KR20160114398A - 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 - Google Patents
감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20160114398A KR20160114398A KR1020150040851A KR20150040851A KR20160114398A KR 20160114398 A KR20160114398 A KR 20160114398A KR 1020150040851 A KR1020150040851 A KR 1020150040851A KR 20150040851 A KR20150040851 A KR 20150040851A KR 20160114398 A KR20160114398 A KR 20160114398A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- colorant
- photosensitive resin
- resin composition
- black
- weight
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13398—Spacer materials; Spacer properties
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
Abstract
(A) "자외선 파장범위에서의 최대 투과도 / 가시광선 파장범위에서의 최저 투과도"가 30 이상인 흑색 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합 개시제; (D) 광중합성 단량체; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서 및 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터가 제공된다.
Description
본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서 및 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.
감광성 수지 조성물은 컬러필터, 액정 표시재료, 유기발광소자, 디스플레이 패널 재료 등의 표시 소자의 제조에 필수적인 재료이다. 예를 들어, 컬러 액정 디스플레이 등의 컬러필터에는 표시 콘트라스트나 발색 효과를 높이기 위해, 레드(red), 그린(green), 블루(blue) 등의 착색층 간의 경계 부분에 블랙 매트릭스가 필요하고, 이 블랙 매트릭스는 주로 감광성 수지 조성물로 형성되는 것이다.
최근에는 상기 블랙 매트릭스재료를, 액정층을 사이에 두고 존재하는 두개의 TFT와 C/F 기판 사이를 지지하는 컬럼 스페이서로 사용하고자 하는 노력들이 이루어지고 있는데, 상기 컬럼 스페이서를 블랙 컬럼 스페이서라고 한다.
상기 블랙 칼럼 스페이서의 경우, 차광성을 목표로 하여, 광학밀도(OD; Optical Density)가 높도록 안료를 선정하여 사용하나, 이 경우 UV 투과율 역시 낮아지게 되어 광경화에 불리하다. 특히 블랙 컬럼 스페이서의 가장 일반적인 안료인 카본 블랙의 경우 차광성은 뛰어나나 UV 투과율이 0이어서 블랙 특유의 표면 경화만 이루어지고, 내부 경화는 없는 상태에서 현상 공정을 거치게 되어, 공정마진이 저하된다는 단점이 있다.
따라서, 상기 단점을 해소할 수 있는 블랙 컬럼 스페이서용 감광성 수지 조성물을 개발하려는 연구가 계속되고 있다.
일 구현예는 가시광선 영역에서의 차광성을 확보함과 동시에 자외선 영역에서의 투과도도 확보가 가능한 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.
다른 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서를 제공하기 위한 것이다.
또 다른 구현예는 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.
일 구현예는 (A) "자외선 파장범위에서의 최대 투과도 / 가시광선 파장범위에서의 최저 투과도"가 30 이상인 흑색 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합 개시제; (D) 광중합성 단량체; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
상기 자외선 파장범위는 300nm 내지 400nm 일 수 있다.
상기 가시광선 파장범위는 500nm 내지 600nm 일 수 있다.
상기 자외선 파장범위에서의 최대 투과도는 3% 이상일 수 있다.
상기 가시광선 파장범위에서의 최대 투과도는 0.1% 이하일 수 있다.
상기 흑색 착색제는 적색 착색제, 녹색 착색제, 청색 착색제 및 황색 착색제로 이루어진 군에서 선택된 2종 이상을 혼합한 것일 수 있다.
상기 적색 착색제, 녹색 착색제, 청색 착색제, 바이올렛 착색제 및 황색 착색제는 각각 독립적으로 안료 또는 염료일 수 있다.
상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지, 아크릴계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 에폭시계 단량체를 더 포함할 수 있다.
상기 에폭시계 단량체는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.
[화학식 3]
상기 화학식 3에서,
A 및 B는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알칸이고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기 또는 *-C(=O)O-* 이다.
상기 에폭시계 단량체는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해 상기 흑색 착색제 5 중량% 내지 20 중량%; 상기 바인더 수지 5 중량% 내지 20 중량%; 상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 상기 광중합성 단량체 1 중량% 내지 10 중량%; 및 상기 용매 잔부량을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 불소계 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
다른 구현예는 상기 감광성 수지막을 노광 및 현상하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다.
