KR20160082711A - Metal mesh type touch screen panel and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전기전도성이 우수하면서 반사율이 감소되어 시인성이 개선된 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a metal mesh-type touch screen panel and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a metal mesh-type touch screen panel having improved electrical conductivity and reduced reflectivity, thereby improving visibility.
최근 스마트폰과 함께 새로운 입력 장치로 사용되기 시작한 터치스크린패널(Touch screen panel, TSP)은 그 용도가 태블릿 PC, 노트북, 모니터, TV 등으로 확대되고 있으며, 슬림화, 경량화, 고화질 구현, 생산성 향상 등의 요구에 부응하며 새로운 기술로 발전하고 있다.Touch screen panel (TSP), which has recently been used as a new input device with smartphones, has been expanded to include tablet PCs, notebooks, monitors, TVs, and slimmer, lighter, And is developing into new technology.
이러한 터치스크린패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이며, 터치패널, 컨트롤러 IC, 드라이버 SW 등으로 구성된다. Such a touch screen panel is an input device for inputting a command of a user by selecting an instruction content displayed on a screen of a video display device or the like as a human hand or an object, and is composed of a touch panel, a controller IC, and a driver SW.
상기 터치스크린패널은 동작 원리에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등이 있다. 이중 높은 신뢰성, 우수한 성능, 빠른 응답속도 및 멀티 터치 구현 등의 많은 장점으로 인해 정전용량 방식이 많이 채택되어 사용되어 왔다.The touch screen panel may include a resistive type, a capacitive type, an ultrasonic type, an infrared type, and the like in accordance with the operation principle. Due to many advantages such as high reliability, excellent performance, fast response speed, and multi-touch implementation, many capacitive methods have been adopted and used.
이러한 정전용량 방식의 터치스크린 패널은 대부분 투명 전도성 ITO(Induim tin oxide) 박막을 기반으로 하고 있으나, 대면적 터치 스크린패널 적용시 ITO 투명 전극 자체의 비교적 높은 면저항(~150 Ω/ㅁ)으로 인한 RC 지연 때문에 터치 인식 속도가 느려진다는 단점을 가지고 있다.Most of capacitive type touch screen panels are based on transparent conductive ITO (Indium Tin Oxide) thin film. However, when a large area touch screen panel is applied, a relatively large sheet resistance (~ 150 Ω / ㅁ) It has a disadvantage that the speed of touch recognition is slowed down due to the delay.
이에, 상기 투명 ITO 박막을 대체하기 위한 기술로서 터치 스크린 패널의 전극용으로 사용되는 메탈메쉬(metal mesh)가 제시되었다. As a technique for replacing the transparent ITO thin film, a metal mesh used for an electrode of a touch screen panel has been proposed.
이러한 종래의 방법으로서, 특허문헌 1(국내 특허공개공보 제10-2014-0051649호)은 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널에 대해 개시하고 있다. 이 방법에 의하면, 비저항이 높은 ITO를 이용하지 않고, 비저항이 상대적으로 낮은 Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, Cr, Ag, Ag 계열 합금들과 같은 금속물질을 이용하여 터치 전극을 형성하기 때문에 저항값을 낮춰 터치 감도를 향상시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다고 기재하고 있다. 그러나, 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 경우 시인성 문제와 모아레 현상이 발생한다는 문제점이 있다. 시인성 문제란 완성된 제품 구현시 반짝거리는 메탈 패턴이 눈에 보이는 현상이며, 모아레 현상은 반짝거리는 메탈 메쉬 패턴과 디스플레이의 격자무늬가 더해져서 물결처럼 보이는 현상이다. As such a conventional method, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0051649) discloses a metal mesh type touch screen panel. According to this method, since a touch electrode is formed using a metal material such as Al, AlNd, Mo, MoTi, Cu, Cr, Ag, Ag alloys having relatively low resistivity without using ITO having a high resistivity It is possible to obtain an effect that the touch sensitivity can be improved by lowering the resistance value. However, in the case of a metal mesh type touch screen panel, a visibility problem and a moiré phenomenon occur. The visibility problem is a phenomenon in which the shiny metal pattern is visible when the finished product is realized, and the moiré phenomenon is a phenomenon in which the shiny metal mesh pattern and the grid pattern of the display are added together and appear like waves.
