할 수 있다. 이 기의 도입에 의해, 중합성 화합물과의 중합이 가능해진다.
불포화 결합기의 도입은, 예를 들면, 시클로덱스트린 등의 수산기(-OH)를 갖는 환상 분자의 적어도 일부를 불포화 결합기, 바람직하게는 불포화 이중 결합기로 치환함으로써 행할 수 있다.
불포화 결합기, 예를 들면 불포화 이중 결합기로서, 올레피닐기(올레핀성 이중 결합을 갖는 기)를 들 수 있고, 예를 들면 아크릴기, (메타)아크릴로일기, 비닐에테르기, 스티릴기 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
불포화 이중 결합기의 도입은, 다음에 드는 방법을 이용할 수 있다. 즉, 이소시아네이트 화합물 등에 의한 카르바메이트 결합 형성에 의한 방법; 카르본산 화합물, 산클로라이드 화합물 또는 산무수물 등에 의한 에스테르 결합 형성에 의한 방법; 실란 화합물 등에 의한 실릴에테르 결합 형성에 의한 방법; 클로로탄산 화합물 등에 의한 카보네이트 결합 형성에 의한 방법 등을 들 수 있다.
카르바모일 결합을 개재하여, 불포화 이중 결합기로서 (메타)아크릴로일기를 도입하는 경우, 폴리로탁산을 DMSO, DMF 등의 탈수 용매에 용해하고, 이소시아네이트기를 가지는 (메타)아크릴로일 시약을 첨가함으로써 행한다. 그 외, 에테르 결합이나 에스테르 결합을 개재하여 도입하는 경우, 글리시딜기나 산클로라이드 등의 활성기를 가지는 (메타)아크릴로일 시약을 이용할 수도 있다.
환상 분자가 갖는 수산기를 불포화 이중 결합기로 치환하는 공정은, 유사 폴리로탁산을 조제하는 공정 전이어도, 공정 사이여도, 공정 후여도 된다. 또한, 유사 폴리로탁산을 블록화하여 폴리로탁산을 조제하는 공정 전이어도, 공정 사이여도, 공정 후여도 된다. 게다가, 폴리로탁산이 가교 폴리로탁산인 경우, 폴리로탁산끼리를 가교시키는 공정 전이어도, 공정 사이여도, 공정 후여도 된다. 이들의 2 이상의 시기에 마련할 수도 있다. 치환 공정은, 유사 폴리로탁산을 블록화하여 폴리로탁산을 조제한 후로서, 폴리로탁산끼리의 가교 전에 마련하는 것이 바람직하다. 치환 공정에 있어서 이용되는 조건은, 치환하는 불포화 이중 결합기에 의존하나, 특별히 한정되지 않고, 다양한 반응 방법, 반응 조건을 이용할 수 있다.
본 실시형태에서 이용하는 폴리로탁산은, 소수화 수식 폴리로탁산이 바람직하고, 불포화 이중 결합을 갖는 폴리로탁산이 보다 바람직하며, (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리로탁산이 더 바람직하다.
이러한 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리로탁산으로서는, 어드밴스트·소프트 머티리얼즈 주식회사 제품의 SeRM(등록상표) 키·믹스처 SM3400C, SA3400C, SA2400C 등을 들 수 있다.
<실리카 입자>
실리카 입자로서는 분체 실리카나, 실리카 입자가 용매에 분산된 오르가노실리카졸 등을 이용할 수 있다. 이러한 실리카 입자는 일반에게 시판되어 있다.
분체 실리카로서는, 아에로실(등록상표) 130, 아에로실(등록상표) 300, 아에로실(등록상표) 380, 아에로실(등록상표) TT600, 아에로실(등록상표) OX50 등(이상, 닛폰아에로실(주) 제품), SYLYSIA 470(후지실리시아(주) 제품), SG 프레이크(일본판유리(주) 제품) 등을 들 수 있다.