또 다른 구현예는 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터를 제공한다.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 가시광선 영역에서의 차광성 및 자외선 영역에서의 투광성을 모두 가지는 흑색 착색제를 포함하여, 감광성 및 차광성을 동시에 가지는 블랙 컬럼 스페이서 및 이를 포함하는 컬러필터를 제공한다.
도 1은 실시예 1 및 비교예 1에 사용된 흑색 착색제의 파장에 따른 투과도를 나타낸 그래프이다.
도 2는 실시예 1 및 비교예 2에 사용된 흑색 착색제의 파장에 따른 투과도를 나타낸 그래프이다.
도 3은 비교예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막의 CD를 시간에 따라(130초, 150초, 170초) 3-D 프로파일러로 측정한 이미지 사진이다.
도 4는 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막의 CD를 시간에 따라(140초, 160초, 180초, 200초, 220초) 3-D 프로파일러로 측정한 이미지 사진이다.
도 2는 실시예 1 및 비교예 2에 사용된 흑색 착색제의 파장에 따른 투과도를 나타낸 그래프이다.
도 3은 비교예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막의 CD를 시간에 따라(130초, 150초, 170초) 3-D 프로파일러로 측정한 이미지 사진이다.
도 4는 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막의 CD를 시간에 따라(140초, 160초, 180초, 200초, 220초) 3-D 프로파일러로 측정한 이미지 사진이다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, 불포화 결합은 탄소-탄소원자간의 다중결합 뿐만아니라, 카보닐결합, 아조결합 등과 같이 다른 분자를 포함하는 것도 포함한다.
본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 1-1 내지 1-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 흑색 착색제; 바인더 수지; 광중합 개시제; 광중합성 단량체; 및 용매를 포함하고, 상기 흑색 착색제는 "자외선 파장범위에서의 최대 투과도 / 가시광선 파장범위에서의 최저 투과도"가 30 이상이다. (또는, 상기 흑색 착색제는 "자외선 파장범위에서의 최대 투과도 / 가시광선 파장범위에서의 평균 투과도"가 30 이상일 수 있다.)
종래의 블랙 매트릭스 또는 블랙 컬럼 스페이서 제조에 사용되는 감광성 수지 조성물은 우수한 차광성을 가지기 위해 광학밀도가 높은 흑색 안료, 예컨대 카본 블랙 등을 포함하였다. 그러나, 카본 블랙 등의 흑색 안료는 차광성은 뛰어나나 자외선 영역에서의 투과도가 현저히 떨어져 공정마진이 클 수 없다는 문제가 있다.
그러나, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 "자외선 파장범위에서의 최대 투과도 / 가시광선 파장범위에서의 최저 투과도" (또는 "자외선 파장범위에서의 최대 투과도 / 가시광선 파장범위에서의 평균 투과도")가 30 이상인 흑색 착색제를 포함함으로써, 감광성과 차광성을 동시에 가지는 블랙 컬럼 스페이서를 제공할 수 있다.
이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.
(A) 흑색 착색제
상기 흑색 착색제는 자외선 영역에서의 투과도가 높고, 동시에 가시광선 영역에서의 차광성이 높은 염료, 안료 또는 이들의 조합일 수 있다.
상기 자외선 파장범위는 300nm 내지 400nm, 예컨대 340nm 내지 380nm 일 수 있다.
상기 가시광선 파장범위는 500nm 내지 600nm, 예컨대 530nm 내지 570nm 일 수 있다.
상기 자외선 파장범위에서의 최대 투과도는 3% 이상, 예컨대 5% 이상, 예컨대 3% 이상 99% 이하, 예컨대 5% 이상 99% 이하일 수 있다.
상기 가시광선 파장범위에서의 최저 투과도는 3% 이만, 예컨대 0.1% 이하, 예컨대 0% 초과 3% 미만, 예컨대 0% 초과 0.1% 이하일 수 있다.
즉, 상기 흑색 착색제의 자외선 영역에서의 투과도는 가시광선 영역에서의 투과도보다 더 클 수 있다.