이밖에, 터치 스크린 패널의 전극 용도로 높은 전기전도도를 가지는 금속 박막인 Al-AlN, Al-CrN, Cu-CrN, Cu-CuN, Ag-CrN, Ag-AlN, Ag-CuN 등을 이용하는 경우에도, 높은 반사도로 인한 시인성 문제가 과제로 남아 있다.Even in the case where Al-AlN, Al-CrN, Cu-CrN, Cu-CuN, Ag-CrN, Ag-AlN or Ag-CuN which are metal thin films having high electrical conductivity are used for the electrode of the touch screen panel , Visibility due to high reflectivity remains a challenge.
이에 따라, 기존 ITO 기반의 투명 전도성 박막층을 사용한 터치스크린 패널과 차별화 되며, 금속 미세 패턴 전극의 은폐성 및 외부광에 대한 반사 및 회절 특성이 개선된 터치스크린 패널에 적용할 수 있는 전도성 소재의 개발이 시급한 실정이다.Accordingly, development of a conductive material that can be applied to a touch screen panel which is differentiated from a touch screen panel using a transparent conductive thin film layer based on the existing ITO, and has improved hiding power of a metal fine pattern electrode and reflection and diffraction characteristics against external light This is urgent.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 CAT(Cu-Al-Ti) 합금을 메탈 메쉬 패턴에 적용함으로써 전기전도도가 우수한 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a metal mesh type touch screen panel having excellent electrical conductivity by applying a CAT (Cu-Al-Ti) alloy to a metal mesh pattern.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 상기 CAT(Cu-Al-Ti)합금을 이용한 도전층을 흑화층으로 증착시킴으로써 반사율이 저하되고 시인성이 개선된 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a metal mesh-type touch screen panel in which the reflectance is reduced and the visibility is improved by depositing a conductive layer using the CAT (Cu-Al-Ti) alloy as a blackening layer.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 상기 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing the metal mesh type touch screen panel.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 기판; 및 상기 기판의 적어도 일면에 마련되고, 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)층을 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a semiconductor device comprising: a substrate; And Cu (Al-Ti), which is a three-component alloy composed of at least one surface of the substrate and composed of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium ) Layer formed on the surface of the metal mesh-type touch screen panel.
상기 CAT층의 두께는 50 내지 500nm인 것이 바람직하고, 상기 CAT층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 갖는 것이 바람직하다. The thickness of the CAT layer is preferably 50 to 500 nm, and the CAT layer preferably has a mesh pattern shape with a line width of 10 m or less and a pitch of 600 m or less after patterning.
상기 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널은 상기 CAT층에 접하여 마련되는 흑화층을 더 포함할 수 있고, 이렇게 흑화층이 포함된 경우 상기 CAT층의 반사율(R1)과 상기 CAT층이 패터닝되어 제거된 기판 영역의 반사율(R2)의 차이는 하기의 식 (1)을 만족할 수 있다.The metal mesh type touch screen panel may further include a blackening layer provided in contact with the CAT layer. When the blackening layer is included, the reflectance (R1) of the CAT layer and the substrate ratio The difference of the reflectance R 2 of the light-emitting layer can satisfy the following formula (1).
|R1 - R2 | < 5% … (1)| R1 - R2 | <5% ... (One)
상기 흑화층은 상기 기판과 상기 CAT층 사이에 마련되는 제1흑화층 및 상기 CAT층을 개재하여 상기 제1흑화층과 대향하는 위치에 마련되는 제2흑화층 중 선택된 어느 하나 이상의 층을 포함할 수 있으며, 이때 상기 제1흑화층의 두께는 10 내지 50nm, 상기 제2흑화층의 두께는 10 내지 30nm인 것이 바람직하다.The blackening layer includes at least one selected from a first blackening layer provided between the substrate and the CAT layer and a second blackening layer provided at a position facing the first blackening layer via the CAT layer The thickness of the first blackening layer is preferably 10 to 50 nm, and the thickness of the second blackening layer is preferably 10 to 30 nm.