오르가노실리카졸로서는, 이소프로필알코올 분산 실리카졸(IPA-ST, IPA-ST-L, IPA-ST-UP, IPA-ST-ZL), 메탄올 분산 실리카졸(MA-ST-M, MA-ST-L, MA-ST-ZL, MA-ST-UP), 디메틸아세트아미드 분산 실리카졸(DMAC-ST, DMAC-ST-ZL), 에틸렌글리콜 분산 실리카졸(EG-ST, EG-ST-ZL), 에틸렌글리콜모노 n-프로필에테르 분산 실리카졸(NPC-ST-30), 프로필렌글리콜모노메틸에테르 분산 실리카졸(PGM-ST), 아세트산 에틸 분산 실리카졸(EAC-ST), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산 실리카졸(PMA-ST), 메틸에틸케톤 분산 실리카졸(MEK-ST, MEK-ST-40, MEK-ST-L, MEK-ST-ZL, MEK-ST-UP, MEK-AC-2104Z, MEK-AC-2130Y, MEK-AC-4130Y, MEK-AC-5140Z), 메틸이소부틸케톤 분산 실리카졸(MIBK-ST, MIBK-ST-L, MIBK-SD, MIBK-SD-L)(이상, 닛산화학공업(주) 제품), OSCAL(등록상표) 시리즈(닛키촉매화성(주) 제품) 등을 들 수 있다.
실리카 입자의 입자경은 바람직하게는 평균 1차 입자경이 100㎚ 이하, 보다 바람직하게는 30㎚ 이하이다. 평균 1차 입자경이 100㎚를 초과하면, 얻어지는 도막의 투명성이 손상되는 경향이 있다.
또한, 본 명세서 중, 실리카 입자의 평균 1차 입자경은, JIS Z 8828 동적 광산란법에 의해 측정되는 값을 나타낸다.
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시킨다.
식(1) : X+Y+Z=100
식(2) : X≥50
식(3) : 3≤Y≤20
식(4) : 25≤Z≤40
식(1) 및 식(2)는, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량이 50질량부 이상인 것을 나타낸다. X가 50보다 작아질수록, 얻어지는 경화막의 표면 경도가 저하하는 경향이 있다. X는 70 이하인 것이 바람직하다. 식(2)는 식(2')인 것이 보다 바람직하다. X는 50보다 큰 것이 더 바람직하다.
식(2') : 50≤X≤70
식(1) 및 식(3)은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 폴리로탁산의 함유량이 3질량부 이상, 20질량부 이하인 것을 나타낸다. Y가 3보다 작아질수록, 얻어지는 경화막에 크랙이 생기기 쉬워져 외관이 손상되는 경향이 있다. Y가 20보다 커질수록, 얻어지는 경화막의 표면 경도가 저하하는 경향이 있다. 식(3)은 식(3')인 것이 바람직하다.
식(3') : 5≤Y≤15
식(1) 및 식(4)는, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 실리카 입자가 25질량부 이상, 40질량부 이하인 것을 나타낸다. Z가 25보다 작아질수록, 얻어지는 경화막의 표면 경도가 저하하는 경향이 있다. Z가 40보다 커질수록, 얻어지는 경화막에 크랙이 생기기 쉬워져 외관이 손상되는 경향이 있다. 식(4)는 식(4')인 것이 바람직하다.
식(4') : 25 <Z <40
<광중합 개시제>
광중합 개시제로서는, 자외선 흡수제의 존재하에 있어서 광조사에 의해 광중합 개시능을 발현할 수 있는 중합개시제가 바람직하고, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 안트라퀴논, 1-(4-이소프로필페닐-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 카르바졸, 크산톤, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 1,1-디메톡시데옥시벤조인, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 티오크산톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 트리페닐아민, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 플루오렌온, 플루오렌, 벤즈알데히드, 벤조인에틸에테르, 벤조이소프로필에테르, 벤조페논, 미힐러케톤, 3-메틸아세토페논, 3,3',4,4'-테트라-tert-부틸퍼옥시카르보닐벤조페논(BTTB), 2-(디메틸아미노)-1-〔4-(모르폴린일)페닐〕-2-(페닐메틸)-1-부탄온, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 벤질 등을 들 수 있다.
