KR20160141737A - Glass, cover glass produced using same, and method for producing glass - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 이온 교환 처리를 하지 않아도, 상처가 쉽게 나지 않고, 낙하 충격 강도가 높으며, 게다가 경량인 유리 및 그 제조 방법을 창안하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 유리는, 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼20％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼12％를 함유한다.An object of the present invention is to provide a glass which is not easily scratched and does not easily undergo ion exchange treatment, has a drop impact strength, and is light in weight, and a manufacturing method thereof.
The glass of the present invention is a glass composition containing 50 to 70% of SiO 2 , 0 to 20% of Al 2 O 3 , 15 to 30% of B 2 O 3 , 0 to 3 % of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, , MgO + CaO + SrO + 0 to 12% BaO.

Description

유리, 그것을 이용한 커버 유리 및 유리의 제조 방법{GLASS, COVER GLASS PRODUCED USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING GLASS}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a glass, a cover glass using the same,

[0001] 본 발명은, 유리, 그것을 이용한 커버 유리 및 유리의 제조 방법에 관련되며, 구체적으로는 휴대전화, 디지털 카메라, PDA(휴대단말), 태양전지, 칩 사이즈 패키지(CSP), 전하 결합 소자(CCD), 등배근접형 고체 촬상 소자(CIS)의 커버 유리, 특히 터치 패널 디스플레이의 커버 유리에 매우 적합한 유리 및 유리의 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a glass, a cover glass using the same, and a method of manufacturing a glass, and more particularly, to a glass, (CCD), a backlight solid state image pickup device (CIS), and a cover glass of a touch panel display.

[0002] 휴대전화, 디지털 카메라, PDA 등의 디바이스는, 점점 더 보급되는 경향에 있다. 이들의 용도로는, 이온 교환 처리된 강화유리가, 터치 패널 디스플레이의 커버 유리로서 이용되고 있다(특허 문헌 1, 비특허 문헌 1 참조).Devices such as mobile phones, digital cameras, PDAs, and the like tend to become more and more popular. For these applications, a tempered glass subjected to ion exchange treatment has been used as a cover glass for a touch panel display (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).

[0003] 종래까지, 강화유리는, 미리 유리판을 소정 형상으로 절단한 다음, 이온 교환 처리를 행하는, 이른바, 「강화 전 절단」에 의해 제작되고 있었으나, 최근, 대형의 강화용 유리판을 이온 교환 처리한 후, 터치 센서 등의 막(膜)을 형성하여, 소정 사이즈로 절단하는, 이른바, 「강화 후 절단」이 검토되고 있다. 강화 후 절단을 행하면, 디바이스의 제조 효율이 비약적으로 향상된다.Until heretofore, the tempered glass has been produced by so-called "cutting before tempering" in which a glass plate is cut in advance into a predetermined shape and then subjected to an ion exchange treatment. In recent years, however, Called " cut after reinforcement " in which a film such as a touch sensor is formed and cut to a predetermined size is studied. When the cutting is performed after the strengthening, the manufacturing efficiency of the device is remarkably improved.

[0004] 1. 일본 특허공개공보 제2006-83045호1. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-83045

[0005] 1. 이즈미야 테츠로 등, 「새로운 유리와 그 물성」, 초판, 가부시키가이샤 경영시스템 연구소, 1984년 8월20일, p.451-4981. Izumiya Tetsuro et al., "New Glass and Its Properties", First Edition, Institute of Management Systems, August 20, 1984, p.451-498

[0006] 그런데, 커버 유리에는, (1) 상처가 쉽게 나지 않을 것, (2) 낙하 충격 강도가 높을 것이 요구된다. 종래의 커버 유리는, 상기 (1), (2)의 특성을 만족시키기 위해, 이온 교환 처리에 의해, 표면에 압축응력층을 가지는 강화유리로 되어 있다.[0006] Incidentally, it is required that the cover glass is (1) not easily scratched and (2) high in drop impact strength. The conventional cover glass is made of tempered glass having a compressive stress layer on its surface by ion exchange treatment to satisfy the above-mentioned characteristics (1) and (2).

[0007] 그러나, 이온 교환 처리는, 커버 유리의 제조 비용을 상승시킨다.[0007] However, the ion exchange treatment raises the manufacturing cost of the cover glass.

[0008] 또한, 강화 후 절단을 행할 경우, 표면에 존재하는 압축응력층이 장벽이 되기 때문에, 절단 시에 강화유리가 파손되기 쉬워지는 동시에, 절단 후에 압축응력층이 존재하지 않는 영역이 단면(端面)에 노출되기 때문에, 단면 강도가 저하되기 쉬워진다. 또한, 강화유리의 표면에 터치 센서 등의 막을 형성할 경우, 강화유리의 면내(面內) 강도가 저하되기 쉬워진다.Further, when cutting is performed after the strengthening, the compressive stress layer present on the surface becomes a barrier, so that the tempered glass tends to break at the time of cutting, and the region where the compressive stress layer does not exist after cutting becomes a cross- End face), the cross-sectional strength tends to decrease. In addition, when a film such as a touch sensor is formed on the surface of the tempered glass, the in-plane strength of the tempered glass tends to be lowered.

[0009] 또한, 최근에는, 대형 TV에도 커버 유리를 이용하는 것이 검토되고 있으며, 그 커버 유리에는, 강화유리가 사용되고 있다. 그러나, 종래의 강화유리는, 충분히 경량이라 할 수 없어, 대형 디바이스의 경량화에 이바지하는 것은 아니다.Further, in recent years, it has been studied to use a cover glass for a large-sized TV, and tempered glass is used for the cover glass. However, the conventional tempered glass can not be sufficiently lightweight, and does not contribute to weight reduction of a large-sized device.

[0010] 본 발명은, 상기의 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 그 기술적 과제는, 이온 교환 처리를 하지 않더라도, 상처가 쉽게 나지 않고, 낙하 충격 강도가 높으며, 게다가 경량인 유리, 그것을 이용한 커버 유리 및 그 제조 방법을 창안하는 것이다.[0010] The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is a technical object of the present invention to provide a glass which is not easily scratched, has a high drop impact strength and is lightweight, And the manufacturing method thereof.

[0011] 본 발명자들은, 다양한 실험을 반복한 결과, 유리 조성 범위를 소정 범위로 규제함으로써, 상기의 기술적 과제를 해결할 수 있음을 알아내고, 본 발명으로서 제안하는 것이다. 즉, 본 발명의 유리는, 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼20％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼12％를 함유한다. 여기서, 「Li2O＋Na2O＋K2O」는, Li2O, Na2O 및 K2O의 총량을 나타낸다. 「MgO＋CaO＋SrO＋BaO」는, MgO, CaO, SrO 및 BaO의 총량을 나타낸다.As a result of repeating various experiments, the inventors of the present invention have found out that the aforementioned technical problem can be solved by regulating the glass composition range to a predetermined range and propose the present invention. That is, the glass of the present invention has, as a glass composition, 50 to 70% of SiO 2 , 0 to 20% of Al 2 O 3 , 15 to 30% of B 2 O 3 , Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 3%, MgO + CaO + SrO + 0 to 12% BaO. Here, "Li 2 O + Na 2 O + K 2 O" represents the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O. "MgO + CaO + SrO + BaO" represents the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO.

[0012] 본 발명의 유리는, 유리 조성 중에 B2O3를 15질량％ 이상 포함한다. 이와 같이 하면, 내(耐)스크래치성, 내(耐)크랙성을 높일 수 있다. 나아가, 영률(Young's modulus)이 저하되기 때문에, 낙하충격성도 높일 수 있다. 또한, 본 발명의 유리는, 유리 조성 중의 Li2O＋Na2O＋K2O의 함유량을 3질량％ 이하, MgO＋CaO＋SrO＋BaO의 함유량을 12질량％ 이하, 바람직하게는 8질량％ 이하로 한다. 이와 같이 하면, 밀도가 저하되기 쉬워지고, 결과적으로 커버 유리를 경량화하기가 쉬워진다.[0012] The glass of the present invention contains 15 mass% or more of B 2 O 3 in the glass composition. By doing so, the scratch resistance and crack resistance can be enhanced. Furthermore, since the Young's modulus is lowered, the drop impact resistance can be increased. In addition, the glass of the present invention, and the content of the glass composition of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O content of 3 mass%, MgO + CaO + SrO + BaO of less than, preferably not more than 8% by mass 12% by mass. In this case, the density tends to be lowered, and as a result, it becomes easier to make the cover glass lighter.

[0013] 또한, 본 발명의 유리는, 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 58∼70％, Al2O3 7∼20％, B2O3 18∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼1％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼10％를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, the glass of the present invention may contain, as the glass composition, at least one of 58 to 70% of SiO 2 , 7 to 20% of Al 2 O 3 , 18 to 30% of B 2 O 3 , Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 1%, MgO + CaO + SrO + BaO 0 to 10%.

[0014] 또한, 본 발명의 유리는, 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼15％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼8％를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, the glass of the present invention may contain, as the glass composition, 50 to 70% of SiO 2 , 0 to 15% of Al 2 O 3, 15 to 30% of B 2 O 3 , Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 3%, MgO + CaO + SrO + 0 to 8% BaO.

[0015] 또한, 본 발명의 유리는, B2O3－(MgO＋CaO＋SrO＋BaO)가 5질량％ 이상인 것이 바람직하다. 여기서 「B2O3－(MgO＋CaO＋SrO＋BaO)」란, B2O3의 함유량으로부터, MgO, CaO, SrO 및 BaO의 함유량의 총량을 뺀 값을 나타낸다.The glass of the present invention preferably has a B 2 O 3 - (MgO + CaO + SrO + BaO) content of 5 mass% or more. Here, "B 2 O 3 - (MgO + CaO + SrO + BaO)" represents a value obtained by subtracting the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO from the content of B 2 O 3 .

[0016] 예컨대 판 두께 200㎛ 이하의 필름 형상 유리인 경우, 경량일 것과, 롤 형상으로 감기에 유리하도록 작은 곡률반경으로 구부러질 것이 요구된다. 따라서 상기의 구성을 채용하면, 저(低)밀도이며 또한 영률이 낮은 유리를 얻기 쉬워져, 필름 형상 유리 재질로서 매우 적합하다.For example, in the case of a film-shaped glass having a thickness of 200 μm or less, it is required to bend at a small radius of curvature so as to be lightweight and rollable. Therefore, when the above configuration is adopted, a glass having a low density and a low Young's modulus can be easily obtained, and thus it is very suitable as a film-like glass material.

[0017] 또한, 본 발명의 유리는, 질량비로 (SrO＋BaO)/(MgO＋CaO)가 1 이하인 것이 바람직하다. 여기서 「(SrO＋BaO)/(MgO＋CaO)」란, SrO와 BaO의 함유량의 총량을 MgO와 CaO의 함유량의 총량으로 나눈 값을 나타낸다.[0017] The glass of the present invention preferably has (SrO + BaO) / (MgO + CaO) in a mass ratio of 1 or less. Here, "(SrO + BaO) / (MgO + CaO)" represents the total amount of SrO and BaO divided by the total amount of MgO and CaO.

[0018] 상기의 구성을 채용하면, 저밀도의 유리를 얻기 쉬워져, 필름 형상 유리 재질로서 매우 적합하다.[0018] By employing the above configuration, it is easy to obtain a low-density glass, which is highly suitable as a film-like glass material.

[0019] 또한, 본 발명의 유리는, 질량 기준으로 B2O3의 함유량이 Al2O3의 함유량보다 많은 것(즉, B2O3－Al2O3가 0질량％를 초과하는 것)이 바람직하다.[0019] Further, the glass of the present invention is characterized in that the content of B 2 O 3 is larger than the content of Al 2 O 3 (ie, the content of B 2 O 3 -Al 2 O 3 exceeds 0 mass% ) Is preferable.

[0020] 상기의 구성을 채용하면, 저(低)영률의 유리를 얻기가 쉬워져, 필름 형상 유리 재질로서 매우 적합하다.By adopting the above-described structure, it is easy to obtain a glass having a low Young's modulus, and thus it is very suitable as a film-like glass material.

