KR20170033448A - 전기 아크로에서 금속 용탕의 온도를 결정하기 위한 시스템 및 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 전기 아크로 (EAF) 에서 금속 용탕의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것으로, 상기 금속 용탕이 목표 출탕 온도에 도달할 때까지 상기 금속 용탕을 용융시키기 위해 적어도 하나의 전극이 제공되고, 상기 EAF 는 상기 금속 용탕의 표면에 슬래그 및 스모크 층을 추가로 포함하고, 상기 금속 용탕을 교반하기 위해 전자기 교반기가 제공된다. 상기 방법은 스크랩을 금속 용탕으로 용융시키기 위하여 상기 전극에 전력을 제공하는 단계 (S10), 상기 EAF 에서 상기 금속 용탕을 전자기 교반하는 단계 (S20), 상기 금속 용탕의 표면으로부터 상기 슬래그 및 스모크 층을 제거하는 단계 (S30), 상기 금속 용탕의 온도를 비접촉식으로 측정하는 단계 (S40), 측정된 상기 온도를 수신하는 단계 (S50), 수신된 상기 온도에 기초하여 온도 프로파일을 계산하는 단계 (S60), 계산된 상기 온도 프로파일에 기초하여 한 시점에서 출탕 온도를 추정/예측하는 단계 (S70), 및 추정된 상기 온도, 상기 목표 출탕 온도 및 상기 전극에 공급된 전력에 기초하여 출탕 시간을 결정하는 단계 (S80) 를 포함한다.
Description
본 발명은, 금속 용탕이 전자기 교반기에 의해 교반되는 전기 아크로 (EAF) 에서 금속 용탕의 출탕 시간을 결정하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.
통상적인 EAF-EMS 시스템은 전기 아크로 (EAF) 및 전자기 교반 시스템 (EMS) 을 포함한다. EAF 는 금속 재료를 용융시키기 위하여 전기 아크를 활용하는 노이다. 통상적인 EAF 는 하나 이상의 전극들과 상기 전극들에 작동 연결된 전력 공급 시스템을 포함한다. EAF 에는 측벽들에 탑재되어 용탕에 화학 에너지를 제공하도록 배열되는 가스 버너들이 추가로 장착되어 있다. 추가의 화학 에너지는 산소 및 탄소를 노 내로 주입하기 위한 수단들, 예컨대 랜스들에 의해 제공된다. 전극들의 작동은 전력 공급 시스템에 작동 연결된 제어 유닛에 의해 제어된다. 전극들에 공급되어 아크를 형성하는 전력이 아크 전력이라고 불린다. 전극들은 전극들과 금속 재료, 즉 EAF 내로 로딩된 고체 금속 (예컨대, 스크랩) 사이에 아크를 형성한다. 이로써, 금속 재료는 산소 주입으로부터의 화학 에너지 및 아크 전력에 의해 용융 및 가열된다. 전극 제어 시스템은 금속 용탕의 온도가 목표 출탕 온도에 도달하고 그 후 금속 용탕이 래들 노 (ladle furnace) 에 결국 출탕될 때까지 금속 재료의 용융 동안 거의 일정한 전류 및 전압 입력을 유지하게 된다. 금속 용탕의 표면에는, 슬래그 및 스모크 층들이 형성된다.
용융 처리 동안, 전자기 교반 (EMS) 시스템이 노 내에서 금속 용탕을 교반하도록 배열되고 또한 교반 코일을 포함하는 적어도 하나의 전자기 교반기를 포함하고, 전력 공급 시스템은 교반기에 작동 연결된다. 교반 코일은 통상적으로 노의 강 쉘 외부에 탑재된다. 이러한 코일은 금속 용탕에 교반력을 제공하기 위하여 진행파자기계 (travelling magnetic field) 를 발생시킨다. 교반기는 저주파의 진행파자기계에서 작동하여, 노의 강 쉘을 침투하고 선형 전기 모터와 유사한 방식으로 용탕을 이동시킨다. 따라서, 선형 힘은 노 내의 용탕에 작용하는 진행파지기계에 의해 형성되어 금속 용탕의 일정한 온도를 제공한다.