광중합 개시제의 함유량은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1∼15질량부, 보다 바람직하게는 2∼10질량부이다. 광중합 개시제의 함유량이 상기의 범위보다 많은 경우, 광중합 개시에 사용되지 않은 광중합 개시제가 잔존하여, 가시광선 투과율이 저하하는 등의 폐해가 생길 우려가 있다. 한편, 상기의 범위보다 적은 경우, 광중합 개시능이 충분하게 발현되지 않아, 자외선 경화형 수지의 경화가 불충분해질 우려가 있다.
<기타 성분>
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은 추가로 대전방지제를 함유하고 있어도 된다. 이러한 대전방지제로서는 금속 산화물 및 금속염이 바람직하다. 당해 금속 산화물로서는, 예를 들면 ITO(인듐-주석 복합 산화물), ATO(안티몬-주석 복합 산화물), 산화주석, 5산화안티몬, 산화아연, 산화지르코늄, 산화티탄, 산화알루미늄 등을 들 수 있다. 금속염으로서는 안티몬산 아연 등을 들 수 있다. 이 대전방지제의 함유량은 요구하는 대전방지 성능에도 따르나, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트, 폴리로탁산, 실리카 입자 및 광중합 개시제의 합계 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1∼100질량부이다. 대전방지제의 함유량이 상기의 범위보다 많을 때에는, 광경화성 수지 조성물의 자외선 경화성에 지장을 초래하거나, 얻어지는 경화막의 가시광선 투과율이 저하하는 경향이 있다. 또한, 대전방지제의 입자경은 0.001∼0.1㎛인 것이 바람직하다. 입자경이 너무 작은 것은 공업적인 생산이 어렵고, 입자경이 너무 큰 것을 이용하면, 얻어지는 경화막의 투명성이 저하하는 경향이 있다.
또한, 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물에는, 필요에 따라 자외선 흡수제, 산화방지제, 착색제, 발수발유 성능을 부여하는 불소 첨가제, 레벨링제 등의 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 레벨링제가 포함됨으로써, 경화 피막의 평활성이나 내찰상성을 높일 수 있다.
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 후술하는 도포하는 공정에 제공하는 점에 있어서, 추가로 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 용제로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올(이소프로필알코올), 1-부탄올, 2-부탄올(sec-부틸알코올), 2-메틸-1-프로판올(이소부틸알코올), 2-메틸-2-프로판올(tert-부틸알코올) 등의 알코올 용제; 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올, 3-메톡시-1-프로판올, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올 등의 알콕시알코올 용제; 디아세톤알코올 등의 케톨 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르 용제;를 들 수 있다.
용제의 함유량은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트, 폴리로탁산, 실리카 입자 및 광중합 개시제의 합계 100질량부에 대하여, 바람직하게는 20∼10000질량부이다.
<광경화성 수지 조성물의 제조>
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제와, 필요에 따라 용제나 대전방지제, 기타 첨가제를 혼합하여 얻어지고, 그들의 혼합 순서 등은 특별히 한정되지 않는다.
[경화막의 제조 방법]
다음에, 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물을 이용하는 경화막의 제조 방법에 대하여 설명한다. 당해 경화막의 제조 방법은, 다음의 공정(1) 및 (2)를 포함한다.
(1) 상기의 광경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하여 조성물층을 얻는 공정
(2) 조성물층에 노광하여 당해 조성물층을 경화시키는 공정
<공정(1)>
상기 기재를 구성하는 수지로서는, (메타)아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리 환상 올레핀 수지, 폴리스티렌 수지, 메타크릴-스티렌 공중합체(MS 수지), 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지), 폴리불화비닐리덴 수지(PVDF 수지) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 (메타)아크릴 수지는, 투명성이 높고, 표면 경도가 높고, 높은 내찰상성을 갖는 경화 피막을 설치하기 쉬우므로 바람직하다. 메타크릴 수지가 보다 바람직하다.