[0021] 또한, 본 발명의 유리는, 액상점도(液相粘度)가 105. 0dPa·s 이상인 것이 바람직하다. 여기서, 「액상점도」는, 액상온도에 있어서의 유리의 점도를 백금구인상법(白金球引上法)으로 측정한 값을 나타낸다. 「액상온도」는, 표준체 30메시(500㎛)를 통과하고, 50메시(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣고, 온도구배로(溫度勾配爐) 중에 24시간 동안 유지시켜, 결정이 석출되는 온도를 측정한 값을 나타낸다.It is also preferable that the glass of the present invention has a liquid phase viscosity (liquid phase viscosity) of 10 5 0 dPa · s or more. Here, the " liquid viscosity " represents the viscosity of the glass at the liquidus temperature measured by the platinum spheroidizing method (platinum spheroidizing method). The "liquid phase temperature" is a temperature at which the glass powder passing through 30 mesh (500 μm) of the standard and remaining in the 50 mesh (300 μm) was placed in a platinum boat and maintained in a temperature gradient furnace for 24 hours, And the temperature at which the precipitate is measured.

[0022] 또한, 본 발명의 유리는, 밀도가 2.40g/cm3 이하(특히 2.30g/cm3 이하), 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수가 25∼40×10-7/℃, 변형점이 610℃ 이하, 또한 영률이 66GPa 이하(특히 65GPa 이하)인 것이 바람직하다. 여기서, 「밀도」는, 주지의 아르키메데스법으로 측정이 가능하다. 「30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수」는, 팽창계(dilatometer)로 측정한 평균치를 나타낸다. 「변형점」은, ASTM C336의 방법에 근거하여 측정한 값을 나타낸다. 「영률」은, 주지의 공진법(共振法)으로 측정한 값을 나타낸다.The glass of the present invention preferably has a density of 2.40 g / cm 3 or less (particularly 2.30 g / cm 3 or less) and a coefficient of thermal expansion in a temperature range of 30 to 380 ° C. of 25 to 40 × 10 -7 / ° C, a strain point of 610 ° C or less, and a Young's modulus of 66 GPa or less (particularly 65 GPa or less). Here, the " density " can be measured by the well-known Archimedes method. The "thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380 ° C" represents an average value measured by a dilatometer. The " strain point " represents a value measured based on the method of ASTM C336. Quot; Young's modulus " represents a value measured by a well-known resonance method (resonance method).

[0023] 또한, 본 발명의 유리는, 오버플로다운드로법(overflow downdraw method)으로 성형되어 이루어지는 것이 바람직하다. 여기서, 「오버플로다운드로법」은, 용융 유리를 내열성의 홈통 형상 구조물의 양측으로부터 흘러 넘치게 하여, 흘러 넘친 용융 유리를 홈통 형상 구조물의 하단(下端)에서 합류시키면서, 하방(下方)으로 연신(延伸) 성형하여 유리판을 제작하는 방법이다.[0023] The glass of the present invention is preferably formed by overflow downdraw method. Here, the " overflow drowning method " is a method in which a molten glass is flowed from both sides of a heat-resistant gutter structure, and the molten glass that has flowed over is drawn down (downward) while joining the molten glass at the lower end Stretching) to form a glass plate.

[0024] 또한, 본 발명의 유리는, 커버 유리에 이용하는 것이 바람직하다.[0024] The glass of the present invention is preferably used for a cover glass.

[0025] 또한, 본 발명의 유리는, 이온 교환 처리되어 있지 않은 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 커버 유리의 제조 비용을 저렴하게 할 수 있다.It is also preferable that the glass of the present invention is not subjected to ion exchange treatment. In this case, the manufacturing cost of the cover glass can be reduced.

[0026] 그런데, 본 발명의 유리를 커버 유리 등으로서 사용하는 경우, 지문(指紋) 등의 부착으로 인한 오염이 문제가 되기 쉽다. 이러한 경우, 유리 표면에 광촉매 입자가 담지(擔持)되어 있는 것이 바람직하다.However, when the glass of the present invention is used as a cover glass or the like, contamination due to adhesion of a fingerprint or the like tends to be a problem. In this case, it is preferable that the photocatalyst particles are carried on the glass surface.

[0027] 이러한 구성으로 하면, 광촉매 입자의 작용에 의해, 표면에 부착된 지문 등의 오염을 분해 제거할 수가 있다.With such a constitution, contamination such as fingerprints adhering to the surface can be decomposed and removed by the action of the photocatalyst particles.

[0028] 또한, B2O3를 다량으로 함유하는 유리는 분상(分相) 경향이 강하여, 특별한 열처리를 행하지 않더라도 표면이 분상되어 있는 경우가 있다. 이러한 유리에 산(酸)처리를 실시하면, 표면 부분이 다공질이 되어, 비표면적(比表面積)이 큰 유리를 용이하게 얻을 수 있게 된다.Further, the glass containing a large amount of B 2 O 3 has a strong tendency to separate phases, so that the surface may be divided even without special heat treatment. When the glass is subjected to an acid treatment, the surface portion becomes porous, and a glass having a large specific surface area (specific surface area) can be easily obtained.

[0029] 또한, 본 발명의 유리는, 유리 표면이 다공질 형상인 것이 바람직하다. 여기서 「표면이 다공질 형상」이라는 것은, 표면만이 다공질 형상인 것, 바꾸어 말하자면, 입자 전체가 다공질체가 아니라는 것을 의미한다. 「다공질 형상」이란, 무수한 구멍이 존재하는 상태를 의미하고 있지만, 반드시 구멍끼리 연통되어 있을 필요는 없다.It is preferable that the glass of the present invention has a porous glass surface. Here, the term "porous surface" means that only the surface is porous, in other words, the whole particle is not a porous body. The " porous shape " means a state in which a large number of holes exist, but it is not always necessary for the holes to communicate with each other.

[0030] 상기의 구성을 채용하면, 유리 표면에 많은 광촉매 입자를 담지할 수 있고, 또한, 많은 유기물을 광촉매체 표면에 흡착할 수 있기 때문에, 광촉매 기능을 대폭적으로 향상시킬 수 있다.[0030] By employing the above-described configuration, many photocatalyst particles can be carried on the glass surface and many organic substances can be adsorbed on the surface of the photocatalyst, thereby greatly improving the photocatalytic function.

[0031] 또한, 본 발명의 유리는, 광촉매 입자가 산화티탄 입자인 것이 바람직하다.[0031] In the glass of the present invention, it is preferable that the photocatalyst particles are titanium oxide particles.

[0032] 상기의 구성을 채용하면, 태양광 등 자외광(紫外光)을 포함하는 광이 조사(照射)되면, 오염이나 균 등의 유기물을 신속하게 분해하여, 방오(防汚, 오염방지)나 항균·항곰팡이 등의 우수한 효과를 얻을 수 있다.When the above-described configuration is employed, when light including ultraviolet light such as sunlight is irradiated, the organic matter such as dirt and bacteria is quickly decomposed to prevent stain, And excellent effects such as antibacterial and antifungal effects can be obtained.

[0033] 본 발명의 커버 유리는, 상기한 본 발명의 유리로 이루어진다.[0033] The cover glass of the present invention is made of the above-described glass of the present invention.

[0034] 본 발명의 커버 유리는, 유리 표면이 다공질 형상이며, 또한 광촉매 입자가 담지되어 있는 것이 바람직하다.In the cover glass of the present invention, it is preferable that the glass surface has a porous shape and the photocatalyst particles are carried thereon.

[0035] 상기 구성의 커버 유리는, 광촉매 입자의 작용에 의해, 표면에 부착된 지문 등의 오염을 분해 제거할 수 있기 때문에, 청정한 상태를 유지하는 것이 용이하다.[0035] The cover glass of the above-described structure can easily remove a contamination such as a fingerprint adhering to the surface by the action of the photocatalyst particles and thus maintain a clean state.

[0036] 본 발명의 유리의 제조 방법은, 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼20％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼12％를 함유하는 유리가 되도록 조제(調製)한 원료 배치(batch)를 용융하여, 성형하는 방법이다. 보다 적합하게는, 질량％로, SiO2 58∼70％, Al2O3 7∼20％, B2O3 18∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼1％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼10％를 함유하는 유리나, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼15％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼8％를 함유하는 유리가 되도록 원료 배치를 조제하는 것이 바람직하다.The glass composition of the present invention is a glass composition containing, as the glass composition, 50 to 70% of SiO 2 , 0 to 20% of Al 2 O 3 , 15 to 30% of B 2 O 3 , Li 2 O + Na 2 O + K 2 O and 0 to 3% of MgO, and 0 to 12% of MgO + CaO + SrO + BaO is melted and molded. More suitably, in mass%, SiO 2 58~70%, Al 2 O 3 7~20%, B 2 O 3 18~30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~1%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~10 a glass, wt.% containing at%, SiO 2 50~70%, Al 2 O 3 0~15%, B 2 O 3 15~30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~3%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~ It is preferable to prepare the raw material batch so as to be a glass containing 8% by weight.

[0037] 또한, 본 발명의 제조 방법은, 추가로, 유리 표면에 광촉매 성분을 포함하는 용액을 도포한 후, 열처리하여 유리 표면에 광촉매 입자를 담지시키는 것이 바람직하다.Further, in the manufacturing method of the present invention, it is preferable that a photocatalyst-containing solution is applied to the glass surface and then the photocatalyst particles are supported on the glass surface by heat treatment.

[0038] 상기의 구성을 채용하면, 유리 표면에 광촉매 입자를 용이하게 담지시킬 수 있다.[0038] Adopting the above configuration, the photocatalyst particles can be easily carried on the glass surface.

[0039] 또한, 본 발명의 제조 방법은, 유리 표면을 산처리한 후, 광촉매 성분을 포함하는 용액을 도포하는 것이 바람직하다.[0039] Further, in the manufacturing method of the present invention, it is preferable to apply a solution containing a photocatalyst component after acid treatment of the glass surface.

[0040] 상기의 구성을 채용하면, 기재(基材)가 되는 유리의 표면이 다공질 형상이 되어, 비표면적을 크게 할 수 있기 때문에, 다량의 광촉매 입자를 담지시키는 것이 가능해진다.When the above configuration is adopted, the surface of the glass that becomes the base material becomes porous, and the specific surface area can be increased, so that a large amount of photocatalyst particles can be supported.

[0041] 또한, 본 발명의 제조 방법은, 광촉매 성분을 포함하는 용액으로서, 산화티탄 입자가 분산된 용액을 사용하는 것이 바람직하다.In the production method of the present invention, it is preferable to use a solution in which titanium oxide particles are dispersed as a solution containing a photocatalytic component.

[0042] 상기의 구성을 채용하면, 오염이나 균 등의 유기물을 신속하게 분해할 수 있는 산화티탄 입자를 유리 표면에 용이하게 도포할 수 있다.[0042] By employing the above configuration, it is possible to easily coat titanium oxide particles on the glass surface that can quickly decompose organic matters such as contamination and germs.

[0043] 본 발명에 의하면, 상술한 바와 같이, 유리 조성을 특정한 범위로 규정함으로써, 이온 교환 처리를 하지 않더라도, 상처가 쉽게 나지 않고, 낙하 충격 강도가 높으며, 게다가 경량인 유리, 그것을 이용한 커버 유리 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, as described above, by defining the glass composition within a specific range, it is possible to provide a glass which is not easily scratched, has a drop impact strength, is lightweight, And a manufacturing method thereof can be provided.

[0044] 본 발명의 유리에 있어서, 상기와 같이 각 성분의 함유량을 한정한 이유를 이하에 기재한다. 참고로, 이하의 ％표시는, 특별히 언급이 있는 경우를 제외하고는, 질량％를 나타낸다.In the glass of the present invention, the reason why the content of each component is limited as described above will be described below. For reference, the following percentages denote% by mass unless otherwise specified.

[0045] SiO2의 함유량은 50∼70％이며, 바람직하게는 53∼70％, 55∼70％, 58∼70％, 60∼70％, 62∼69％, 특히 62∼67％이다. SiO2의 함유량이 너무 적으면, 밀도가 높아지기 쉽다. 한편, SiO2의 함유량이 너무 많으면, 고온 점도가 높아져, 용융성이 저하될 뿐만 아니라, 유리 중에 실투결정(失透結晶, 크리스토발라이트) 등의 결함이 생기기 쉬워진다.The content of SiO 2 is 50 to 70%, preferably 53 to 70%, 55 to 70%, 58 to 70%, 60 to 70%, 62 to 69%, particularly 62 to 67%. If the content of SiO 2 is too small, the density tends to be high. On the other hand, if the content of SiO 2 is too large, the high-temperature viscosity becomes high, and not only the melting property is lowered, but also defects such as a slip crystal (devitrification crystal, cristobalite) are likely to occur in the glass.