그리고, 상기 흑화층은 CATO(Cu-Al-Ti-O)층, CATN(Cu-Al-Ti-N)층 및 이들의 복합층 중 어느 하나인 것이 바람직하며, 상기 CATO(Cu-Al-Ti-O)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 산소(O2)의 반응으로 형성된 금속막일 수 있고, 상기 CATN(Cu-Al-Ti-N)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 질소(N2)의 반응으로 형성된 금속막일 수 있다.It is preferable that the blackening layer is any one of a CATO (Cu-Al-Ti-O) layer, a CATN -O) layer is made of a three-component alloy consisting of CAT (Cu-Al-Ti) and oxygen (O2), which is a ternary alloy composed of 0.1 to 10.0% by weight of aluminum (Al), 0.1 to 10.0% ), And the CATN (Cu-Al-Ti-N) layer may contain 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) And may be a metal film formed by a reaction of CAT (Cu-Al-Ti) and nitrogen (N2), which are three-component alloys constituted.
상기 흑화층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 갖는 것이 바람직하다.The blackening layer preferably has a mesh pattern shape with a line width of 10 mu m or less and a pitch of 600 mu m or less after patterning.
또한, 본 발명은 기판을 준비하는 단계; 및 상기 기판의 적어도 일면에 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)층을 마련하는 단계를 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: preparing a substrate; And a CAT (Cu-Al-Ti) layer which is a ternary alloy composed of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) and the balance of copper (Cu) The method comprising the steps of: preparing a metal mesh type touch screen panel;
상기 제조방법은 상기 CAT층을 마련하는 단계 전 및/또는 후에 흑화층을 마련하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 흑화층은 상기 CAT층을 타겟으로 하고, 아르곤(Ar) 가스 및 반응성 가스를 공급하여 반응성 스퍼터링 방법으로 형성될 수 있다. 이때, 상기 반응성 가스는 산소(O2) 또는 질소(N2)일 수 있으며, 상기 반응성 가스의 유입량은 상기 Ar가스 유입량 대비 1 ~ 10%인 것이 바람직하다. The method may further include a step of providing a blackening layer before and / or after the step of providing the CAT layer, wherein the blackening layer targets the CAT layer, and an argon (Ar) gas and a reactive gas And may be formed by a reactive sputtering method. At this time, the reactive gas may be oxygen (O 2) or nitrogen (N 2), and the inflow amount of the reactive gas is preferably 1 to 10% of the inflow amount of the Ar gas.
본 발명에 따르면, CAT(Cu-Al-Ti)층이 적용된 메탈 메쉬 패턴을 사용함으로써 전기전도도가 우수한 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널을 제공할 수 있다. 또한, 상기 CAT(Cu-Al-Ti)층을 흑화층으로 증착시킴으로써 디스플레이 화면의 반사율을 감소시킬 수 있으며, 따라서 시인성을 확보할 수 있다.According to the present invention, a metal mesh-type touch screen panel having excellent electrical conductivity can be provided by using a metal mesh pattern to which a CAT (Cu-Al-Ti) layer is applied. In addition, by depositing the CAT (Cu-Al-Ti) layer as a blackening layer, the reflectance of the display screen can be reduced, thereby ensuring visibility.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널이 터치 패널로 조립되기 전에 도전층을 패터닝한 후의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 단면도이다.
도 3는 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 패턴 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 기존의 ITO 기반 터치 스크린 패널의 제조공정과 본 발명의 일 실시예에 따른 CAT 개선공정을 비교하여 단계별로 설명한 순서도이다.
도 5는 상기 도 4의 CAT 개선공정과 본 발명의 다른 실시 예에 따른 CATO/CATN 반응성 공정을 비교하여 단계별로 설명한 순서도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention, after a conductive layer is patterned before the touch screen panel is assembled into a touch panel.