기재의 두께는 바람직하게는 30∼300㎛, 더 바람직하게는 50∼200㎛이다. 이 두께가 상기의 범위보다 얇은 경우에는, 얻어지는 경화막과 기재의 적층체의 강도를 유지할 수 없게 될 우려가 있다. 그 반면, 상기의 범위보다 두꺼운 경우에는, 기재의 투명성이 저하하거나, 굴곡성이 저하하여 바람직하지 않다. 기재에는 각종 첨가제가 함유되어 있어도 된다. 그와 같은 첨가제로서 예를 들면, 안정제, 가소제, 윤활제, 난연제 등을 들 수 있다.
기재는, 통상의 판(시트)이나 필름과 같이 표면이 평면인 것이어도 되고, 볼록 렌즈나 오목 렌즈 등과 같이 표면이 곡면으로 되어 있는 것이어도 된다. 또한, 표면에 작은 요철 등의 미세한 구조가 설치되어 있어도 된다.
기재는 필요에 따라 염료나 안료 등에 의해 착색되어 있어도 되고, 산화방지제나 자외선 흡수제, 고무 입자 등을 함유하고 있어도 된다. 수지 기재의 두께는 바람직하게는 0.1㎜ 이상이고, 또한 바람직하게는 3.0㎜ 이하이다.
기재는 단층의 것이어도 되고, 다층 구조의 것이어도 된다. 다층 구조의 수지 기재로서는, 주층 수지층의 적어도 일방의 면에 (메타)아크릴 수지층이 적층되어 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 다층 구조의 기재로서는, 편광판, 위상차판 등을 포함하는 광학 적층체도 바람직하다.
기재는 판(시트) 형상, 필름 형상, 다층 구조체 등이어도 되고, 기재 표면은 평면 형상이어도 되고 곡면 형상이어도 된다.
기재는 그 표면에 접착층을 갖고 있어도 된다. 접착층은, 경화막을 기재에 밀착시키는 위한 것이고, 통상의 방법에 따라 형성된다. 접착층을 형성하는 접착제로서는, 기재나 경화막의 재질에 따라 적절히 선택되나, 예를 들면 아크릴계 접착제(점착제), 실리콘계 접착제(점착제), 폴리에스테르계 접착제 등이 이용된다. 접착층의 두께는, 얇으면 충분한 접착력이 얻어지지 않고, 너무 두꺼워지면 얻어지는 경화막과 기재의 적층체가 너무 단단해져버려 필름으로서의 유연성이 부족하기 때문에, 0.1∼1㎛의 범위가 바람직하다.
상기의 광경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 방법으로서는, 예를 들면, 롤코팅법, 스핀코팅법, 코일바법, 딥코팅법, 다이코팅법 등을 들 수 있다. 롤코팅법 등, 연속적으로 도포할 수 있는 방법이 생산성 및 생산 비용의 점으로부터 바람직하다.
얻어진 조성물층이 용제를 포함하는 경우는, 추가로 용제를 제거하는 공정(1')를 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 용제 제거는, 예를 들면, 핫플레이트 등의 가열 장치를 이용한 가열 수단 또는 감압 장치를 이용한 감압 수단에 의해, 또는 이러한 수단을 조합하여, 당해 조성물층으로부터 용제를 증발시킴으로써 행해진다. 가열 수단이나 감압 수단의 조건은, 조성물층에 포함되는 용제의 종류 등에 따라 선택할 수 있고, 예를 들면 핫플레이트의 경우, 당해 핫플레이트의 표면 온도를 50∼200℃ 정도의 범위로 하는 것이 바람직하다. 또한, 감압 수단에서는, 적당한 감압기의 안에, 조성물층을 갖는 기재를 봉입한 후, 당해 감압기의 내부 압력을 1∼1.0×105Pa 정도로 하면 된다. 이와 같이 하여 조성물층으로부터 용제를 제거함으로써, 당해 기재 상에는 용매를 포함하지 않는 조성물층이 형성된다.