[0046] Al2O3는 임의 성분이지만, 그 함유량이 너무 적으면, 내스크래치성, 내크랙성, 및 내열성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 분상에 의해 투과율이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Al2O3의 하한 범위는 0％ 이상이며, 바람직하게는 1％ 이상, 2％ 이상, 3％ 이상, 4％ 이상, 5％ 이상, 6％ 이상, 7％ 이상, 8％ 이상, 특히 9％ 이상이다. 한편, Al2O3에는, 영률을 높이는 기능이 있으나, 그 함유량이 너무 많으면, 영률이 너무 높아져, 내충격 강도가 저하되기 쉬워진다. 또한, 필름 형상 유리로 하는 경우에는, 곡률반경을 작게 하기가 어려워진다. 또한, Al2O3의 함유량이 너무 많으면, 액상온도가 높아져, 내실투성(耐失透性)이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Al2O3의 상한 범위는 20％ 이하이며, 바람직하게는 19％ 이하, 18％ 이하, 17％ 이하, 15％ 이하, 13％ 미만, 12％ 이하, 특히 11％ 이하이다.Al 2 O 3 is an optional component, but if the content is too small, the scratch resistance, crack resistance, and heat resistance tend to decrease. In addition, the transmittance tends to be lowered by powder coating. Therefore, the lower limit range of Al 2 O 3 is 0% or more, preferably 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, Especially 9% or more. On the other hand, Al 2 O 3 has a function of increasing the Young's modulus. However, if the Al 2 O 3 content is too large, the Young's modulus becomes too high, and the impact strength tends to decrease. Further, in the case of using film-like glass, it is difficult to reduce the radius of curvature. Also, if the content of Al 2 O 3 is too large, the liquid phase temperature becomes high and resistance to devitrification tends to decrease. Accordingly, the upper limit of Al 2 O 3 is 20% or less, preferably 19% or less, 18% or less, 17% or less, 15% or less, 13% or less, 12% or less, particularly 11% or less.

[0047] B2O3는, 내스크래치성, 내크랙성을 높이는 성분이며, 영률을 저하시키는 성분이다. 또한, 밀도를 저하시키는 성분이다. 또한, 유전손실이나, 진동손실을 줄이는 성분이다. 그리고, 분상을 야기(誘起)하기 쉽게 하는 성분이다. 유리가 분상되어 있으면, 산처리에 의해 유리 표면을 다공질 형상으로 개질(改質)하기 쉬워져, 광촉매 입자를 담지시켜 고도의 광촉매 활성 기능을 얻는 것이 가능해진다. B2O3의 함유량은 15∼30％이다. B2O3의 함유량이 너무 적으면, 내스크래치성, 내크랙성이 저하되기 쉬워질 뿐만 아니라, 영률이 높아져, 내충격성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 필름 형상 유리로 하는 경우에는, 곡률반경을 작게 하기가 어려워진다. 나아가 융제(融劑)로서의 기능이 불충분해지고, 고온 점성이 높아져, 기포(泡) 품위가 저하되기 쉬워진다. 또한, 저밀도화를 도모하기가 어려워진다. 따라서, B2O3의 하한 범위는 15％ 이상이며, 바람직하게는 18％ 이상, 20％ 이상, 20％ 초과, 22％ 이상, 24％ 이상, 특히 25％ 이상이다. 한편, B2O3의 함유량이 너무 많으면, 내열성, 화학적 내구성이 저하되기 쉬워지거나, 분상에 의해 투과율이 저하되기 쉬워진다. 따라서, B2O3의 상한 범위는 30％ 이하이며, 바람직하게는 28％ 이하, 27％ 이하이다.B 2 O 3 is a component that increases scratch resistance and crack resistance, and is a component that lowers the Young's modulus. It is also a component that reduces the density. It is also a component that reduces dielectric loss and vibration loss. And it is a component that makes it easy to induce the phase separation. If the glass is dispersed, the glass surface can be easily modified into a porous form by the acid treatment, and the photocatalyst particles can be supported to obtain a high photocatalytic activity function. The content of B 2 O 3 is 15 to 30%. If the content of B 2 O 3 is too small, the scratch resistance and crack resistance tend to be reduced, and the Young's modulus increases, and the impact resistance tends to decrease. Further, in the case of using film-like glass, it is difficult to reduce the radius of curvature. Further, the function as a melting agent becomes insufficient, high-temperature viscosity becomes high, and the foam quality tends to be lowered. In addition, it is difficult to reduce the density. Accordingly, the lower limit range of B 2 O 3 is at least 15%, preferably at least 18%, at least 20%, at least 20%, at least 22%, at least 24%, especially at least 25%. On the other hand, if the content of B 2 O 3 is too large, the heat resistance and the chemical durability are likely to be lowered, or the transmittance tends to be lowered by pulverization. Therefore, the upper limit range of B 2 O 3 is 30% or less, preferably 28% or less and 27% or less.

[0048] B2O3－Al2O3는, 0％를 초과하는 것이 바람직하고, 1％ 이상, 2％ 이상, 3％ 이상, 4％ 이상, 5％ 이상, 6％ 이상, 7％ 이상, 8％ 이상, 9％ 이상, 특히 10％ 이상인 것이 보다 바람직하다. 이 값이 클수록 영률이 저하되기 쉬워지기 때문에, 낙하 충격 강도를 높이기 쉬워진다. 또한, 필름 형상 유리로 하는 경우에는, 곡률반경을 작게 하는 것이 용이해진다. 참고로, 「B2O3－Al2O3」는, B2O3의 함유량으로부터 Al2O3의 함유량을 뺀 것이다.B 2 O 3 -Al 2 O 3 is preferably more than 0%, more preferably more than 1%, more than 2%, more than 3%, more than 4%, more than 5%, more than 6%, more than 7% , 8% or more, 9% or more, particularly 10% or more. As the value is larger, the Young's modulus tends to decrease, so that the drop impact strength can be easily increased. Further, in the case of using film-like glass, it is easy to reduce the radius of curvature. For reference, "B 2 O 3 -Al 2 O 3 " is obtained by subtracting the content of Al 2 O 3 from the content of B 2 O 3 .

[0049] 알칼리 금속 산화물은, 용융성, 성형성을 높이는 성분이지만, 그 함유량이 너무 많으면, 밀도가 높아지거나, 내수성(耐水性)이 저하되거나, 열팽창계수가 터무니없이 높아져, 내열충격성이 저하되거나, 주변 재료의 열팽창계수에 정합시키기 어려워진다. 또한, 알칼리 금속 산화물은, 표면에 광촉매 입자를 담지시켰을 경우에, 광촉매 활성 기능을 저하시킨다. 따라서, Li2O＋Na2O＋K2O의 함유량은 0∼3％이며, 바람직하게는 0∼2％, 0∼1％, 0∼0.5％, 0∼0.2％, 0∼0.1％, 특히 0∼0.1％ 미만이다. Li2O, Na2O 및 K2O의 각각의 함유량은, 바람직하게는 0∼3％, 0∼2％, 0∼1％, 0∼0.5％, 0∼0.2％, 0∼0.1％, 특히 0∼0.1％ 미만이다. 참고로, 알칼리 금속 산화물의 함유량이 적으면, SiO2막 등의 알칼리 배리어(barrier)막이 불필요해진다.The alkali metal oxide is a component that improves the melting property and the moldability, but if it is contained in an excessively large amount, the density becomes high, the water resistance lowers, the thermal expansion coefficient rises excessively, , It becomes difficult to match with the thermal expansion coefficient of the peripheral material. Further, the alkali metal oxide deteriorates the photocatalytic activity when the photocatalyst particles are supported on the surface. Therefore, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 0 to 3%, preferably 0 to 2%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, 0 to 0.2%, 0 to 0.1% %. The content of each of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O is preferably 0 to 3%, 0 to 2%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, 0 to 0.2%, 0 to 0.1% Especially less than 0 to 0.1%. For reference, when the content of the alkali metal oxide is small, an alkali barrier film such as a SiO 2 film becomes unnecessary.

[0050] 알칼리 토류 금속 산화물은, 액상온도를 낮추어, 유리 중에 결정 이물(異物)을 발생시키기 어렵게 하는 성분이며, 또한, 용융성이나 성형성을 높이는 성분이다. MgO＋CaO＋SrO＋BaO의 함유량은 0∼12％이며, 바람직하게는 0∼10％, 0∼8％, 0∼7％, 1∼7％, 2∼7％, 3∼9％, 특히 3∼6％이다. MgO＋CaO＋SrO＋BaO의 함유량이 너무 적으면, 융제로서의 기능을 충분히 발휘하지 못하여, 용융성이 저하될 뿐만 아니라, 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 한편, MgO＋CaO＋SrO＋BaO의 함유량이 너무 많으면, 밀도가 상승하여, 유리의 경량화를 도모하기 어려워질 뿐만 아니라, 열팽창계수가 터무니없이 높아져, 내열충격성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 유리의 분상성이 악화된다. 나아가, 영률이 높아져, 필름 형상 유리로 하는 경우에는, 곡률반경을 작게 하기가 어려워진다.The alkaline earth metal oxide is a component that lowers the liquidus temperature and makes it difficult to generate crystalline foreign substances in the glass, and is a component that improves the melting property and moldability. The content of MgO + CaO + SrO + BaO is 0 to 12%, preferably 0 to 10%, 0 to 8%, 0 to 7%, 1 to 7%, 2 to 7%, 3 to 9% and particularly 3 to 6%. If the content of MgO + CaO + SrO + BaO is too small, the function as a flux can not be sufficiently exerted, so that not only the melting property but also the resistance to devitrification tends to be lowered. On the other hand, if the content of MgO + CaO + SrO + BaO is too large, the density is increased to make it difficult to reduce the weight of the glass, and the thermal expansion coefficient becomes unreasonably high and the thermal shock resistance tends to deteriorate. In addition, the flammability of the glass deteriorates. Furthermore, when the Young's modulus is increased to make the film-shaped glass, it is difficult to reduce the radius of curvature.

[0051] 질량비 (MgO＋CaO＋SrO＋BaO)/Al2O3가 너무 작으면, 내실투성이 저하되어, 오버플로다운드로법으로 유리판을 성형하기가 어려워진다. 한편, 질량비 (MgO＋CaO＋SrO＋BaO)/Al2O3가 너무 크면, 밀도, 열팽창계수가 터무니없이 상승할 우려가 있다. 따라서, 질량비 (MgO＋CaO＋SrO＋BaO)/Al2O3는, 바람직하게는 0.1∼1.2, 0.2∼1.2, 0.3∼1.2, 0.4∼1.1, 특히 0.5∼1.0이다. 참고로, 「(MgO＋CaO＋SrO＋BaO)/Al2O3」는, MgO＋CaO＋SrO＋BaO의 함유량을 Al2O3의 함유량으로 나눈 값을 나타낸다.If the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 is too small, the resistance to devitrification decreases, and it becomes difficult to form the glass plate by the overflow drowning method. On the other hand, if the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 is too large, the density and the thermal expansion coefficient may rise to an unreasonable level. Therefore, the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 is preferably 0.1 to 1.2, 0.2 to 1.2, 0.3 to 1.2, 0.4 to 1.1, particularly 0.5 to 1.0. For reference, "(MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 " represents a value obtained by dividing the content of MgO + CaO + SrO + BaO by the content of Al 2 O 3 .

[0052] 질량비 (SrO＋BaO)/B2O3는, 바람직하게는 0.1 이하, 0.05 이하, 0.03 이하, 특히 0.02 이하이다. 이와 같이 하면, 내스크래치성, 내크랙성을 높이기 쉬워진다. 참고로, 「SrO＋BaO」는, SrO와 BaO의 총량이다. 또한, 「(SrO＋BaO)/B2O3」는, SrO＋BaO의 함유량을 B2O3의 함유량으로 나눈 값을 나타낸다.The mass ratio (SrO + BaO) / B 2 O 3 is preferably not more than 0.1, not more than 0.05, not more than 0.03, particularly not more than 0.02. In this case, scratch resistance and crack resistance can be easily increased. For reference, "SrO + BaO" is the total amount of SrO and BaO. "(SrO + BaO) / B 2 O 3 " represents a value obtained by dividing the content of SrO + BaO by the content of B 2 O 3 .