목표 출탕 온도에서 금속 용탕을 출탕하는 것은 진보적인 EAF 제어뿐만 아니라 에너지 소비에도 매우 중요하다. 오늘날, 전기 아크로들에서 금속 용탕의 온도는 한 시점에서 측정을 얻기 위하여 카트리지로 측정된다. 여기에는 이러한 온도 측정에 의해 몇 가지 단점들이 있다. 먼저, EAF 출탕 이전에 여러 온도 측정 시험들이 일반적으로 실행될 필요가 있다. 이러한 온도 시험들은 처리 시간을 지연시킬 수도 있고, 또한 소모성 프로브들의 비용을 증가시킬 수도 있다. 두 번째로, 이러한 측정을 수행하는 것은 작동자에게 불쾌한 작업인데, 이는 작동자가 부피가 큰 옷을 입고 가혹한 환경에서 높은 온도에 직면해야 하기 때문이다.
특허 출원 US 2012/0140787A1 은, 가스 스트림이 초음속으로 노 챔버 내로 안내되는 랜스 모드에서 버너 건 유닛을 작동시키는 것을 포함하는 방법을 개시한다. 금속 용탕의 표면은 산소 함유 가스에 의해 일 기간에 걸쳐 형성되는 가스 스트림에 의해 자유롭게 블로잉된다. 금속 용탕의 온도를 측정할 수 있도록, 산소를 포함하는 제 1 가스는 불활성 가스인 제 2 가스로 스위치 오버되어야 하고, 그 후 금속 용탕의 온도는 비접촉 센서를 포함하는 온도 측정 유닛을 이용하여 측정된다.
본 발명의 목적은 더 정확한 출탕 온도를 달성하는 것이고, 결과적으로 생산성을 증가시키고 불필요한 에너지 소비를 감소시키는 것이다.
본 발명의 제 1 양태에서, 전기 아크로 (EAF) 에서 금속 용탕에 대한 출탕 시간을 결정하기 위한 방법이 있고, 스크랩을 금속 용탕으로 용융시키기 위해 적어도 하나의 전극이 제공되고, EAF 는 금속 용탕의 표면에 슬래그 및 스모크 층을 추가로 포함하고, 금속 용탕을 교반하기 위해 전자기 교반기가 제공되고, 상기 방법은:
a) 스크랩을 용융시키기 위하여 전극에 전력을 공급하는 단계,
b) EAF 에서 금속 용탕을 전자기 교반하는 단계,
c) 가스의 유동에 의해 금속 용탕의 표면으로부터 슬래그 및 스모크 층들을 제거하는 (blowing away) 단계,
d) 금속 용탕의 온도를 비접촉식으로 측정하는 단계,
e) 측정된 온도를 수신하는 단계,
f) 수신된 온도에 기초하여 온도 프로파일을 계산하는 단계,
g) 계산된 온도 프로파일에 기초하여 한 시점에서 출탕 온도를 추정하는 단계,
h) 추정된 온도, 목표 출탕 온도 및 전극에 공급된 전력에 기초하여 출탕 시간을 결정하는 단계
를 포함한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 이 방법은 새로 측정된 온도를 수신할 때에 온도 프로파일을 다시 계산하거나 조절하는 단계, 다시 계산된/조절된 온도 프로파일에 기초하여 한 시점에서 출탕 온도를 추정하는 단계, 및 추정된 온도, 목표 출탕 온도 및 전극에 공급된 전력에 기초하여 출탕 시간을 결정하는 단계를 추가로 포함한다.
제 2 양태에서, 전기 아크로에서 금속 용탕의 출탕 시간을 결정하기 위한 시스템을 위해 제공된 시스템이 있고, 상기 시스템은 금속 용탕을 교반하기 위해 제공된 전자기 교반기, 금속 용탕의 온도 측정을 제공하기 위한 온도 측정 디바이스 및 온도 제어 유닛을 포함하고, 전기 아크로는 전력 공급부에 연결된 적어도 하나의 전극을 포함하고, 온도 제어 유닛은 전극에 공급된 전력에 기초하여 금속 용탕의 온도를 제어하도록 구성되고, 온도 측정 디바이스는 비접촉 감지 유닛 및 감지 유닛에 연결된 처리 유닛을 포함하고, 감지 유닛은 금속 용탕의 온도를 감지/측정하도록 그리고 처리 유닛에 측정된 온도를 송신하도록 구성되고, 처리 유닛은 측정된 온도를 수신하도록 그리고 수신된 온도를 처리하도록 구성된다. 온도 측정 디바이스는 금속 용탕의 표면에 슬래그 및 스모크 층을 제거하도록 제공된 불활성 가스를 포함하는 전용 랜스 유닛을 추가로 포함하고, 처리 유닛은 온도 제어 유닛에 프로세싱되어 측정된 온도를 송신하도록 추가로 구성되고, 온도 제어 유닛은 청구항 1 의 단계 e) 내지 단계 h) 를 수행하도록 구성된다.