<공정(2)>
노광은, 통상 자외선의 조사에 의해 행해진다. 이 때, 자외선은 가시광선 영역의 광선을 포함하고, 광중합 개시제는 광조사에 의해 광중합 개시능을 발현하여 공정(1)에서 얻어진 조성물층을 경화시킨다. 자외선은 200∼450㎚의 파장을 갖는 것이 바람직하고, 광중합 개시제는 광의 파장 220∼450㎚에 흡수 영역을 갖는 것이 바람직하다. 일반적으로 자외선의 파장은 380㎚보다 짧고, 가시광선의 파장은 380∼780㎚이다.
자외선의 파장이 200㎚ 미만인 경우에는 자외선이 자외선 흡수제에 흡수되기 쉬워지고, 광중합 개시제의 광중합 개시능이 충분히 발현되지 않게 되어 조성물층의 경화성이 저하하는 경향을 나타내고, 450㎚를 초과하는 경우에는 자외선으로서의 기능이 저하한다. 광중합 개시제의 흡수 영역으로서 광의 파장이 220㎚ 미만인 경우에는 자외선 흡수제에 자외선이 흡수되기 쉬워져 그 광중합 개시능이 저하하고, 450㎚를 초과하는 경우에는 해당하는 광중합 개시제가 적고, 또한 자외선에 의한 광중합 개시능의 발현이 부족할 우려가 있다.
이와 같이 하여 형성되는 경화막의 두께는 2∼30㎛가 바람직하고, 5∼25㎛가 보다 바람직하다. 이 두께가 2㎛ 이상이면 표면 경도가 보다 향상하는 경향이 있고, 이 두께가 너무 크면, 경화 직후 또는 고온 고습하에 노출되었을 때에, 크랙이 발생하기 쉬워진다. 경화막의 두께는, 기재의 표면에 도포하는 광경화성 수지 조성물의 면적당의 양이나 고형분 농도를 조정함으로써 조절할 수 있다
[적층체]
다음에, 본 실시형태의 적층체에 대하여 설명한다. 당해 적층체는, 상기 기재의 적어도 일방의 면에 상기 제조 방법으로 얻어지는 경화막이 적층되어 있다. 본 실시형태의 적층체는, 기재와, 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 광경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 경화막을 구비하는 적층체라고도 할 수도 있다.
이러한 적층체는, 상기 제조 방법의 공정(1) 및 (2)를 거쳐 얻어지는 기재의 표면에 경화막이 형성된 상태의 적층체인 것이 바람직하나, 그 밖에 상기 제조 방법의 공정(1) 및 (2)를 거쳐 얻어지는 경화막을 기재로부터 떼어내고, 다른 기재에 필요에 따라 상기 접착층을 개재하여 첩부하여 얻어지는 적층체여도 되며, 상기 제조 방법의 공정(1)에서 얻어지는 조성물층을 기재로부터 떼어내고, 다른 기재에 필요에 따라 상기 접착층을 개재하여 첩부하고, 계속하여 상기 제조 방법의 공정(2)에 의해 당해 조성물층을 경화시켜 얻어지는 적층체여도 된다.
이와 같이 하여 얻어지는 본 실시형태의 적층체는, 기재의 적어도 일방의 면에, 표면 경도가 우수한 경화막이 형성되어 있고, 휴대전화 등으로 대표되는 휴대형 정보 단말의 표시창 보호판으로서 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 디지털 카메라나 핸디형 비디오 카메라 등의 파인더부, 휴대형 게임기의 표시창 보호판 등, 표면 경도가 요구되는 분야에서의 각종 부재로서도 사용할 수 있다.