상기 흑색 착색제는 아닐린 블랙, 퍼릴렌 블랙, 티타늄 블랙, 카본 블랙 등의 단일 착색제가 아닌, 2종 이상을 혼합한 혼합 착색제일 수 있다. 예컨대, 상기 흑색 착색제는 적색 착색제, 녹색 착색제, 청색 착색제 및 황색 착색제로 이루어진 군에서 선택된 2종 이상을 혼합한 것일 수 있다. 전술한 바와 같이, 상기 적색 착색제, 녹색 착색제, 청색 착색제, 바이올렛 착색제 및 황색 착색제는 각각 독립적으로 안료 또는 염료일 수 있다.
상기 적색 착색제는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 적색 안료 254, C.I. 적색 안료 255, C.I. 적색 안료 264, C.I. 적색 안료 270, C.I. 적색 안료 272, C.I. 적색 안료 177, C.I. 적색 안료 89 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 녹색 착색제는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 녹색 안료 36, C.I. 녹색 안료 7 등과 같은 할로겐이 치환된 구리 프탈로시아닌 안료, G58, G59 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 청색 착색제는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 청색 안료 15:6, C.I. 청색 안료 15, C.I. 청색 안료 15:1, C.I. 청색 안료 15:2, C.I. 청색 안료 15:3, C.I. 청색 안료 15:4, C.I. 청색 안료 15:5, C.I 청색 안료 15:6, C.I. 청색 안료 16 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 바이올렛 착색제는 디옥사진 바이올렛, 퍼스트 바이올렛 B, 메틸 바이올렛 레이크, 인단트렌 브릴리언트 바이올렛 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 황색 착색제는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 황색 안료 139 등과 같은 이소인돌린계 안료, C.I. 황색 안료 138 등과 같은 퀴노프탈론계 안료, C.I. 황색 안료 150 등과 같은 니켈 컴플렉스 안료 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 착색제는 둘 이상을 혼합하여 사용할 수 있으나, 이들의 예에 한정되는 것은 아니다.
상기 착색제로 안료를 사용할 경우, 안료를 분산시키기 위해 분산제를 함께 사용할 수 있다. 구체적으로는, 상기 안료를 분산제로 미리 표면처리하여 사용하거나, 조성물 제조 시 안료와 함께 분산제를 첨가하여 사용할 수 있다.
상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다. 상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리 알킬렌 글리콜 및 이의 에스테르, 폴리 옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산에스테르, 술폰산염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의 EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.
상기 분산제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 조성물의 분산성이 우수함에 따라 블랙 컬럼 스페이서 제조 시 안정성, 현상성 및 패턴성이 우수하다.
상기 안료는 수용성 무기염 및 습윤제를 이용하여 전처리하여 사용할 수도 있다. 안료를 상기 전처리하여 사용할 경우 안료의 평균입경을 미세화할 수 있다.
상기 전처리는 상기 안료를 수용성 무기염 및 습윤제와 함께 니딩(kneading)하는 단계, 그리고 상기 니딩단계에서 얻어진 안료를 여과 및 수세하는 단계를 거쳐 수행될 수 있다.
상기 니딩은 40℃ 내지 100℃의 온도에서 수행될 수 있고, 상기 여과 및 수세는 물 등을 사용하여 무기염을 수세한 후 여과하여 수행될 수 있다.
상기 수용성 무기염의 예로는 염화나트륨, 염화칼륨 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 습윤제는 상기 안료 및 상기 수용성 무기염이 균일하게 섞여 안료가 용이하게 분쇄될 수 있는 매개체 역할을 하며, 그 예로는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등과 같은 알킬렌 글리콜 모노알킬에테르; 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린폴리에틸렌글리콜 등과 같은 알코올 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 니딩 단계를 거친 안료는 5 nm 내지 200 nm, 예컨대 5 nm 내지 150 nm의 평균 입경을 가질 수 있다. 안료의 평균 입경이 상기 범위 내인 경우, 안료 분산액에서의 안정성이 우수하고, 픽셀의 해상성 저하의 우려가 없다.
구체적으로, 상기 안료는 상기 분산제 및 후술하는 용매를 포함하는 안료분산액의 형태로 사용될 수 있고, 상기 안료분산액은 고형분의 안료, 분산제 및 용매를 포함할 수 있다.