[0053] 또한, 질량비 B2O3/(SrO＋BaO)는, 바람직하게는 10 이상, 20 이상, 30 이상, 40 이상, 특히 50 이상이다. 이와 같이 하면, 내스크래치성, 내크랙성을 높이기 쉬워진다. 참고로, 「B2O3/(SrO＋BaO)」는, SrO＋BaO의 함유량을 B2O3의 함유량으로 나눈 값을 나타낸다.The mass ratio B 2 O 3 / (SrO + BaO) is preferably 10 or more, 20 or more, 30 or more, 40 or more, particularly 50 or more. In this case, scratch resistance and crack resistance can be easily increased. For reference, "B 2 O 3 / (SrO + BaO)" represents a value obtained by dividing the content of SrO + BaO by the content of B 2 O 3 .

[0054] B2O3－(MgO＋CaO＋SrO＋BaO)는, 바람직하게는 5％ 이상, 6％ 이상, 7％ 이상, 8％ 이상, 9％ 이상, 10％ 이상, 11％ 이상, 특히 12％ 이상이다. 이와 같이 하면, 밀도가 저하되기 쉬워지기 때문에, 디바이스의 경량화를 도모하기가 쉬워진다. 또한 영률이 작아진다.The content of B 2 O 3 - (MgO + CaO + SrO + BaO) is preferably 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% or more, 9% or more, 10% or more, 11% or more and more preferably 12% or more. In this case, since the density tends to be lowered, it is easy to reduce the weight of the device. Also, the Young's modulus decreases.

[0055] MgO는, 변형점을 저하시키지 않고, 고온 점성을 낮추어, 용융성을 높이는 성분이며, 또한 알칼리 토류 금속 산화물 중에서는 밀도를 낮추는 효과가 가장 큰 성분이다. 또한, 내크랙성을 높이는 성분이다. 그리고, 분상을 야기하기 쉽게 하는 성분이기도 하다. 유리가 분상되어 있으면, 산처리에 의해 유리 표면을 다공질 형상으로 개질하기 쉬워져, 광촉매 입자를 담지시켜 고도의 광촉매 활성 기능을 얻는 것이 가능해진다. MgO의 함유량은, 바람직하게는 0∼12％, 0∼10％, 0∼8％, 0.1∼6％, 0.5∼3％, 특히 1∼2％이다. 그러나, MgO의 함유량이 너무 많으면, 액상온도가 상승하여, 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 유리가 분상되기 쉬워져, 투명성이 저하되기 쉬워진다.MgO is a component that improves the melting property by lowering the high temperature viscosity without lowering the strain point and is the component that has the highest effect of lowering density among the alkaline earth metal oxides. It is also a component that increases crack resistance. It is also a component that tends to give rise to splitting. When the glass is dispersed, the glass surface is easily modified into a porous form by the acid treatment, so that the photocatalyst particles can be supported to obtain a high photocatalytic activity function. The content of MgO is preferably 0 to 12%, 0 to 10%, 0 to 8%, 0.1 to 6%, 0.5 to 3%, particularly 1 to 2%. However, if the content of MgO is too large, the liquid phase temperature rises and the resistance to devitrification tends to decrease. Further, the glass tends to be easily separated, and transparency tends to decrease.

[0056] CaO는, 변형점을 저하시키지 않고, 고온 점성을 낮추어, 용융성을 현저히 높이는 성분인 동시에, 본 발명의 유리 조성계에 있어서, 내실투성을 높이는 효과가 큰 성분이다. 따라서, CaO의 적합한 하한 범위는 0％ 이상, 0.1％ 이상, 1％ 이상, 2％ 이상, 3％ 이상, 특히 4％ 이상이다. 한편, CaO의 함유량이 너무 많으면, 열팽창계수, 밀도가 터무니없이 상승하거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어, 오히려 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 적합한 상한 범위는 12％ 이하, 10％ 이하, 8％ 이하, 7％ 이하, 6％ 이하, 특히 5％ 이하이다.[0056] CaO is a component that lowers the high-temperature viscosity without lowering the strain point and significantly improves the melting property, and is a component having a great effect of enhancing resistance to devitrification in the glass composition system of the present invention. Therefore, the lower limit of the suitable range of CaO is 0% or more, 0.1% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, especially 4% or more. On the other hand, if the content of CaO is too large, the coefficient of thermal expansion and the density increase excessively, the balance of components of the glass composition is impaired, and the resistance to devitrification tends to deteriorate. Accordingly, the upper limit of the suitable range of CaO is 12% or less, 10% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, particularly 5% or less.

[0057] SrO는, 변형점을 저하시키지 않고, 고온 점성을 낮추어, 용융성을 높이는 성분이지만, SrO의 함유량이 많아지면, 내스크래치성, 내크랙성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SrO의 함유량은, 바람직하게는 0∼3％, 0∼2％, 0∼1.5％, 0∼1％, 0∼0.5％, 특히 0∼0.1％이다.SrO is a component that lowers the high-temperature viscosity and lowers the melting property without lowering the strain point, but when the content of SrO is large, scratch resistance and crack resistance are likely to be deteriorated. Therefore, the content of SrO is preferably 0 to 3%, 0 to 2%, 0 to 1.5%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, particularly 0 to 0.1%.

[0058] BaO는, 변형점을 저하시키지 않고, 고온 점성을 낮추어, 용융성을 높이는 성분이지만, BaO의 함유량이 많아지면, 내스크래치성, 내크랙성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, BaO의 함유량은, 바람직하게는 0∼3％, 0∼2％, 0∼1.5％, 0∼1％, 0∼0.5％, 특히 0∼0.1％ 미만이다.BaO is a component that lowers the high-temperature viscosity and lowers the melting property without lowering the strain point. However, when the content of BaO is large, scratch resistance and crack resistance are likely to be deteriorated. Therefore, the content of BaO is preferably 0 to 3%, 0 to 2%, 0 to 1.5%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, particularly 0 to 0.1%.

[0059] 질량비 (SrO＋BaO)/(MgO＋CaO)는, 바람직하게는 1 이하, 0.8 이하, 0.5 이하, 특히 0.3 이하이다. 질량비 (SrO＋BaO)/(MgO＋CaO)가 너무 크면 유리의 밀도가 너무 커진다.The mass ratio (SrO + BaO) / (MgO + CaO) is preferably not more than 1, not more than 0.8, not more than 0.5, particularly not more than 0.3. If the mass ratio (SrO + BaO) / (MgO + CaO) is too large, the density of the glass becomes too large.

[0060] 상기 성분 이외에도, 이하의 성분을 유리 조성 중에 도입해도 된다.[0060] In addition to the above components, the following components may be introduced into the glass composition.

[0061] ZnO는, 용융성을 높이는 성분이지만, 유리 조성 중에 다량으로 함유시키면, 유리가 실투되기 쉬워지고, 밀도도 상승되기 쉬워진다. 따라서, ZnO의 함유량은, 바람직하게는 0∼5％, 0∼3％, 0∼0.5％, 0∼0.3％, 특히 0∼0.1％이다.ZnO is a component that improves the melting property, but if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to be easily fused and the density tends to increase. Therefore, the content of ZnO is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, 0 to 0.3%, particularly 0 to 0.1%.

[0062] ZrO2는, 영률을 높이는 성분이다. ZrO2의 함유량은, 바람직하게는 0∼5％, 0∼3％, 0∼0.5％, 0∼0.2％, 특히 0∼0.02％이다. ZrO2의 함유량이 너무 많으면, 액상온도가 상승하여, 지르콘의 실투결정이 석출되기 쉬워진다.ZrO 2 is a component for increasing the Young's modulus. The content of ZrO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, 0 to 0.2%, particularly 0 to 0.02%. If the content of ZrO 2 is too large, the liquidus temperature rises and the zeolite crystals tend to precipitate.

[0063] TiO2는, 고온 점성을 낮추어, 용융성을 높이는 성분인 동시에, 솔라리제이션(solarization)을 억제하는 성분이지만, 유리 조성 중에 많이 함유시키면, 유리가 착색되어, 투과율이 저하되기 쉬워진다. 따라서, TiO2의 함유량은, 바람직하게는 0∼5％, 0∼3％, 0∼1％, 0∼0.1％, 특히 0∼0.02％이다.TiO 2 is a component that lowers the high-temperature viscosity to increase the melting property and at the same time, suppresses solarization. However, if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to be colored and the transmittance tends to decrease. Therefore, the content of TiO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 1%, 0 to 0.1%, particularly 0 to 0.02%.

[0064] P2O5는, 내실투성을 높이는 성분이지만, 유리 조성 중에 다량으로 함유시키면, 유리가 분상, 유백화(乳白化)되기 쉬워지고, 또한, 내수성이 현저히 저하될 우려가 있다. 따라서, P2O5의 함유량은, 바람직하게는 0∼5％, 0∼1％, 0∼0.5％, 특히 0∼0.1％이다.P 2 O 5 is a component that enhances resistance to insolubility. However, when a large amount of P 2 O 5 is contained in the glass composition, the glass tends to be dispersed or emulsified (emulsified), and the water resistance may be significantly lowered. Therefore, the content of P 2 O 5 is preferably 0 to 5%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, particularly 0 to 0.1%.

[0065] SnO2는, 고온역(高溫域)에서 양호한 청징(淸澄) 작용을 가지는 성분인 동시에, 고온 점성을 저하시키는 성분이다. SnO2의 함유량은, 바람직하게는 0∼1％, 0.01∼0.5％, 0.05∼0.3％, 특히 0.1∼0.3％이다. SnO2의 함유량이 너무 많으면, SnO2의 실투결정이 유리 중에 석출되기 쉬워진다.SnO 2 is a component having a good clarifying action in a high temperature region and a component that lowers a high temperature viscosity. The content of SnO 2 is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, 0.05 to 0.3%, particularly 0.1 to 0.3%. If the content of SnO 2 is too large, the transition metal of SnO 2 tends to precipitate in the glass.

[0066] 상기한 바와 같이, 본 발명의 유리는, 청징제로서, SnO2를 첨가하는 것이 적합하지만, 유리 특성이 손상되지 않는 한, 청징제로서, CeO2, SO3, C, 금속 분말(예컨대 Al, Si 등)을 1％까지 첨가해도 된다.As described above, the glass of the present invention is preferably added with SnO 2 as a fining agent. However, as the fining agent, CeO 2 , SO 3 , C, metal powder ( Such as Al, Si, etc.) may be added to 1%.

[0067] As2O3, Sb2O3, F, Cl도 청징제로서 유효하게 작용하며, 본 발명의 유리는, 이들 성분의 함유를 배제하는 것은 아니지만, 환경적 관점에서 보면, 이들 성분의 함유량은 각각 0.1％ 미만, 특히 0.05％ 미만인 것이 바람직하다.As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , F and Cl also function effectively as a refinisher. The glass of the present invention does not exclude the inclusion of these components, but from the environmental point of view, The content is preferably less than 0.1%, especially less than 0.05%.

[0068] 본 발명의 유리는, 이하의 특성을 가지는 것이 바람직하다.[0068] The glass of the present invention preferably has the following characteristics.

[0069] 밀도는, 바람직하게는 2.40g/cm3 이하, 2.35g/cm3 이하, 특히 2.30g/cm3 이하인 것이 바람직하다. 밀도가 너무 높으면, 유리의 경량화를 도모하기 어려워진다.[0069] density, and preferably 2.40g / cm 3 or less, 2.35g / cm 3 or less, and particularly 2.30g / cm 3 or less. If the density is too high, it is difficult to reduce the weight of the glass.

[0070] 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수는, 바람직하게는 25∼40×10-7/℃, 30∼38×10-7/℃, 특히 32∼36×10-7/℃인 것이 바람직하다. 열팽창계수가 너무 낮으면, 각종 주변 재료의 열팽창계수에 정합시키기 어려워져, 유리판이 휘기 쉬워진다. 한편, 열팽창계수가 너무 높으면, 내열충격성이 저하되기 쉬워진다.The coefficient of thermal expansion in the temperature range of 30 to 380 ° C is preferably 25 to 40 × 10 -7 / ° C., 30 to 38 × 10 -7 / ° C., particularly 32 to 36 × 10 -7 / ° C. . When the coefficient of thermal expansion is too low, it becomes difficult to match with the thermal expansion coefficient of various peripheral materials, and the glass plate becomes warped. On the other hand, if the thermal expansion coefficient is too high, the thermal shock resistance tends to decrease.