본 실시형태에 있어서, 고경도 수지판으로 휴대형 정보 단말의 표시창 보호판을 제작하기 위해서는, 먼저 필요에 따라 인쇄, 구멍내기 등의 가공을 행하고, 필요한 크기로 절단 처리하면 된다. 그리고 나서, 휴대형 정보 단말의 표시창에 세팅하면, 표면 경도가 우수한 표시창으로 할 수 있다.
도 1은, 본 실시형태의 적층체의 층 구성을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1에 나타내는 적층체(5)는, 기재(1)와, 기재(1)의 일방면 상에 형성된 경화막(3)을 갖는다. 기재(1)는 수지 시트, 수지 필름 또는 다층 구조체여도 된다. 적층체(5)는 하드 코팅 필름으로서 이용할 수 있고, 예를 들면, 편광판 등과 함께 표시 장치를 구성하는 부재로서 적합하게 이용할 수 있다.
본 실시형태의 적층체는, 기재 및 경화막 이외의 다른 층을 추가로 갖고 있어도 된다. 예를 들면, 적층체는 경화막 상에 기능층이 설치되어 있어도 된다. 기능층으로서는 하드 코팅층, 반사 방지층, 방현층(防眩層), 내지문층(耐指紋層) 등을 들 수 있다. 기능층은 접착제 또는 점착제를 개재하여 적층되어 있어도 된다. 접착제 및 점착제로서는 공지의 것을 적절히 선택하면 된다.
본 실시형태의 적층체는, 경화막이 경도 및 굴곡성이 우수하기 때문에, 기능층을 추가로 설치하더라도 충분한 굴곡성과 높은 경도를 양립할 수 있다.
<표시 장치>
도 2는, 본 실시형태의 표시 장치의 제 1의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 액정 표시 장치(30)는, 액정 패널(25)과, 액정 패널(25)의 일방의 면에 적층된 경화막(3)을 구비하고 있다. 액정 패널(25)은, 액정 셀(20)의 양면 상에 편광판(10)이 점착제층(15)을 개재하여 적층된 것이다. 또한, 도 2에서는, 액정 셀(20)의 양면에 배치되는 편광판(10)을 동일한 것으로서 기재하였으나, 이들은 상이한 것이어도 된다.
편광판(10)은, 편광 필름(13)과, 그 양면에 적층된 보호 필름(11)을 구비하고 있다. 또한, 편광판(10)은, 편광 필름(13)을 구비하고 있으면 되고, 반드시 그 양면에 보호 필름(11)이 적층되어 있을 필요는 없다.
경화막(3)은, 액정 패널(25)의 시인측(視認側)에 배치되고, 액정 패널(25)을 보호하는 역할을 담당하고 있다. 이 양태에 있어서는, 액정 패널(25)을 다층 구조의 기재로 간주할 수 있다. 또한, 액정 패널(25)의 일부(예를 들면, 편광판(10))를 기재로 간주할 수도 있다.
도 3은, 본 실시형태의 표시 장치의 제 2의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 3에 나타내는 액정 표시 장치(31)는, 액정 패널(25)과, 액정 패널(25)의 일방의 면에 적층된 적층체(5)를 구비한다. 액정 패널(25)과 적층체(5)는, 접착제 또는 점착제를 포함하는 접착층(7)을 개재하여 적층될 수 있다.
적층체(5)는, 액정 패널(25)의 시인측에 배치되고, 액정 패널(25)을 보호하는 역할을 담당하고 있다.
도 2 및 도 3에서는 액정 표시 장치의 예를 나타내었으나, 본 실시형태에 있어서 표시 장치는 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 표시 장치는 액정 디스플레이(LCD), 유기 EL 디스플레이 등이어도 되고, 본 실시형태의 적층체는 이러한 표시 장치에도 적합하게 이용할 수 있다.
(실시예)
이하, 실시예 및 비교예를 들어 상기 실시형태를 더 구체적으로 설명하나, 본 발명은 그러한 실시예의 범위에 한정되는 것은 아니다.