상기 흑색 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 5 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 7 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 상기 흑색 착색제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 착색 효과 및 현상 성능이 우수하다.
(B) 바인더 수지
상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지, 아크릴계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물 내 바인더 수지가 카도계 바인더 수지일 경우, 조성물의 현상성이 우수하고, 광경화시 감도가 좋아 미세패턴 형성성이 우수하다. 또한, 카도계 바인더 수지를 사용할 경우, 블랙 컬럼 스페이서의 신뢰성을 확보할 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시알킬기이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR7R8, SiR9R10(여기서, R7 내지 R10은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임), 또는 하기 화학식 1-1 내지 1-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
[화학식 1-5]
(상기 화학식 1-5에서,
Ra는 수소원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)
[화학식 1-6]
[화학식 1-7]
[화학식 1-8]
[화학식 1-9]
[화학식 1-10]
[화학식 1-11]
Z2는 산이무수물 잔기이고,
m1 및 m2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.
상기 카도계 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 2로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
Z3은 하기 화학식 2-1 내지 2-7로 표시될 수 있다.
[화학식 2-1]
(상기 화학식 2-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)
[화학식 2-2]
[화학식 2-3]
[화학식 2-4]
[화학식 2-5]
(상기 화학식 2-5에서, Rd는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)
[화학식 2-6]
[화학식 2-7]
상기 카도계 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산디무수물, 비페닐테트라카르복실산디무수물, 벤조페논테트라카르복실산디무수물, 피로멜리틱디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산디무수물, 페릴렌테트라카르복실산디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산디무수물, 테트라하이드로프탈산무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올등의알코올화합물; 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈등의용매류화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 블랙 컬럼 스페이서 제조 시 잔사없이 패턴 형성이 잘 되며, 현상 시 막 두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복실기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.
상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지 및 아크릴계 바인더 수지가 상기 감광성 수지 조성물 내에 포함될 경우, 카도계 수지 및 아크릴계 수지는 99:1 내지 30:70의 중량비, 예컨대 95:5 내지 50:50의 중량비로 존재하도록 포함될 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지 및 아크릴계 바인더 수지가 상기 중량비 범위 내로 포함되는 경우, 우수한 현상성 및 감도를 유지할 수 있고, 테이퍼 특성이 우수한 차광층 패턴을 형성하면서 언더컷(undercut) 발생을 방지할 수 있다.
상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 5 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 7 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 내열성, 내화학성 및 현상성을 얻을 수 있다.
(C)
광중합
개시제
상기 광중합 개시제로는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 4-클로로아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일안식향산, 벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계 화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광증감제와 함께 사용될 수도 있다.
상기 광증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜비스-3-머캡토프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캡토프로피오네이트, 디펜타에리트리톨테트라키스-3-머캡토프로피오네이트 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.
(D)
광중합성
단량체
상기 광중합성 단량체는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광 시 충분한 중합을 일으켜 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 예컨대, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트, 또는 이들의조합일 수 있다.
상기 광중합성 단량체의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-158®, V-2311®등을들수있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP®등을들수있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-7100®, 동 M-8030®, 동 M-8060®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120®등; 오사카유끼가야꾸고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.
상기 광중합성 단량체는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하며, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.
(E) 용매
상기 용매는 상기 흑색 착색제, 상기 바인더 수지, 상기 광중합 개시제 및 상기 광중합성 단량체와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.
상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸에테르, n-부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 테트라히드로퓨란등의에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브아세테이트류; 메틸에틸카르비톨, 디에틸카르비톨, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산에틸, 초산-n-부틸, 초산이소부틸 등의 포화지방족 모노카르복실산알킬에스테르류; 젖산메틸, 젖산에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시초산메틸, 옥시초산에틸, 옥시초산부틸등의옥시초산알킬에스테르류; 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸 등의 알콕시초산 알킬에스테르류; 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸 등의 3-옥시프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸 등의 3-알콕시프로피온산 알킬에스테르류; 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필 등의 2-옥시프로피온산 알킬에스테르류; 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산메틸 등의 2-알콕시프로피온산 알킬에스테르류; 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸등의 2-옥시-2-메틸프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬류의 모노옥시모노카르복실산 알킬에스테르류; 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 히드록시초산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산벤질, 안식향산에틸, 옥살산디에틸, 말레인산디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 페닐셀로솔브아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.