2 is a cross-sectional view of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
3 is a view for explaining a patterning method of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a flowchart illustrating steps of a conventional ITO-based touch screen panel manufacturing process and a CAT improving process according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a flowchart illustrating the CATO improvement process of FIG. 4 and comparing the CATO / CATN reactive process according to another embodiment of the present invention.
본 발명은 기판; 및 상기 기판의 적어도 일면에 마련되고, 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)층을 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널을 제공한다.The present invention relates to a substrate; And Cu (Al-Ti), which is a three-component alloy composed of at least one surface of the substrate and composed of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium ) Layer formed on the surface of the metal mesh-type touch screen panel.
상기 CAT층에서 상기 알루미늄(Al)과 티타늄(Ti)의 함량의 총합은 20중량% 이하인 것이 바람직하며, Al과 Ti 함량의 총합이 15중량% 이하일 경우 부식 저항이 향상될 수 있어 더욱 바람직하다. 반면, 상기 Al과 Ti 함량의 총합이 20중량%를 초과하는 경우에는 금속 도전층으로서의 기능이 저하될 수 있다. The total amount of the aluminum (Al) and titanium (Ti) in the CAT layer is preferably 20 wt% or less, more preferably 15 wt% or less. On the other hand, when the sum of the Al and Ti contents exceeds 20% by weight, the function as the metal conductive layer may be deteriorated.
상기 CAT(Cu-Al-Ti)로 도전층을 형성할 경우, 부식 저항이 높고, 선택적 식각성이 우수하며, 저항값이 낮아서 미세 선폭(line and space)으로 형성하더라도 신호 전달이 우수하고, 식각의 균일성을 얻을 수 있다. 또한, 핀홀의 발생이 거의 일어나지 않고, 드물게 핀홀이 생성되더라도 3㎛ 이하의 핀홀이 생성되므로 미세 선폭으로 패터닝하더라도 단선의 우려가 없다. When the conductive layer is formed of the above-mentioned CAT (Cu-Al-Ti), the corrosion resistance is high, the selective etching is excellent, the resistance is low and the signal transmission is excellent even when formed into a fine line width and space, Uniformity can be obtained. In addition, pinholes hardly occur, and pinholes of 3 mu m or less are generated even if pinholes are rarely generated. Therefore, there is no fear of disconnection even if patterning is performed with a fine line width.
상기 CAT층의 두께는 50 내지 500nm 범위 내인 것이 기계적 강도를 유지하면서 우수한 터치 패널 적용성을 나타낼 수 있어 바람직하다. 그리고, 상기 CAT층은 스퍼터링 법을 이용하여 빠른 시간 안에 균일한 도전층을 형성할 수 있다. The thickness of the CAT layer is preferably in the range of 50 to 500 nm because it can exhibit excellent touch panel applicability while maintaining mechanical strength. The CAT layer can form a uniform conductive layer in a short time by using the sputtering method.
상기 CAT층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 갖는 도전층을 형성할 수 있다. 도전층의 폭, 두께 및 피치의 형태는 패터닝 방법에 의해서 결정될 수 있으며, 리버스 옵셋, 그라비아 옵셋 등의 방법에 의해서 패터닝 될 수 있다. 도 3은 리버스 옵셋에 의한 패터닝 방법을 나타낸 것이며, 이러한 방법을 통해서 선폭 2~5㎛의 메쉬 패턴을 구현할 수 있다.After the patterning, the CAT layer can form a conductive layer having a mesh pattern shape with a line width of 10 mu m or less and a pitch of 600 mu m or less. The width, thickness, and shape of the conductive layer can be determined by a patterning method, and can be patterned by a method such as reverse offset, gravure offset, and the like. FIG. 3 shows a patterning method using a reverse offset. Through this method, a mesh pattern having a line width of 2 to 5 μm can be realized.