[0071] 변형점은, 바람직하게는 610℃ 이하, 600℃ 이하, 590 이하, 580℃ 이하, 특히 570℃ 이하인 것이 바람직하다. 유리의 점성, 특히 변형점이 낮으면, 고도(高度)로부터 낙하한 물체가 유리에 충돌하였을 경우, 유리의 변형에 의해 충돌의 응력을 완화시키기 쉬워져, 낙하의 충격을 완화하기 쉬워진다.The strain point is preferably 610 ° C or lower, 600 ° C or lower, 590 or lower, 580 ° C or lower, particularly preferably 570 ° C or lower. When the viscosity of the glass, particularly the deformation point, is low, when an object falling from a high altitude collides against the glass, the stress of the impact is easily alleviated by the deformation of the glass, and the impact of the drop tends to be relaxed.

[0072] 102. 5dPa·s에 있어서의 온도는, 바람직하게는 1650℃ 이하, 1620℃ 이하, 1600℃ 이하, 특히 1580℃ 이하인 것이 바람직하다. 기포 품위는, 유리의 수율 뿐만 아니라, 터치 센서의 수율에도 영향을 미친다. 이 때문에, 고온 점성을 저하시켜, 기포 품위를 높이는 것은 중요하다. 여기서, 「102. 5dPa·s에 있어서의 온도」는, 백금구인상법으로 측정한 값이다.[0072] 10 temperature in 2.5 dPa · s is preferably preferably less than 1650 ℃, 1620 ℃ or less, less than 1600 ℃, in particular not more than 1580 ℃. Bubble quality affects the yield of glass as well as the yield of touch sensor. For this reason, it is important to lower the high-temperature viscosity and to improve the bubble quality. Here, the "temperature at 10 2 5 dPa 揃 s" is a value measured by the platinum spherulite method.

[0073] 영률은, 바람직하게는 66GPa 이하, 65GPa 이하, 63GPa 이하, 61GPa 이하, 특히 60GPa 이하인 것이 바람직하다. 영률을 저감시키면, 일정한 변형량 당 발생하는 응력을 저감시킬 수 있다. 또한, 고도로부터 낙하한 물체가 유리에 충돌하였을 경우, 유리가 탄성변형되기 쉬워지기 때문에, 낙하의 충격을 완화하기가 용이해진다. 결과적으로, 유리의 변형량이 작은 범위로 한정되는 용도, 특히 커버 유리에 매우 적합해진다. 또한, 필름 형상 유리로 성형하는 경우는, 영률이 낮을수록 작은 곡률반경으로 롤 형상으로 감는 것이 가능해진다.The Young's modulus is preferably 66 GPa or less, 65 GPa or less, 63 GPa or less, 61 GPa or less, particularly 60 GPa or less. When the Young's modulus is reduced, the stress generated per constant amount of strain can be reduced. In addition, when an object dropped from a high altitude collides with the glass, the glass is liable to be elastically deformed, so that it is easy to mitigate the drop impact. As a result, it is very suitable for use in which the deformation amount of the glass is limited to a small range, in particular, for a cover glass. Further, in the case of molding with a film-form glass, the lower the Young's modulus, the more the film can be wound in a roll shape with a small radius of curvature.

[0074] 액상온도는, 바람직하게는 1180℃ 이하, 1150℃ 이하, 1130℃ 이하, 1110℃ 이하, 1090℃ 이하, 특히 1070℃ 이하인 것이 바람직하다. 액상점도는, 바람직하게는 105. 0dPa·s 이상, 105. 2dPa·s 이상, 105. 3dPa·s 이상, 105. 5dPa·s 이상, 특히 105. 7dPa·s 이상인 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 성형 시에 실투결정이 발생하기 어려워지기 때문에, 오버플로다운드로법 등으로 유리판을 성형하기 쉬워지고, 유리판의 표면 품위를 높이기 쉬워진다.The liquidus temperature is preferably 1180 ° C. or less, 1150 ° C. or less, 1130 ° C. or less, 1110 ° C. or less, 1090 ° C. or less, particularly 1070 ° C. or less. Liquid viscosity is preferably 10 5. 0 dPa · s or more, 10 5. 2 dPa · s or more, 10 5. 3 dPa · s or more, 10 5. 5 dPa · s or more, particularly 10 5. 7 dPa · s or more. By doing so, it becomes difficult for the occurrence of the crystal to be formed at the time of molding, so that it is easy to form the glass plate by the overflow dross method or the like, and the surface quality of the glass plate can be easily increased.

[0075] 내스크래치성(scratch resistance)은, 바람직하게는 5N 이상, 7N 이상, 10N 이상, 12N 이상, 15N 이상인 것이 바람직하다. 내스크래치성이 낮으면, 유리에 크랙을 수반하는 상처가 나기 어려워진다. 여기서, 「내스크래치성」이란 유리 표면을 누프 압자(Knoop indenter)에 의해 0.4mm/s의 속도로 긁었을 때, 긁은 방향과 수직인 방향으로 긁은 상처의 2배 이상의 폭의 크랙이, 긁은 전체 길이(全長)의 15％ 이상의 길이로 발생하는 하중을 나타낸다. 또한, 긁기 시험은, Bruker사(社)의 트라이볼러지(tribology)시험기 UMT-2를 이용하고, 습도 30％, 온도 25℃로 유지된 항온항습조 내에서 행한다.The scratch resistance is preferably at least 5N, at least 7N, at least 10N, at least 12N, and at least 15N. When the scratch resistance is low, scratches accompanying cracks in the glass are less likely to occur. Here, the "scratch resistance" means that when a glass surface is scratched by a knoop indenter at a speed of 0.4 mm / s, a crack having a width twice or more of the scratched scratch in a direction perpendicular to the scratched direction, It represents the load that occurs at a length of 15% or more of the length (total length). The scratching test is performed in a constant temperature and humidity bath maintained at a temperature of 25 ° C and a humidity of 30% using a tribology tester UMT-2 manufactured by Bruker.

[0076] 내크랙성(crack resistance)은, 바람직하게는 200gf 이상, 500gf 이상, 700gf 이상, 900gf 이상, 1200gf 이상, 1500gf 이상, 2000gf 이상, 2500gf 이상, 3000gf 이상, 특히 35000gf 이상인 것이 바람직하다. 내크랙성이 낮으면, 유리에 상처가 나기 쉬워진다. 여기서, 「내크랙성」이란, 크랙 발생률이 50％가 되는 하중을 나타낸다. 또한, 「크랙 발생률」은, 다음과 같이 하여 측정한 값을 나타낸다. 우선, 습도 30％, 온도 25℃로 유지된 항온항습조 내에서, 소정의 하중으로 설정한 비커스 압자(Vickers indenter)를 유리 표면(광학 연마면)에 15초 동안 박아 넣고, 그 15초 후에 압흔(壓痕)의 4군데의 코너로부터 발생하는 크랙의 수를 카운트(1개의 압흔에 대해 최대 4로 함)한다. 이와 같이 하여 압자를 50회 박아 넣어, 총 크랙 발생수를 구한 후, 총 크랙 발생수/200×100(％)의 식에 의해 구한다.The crack resistance is preferably 200 gf or more, 500 gf or more, 700 gf or more, 900 gf or more, 1200 gf or more, 1500 gf or more, 2000 gf or more, 2500 gf or more, 3000 gf or more or more or 35000 gf or more. If the crack resistance is low, the glass tends to be scratched. Here, the " crack resistance " means a load at which the crack occurrence rate becomes 50%. The " crack occurrence rate " indicates the value measured in the following manner. First, a Vickers indenter set to a predetermined load was poured into a glass surface (optical polishing surface) for 15 seconds in a constant-temperature and constant-humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25 ° C, The number of cracks generated from the four corners of the indentations is counted (maximum 4 for one indentation). In this manner, the indenter is inserted 50 times to determine the total number of cracks, and then the total number of cracks / 200 × 100 (%).

1MHz의 주파수에 있어서의 유전정접(誘電正接)은, 바람직하게는 0.01 이하, 0.05 이하, 특히 0.001 이하인 것이 바람직하다.The dielectric tangent at a frequency of 1 MHz is preferably 0.01 or less, preferably 0.05 or less, particularly 0.001 or less.

내부 마찰은, 바람직하게는 0.01 이하, 0.002 이하, 0.001 이하, 특히 0.0008 이하인 것이 바람직하다.The internal friction is preferably 0.01 or less, 0.002 or less, 0.001 or less, particularly 0.0008 or less.

[0077] 본 발명의 유리는, 소정의 유리 조성이 되도록 조합(調合)한 유리 배치를 연속식 유리 용융 가마(窯)에 투입하여, 이 유리 배치를 가열 용융하고, 얻어진 용융 유리를 청징화한 후, 성형 장치에 공급한 다음, 평판 형상 등으로 성형함으로써 제작할 수 있다.The glass of the present invention can be obtained by putting a glass batch prepared in a predetermined glass composition into a continuous glass melting furnace and heating and melting the glass batch to clarify the obtained molten glass And then feeding it to a molding apparatus, and then molding it into a flat plate shape or the like.

[0078] 본 발명의 유리는, 오버플로다운드로법으로 성형되어 이루어지는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 미(未)연마 상태로도 표면 품위가 양호한 유리판을 얻을 수 있다. 오버플로다운드로법의 경우, 유리판의 표면이 되어야 할 면(面)은 홈통 형상 내화물에 접촉하지 않고, 자유 표면의 상태로 성형되기 때문에, 유리판의 표면 품위를 높일 수 있다. 본 발명의 유리는, 내실투성이 우수한 동시에, 성형에 적합한 점도 특성을 가지고 있기 때문에, 오버플로다운드로법으로 유리판을 효율적으로 성형할 수 있다.[0078] The glass of the present invention is preferably formed by overflow drowning. By doing so, it is possible to obtain a glass plate having a good surface quality even in an unpolished state. In the case of the overflow downdraw method, the surface to be the surface of the glass sheet is formed in a state of free surface without contacting the gutter-type refractory, so that the surface quality of the glass sheet can be enhanced. Since the glass of the present invention is excellent in resistance to devitrification and has a viscosity characteristic suitable for molding, it is possible to efficiently form a glass plate by the overflow drowning method.

[0079] 본 발명의 유리는, 오버플로다운드로법 이외에도, 다양한 성형 방법을 채택할 수 있다. 예컨대, 슬롯 다운법, 플로트법, 롤 아웃법 등의 성형 방법을 채택할 수 있다.[0079] In addition to the overflow dross method, the glass of the present invention can adopt various molding methods. For example, a molding method such as a slot-down method, a float method, and a roll-out method can be adopted.

[0080] 본 발명의 유리는, 바람직하게는 평판 형상을 가지는 것, 즉 유리판인 것이 바람직하고, 그 판 두께는 바람직하게는 0.6mm 이하, 0.5mm 이하, 0.4mm 이하, 특히 0.05∼0.3mm인 것이 바람직하다. 평판 형상이면, 커버 유리에 적용하기가 용이해진다. 또한, 판 두께가 작을수록, 유리판을 경량화하기 쉬워지고, 디바이스의 경량화도 용이해진다.The glass of the present invention is preferably a flat plate, that is, a glass plate, and its thickness is preferably 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.4 mm or less, particularly 0.05 to 0.3 mm or less . If it is a flat plate shape, it can be easily applied to a cover glass. Further, the smaller the thickness of the glass plate, the easier the weight of the glass plate is, and the lightness of the device becomes easier.

[0081] 또한, 본 발명의 유리는, 필름 형상인 것이 바람직하다. 이 경우, 그 판 두께는 바람직하게는 200㎛ 이하, 100㎛ 이하, 50㎛ 이하, 특히 30㎛ 이하인 것이 바람직하다.The glass of the present invention is preferably in the form of a film. In this case, the thickness of the plate is preferably 200 μm or less, 100 μm or less, and 50 μm or less, particularly preferably 30 μm or less.