전자기 교반, 비접촉 감지 유닛 및 전용 랜스 유닛의 배열은 출탕 시간의 결정에 시너지 효과를 제공한다. 우선, 전자기 교반은 노 내의 금속 용탕을 혼합하고 용융 속도를 증가시킨다. 가장 중요하게는, 용탕의 온도가 균일하게 되고, 이는 포괄적인 샘플들을 제공하고 또한 온도의 측정을 의미 있게 한다. 균일한 용융 온도로 인해, 온도가 측정되는 곳과는 관련이 없다. 둘째로, 전용 랜스 유닛은 슬래그 및 스모크 층을 제거하고, 또한 용탕의 온도를 연속적으로 측정하는 것을 가능하게 한다. 연속적으로 온도를 측정하는 것으로, 금속 용탕의 온도 프로파일은 더 정확하게 계산될 수 있고, 이는 출탕 시간의 신뢰가능한 예측을 가능하게 한다. 또한, 비접촉 온도 측정은 작동자의 작업 환경을 개선한다.
또한, 온도 제어 유닛은 새로운 온도 측정에 기초하여 온도 프로파일을 다시 계산하도록 추가로 구성된다. 따라서, 더 정확한 온도 예측이 달성된다.
바람직하게는, 감지 유닛은 바람직하게는 마이크로파 방사계, 적외선 센서 또는 섬유 광학 센서 형태의 비접촉 센서를 포함한다.
본 발명의 추가의 다른 실시형태에서, 전용 랜스 유닛은 금속 용탕의 온도를 연속적으로 또는 몇몇 개별 시점들에서 측정하도록 배열된다. 온도를 연속적으로 측정하는 이점은 금속 용탕을 더 정확한 시점에서 래들 노 내로 출탕되게 하는 것이다. 결과적으로, 탭-투-탭 (tap-to-tap) 시간과 불필요한 에너지 소비가 감소하고, 생산성이 향상된다.
본 발명은 이제 본 발명의 상이한 실시형태들의 상세한 설명에 의해 그리고 첨부된 도면들을 참조하여 더 상세하게 설명될 것이다.
도 1a 는 본 발명의 일 실시형태에 따라 출탕 온도를 제어하는 플로우차트를 도시한다.
도 1b 는 본 발명의 다른 실시형태에 따라 출탕 온도를 제어하는 플로우차트를 도시한다.
도 2 는 본 발명의 제 3 실시형태에 따라 EAF 에서 금속 용탕의 출탕 온도를 제어하기 위한 시스템의 시스템 개략도를 도시한다.
도 3 은 도 1a 내지 도 1b 및 도 2 의 실시형태들의 출탕 온도 추정치를 도시한다.
도 1b 는 본 발명의 다른 실시형태에 따라 출탕 온도를 제어하는 플로우차트를 도시한다.
도 2 는 본 발명의 제 3 실시형태에 따라 EAF 에서 금속 용탕의 출탕 온도를 제어하기 위한 시스템의 시스템 개략도를 도시한다.
도 3 은 도 1a 내지 도 1b 및 도 2 의 실시형태들의 출탕 온도 추정치를 도시한다.
도 2 는 금속 용탕을 교반하기 위해 제공된 전자기 교반기를 구비하는 전자기 교반 시스템 (EMS; 30), 금속 용탕의 온도 측정을 제공하기 위한 온도 측정 디바이스 (40), 및 금속 용탕의 온도를 추정/예측하기 위한 온도 제어 유닛 (50) 을 포함하는 전기 아크로 (EAF; 20) 에서 금속 용탕의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 시스템 (1) 을 도시한다.
EAF (20) 는 금속 재료들, 예를 들어 금속들 또는 금속 합금들을 용융시키기 위해 배열된다. EAF 는 DC EAF 또는 AC EAF 일 수도 있다.