이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 2-히드록시프로피온산에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류가 사용될 수 있다.
상기 용매는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 90 중량%, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 블랙 컬럼 스페이서 제조 시 공정성이 우수하다.
(F) 에폭시계 단량체
상기 감광성 수지 조성물은 에폭시계 단량체를 더 포함할 수 있다.
상기 에폭시계 단량체로는 글리시딜 (메타)아크릴레이트, α-메틸글리시딜 (메타)아크릴레이트, 사이클로알리파틱 에폭시(cycloaliphatic epoxy) 등을 사용할 수 있고, 구체적으로 상기 사이클로알리파틱 에폭시는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 3]
상기 화학식 3에서,
A 및 B는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알칸이고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기 또는 *-C(=O)O-* 이다.
예컨대, 상기 A 및 B는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 사이클로헥산일 수 있다.
상기 에폭시계 단량체는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 이 경우, 블랙 컬럼 스페이서 제조 공정에서 열경화가 추가로 진행되어, 내열성, 내화학성 등이 더 우수해지게 된다.
(G) 기타 첨가제
한편, 상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 불소계 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 실란계 커플링제는 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 가질 수 있다.
상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 실란계 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점생성 방지효과를 위해 계면활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100®등; 다이닛폰잉키가가꾸고교(주)社의 메카팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183®, 동 F 554® 등; 스미토모스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431®등; 아사히그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145®등; 도레이실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판되고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, IZO 기판 또는 유리기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.
다른 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 노광, 현상 및 경화하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다.
상기 블랙 컬럼 스페이서 내 패턴은 20° 이상, 예컨대 20° 이상 60° 이하의 테이퍼 각도를 가질 수 있다.
상기 블랙 컬럼 스페이서 제조방법은 다음과 같다.
(1) 도포 및 도막 형성 단계
상기 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 유리 기판 또는 IZO 기판 등의 기판상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께로 도포한 후, VCD 공정 등을 거쳐 70℃ 내지 100℃에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용제를 제거함으로써 감광성 수지막을 형성한다.
(2) 노광 단계
상기 얻어진 감광성 수지막에 필요한 패턴 형성을 위해 블랙 매트릭스 패턴을 구현할 Half tone 부분과 컬럼 스페이서 패턴을 구현할 Full tone 부분으로 혼합 구성된 마스크를 개재한 뒤, 200 nm 내지 500 nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.
노광량은 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 고압 수은등을 사용하는 경우에는 500 mJ/cm2(365 nm 센서에 의함) 이하이다.
(3) 현상 단계
현상 방법으로는 상기 노광 단계에 이어 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 패턴을 형성시킨다.
(4) 후처리 단계
상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도 및 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위한 후가열 공정이 있다.
또 다른 구현예는 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터를 제공한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
(
실시예
)
(감광성 수지 조성물 제조)
실시예
1
하기 표 1에 기재된 조성으로, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 바인더 수지, 광중합성 단량체 (및 에폭시계 단량체)를 첨가하고, 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 착색제(혼합 흑색 착색제)를 첨가한 후, 1시간 동안 상온에서 교반하고, 실란계 커플링제를 첨가하고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
성분 | 함량 | |
바인더 수지 | 카도계 바인더 수지 (KBR101, 경인양행社) | 4.95 |
아크릴계 바인더 수지 (BX-04, 일본촉매社) | 4.95 | |
광중합성 단량체 | 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본촉매社) | 4.24 |