본 발명에 따른 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널은 상기 CAT층에 접하여 마련되는 흑화층을 더 포함할 수 있다. 여기서, 흑화란 금속재질로 이루어진 도전성 패턴층인 CAT층의 표면을 검게 처리하는 것을 의미하는 것으로, 흑화처리를 함으로써 금속재질의 높은 반사도로 인한 시인성 문제를 해소할 수 있다. 또한, 상기 흑화층은 도전성 패턴층의 자연산화를 방지하는 역할도 겸할 수 있어 산화로 인해 면저항이 높아지는 현상 또는 최소화할 수 있다.The metal mesh touch screen panel according to the present invention may further include a blackening layer provided in contact with the CAT layer. Here, blackening means that the surface of the CAT layer, which is a conductive pattern layer made of a metal, is blackened. By performing the blackening treatment, the visibility problem due to high reflectivity of the metal material can be solved. In addition, the blackening layer may also serve to prevent natural oxidation of the conductive pattern layer, so that the sheet resistance can be increased or minimized due to oxidation.
상기 시인성 문제와 관련하여 도 1을 참조하여 설명하면 하기와 같다.The above-described visibility problem will be described with reference to FIG.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널이 터치 패널로 조립되기 전에 금속 도전층을 패터닝한 후의 단면도를 나타내는 것으로(흑화층 미도시), 금속(metal)이 존재하는 부분(R1)과 패터닝되어 제거된 부분(R2)의 반사율 차이가 높을 경우, 반짝이는 금속 패턴이 눈에 보이는 시인성의 문제가 발생한다. 그러나, 본 발명에서와 같이 금속 도전층인 CAT층에 접하는 흑화층을 마련할 경우, 상기 CAT층의 반사율(R1)과 상기 CAT층이 패터닝되어 제거된 기판 영역의 반사율(R2)의 차이가 하기의 식 (1)을 만족할 수 있게 된다. 이 경우, R1영역과 R2영역의 차이를 눈으로 느끼지 못하므로 시인성이 향상되어 인덱스-매칭(Index-matching)이 이루어진다.FIG. 1 is a cross-sectional view (after a blackening layer) of a metal conductive layer before patterning a touch screen panel according to an embodiment of the present invention. And the difference in the reflectance of the patterned and removed portion R2 is high, visibility of the shiny metal pattern is visually observed. However, when a blackening layer in contact with the CAT layer as the metal conductive layer is provided as in the present invention, the difference between the reflectance (R1) of the CAT layer and the reflectance (R2) of the substrate region in which the CAT layer is patterned and removed is (1) can be satisfied. In this case, since the difference between the R1 region and the R2 region is not visually perceived, visibility is improved and index-matching is achieved.
|R1 - R2 | < 5% … (1)| R1 - R2 | <5% ... (One)
상기 흑화층은, 상기 기판과 상기 CAT층 사이에 마련되는 제1흑화층 및 상기 CAT층을 개재하여 상기 제1흑화층과 대향하는 위치에 마련되는 제2흑화층 중 선택된 어느 하나 이상의 층을 포함할 수 있다.The blackening layer includes at least one selected from a first blackening layer provided between the substrate and the CAT layer and a second blackening layer provided at a position facing the first blackening layer via the CAT layer can do.
구체적으로 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널은 기판(100), 제1흑화층(200a), CAT층(200) 및 제2흑화층(200b)을 포함할 수 있다. 상기 제1흑화층(200a)과 제2흑화층(200b)은 상기 도 2에 도시된 바와 같이 모두 포함될 수 있고, 이들 중 어느 하나만 포함될 수도 있다. 예컨대, 기판이 유리(glass) 재질일 경우, 도 2와 같이 제1흑화층(200a) 및 제2흑화층(200b)으로 구성되고, 상기 제2흑화층(200b)은 생략될 수도 있다. 한편, 기판이 필름(film) 재질인 경우에는 도 2와같이 제1흑화층(200a) 및 제2흑화층(200b)으로 구성되고, 상기 제1흑화층(200a)이 생략될 수 있다.Referring to FIG. 2, a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention may include a
상기 제1흑화층은 CAT층의 반사도를 낮추는 흑화기능과 함께 기판과 CAT층간의 접착력(adhesion)을 향상시키는 효과를 갖는다. 따라서, 기존에 기판과 도전성 패턴층 간의 접착력 향상을 위해 추가로 포함되었던 접착층이 생략될 있으므로, 층의 추가로 인해 발생되는 공정의 복잡화 및 터치 패널의 부피 증가 등의 문제를 해소하는 부가적인 효과 또한 가져올 수 있다.The first blackening layer has an effect of improving the adhesion between the substrate and the CAT layer together with a blackening function of lowering the reflectivity of the CAT layer. Accordingly, since the adhesive layer, which has been previously included for the purpose of improving the adhesion between the substrate and the conductive pattern layer, is omitted, the additional effect of solving the problems such as the complication of the process and the increase in the volume of the touch panel, Can be imported.