EAF (20) 는 하나 이상의 전극들 (22; 이 실시예는 EAF 에 장착된 세 개의 전극들을 도시함), 전극들이 노에 진입하는 접이식 루프 (retractable roof; 도 2 에 도시되지 않음) 로 덮이는 베셀 (24), 및 스크랩을 금속 용탕으로 용융시키기 위하여 전극들에 전력을 공급하는 전극들 (22) 에 작동 연결된 전력 공급 시스템 (26) 을 추가로 포함한다 (도 1 을 참조하면, 단계 S10).
베셀 (24) 이 스크랩 금속으로 충전되면서 EAF 작동이 시작되고, 용융 (meltdown) 이 개시된다. 전극들 (22) 은 스크랩을 향해 하강되고 이로 인해 아크가 스트라이크되어 스크랩을 용융시키기 시작한다. 아크로부터의 손상 및 과도한 열로부터 노의 루프와 벽들을 보호하기 위해 작동의 이러한 제 1 부분에는 더 낮은 전압이 선택된다. 일단 전극들 (22) 이 도달되면, 노 (24) 의 베이스에 있는 무거운 용탕과 아크들이 슬래그에 의해 실드되고, 전압이 증가될 수 있으며, 또한 전극들이 약간 상승되고, 이로 인해 아크를 연장시키고 용탕으로의 전력을 증가시킨다. 스크랩이 금속 용탕 (21) 으로 용융되므로, 슬래그 층 (23) 이 용탕 (21) 의 표면에 형성된다. 또한, 스모크 층 (23') 은 슬래그 층 위에 형성될 수도 있다.
EMS (30) 는 외부 표면에, 바람직하게는 EAF 베셀 (24) 의 저부에 탑재된다. EMS 시스템 (30) 은 EAF 에서 금속 용탕을 교반시키도록 배열된 적어도 하나의 전자기 교반기를 포함한다 (단계 S20). 전자기 교반에 의해, 베셀 (24) 에서의 용융 속도가 가속되고 용융 온도는 더 균일해진다. 균일한 온도는 용융 온도의 국소 변형을 감소시키기 위하여 최대 8 미터의 직경을 갖는 큰 베셀을 구비하는 오늘날 EAF 에 특히 중요하다. 따라서, 용융 온도의 국부적인 변형은 교반하지 않는 경우에 비해 굉장히 감소되고, 결과적으로 용탕의 온도는 균일하다.
스모크 및 제조 사이트들의 혹독한 환경으로 인해, 용융 온도를 측정하기는 어렵다. 용융 온도를 측정하기 위한 일 방법은 일회용 온도 프로브들 또는 카트리지들을 사용하는 것이다. 프로브 또는 카트리지는 제련 프로세스의 종료 시에 용탕 내로 스로잉된다. 충분한 온도가 얻어지지 않을 경우, 정확한 또는 충분히 근접한 온도가 얻어질 때까지 추가의 프로브가 배치된다. 따라서, 용융 온도를 측정하기 위하여, 작동자는 이러한 작업들을 수 차례 반복해야 할 수도 있다. 얻어진 용융 온도가 목표 출탕 온도를 초과하는 경우, 이미 많은 양의 아크 전력/에너지가 낭비되었다. 그러므로, 용융 온도는 용탕이 늦게 출탕하는 것을 방지하기 위하여 연속적으로 또는 충분히 높은 샘플링 속도에서 측정될 수 있다.
이를 위하여, 온도 측정 디바이스 (40) 는 용융 온도를 측정하도록 배열된다. 온도 측정 디바이스 (40) 는 비접촉 감지 유닛 (42) 및 상기 감지 유닛 (42) 에 연결된 처리 유닛 (44) 을 포함한다. 감지 유닛 (42) 은 금속 용탕의 온도를 감지/측정하도록 그리고 측정된 온도를 처리 유닛 (44) 으로 송신하도록 구성된다 (단계 S40). 동시에, 처리 유닛 (44) 은 측정된 온도를 수신하도록, 수신된 온도를 처리하도록, 그리고 측정되어 처리된 온도를 온도 제어 유닛 (50) 으로 송신하도록 구성된다. 온도 측정 디바이스 (40) 는 EAF 의 측벽에 탑재될 수도 있는 전용 랜스 유닛 (46) 을 추가로 포함한다. 비접촉 감지 유닛은 비접촉 센서를 포함한다. 본질적으로, 임의의 종류의 비접촉 센서들이 용탕의 온도를 측정하는데 사용될 수도 있다. 이 실시예에서, 광학 섬유가 사용되고, 또한 금속 튜브 내부에 탑재된다. 금속 튜브는 랜스 유닛 내부에 추가로 탑재된다. 이러한 배열은 2000 ℃ 초과의 높은 온도를 측정할 수도 있다. 광학 센서를 냉각시키기 위해, 냉각 매체가 금속 튜브 외부에 배열된다.