광중합개시제 | OXE01 (BASF社) | 0.47 |
에폭시계 모노머 | celloxide 2021P (Daicel社) | 1.09 |
착색제 | 200R (Red R254 Millbase, ENF社) | 12.0 |
100Y (Yellow Y139 Millbase, ENF社) | 0.50 | |
150B (blue 15:6 Millbase, ENF社) | 8.0 | |
용매 | PGMEA | 47.56 |
EDM | 15.5 | |
기타 첨가제 | γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란 (S-510, Chisso社) | 0.74 |
비교예
1
하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 2에 나타낸 조성으로 감광성 수지 조성물을 제조한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
성분 | 함량 | |
바인더 수지 | 카도계 바인더 수지 (KBR101, 경인양행社) | 4.98 |
아크릴계 바인더 수지 (BX-04, 일본촉매社) | 4.98 | |
광중합성 단량체 | 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본촉매社) | 4.27 |
광중합개시제 | OXE01 (BASF社) | 0.47 |
흑색 착색제 | 카본블랙 포함 Mill base (Tokushiki社) | 12.25 |
용매 | PGMEA | 56.81 |
EDM | 15.5 | |
기타 첨가제 | γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란 (S-510, Chisso社) | 0.74 |
비교예
2
하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 3에 나타낸 조성으로 감광성 수지 조성물을 제조한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
성분 | 함량 | |
바인더 수지 | 카도계 바인더 수지 (KBR101, 경인양행社) | 4.98 |
아크릴계 바인더 수지 (BX-04, 일본촉매社) | 4.98 | |
광중합성 단량체 | 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본촉매社) | 4.27 |
광중합개시제 | OXE01 (BASF社) | 0.47 |
흑색 착색제 | OBP(유기 흑색 안료) 포함 Mill base (Sakata社) | 18.25 |
용매 | PGMEA | 50.81 |
EDM | 15.5 | |
기타 첨가제 | γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란 (S-510, Chisso社) | 0.74 |
평가 1: 투과도 평가
실시예 1, 비교예 1 및 비교예 2의 조성물을 10cm * 10cm의 글라스 위에 스핀 코팅기(Mikasa社, Opticoat MS-A150)를 사용하여 3,0 ㎛ 두께로 코팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 80℃에서 150초 동안 소프트-베이킹(soft-baking 또는 pre-baking)을 한 후, 투과도를 측정하여, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.
실시예 1 | 비교예 1 | 비교예 2 | |
자외선 파장범위에서의 최대 투과도 (%) | 9.8 | 0.02 | 0.4 |
가시광선 파장범위에서의 최저 투과도 (%) | 0.03 | 0.02 | 0.3 |
평가 2:
광학밀도
평가
실시예 1, 비교예 1 및 비교예 2의 감광성 수지 조성물을 10cm * 10cm의 글라스 위에 스핀 코팅기(Mikasa社, Opticoat MS-A150)를 사용하여 1.3 ㎛ 두께로 코팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 80℃에서 150초 동안 소프트-베이킹(soft-baking 또는 pre-baking)을 하고, 노광기(Ushio社, HB-50110AA)와 포토 마스크를 사용하여 50mJ로 노광하였다. 이어서 현상기(SVS社, SSP-200)를 사용하여 0.2 중량%의 수산화 칼륨(KOH) 수용액으로 150초 동안 현상하고, 오븐에서 230℃로 30분 동안 하드-베이킹(Hard-baking 또는 post-baking)을 진행하여, 패터닝된 유리 시편을 얻을 수 있었다.
X-rite로 노광 직후의 광학밀도(550nm, 3㎛)를 측정하여, 그 결과를 하기 표 5에 나타내었다.
실시예 1 | 비교예 1 | 비교예 2 | |
광학밀도(OD) | 2.1 | 2.1 | 2.1 |
상기 표 3으로부터, 실시예 1, 비교예 1 및 비교예 2의 감광성 수지 조성물은 동일한 광학밀도를 가짐을 확인할 수 있다.
평가 3:
CD
측정
평가 2의 패터닝된 시편의 컬럼 스페이서 패턴 중 10 ㎛ 패턴의 차광층 단차 두께를 비접촉식 두께 측정기(3-D profiler)로 측정하여, 그 결과를 도 3 및 도 4에 나타내었다.
상기 표 5, 도 3 및 도 4를 통하여, 동일한 광학밀도를 가지더라도, 실시예 1의 감광성 수지 조성물은 비교예 1 및 비교예 2의 감광성 수지 조성물보다 하프톤 공정을 통한 현상마진이 우수함을 확인할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
Claims (15)
- (A) "자외선 파장범위에서의 최대 투과도 / 가시광선 파장범위에서의 최저 투과도"가 30 이상인 흑색 착색제;
(B) 바인더 수지;
(C) 광중합 개시제;
(D) 광중합성 단량체; 및
(E) 용매
를 포함하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 자외선 파장범위는 300nm 내지 400nm인 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 가시광선 파장범위는 500nm 내지 600nm인 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 자외선 파장범위에서의 최대 투과도는 3% 이상인 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 가시광선 파장범위에서의 최저 투과도는 0.1% 이하인 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 흑색 착색제는 적색 착색제, 녹색 착색제, 청색 착색제 및 황색 착색제로 이루어진 군에서 선택된 2종 이상을 혼합한 것인 감광성 수지 조성물.