[0082] 본 발명의 유리는, 표면 상에 각종 기능막을 가지는 것이 바람직하다. 기능막으로서, 예컨대, 도전성을 부여하기 위한 투명도전막, 반사율을 저하시키기 위한 반사방지막, 방현(防眩) 기능을 부여하여, 시인성(視認性)을 높이거나, 터치 펜 등에 의한 필기감을 높이기 위한 안티글레어(anti-glare)막, 지문의 부착을 방지하여, 발수성(撥水性), 발유성(撥油性)을 부여하기 위한 방오막(防汚膜) 등이 바람직하다. 투명도전막은, 터치 센서용의 전극으로서 기능하며, 예컨대, 디스플레이 디바이스측이 되어야 할 표면에 형성되는 것이 바람직하다. 투명도전막으로서, 예컨대, 주석이 도프된 산화인듐(ITO), 불소가 도프된 산화주석(FTO), 안티몬이 도프된 산화주석(ATO) 등이 이용된다. 특히, ITO는, 전기저항이 낮기 때문에 바람직하다. ITO는, 예컨대, 스퍼터링법에 의해 형성할 수 있다. 또한, FTO, ATO는, CVD(Chemical Vapor Deposition)법에 의해 형성할 수 있다. 반사방지막은, 관찰자측이 되어야 할 표면에 형성된다. 또한, 터치 패널과 커버 유리 사이에 공극(空隙)이 있는 경우, 커버 유리의 이면(裏面)측(디스플레이 디바이스측과는 반대측)이 되어야 할 표면에도 반사방지막을 형성하는 것이 바람직하다. 반사방지막은, 예컨대, 상대적으로 굴절률이 낮은 저(低)굴절률층과 상대적으로 굴절률이 높은 고(高)굴절률층이 교대로 적층된 유전체 다층막인 것이 바람직하다. 반사방지막은, 예컨대, 스퍼터링법, CVD법 등에 의해 형성할 수 있다. 안티글레어막은, 커버 유리로서 사용하는 경우, 관찰자측이 되어야 할 표면에 형성된다. 안티글레어막은, 요철(凹凸) 구조를 가지는 것이 바람직하다. 요철 구조는, 유리의 표면을 부분적으로 덮는 섬(島) 형상의 구조여도 된다. 또한, 요철 구조는, 규칙성을 가지고 있지 않은 것이 바람직하다. 이에 의해, 안티글레어 기능을 높일 수 있다. 안티글레어막은, 예컨대, 스프레이법에 의해 SiO2 등의 투광성 재료를 도포하여, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 방오막은, 커버 유리로서 사용하는 경우, 관찰자측이 되어야 할 표면에 형성된다. 방오막은, 주쇄(主鎖) 중에 규소를 포함하는 불소함유 중합체를 포함하는 것이 바람직하다. 불소 함유 중합체로서, 주쇄 중에, －O－Si－O－ 유닛을 가지며, 또한 불소를 포함하는 발수성의 관능기를 측쇄(側鎖)에 가지는 중합체가 바람직하다. 불소 함유 중합체는, 예컨대, 실라놀을 탈수축합함으로써 합성할 수 있다. 반사방지막과 방오막을 형성하는 경우, 반사방지막 상에 방오막을 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 안티글레어막을 형성하는 경우, 우선 안티글레어막을 형성하고, 그 위에, 반사방지막 및/또는 방오막을 형성하는 것이 바람직하다.[0082] The glass of the present invention preferably has various functional films on its surface. As the functional film, for example, a transparent conductive film for imparting conductivity, an antireflection film for lowering the reflectance, and an anti-glare function are provided to increase the visibility or to improve the writing feeling by a touch pen, An anti-glare film, and an antifouling film for preventing adhesion of a fingerprint and imparting water repellency and oil repellency are preferable. The transparent conductive film functions as an electrode for a touch sensor and is preferably formed on the surface to be a display device side, for example. As the transparent conductive film, for example, tin-doped indium oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), antimony doped tin oxide (ATO) and the like are used. In particular, ITO is preferable because of low electric resistance. ITO can be formed, for example, by sputtering. FTO and ATO can be formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. The antireflection film is formed on the surface to be the observer side. When there is a gap between the touch panel and the cover glass, it is preferable to form an antireflection film on the surface of the cover glass which is to be the back surface side (opposite to the display device side). The antireflection film is preferably a dielectric multilayer film in which a low refractive index layer having a relatively low refractive index and a high refractive index layer having a relatively high refractive index are alternately laminated. The antireflection film can be formed, for example, by a sputtering method, a CVD method, or the like. When the antiglare film is used as a cover glass, it is formed on the surface to be the observer side. The anti-glare film preferably has a concavo-convex structure. The concave-convex structure may be an island-like structure that partially covers the surface of the glass. It is also preferable that the concavo-convex structure has no regularity. Thereby, the anti-glare function can be enhanced. The anti-glare film can be formed, for example, by applying a light-transmitting material such as SiO 2 by spraying and drying. When used as a cover glass, the antifouling film is formed on the surface to be the observer's side. The antifouling film preferably contains a fluorine-containing polymer containing silicon in the main chain (main chain). As the fluorine-containing polymer, a polymer having a -O-Si-O- unit in the main chain and having a water-repellent functional group containing fluorine in the side chain (side chain) is preferable. The fluorine-containing polymer can be synthesized, for example, by dehydration condensation of silanol. When an antireflection film and an antifouling film are formed, it is preferable to form an antifouling film on the antireflection film. When the anti-glare film is formed, it is preferable to first form an anti glare film and form an antireflection film and / or an antifouling film thereon.

[0083] 또한, 본 발명의 유리 혹은 본 발명의 유리를 이용한 커버 유리는, 표면에 광촉매 입자가 담지되어 있는 것이 바람직하다. 광촉매 입자로는 다양한 재료로 이루어진 입자가 사용 가능하다. 예컨대 산화티탄 입자, 산화텅스텐 입자 등을 사용할 수 있다. 특히 아나타제형의 산화티탄 입자가 바람직하다. 아나타제형의 산화티탄이 바람직한 이유는, 루틸형 또는 브루카이트형의 산화티탄에 비해, 광촉매로서의 반응성이 높기 때문이다. 광촉매 입자의 평균 입자직경은, 바람직하게는 1nm 이상, 2nm 이상, 특히 3nm 이상인 것이 바람직하고, 또한, 바람직하게는 200nm 이하, 100nm 이하, 50nm 이하, 30nm 이하, 20nm 이하, 특히 10nm 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the glass of the present invention or the cover glass using the glass of the present invention has the photocatalyst particles carried on its surface. As the photocatalyst particles, particles made of various materials can be used. Titanium oxide particles, tungsten oxide particles, or the like can be used. Particularly, anatase-type titanium oxide particles are preferable. The reason why the anatase type titanium oxide is preferable is because the reactivity as the photocatalyst is higher than that of the rutile type or the brookite type titanium oxide. The average particle diameter of the photocatalyst particles is preferably 1 nm or more, 2 nm or more, particularly 3 nm or more, and more preferably 200 nm or less, 100 nm or less, 50 nm or less, 30 nm or less, 20 nm or less, .

[0084] 또한, 상기의 자외광 응답형 외에, 질소 도프형 산화티탄 입자, 산화구리 도프형 산화티탄 입자, 산화구리 도프형 산화텅스텐 입자 등의 가시광 응답형의 광촉매를 사용해도 된다. 이 타입의 광촉매를 채용하면, 실내 환경이라 하더라도 광촉매의 효과를 얻을 수 있다. 또한, 야외 환경에서 사용하는 경우, 자외광 응답형보다 많은 광(光) 에너지를 사용할 수 있다는 이점이 있다.In addition to the above-described ultraviolet light-responsive type, visible-light-responsive photocatalysts such as nitrogen-doped titanium oxide particles, copper oxide-doped titanium oxide particles, and copper oxide-doped tungsten oxide particles may be used. When this type of photocatalyst is employed, the effect of the photocatalyst can be obtained even in an indoor environment. In addition, when used in an outdoor environment, there is an advantage that more optical energy than the ultraviolet light-responsive type can be used.

[0085] 표면에 다량의 광촉매 입자를 담지시키려면 유리 표면이 다공질 형상인 것이 바람직하다. 표면을 다공질 형상으로 하는 방법으로서, 유리 표면을 산처리하는 방법을 채용할 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 유리 조성은, 분상되기 쉬운 성질을 가지고 있어, 많은 경우에 있어서, 표면이 분상되어 있다. 이 때문에 표면을 산처리하면, 붕산 성분을 많이 포함하는 내산성(耐酸性)이 낮은 상(相)이 용출(溶出)되고, 규소를 많이 포함하는 내산성이 높은 상이 표면에 남는다. 그 결과, 유리 표면이 다공질 형상이 되어, 비표면적이 현저히 증가한다. 참고로, 유리 내부는 분상되기 어렵기 때문에, 산처리를 하더라도 다공질 형상이 되는 것은 유리 표면뿐이다. 또한, 다공질 형상이 되는 표면(다공질층)의 두께(깊이)는, 10㎛ 이하인 것이 바람직하다. 다공질 형상이 되는 표면의 두께가 너무 얇으면, 비표면적을 크게 하는 효과가 작아진다. 표면의 두께가 너무 두꺼우면, 내부에 유기물 등이 퇴적하여 광촉매로서의 기능이 저하될 우려가 있다.[0085] In order to carry a large amount of photocatalyst particles on the surface, it is preferable that the glass surface has a porous shape. As a method of making the surface porous, a method of acid-treating the glass surface can be employed. That is, the glass composition according to the present invention has a property of being easily dispersed, and in many cases, the surface thereof is dispersed. Therefore, when the surface is subjected to acid treatment, a phase having a low acid resistance is eluted and a high acid-resistant phase containing a large amount of silicon remains on the surface. As a result, the glass surface becomes a porous shape, and the specific surface area remarkably increases. For reference, since the interior of the glass is difficult to be dispersed, only the glass surface becomes porous in the acid treatment. It is preferable that the thickness (depth) of the surface (porous layer) to become a porous shape is 10 占 퐉 or less. If the thickness of the porous surface is too thin, the effect of increasing the specific surface area becomes small. If the thickness of the surface is too large, there is a fear that an organic matter or the like is deposited inside and the function as a photocatalyst is deteriorated.

[0086] 다음으로, 상기의 유리에 광촉매 입자를 담지시키는 방법을 설명한다.Next, a method of supporting the photocatalyst particles on the above glass will be described.

[0087] 우선, 상기의 조성을 가지는 유리를 준비한다. 준비할 유리는, 분상되어 있는 것이 중요하다. 유리 중에 포함되는 분상입자의 크기는 바람직하게는 1nm 이상, 2nm 이상, 3nm 이상, 5nm 이상, 특히 10nm 이상인 것이 바람직하고, 또한, 바람직하게는 100nm 이하, 80nm 이하, 특히 60nm 이하인 것이 바람직하다. 이러한 유리는, 오버플로다운드로법을 이용하여 제작할 수 있다. 또한, 유리의 조성, 특성 등의 특징은 이미 설명한 바 대로이며, 여기에서는 설명을 생략한다.First, a glass having the above composition is prepared. It is important that the glass to be prepared is separated. The size of the dispersed particles contained in the glass is preferably 1 nm or more, 2 nm or more, 3 nm or more, 5 nm or more, particularly 10 nm or more, further preferably 100 nm or less, 80 nm or less, particularly 60 nm or less. Such a glass can be manufactured using an overflow drowning method. The characteristics of the glass composition, characteristics, and the like are as described above, and the description thereof is omitted here.

[0088] 전처리(前處理)로서, 유리의 표면을 산처리해 두는 것이 바람직하다. 미리 표면을 산처리해 둠으로써, 유리의 표면을 다공질 형상으로 개질하여, 비표면적을 크게 할 수 있다. 산처리의 방법으로서는, 예컨대 산(酸)용액 중에 유리를 침지시키는 방법을 채용할 수 있다. 또한, 산용액을 유리에 분무해도 된다. 산으로서는, 예컨대 염산, 질산, 황산 등을 사용할 수 있다.As the pretreatment, it is preferable to acid-treat the surface of the glass. By preliminarily treating the surface of the glass, the surface of the glass can be modified into a porous shape to increase the specific surface area. As a method of acid treatment, for example, a method of immersing glass in an acid solution can be employed. Further, the acid solution may be sprayed onto the glass. As the acid, for example, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid and the like can be used.