하지만, 베셀 (24) 에서 금속 용탕의 표면에 형성된 슬래그 및 스모크 층들 (23', 23) 은 비접촉 감지 유닛 (42) 이 정확하게 측정하는 것을 방지한다. 그러므로, 랜스 유닛 (46) 이 제공되어 불활성 가스를 용탕 표면에 주입하도록 구성된다. 불활성 가스는 고압으로 분사되어 슬래그 및 스모크 층들 (23', 23) 을 제거하고, 이는 광학 센서가 슬래그 및 스모크가 없는 용탕 표면에 의해 온도를 측정할 수 있도록 스모크 및 슬래그 층들 (23', 23) 을 관통하는 구멍을 드릴링한다 (단계 S30). 측정된 온도는 측정된 신호가 분석되어 처리되는 처리 유닛 (44) 으로 추가로 송신될 것이다 (단계 S40).
측정된 온도는 광학 섬유를 통해 예를 들어 분광기를 포함할 수도 있는 처리 유닛 (44) 에 전달된다. 분광기들은 처리되어 분석되고 그 후에 온도 제어 유닛 (50) 에 입력된다 (단계 S50).
온도 제어 유닛 (50) 에는 한 시점에서 용융 온도를 추정/예측하기 위하여 용융 온도 프로파일을 계산하기 위해 내장되는 EAF 용융 온도 예측 모델이 제공되어 있다 (단계 S60 및 S70). 프로파일은 전극들에 공급되는 전력 (P) 과 처리된 온도 측정 (Tm) 에 기초하여 계산된다. 여기에는 이러한 목적을 위해 사용될 수 있는 충분히 알려진 제어 모델들이 많다. 본 발명에 대해, 연장된 Kalman 필터는 출탕 시간의 추정 예측에 적용된다. 온도 프로파일은 더 정확한 온도 추정을 달성하기 위해 새로운 측정 온도를 수신할 때에 추가로 조절된다 (단계 S60' 및 S70'). 조절된 온도 프로파일로, 미리 정의된 출탕 온도에 도달하기 위한 시간이 예측될 수 있고, 따라서 출탕 시간이 결정된다 (단계 S80).
위에서 언급한 이점들 외에도, 비접촉 감지 유닛을 사용하는 추가의 이점들은, 광범위한 파장이 커버될 수 있고 또한 측정 영역 또는 지점들이 충분히 정의될 수 있으며, 예를 들어 복수 개의 측정 지점들이 센서에 대해 정의될 수 있다는 것이다. 또한, 다른 물리적인 특성들이 마찬가지로 감지될 수 있다.
도 3 은 온도 프로파일이 측정된 온도에 기초하여 연속적으로 조절된다는 것을 보여준다. 프로파일에 기초하여, 출탕 온도는 따라서 예측되고, 따라서 출탕 시간이 마찬가지로 예측된다.
온도 제어 유닛 (50) 은 하드웨어, 메모리 유닛, 및 적어도 소프트웨어가 로딩되는 처리 유닛을 포함할 수도 있다.
비접촉 센서들을 이용하면, 출탕이 적절한 시간에 가능하고, 따라서 생산성을 증가시키고 아크 전력의 많은 양의 에너지를 절약한다.
본 발명의 범위는 제시된 실시형태들로 한정되어서는 안되고, 당업자에게 자명한 다른 실시형태들을 커버할 것이라는 것이 이해되어야 한다.