- 제6항에 있어서,
상기 적색 착색제, 녹색 착색제, 청색 착색제, 바이올렛 착색제 및 황색 착색제는 각각 독립적으로 안료 또는 염료인 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지, 아크릴계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 에폭시계 단량체를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
- 제9항에 있어서,
상기 에폭시계 단량체는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해
상기 흑색 착색제 5 중량% 내지 20 중량%;
상기 바인더 수지 5 중량% 내지 20 중량%;
상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%;
상기 광중합성 단량체 1 중량% 내지 10 중량%; 및
상기 용매 잔부량
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 불소계 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지막.
- 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서.
- 제14항의 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150040851A KR101804259B1 (ko) | 2015-03-24 | 2015-03-24 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 |
US15/051,941 US10216029B2 (en) | 2015-03-24 | 2016-02-24 | Photosensitive resin composition, black column spacer using the same and color filter |
TW105106821A TWI598687B (zh) | 2015-03-24 | 2016-03-07 | 感光性樹脂組成物、使用其的黑柱間隔件以及彩色濾光片 |
CN201610133394.7A CN106019826B (zh) | 2015-03-24 | 2016-03-09 | 感光性树脂组合物、使用其的黑柱间隔件以及滤色器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150040851A KR101804259B1 (ko) | 2015-03-24 | 2015-03-24 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160114398A true KR20160114398A (ko) | 2016-10-05 |
KR101804259B1 KR101804259B1 (ko) | 2017-12-04 |
Family
ID=56975182
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150040851A KR101804259B1 (ko) | 2015-03-24 | 2015-03-24 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10216029B2 (ko) |
KR (1) | KR101804259B1 (ko) |
CN (1) | CN106019826B (ko) |
TW (1) | TWI598687B (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180059242A (ko) * | 2016-11-25 | 2018-06-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
KR20180117939A (ko) * | 2017-04-20 | 2018-10-30 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR20200025819A (ko) * | 2018-08-31 | 2020-03-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR20210019044A (ko) * | 2019-03-20 | 2021-02-19 | 동우 화인켐 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 디스플레이 격벽 구조물 및 이를 포함하는 표시장치 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102674718B1 (ko) * | 2016-01-18 | 2024-06-14 | 듀폰스페셜티머터리얼스코리아 유한회사 | 흑색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 블랙 컬럼 스페이서 |
KR102080235B1 (ko) * | 2016-10-28 | 2020-02-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 흑색 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR102087261B1 (ko) * | 2017-02-16 | 2020-03-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
US11500138B2 (en) * | 2017-02-20 | 2022-11-15 | 3M Innovative Properties Company | Retroreflecting article with contrast reduction layer |
CN107329330B (zh) * | 2017-07-28 | 2020-05-19 | 武汉华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板及其制作方法、柱状隔垫物 |
TWI765958B (zh) * | 2018-01-19 | 2022-06-01 | 南韓商東友精細化工有限公司 | 著色感光性樹脂組成物、包括使用著色感光性樹脂組成物製造之黑色矩陣、柱間隔物或黑色柱間隔物的彩色濾光片、以及包括彩色濾光片的顯示裝置 |
KR102343709B1 (ko) * | 2019-04-24 | 2021-12-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 차광용 격벽 조성물, 이를 이용하여 제조된 차광용 격벽 및 디스플레이 장치 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3005185B2 (ja) | 1996-01-25 | 2000-01-31 | 御国色素株式会社 | フィルター用組成物 |
JP3915201B2 (ja) | 1997-11-11 | 2007-05-16 | 三菱化学株式会社 | 遮光性感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルタ |
JP5040432B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2012-10-03 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP5334403B2 (ja) | 2007-10-31 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 処理顔料、顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP5528712B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
WO2010038978A2 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Kolon Industries, Inc. | Photopolymer resin composition |
JP2010235739A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性黒色組成物 |
JP5429114B2 (ja) | 2010-08-26 | 2014-02-26 | 住友大阪セメント株式会社 | 赤外線透過黒色膜、赤外線透過黒色膜を用いた膜付き基材及び画像表示装置 |
KR101817378B1 (ko) | 2010-12-20 | 2018-01-11 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 격벽, 컬러 필터 및 유기 el 소자 |