[0089] 다음으로, 유리의 표면에, 광촉매 입자를 포함하는 용액을 도포한다. 도포 방법은 한정되지 않는다. 예컨대, 광촉매 입자를 분산시켜서 용액 중에 유리를 침지시키는 방법을 채용할 수 있다. 또한, 광촉매 입자를 포함하는 용액을 유리 표면에 분무해도 된다.Next, a solution containing photocatalyst particles is applied to the surface of the glass. The application method is not limited. For example, a method in which the photocatalyst particles are dispersed to immerse the glass in a solution can be employed. Further, the solution containing the photocatalyst particles may be sprayed on the glass surface.

[0090] 이어서, 유리를 열처리한다. 열처리를 함으로써, 광촉매 입자를 유리 표면에 고정시킬 수 있다. 가열 온도로서는, 바람직하게는 250℃ 이상, 410℃ 이상, 특히 420℃ 이상인 것이 바람직하다. 가열 온도가 높을수록, 광촉매 입자를 강고(强固)하게 유리 표면에 고정시킬 수 있다. 참고로, 가열 온도가 너무 높으면 유리가 연화(軟化)되어 공공(空孔)이 막혀, 표면적이 저감되는 문제가 생기는 경우가 있다. 이 때문에, 가열 온도는 650℃ 이하로 하는 것이 바람직하다.[0090] Next, the glass is heat-treated. By the heat treatment, the photocatalyst particles can be fixed to the glass surface. The heating temperature is preferably 250 占 폚 or higher, 410 占 폚 or higher, particularly 420 占 폚 or higher. The higher the heating temperature, the stronger the photocatalytic particles can be fixed to the glass surface. For reference, if the heating temperature is too high, the glass may be softened to clog the pores, thereby reducing the surface area. For this reason, the heating temperature is preferably 650 ° C or lower.

[0091] 이와 같이 하여 광촉매체가 표면에 담지된 유리를 얻을 수 있다.In this way, a glass having a photocatalyst supported on its surface can be obtained.

[0092] 다음으로, 본 발명의 유리의 바람직한 양태를 예시한다.[0092] Next, preferred embodiments of the glass of the present invention are illustrated.

(1) 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 55∼70％, Al2O3 3∼15％, B2O3 18∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼1％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼7％를 함유하는 유리.(1) A glass composition comprising 55 to 70% SiO 2 , 3 to 15% Al 2 O 3 , 18 to 30% B 2 O 3 , 0 to 1% Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, MgO + CaO + SrO + BaO 0 To 7%.

(2) 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 55∼70％, Al2O3 3∼12％, B2O3 20∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼0.5％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼6％를 함유하며, 밀도가 2.28g/cm3 이하, 변형점이 610℃ 이하, 그리고 영률이 66GPa 이하인 유리.(2) A glass composition comprising, as mass%, SiO 2 55 to 70%, Al 2 O 3 3 to 12%, B 2 O 3 20 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 0.5%, MgO + CaO + SrO + BaO 0 To 6%, a density of 2.28 g / cm 3 or less, a strain point of 610 ° C or less, and a Young's modulus of 66 GPa or less.

(3) 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 58∼70％, Al2O3 7∼20％, B2O3 18∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼1％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼6％를 함유하며, 영률이 63GPa 이하인 유리.(3) A glass composition comprising, as mass%, 58 to 70% of SiO 2 , 7 to 20% of Al 2 O 3 , 18 to 30% of B 2 O 3 , 0 to 1% of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, MgO + CaO + To 6%, and Young's modulus of 63 GPa or less.

(4) 밀도가 2.40g/cm3 이하, 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수가 36×10-7/℃ 이하, 변형점이 610℃ 이하, 그리고 영률이 63GPa 이하인 유리.(4) A glass having a density of 2.40 g / cm 3 or less, a thermal expansion coefficient of 36 × 10 -7 / ° C or less, a strain point of 610 ° C or less, and a Young's modulus of 63 GPa or less in a temperature range of 30 to 380 ° C.

(5) 밀도가 2.30g/cm3 이하, 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수가 25∼36×10-7/℃, 변형점이 610℃ 이하, 그리고 영률이 63GPa 이하인 유리.(5) a density of 2.30g / cm 3 or less, the coefficient of thermal expansion in the temperature range of 30~380 ℃ 25~36 × 10 -7 / ℃ , strain point less than 610 ℃, and the Young's modulus is not more than 63GPa glass.

(6) 밀도가 2.30g/cm3 이하, 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수가 25∼40×10-7/℃, 변형점이 610℃ 이하, 그리고 영률이 65GPa 이하인 유리.(6) A glass having a density of 2.30 g / cm 3 or less, a coefficient of thermal expansion of 25 to 40 × 10 -7 / ° C, a strain point of 610 ° C or less and a Young's modulus of 65 GPa or less in a temperature range of 30 to 380 ° C.

실시예 1Example 1

[0093] 이하에서는, 실시예에 근거하여, 본 발명을 상세히 설명한다. 참고로, 이하의 실시예는, 단순한 예시이다. 본 발명은, 이하의 실시예에 전혀 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples. By way of reference, the following embodiments are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples at all.

[0094] 표 1∼6은, 본 발명의 실시예(샘플 No.1∼42)를 나타내고 있다.Tables 1 to 6 show Examples (Sample Nos. 1 to 42) of the present invention.

[0095] [표 1][Table 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

[0096] [표 2][Table 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

[0097] [표 3][Table 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

[0098] [표 4][Table 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

[0099] [표 5][Table 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

[0100] [표 6][Table 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

[0101] 다음과 같이 하여, 샘플 No.1∼42를 제작하였다. 우선, 표 중의 유리 조성이 되도록 조합한 유리 원료를 백금 도가니에 넣고, 1600℃에서 24시간 동안 용융시킨 후, 카본 판(板) 상에 흘려내어 평형(平形) 판 형상으로 성형하였다. 다음으로, 얻어진 각 샘플에 대해, 밀도(ρ), 열팽창계수(α), 변형점(Ps), 서냉점(Ta), 연화점(Ts), 104dPa·s에 있어서의 온도, 103dPa·s에 있어서의 온도, 102.5dPa·s에 있어서의 온도, 영률(E), 액상온도(TL), 액상점도(logη TL), 내스크래치성(scratch resistance) 및 내크랙성(crack resistance)을 평가하였다. 참고로, 본 실시예에서는 청징제로서 SnO2를 사용하였지만, SnO2 이외의 청징제를 사용해도 된다. 또한, 용융 조건이나 배치의 조정에 의해 기포 제거가 양호하다면, 청징제는 사용하지 않아도 된다.Samples Nos. 1 to 42 were prepared as follows. First, a glass raw material which was combined so as to have a glass composition in the table was placed in a platinum crucible, melted at 1600 占 폚 for 24 hours, and then poured onto a carbon plate to form a flat plate. Next, for each sample thus obtained, the density (ρ), the thermal expansion coefficient (α), strain point (Ps), standing cold spot (Ta), softening point (Ts), temperature in the 10 4 dPa · s, 10 3 dPa The temperature in s, the temperature in 10 2.5 dPa · s, the Young's modulus (E), the liquidus temperature (TL), the liquid viscosity (logη TL), the scratch resistance and the crack resistance . For reference, SnO 2 is used as the fining agent in this embodiment, but a fining agent other than SnO 2 may be used. Further, if the degassing is good by adjusting the melting conditions or the arrangement, the refining agent may not be used.

[0102] 밀도(ρ)는, 주지의 아르키메데스법으로 측정한 값이다.The density (rho) is a value measured by the well-known Archimedes method.

[0103] 열팽창계수(α)는, 팽창계(dilatometer)로 측정한 값이며, 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 평균치이다.The coefficient of thermal expansion (α) is a value measured by a dilatometer, and is an average value in a temperature range of 30 to 380 ° C.

[0104] 변형점(Ps), 서냉점(Ta) 및 연화점(Ts)은, ASTM C336, C338의 방법에 근거하여 측정한 값이다.The strain point Ps, the standing point Ta and the softening point Ts are values measured based on the method of ASTM C336 and C338.

[0105] 104. 0dPa·s에 있어서의 온도, 103. 0dPa·s에 있어서의 온도 및 102. 5dPa·s에 있어서의 온도는, 백금구인상법으로 측정한 값이다. [0105] 10 4. 0 dPa · s temperature, 10 of the 3 temperature in the temperature and 10 2. 5 dPa · s in 0 dPa · s is a value measured by the conventional method platinum job.

[0106] 영률(E)은, 공진법으로 측정한 값이다. 영률이 클수록, 비(比)영률(영률/밀도)이 커지기 쉬우며, 평판 형상의 경우, 자중(自重)에 의해 유리가 휘기 어려워진다.The Young's modulus (E) is a value measured by the resonance method. The larger the Young's modulus, the larger the Young's modulus (Young's modulus / density) is, and in the case of the flat plate shape, the glass hardly bends due to its own weight.

[0107] 액상온도(TL)는, 표준체 30메시(500㎛)를 통과하고, 50메시(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣어, 온도구배로 중에 24시간 동안 유지시켜, 결정이 석출되는 온도를 측정한 값이다.The glass transition temperature (TL) was measured by passing a glass powder passing through 30 meshes (500 μm) of a standard and remaining in 50 meshes (300 μm) into a platinum boat and keeping it in a temperature gradient for 24 hours, Is the measured temperature.

[0108] 액상점도(logηTL)는, 액상온도(TL)에 있어서의 유리의 점도를 백금구인상법으로 측정한 값이다.The liquidus viscosity logηTL is a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquidus temperature TL by the platinum spheroidizing method.

[0109] 내스크래치성(scratch resistance)은, 유리 표면을 누프 압자로 0.4mm/s의 속도로 긁었을 때, 긁은 방향과 수직인 방향으로 긁은 상처의 2배 이상의 폭의 크랙이, 긁은 전체 길이의 15％ 이상의 길이로 발생하는 하중을 측정하여, 그 하중이 10N 이상이 되는 경우를 「A」, 10N 미만이 되는 경우를 「B」로 평가하였다. 긁기 시험은, Bruker사(社)의 트라이볼러지 시험기 UMT－2를 이용하고, 습도 30％, 온도 25℃로 유지된 항온항습조 내에서 행하였다.The scratch resistance was evaluated as follows: when the glass surface was scratched at a speed of 0.4 mm / s with a napper impression, cracks having a width twice or more of the scratched scratches in the direction perpendicular to the scratching direction, A " when the load was 10 N or more, and " B " when the load was less than 10 N was measured. The scratching test was conducted in a thermo-hygrostat with a humidity of 30% and a temperature of 25 占 폚 using a tribology tester UMT-2 manufactured by Bruker.

[0110] 내크랙성(crack resistance)은, 크랙 발생률이 50％가 되는 하중을 측정한 값이다. 크랙 발생률은, 다음과 같이 하여 측정하였다. 우선, 습도 30％, 온도 25℃로 유지된 항온항습조 내에서, 소정의 하중으로 설정한 비커스 압자를 유리 표면(광학 연마면)에 15초 동안 박아 넣고, 그 15초 후에 압흔의 4군데의 코너 로부터 발생하는 크랙의 수를 카운트(1개의 압흔에 대해 최대 4로 함)한다. 이와 같이 하여 압자를 50회 박아 넣어, 총 크랙 발생수를 구한 후, 총 크랙 발생수/200×100(％)의 식에 의해 구하였다.The crack resistance is a value obtained by measuring a load at which a cracking rate is 50%. Crack incidence was measured as follows. First, a Vickers indenter set at a predetermined load was poured into a glass surface (optical polishing surface) for 15 seconds in a constant-temperature and constant-humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25 占 폚. After 15 seconds, Count the number of cracks originating from the corner (maximum 4 for one indentation). In this manner, the indenter was inserted 50 times to determine the total number of cracks, and then the total number of cracks / 200 × 100 (%) was calculated.

1MHz의 주파수에 있어서의 유전정접은, 공지의 평행판 콘덴서법에 의해 1MHz, 25℃의 조건에서 측정하였다.The dielectric loss tangent at a frequency of 1 MHz was measured by a known parallel plate capacitor method under the conditions of 1 MHz and 25 캜.

내부 마찰은, 공지의 반가폭법을 이용하여 측정하였다.The internal friction was measured using a known half-width method.