Claims (6)
- 전기 아크로 (EAF) 에서 금속 용탕의 출탕 시간 (tapping time) 을 결정/예측하기 위한 방법으로서,
상기 금속 용탕이 목표 출탕 온도에 도달할 때까지 상기 금속 용탕을 용융시키기 위해 적어도 하나의 전극이 제공되고, 상기 EAF 는 상기 금속 용탕의 표면에 슬래그 및 스모크 층을 추가로 포함하고, 상기 금속 용탕을 교반하기 위해 전자기 교반기가 제공되고, 상기 방법은:
a) 스크랩을 금속 용탕으로 용융시키기 위하여 상기 전극에 전력을 공급하는 단계 (S10),
b) 상기 EAF 에서 상기 금속 용탕을 전자기 교반하는 단계 (S20),
c) 상기 금속 용탕의 표면으로부터 상기 슬래그 및 스모크 층을 제거하는 (blowing away) 단계 (S30),
d) 상기 금속 용탕의 온도를 비접촉식으로 측정하는 단계 (S40),
e) 측정된 상기 온도를 수신하는 단계 (S50),
f) 수신된 상기 온도에 기초하여 온도 프로파일을 계산하는 단계 (S60),
g) 계산된 상기 온도 프로파일에 기초하여 한 시점에서 출탕 온도를 추정/예측하는 단계 (S70), 및
h) 추정된 상기 온도, 상기 목표 출탕 온도 및 상기 전극에 공급된 전력에 기초하여 출탕 시간을 결정하는 단계 (S80)
를 포함하는, 전기 아크로 (EAF) 에서 금속 용탕의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
i) 새로 측정된 온도를 수신할 때에 상기 온도 프로파일을 다시 계산/조절하는 단계 (S60'),
j) 다시 계산/조절된 상기 온도 프로파일에 기초하여 한 시점에서 출탕 온도를 추정/예측하는 단계 (S70'), 및
k) 추정된 상기 온도, 상기 목표 출탕 온도 및 상기 전극에 공급된 전력 및 상기 전극에 공급된 전력에 기초하여 출탕 시간을 결정하는 단계 (S80)
를 포함하는, 전기 아크로 (EAF) 에서 금속 용탕의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 방법. - 전기 아크로 (20) 에서 금속 용탕 (21) 의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 시스템 (1) 으로서,
상기 시스템은 상기 금속 용탕을 교반하기 위해 제공된 전자기 교반기 (30), 상기 금속 용탕의 온도 측정을 제공하기 위한 온도 측정 디바이스 (40), 및 온도 제어 유닛 (50) 을 포함하고, 상기 전기 아크로 (20) 는 전력 공급부 (26, P) 에 연결된 적어도 하나의 전극 (22) 을 포함하고, 상기 온도 제어 유닛 (50) 은 상기 전극에 공급된 상기 전력에 기초하여 상기 금속 용탕의 온도를 제어하도록 구성되고, 상기 온도 측정 디바이스 (40) 는 비접촉 감지 유닛 (42) 및 상기 감지 유닛에 연결된 처리 유닛 (44) 을 포함하고, 상기 감지 유닛 (42) 은 상기 금속 용탕의 온도를 감지/측정하도록 그리고 측정된 상기 온도를 상기 처리 유닛 (44) 에 전송하도록 구성되고, 상기 처리 유닛 (44) 은 측정된 상기 온도를 수신하도록 그리고 수신된 상기 온도를 처리하도록 구성되고,
상기 온도 측정 디바이스 (40) 는 상기 금속 용탕 (21) 의 표면에 있는 슬래그 및 스모크 층들 (23, 23') 을 제거 (blow away) 하도록 제공된 불활성 가스를 포함하는 전용 랜스 유닛 (46) 을 구비하고, 상기 처리 유닛 (44) 은 측정되어 처리된 상기 온도를 상기 온도 제어 유닛 (50) 에 송신하도록 추가로 구성되고, 상기 온도 제어 유닛 (50) 은 제 1 항의 단계 e) 내지 단계 h) 를 수행하도록 구성되는, 전기 아크로 (20) 에서 금속 용탕 (21) 의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 시스템. - 제 3 항에 있어서,
상기 온도 제어 유닛 (50) 은 새로운 온도 측정에 기초하여 온도 프로파일을 다시 계산하도록 추가로 구성되는 것을 특징으로 하는, 전기 아크로 (20) 에서 금속 용탕 (21) 의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 시스템. - 제 3 항에 있어서,
상기 감지 유닛 (42) 은 마이크로파 방사계, 적외선 센서 또는 섬유 광학 센서 형태의 비접촉 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는, 전기 아크로 (20) 에서 금속 용탕 (21) 의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 시스템. - 제 3 항에 있어서,
상기 온도 측정 디바이스 (40) 는 상기 금속 용탕의 온도를 연속적으로 또는 개별 시점들에서 측정하도록 배열되는 것을 특징으로 하는, 전기 아크로 (20) 에서 금속 용탕 (21) 의 출탕 시간을 결정/예측하기 위한 시스템.
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