JP2012167194A (ja) | 2011-02-15 | 2012-09-06 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 黒色材料、黒色材料分散液、黒色樹脂組成物、黒色膜及び黒色膜付き基材 |
JP5994782B2 (ja) | 2011-08-30 | 2016-09-21 | 旭硝子株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、ブラックマトリックスおよび光学素子 |
CN104350108B (zh) * | 2012-06-01 | 2017-03-29 | 巴斯夫欧洲公司 | 黑色着色剂混合物 |
JP2013257493A (ja) | 2012-06-14 | 2013-12-26 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 黒色材料、黒色材料分散液、黒色樹脂組成物、黒色膜及び黒色膜付き基材 |
JP5695622B2 (ja) * | 2012-09-24 | 2015-04-08 | 株式会社タムラ製作所 | 黒色硬化性樹脂組成物 |
-
2015
- 2015-03-24 KR KR1020150040851A patent/KR101804259B1/ko active IP Right Review Request
-
2016
- 2016-02-24 US US15/051,941 patent/US10216029B2/en active Active
- 2016-03-07 TW TW105106821A patent/TWI598687B/zh active
- 2016-03-09 CN CN201610133394.7A patent/CN106019826B/zh active Active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180059242A (ko) * | 2016-11-25 | 2018-06-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
KR20180117939A (ko) * | 2017-04-20 | 2018-10-30 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR20200025819A (ko) * | 2018-08-31 | 2020-03-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR20210019044A (ko) * | 2019-03-20 | 2021-02-19 | 동우 화인켐 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 디스플레이 격벽 구조물 및 이를 포함하는 표시장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106019826A (zh) | 2016-10-12 |
US20160282528A1 (en) | 2016-09-29 |
KR101804259B1 (ko) | 2017-12-04 |
US10216029B2 (en) | 2019-02-26 |
CN106019826B (zh) | 2020-03-31 |
TWI598687B (zh) | 2017-09-11 |
TW201635020A (zh) | 2016-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101804259B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 | |
KR101474803B1 (ko) | 블랙 컬럼 스페이서 제조방법, 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러 필터 | |
KR101825545B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
KR20180094651A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 | |
KR101682017B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 | |
KR101661673B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 차광층 및 컬러필터 | |
KR101688013B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 | |
KR101931249B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 | |
KR101812579B1 (ko) | 감광성 이중층 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러필터 | |
KR102080235B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 흑색 감광성 수지막 및 컬러필터 | |
KR101965279B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 | |
KR20190056809A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터 | |
KR101788092B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 차광층 및 이를 이용한 컬러필터 | |
KR20180094655A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 | |
KR20180069563A (ko) | 컬러 필터 및 이를 포함하는 액정 표시 장치 | |
KR20180062771A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 | |
KR20160063836A (ko) | 감광성 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 | |
KR102025359B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 | |
KR101814672B1 (ko) | 감광성 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 | |
KR101837969B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
KR102682916B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 디스플레이 장치 | |
KR102216426B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치 | |
KR20160140227A (ko) | 감광성 이중층 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러필터 | |
KR101776264B1 (ko) | 감광성 수지 조성물층, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러 필터 | |
KR102108257B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
Z031 | Request for patent cancellation [new post grant opposition system introduced on 1 march 2017] | ||
Z072 | Maintenance of patent after cancellation proceedings: certified copy of decision transmitted [new post grant opposition system as of 20170301] | ||
Z131 | Decision taken on request for patent cancellation [new post grant opposition system as of 20170301] | ||
Z072 | Maintenance of patent after cancellation proceedings: certified copy of decision transmitted [new post grant opposition system as of 20170301] | ||
Z072 | Maintenance of patent after cancellation proceedings: certified copy of decision transmitted [new post grant opposition system as of 20170301] |