이하의 각 실시예 및 비교예에 있어서, 각 물성은 다음과 같이 측정하였다.
<연필 경도>
JIS K 5600-5-4에 준거하여 측정하였다. 단, 하중은 1kg으로 하였다.
<외관>
얻어진 경화막과 기재의 적층체의 외관을 눈으로 보아, 다음의 기준으로 평가하였다.
금 균열이 들어 있지 않은 것을 외관 양호 : ○
금 균열이 1∼4개 생긴 것 : ×
실시예 1
4관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMMT) 55.2질량부, 3관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMPT) 13.8질량부, 반응성 폴리로탁산(어드밴스트·소프트 머티리얼즈(주) 제품, SA-3400C) 3.4질량부, 실리카 입자(닛산화학(주) 제품, PGM-AC-2140Y : 입자경 10∼15㎚) 27.6질량부, 상기 4관능 아크릴레이트 및 3관능 아크릴레이트의 합계에 대하여 7질량%의 광중합 개시제(치바 스페셜리티 케미컬즈(주) 제품, IRGACURE(등록상표) 184), 상기 4관능 아크릴레이트 및 3관능 아크릴레이트의 합계에 대하여 0.1질량%의 레벨링제(빅케미재팬(주) 제품, BYK-307), 및, 이상의 각 성분의 합계량과 동량의 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 교반 혼합하여, 광경화성 수지 조성물을 얻었다.
투명 기재로서 PMMA판(스미토모화학(주) 제품, 두께 1㎜)을 이용하고, 당해 기재 상에, 상기의 광경화성 수지 조성물을 건조막 두께 20㎛가 되도록 바 코터로 도공하여, 조성물층을 얻었다. 그 후, 80℃의 오븐에서 3분간 건조를 행하고, 건조 후의 조성물층에 500mJ/㎠의 에너지로 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 경화막과 기재의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체의 연필 경도와 외관을 상기와 같이 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예 2∼13 및 비교예 1∼5
실시예 1에 있어서, 4관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMMT), 3관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMPT), 폴리로탁산(어드밴스트·소프트 머티리얼즈(주) 제품, SA-3400C) 및 실리카 입자(닛산화학(주) 제품, PGM-AC-2140Y : 입자경 10∼15㎚)를, 각각 표 1∼4에 각각 기재한 양으로 하는 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 경화막과 기재의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체의 연필 경도와 외관(육안)을 평가한 결과를 표 1∼4에 나타낸다.
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
(산업상의 이용 가능성)
본 발명의 광경화성 수지 조성물, 이것을 이용하는 경화막의 제조 방법 및 적층체는, 예를 들면 플라즈마 디스플레이(PD), 액정 디스플레이(LCD) 등의 전자 화상 표시 장치의 표시 화면 상에 설치되는 자외선 흡수성을 갖는 하드 코팅 필름의 제조에 이용할 수 있다.
1 : 기재
3 : 경화막
5 : 적층체
7 : 접착층
10 : 편광판
11 : 보호 필름
13 : 편광 필름
15 : 점착제층
20 : 액정 셀
25 : 액정 패널
30, 31 : 액정 표시 장치

Claims (7)

  1. 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제를 함유하고,
    상기 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 상기 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 상기 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시키는, 광경화성 수지 조성물.
    식(1) : X+Y+Z=100
    식(2) : X≥50
    식(3) : 3≤Y≤20
    식(4) : 25≤Z≤40
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 폴리로탁산이 (메타)아크릴로일기를 갖는, 광경화성 수지 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하여 조성물층을 얻는 공정과,
    상기 조성물층에 노광하여 상기 조성물층을 경화시키는 공정을 포함하는 경화막의 제조 방법.
  4. 기재와,
    상기 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 경화막을 구비하고,
    상기 경화막이, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 적층체.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 기재가 다층 구조인 적층체.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 기재가 (메타)아크릴 수지를 포함하는 적층체.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 기재된 적층체를 구비하는 표시 장치.
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