실시예 2Example 2

[0111] 표 1에 기재된 샘플 No.4, 5의 재질을 시험용융로(爐)에서 용융시켜, 용융 유리를 얻은 후, 오버플로다운드로법으로 판 두께 0.3mm의 유리판을 성형하였다. 그 결과, 유리판의 휨은 0.075％ 이하, 파형(WCA)은 0.15㎛ 이하(컷오프 fh：0.8mm, fl：8mm), 표면 조도(Ry)는 20Å 이하(컷오프 λc：9㎛)였다. 성형 시에는, 인장 롤러의 속도, 냉각 롤러의 속도, 가열 장치의 온도 분포, 용융 유리의 온도, 용융 유리의 유량, 판 드로잉 속도(sheet drawing rate), 교반 스터러(stirrer)의 회전 수 등을 적절히 조정함으로써, 유리판의 표면 품위를 조절하였다. 참고로 「휨」은, 유리판을 광학 정반(定盤) 상에 두고, JIS B-7524에 기재된 틈새 게이지(thickness gauge)를 이용하여 측정한 값이다. 「파형」은, 촉침식(觸針式)의 표면 형상 측정 장치를 이용하여, JIS B-0610에 기재된 WCA(여파(濾波) 중심선 파형)를 측정한 값이며, 이 측정은, SEMI STD D15-1296 「FPD 유리 기판의 표면 파형의 측정 방법」에 준거하고 있다. 「평균 표면 조도(Ry)」는, SEMI D7-94 「FPD 유리 기판의 표면 조도의 측정 방법」에 준거한 방법에 의해 측정한 값이다.The materials of the samples Nos. 4 and 5 described in Table 1 were melted in a test melting furnace to obtain a molten glass, and a glass plate having a thickness of 0.3 mm was formed by an overflow drowning method. As a result, the warpage of the glass plate was 0.075% or less, the waveform (WCA) was 0.15 탆 or less (cutoff fh: 0.8 mm, fl: 8 mm) and the surface roughness Ry was 20 Å or less (cutoff lambda c: 9 탆). During molding, the speed of the tension roller, the speed of the cooling roller, the temperature distribution of the heating device, the temperature of the molten glass, the flow rate of the molten glass, the sheet drawing rate, the number of revolutions of the stirrer, The surface quality of the glass plate was adjusted by appropriately adjusting it. For reference, "warpage" is a value measured by using a thickness gauge described in JIS B-7524, with the glass plate placed on an optical platen. The "waveform" is a value obtained by measuring the WCA (filtered center line waveform) described in JIS B-0610 using a touch-type surface shape measuring apparatus, and this measurement is performed using SEMI STD D15- 1296 " Measurement method of surface wave form of FPD glass substrate ". The "average surface roughness (Ry)" is a value measured by a method in accordance with SEMI D7-94 "Method of measuring surface roughness of FPD glass substrate".

실시예 3Example 3

[0112] 실시예 2에서 작성한 No.5의 유리를 100mm×100mm×0.3mm의 크기로 가공함으로써 유리 샘플을 준비하였다. 이 유리 샘플을 80℃－5wt％의 HCl에 10분간 침지시켜, 표면을 다공질 형상으로 개질하였다. 이어서, 산처리 후의 유리 샘플을 에탄올 수용액에 10분간 침지시켜 세정하였다.A glass sample No. 5 prepared in Example 2 was processed into a size of 100 mm × 100 mm × 0.3 mm to prepare a glass sample. This glass sample was immersed in HCl at 80 DEG C - 5 wt% for 10 minutes to modify the surface to a porous shape. Subsequently, the glass sample after the acid treatment was immersed in an aqueous ethanol solution for 10 minutes to be cleaned.

[0113] 다음으로, 평균 입자직경 5nm의 산화티탄(아나타제) 입자를 2－프로판올 용액에 2wt％ 분산시킨 용액 중에, 유리 샘플을 5분간 침지시켜, 유리 샘플 표면에 티탄 입자를 부착시켰다.Next, a glass sample was immersed in a solution in which 2 wt% of titanium dioxide (anatase) particles having an average particle diameter of 5 nm was dispersed in a 2-propanol solution for 5 minutes to adhere titanium particles to the surface of the glass sample.

[0114] 이후, 유리 샘플을 500℃로 유지한 어닐러(annealer)에 넣고, 2시간 동안 열처리한 후에 꺼냄으로써, 산화티탄 입자를 표면에 담지한 유리 샘플을 얻었다. 이와 같이 하여 얻어진 샘플에 자외선을 조사한 바, 산화티탄 입자의 광촉매 기능에 의해, 유기물을 분해할 수 있었다.Thereafter, the glass sample was placed in an annealer maintained at 500 ° C., heat-treated for 2 hours, and then turned off, thereby obtaining a glass sample carrying titanium oxide particles on its surface. When the sample thus obtained was irradiated with ultraviolet rays, the organic substance could be decomposed by the photocatalytic function of the titanium oxide particles.

실시예 4Example 4

[0115] 표 3에 기재된 샘플 No.19의 재질을 시험용융로에서 용융하여, 용융 유리를 얻은 후, 오버플로다운드로법으로 판 두께 100㎛인 필름 형상 유리를 성형하였다. 이 필름 형상 유리는, 곡률반경 60mm의 롤 형상으로 감을 수 있었다.Sample No. 19 described in Table 3 was melted in a test melting furnace to obtain a molten glass, and then a film glass having a thickness of 100 μm was formed by an overflow drowning method. This film-shaped glass was wound in a roll shape having a radius of curvature of 60 mm.

[0116] 본 발명을 특정한 양태를 참조하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나는 일 없이 다양한 변경 및 수정이 가능하다는 것은, 당업자에게 있어서 분명하다.While the invention has been described in detail with reference to specific embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made therein without departing from the spirit and scope of the invention.

참고로, 본 출원은, 2014년 4월 3일자로 출원된 일본 특허출원(특허출원 2014-076596), 2014년 4월 22일자로 출원된 일본 특허출원(특허출원 2014-087828), 2014년 5월 23일자로 출원된 일본 특허출원(특허출원 2014-106847), 2014년 10월 23일자로 출원된 일본 특허출원(특허출원 2014-216332) 및 2014년 11월 13일자로 출원된 일본 특허출원(특허출원 2014-230599)에 근거하고 있으며, 그 전체가 인용에 의해 원용된다. 또한, 여기에 인용되는 모든 참조는 전체로서 포함된다.The present application is based on Japanese patent application (patent application 2014-076596) filed on April 3, 2014, Japanese patent application (patent application 2014-087828) filed on April 22, 2014, Japanese patent application (patent application 2014-106847) filed on March 23, Japanese patent application (patent application 2014-216332) filed on October 23, 2014, and Japanese patent application filed on November 13, 2014 Patent Application 2014-230599), which is hereby incorporated by reference in its entirety. Also, all references cited herein are incorporated by reference in their entirety.

(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)

[0117] 본 발명의 유리는, 커버 유리로서 매우 적합하지만, 그 이외에도, 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 디스플레이용 기판, CSP, CCD, CIS 등의 이미지 센서용 기판, 터치 센서용 기판으로서도 매우 적합하다. 또한, 광촉매 입자를 표면에 담지시키는 경우는, 그 방오 기능을 항구적으로 유지시키는 것이 가능하기 때문에, 상기의 용도 이외에도, 예컨대 건축용 유리로서 사용할 수 있다.The glass of the present invention is very suitable as a cover glass. However, the glass of the present invention is also very suitable as a substrate for an image sensor such as a liquid crystal display, a flat display substrate such as an organic EL display, a CSP, a CCD, a CIS, Suitable. In addition, when the photocatalyst particles are supported on the surface, since the antifouling function can be maintained permanently, the photocatalyst particles can be used, for example, as architectural glass.

Claims (19)

유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼20％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼12％를 함유하는 유리.Wherein the glass composition contains 50 to 70% of SiO 2 , 0 to 20% of Al 2 O 3 , 15 to 30% of B 2 O 3 , 0 to 3 % of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, 0 to 12% of MgO + CaO + ≪ / RTI > 제 1항에 있어서,
유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 58∼70％, Al2O3 7∼20％, B2O3 18∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼1％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼10％를 함유하는 유리.The method according to claim 1,
As the glass composition, in mass%, SiO 2 58~70%, Al 2 O 3 7~20%, B 2 O 3 18~30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~1%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~10% ≪ / RTI > 제 1항에 있어서,
유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼15％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼8％를 함유하는 유리.The method according to claim 1,
Wherein the glass composition contains 50 to 70% of SiO 2 , 0 to 15% of Al 2 O 3, 15 to 30% of B 2 O 3 , 0 to 3 % of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, 0 to 8% of MgO + CaO + ≪ / RTI > 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
B2O3－(MgO＋CaO＋SrO＋BaO)가 5질량％ 이상인 유리.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Glass having B 2 O 3 - (MgO + CaO + SrO + BaO) of 5 mass% or more. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
질량비로 (SrO＋BaO)/(MgO＋CaO)가 1 이하인 유리.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
A glass having a mass ratio (SrO + BaO) / (MgO + CaO) of 1 or less. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
질량 기준으로 B2O3의 함유량이 Al2O3의 함유량보다 많은 유리.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
A glass having a B 2 O 3 content greater than that of Al 2 O 3 on a mass basis. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
밀도가 2.40g/cm3 이하, 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 열팽창계수가 25∼40×10-7/℃, 변형점이 610℃ 이하, 그리고 영률이 66GPa 이하인 유리.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
A density of 2.40g / cm 3 or less, the coefficient of thermal expansion in the temperature range of 30~380 ℃ 25~40 × 10 -7 / ℃ , strain point less than 610 ℃, and the Young's modulus is not more than 66GPa glass. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
액상점도가 105. 0dPa·s 이상인 유리.8. The method according to any one of claims 1 to 7,
A glass with a liquid viscosity of 10 5 0 dPa · s or more. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
오버플로다운드로법으로 성형되어 이루어지는 유리.9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Glass formed by overflow downdro method. 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서,
커버 유리에 이용되는 유리.10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Glass used in cover glass. 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,
이온 교환 처리되어 있지 않은 유리.11. The method according to any one of claims 1 to 10,
Glass without ion exchange treatment. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,
표면에 광촉매 입자가 담지되어 있는 유리.12. The method according to any one of claims 1 to 11,
Glass on which the photocatalyst particles are carried on the surface. 제 12항에 있어서,
유리 표면이 다공질 형상인 유리.13. The method of claim 12,
Glass having a porous glass surface. 제 12항 또는 제 13항에 있어서,
광촉매 입자가 산화티탄 입자인 유리.The method according to claim 12 or 13,
Wherein the photocatalyst particles are titanium oxide particles. 제 1항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 기재된 유리를 이용한 커버 유리.A cover glass using the glass according to any one of claims 1 to 14. 유리 조성으로서, 질량％로, SiO2 50∼70％, Al2O3 0∼20％, B2O3 15∼30％, Li2O＋Na2O＋K2O 0∼3％, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 0∼12％를 함유하는 유리가 되도록 조제한 원료 배치를 용융하여, 성형하는 유리의 제조 방법.Wherein the glass composition contains 50 to 70% of SiO 2 , 0 to 20% of Al 2 O 3 , 15 to 30% of B 2 O 3 , 0 to 3 % of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, 0 to 12% of MgO + CaO + And melting the raw material batch prepared so as to be glass. 제 16항에 있어서,
추가로 유리 표면에 광촉매 성분을 포함하는 용액을 도포한 후, 열처리하여 유리 표면에 광촉매 입자를 담지시키는 유리의 제조 방법.17. The method of claim 16,
Further comprising a step of applying a solution containing a photocatalyst component to the surface of the glass, followed by heat treatment to support the photocatalyst particles on the glass surface. 제 17항에 있어서,
유리 표면을 산(酸)처리한 후, 광촉매 성분을 포함하는 용액을 도포하는 유리의 제조 방법.18. The method of claim 17,
A process for producing glass, comprising the steps of treating a glass surface with an acid and then applying a solution containing a photocatalyst component. 제 17항 또는 제 18항에 있어서,
광촉매 성분을 포함하는 용액으로서, 산화티탄 입자가 분산된 용액을 사용하는 유리의 제조 방법.

The method according to claim 17 or 18,
A method for producing glass, comprising using a solution containing titanium oxide particles as a solution containing a photocatalyst component.

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