상기 제1흑화층의 10nm 내지 50nm인 것이 바람직하며, 상기 두께가 10nm 미만일 경우 반사율 저하 및 접착력 향상 효과가 떨어질 우려가 있고, 반면 50nm를 초과할 경우 공정상의 택-타임(tac-time)이 길어지게 되어 경제성이 떨어질 우려가 있다. When the thickness is less than 10 nm, there is a fear that the reflectance and adhesion improving effect are lowered. On the other hand, when the thickness is more than 50 nm, the tac-time in the process is long There is a possibility that the economic efficiency is lowered.
상기 제2흑화층은 흑화기능과 함께 산화방지층으로서의 역할도 할 수 있다. 상기 흑화층은 3성분계 합금인 CAT가 N2 또는 O2로 처리되어 형성된 것으로, 산화가 잘되는 금속재질의 성질을 보완하여 자연산화를 방지할 수 있고, 따라서 산화로 인해 면저항이 높아지는 현성을 최소화 할 수 있는 것이다.The second blackening layer can function not only as a blackening function but also as an oxidation preventing layer. The blackening layer is formed by treating CAT, which is a three-component system alloy, with N2 or O2. It can prevent natural oxidation by complementing the property of a metal material that is oxidized, and therefore, will be.
상기 제2흑화층의 10nm 내지 30nm인 것이 바람직하며, 상기 두께가 100nm 미만일 경우 반사율 저하 및 산화방지 효과가 떨어질 우려가 있고, 반면 30nm를 초과할 경우 공정상의 택-타임(tac-time)이 길어지게 되어 경제성이 떨어질 우려가 있다. The thickness of the second blackening layer is preferably 10 nm to 30 nm. If the thickness is less than 100 nm, the reflectance and the oxidation preventing effect may deteriorate. On the other hand, when the thickness is more than 30 nm, the tac- There is a possibility that the economic efficiency is lowered.
상기 흑화층은 CATO(Cu-Al-Ti-O)층, CATN(Cu-Al-Ti-N)층 및 이들의 복합층 중 어느 하나일 수 있다. 이는 상기 제1흑화층 및 제2흑화층에 모두 적용되는 것으로, 상기 제1흑화층 및 제2흑화층은 동일하거나 다른 재질로 형성될 수 있다. The blackening layer may be any one of a CATO (Cu-Al-Ti-O) layer, a CATN (Cu-Al-Ti-N) layer and a composite layer thereof. This is applied to both the first blackening layer and the second blackening layer, and the first blackening layer and the second blackening layer may be formed of the same or different materials.
상기 CATO(Cu-Al-Ti-O)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 산소(O2)의 반응으로 형성된 금속막일 수 있다.Wherein the CATO (Cu-Al-Ti-O) layer is a three-component alloy consisting of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) Al-Ti) and oxygen (O2).
상기 CATN(Cu-Al-Ti-N)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 질소(N2)의 반응으로 형성된 금속막일 수 있다.The CATN (Cu-Al-Ti-N) layer is a three-component alloy consisting of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) Al-Ti) and nitrogen (N2).
상기 흑화층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 가질 수 있고, 전술한 CAT층과 함께 도전층을 형성하게 된다.The blackening layer may have a mesh pattern shape with a line width of not more than 10 mu m and a pitch of not more than 600 mu m after patterning, and forms a conductive layer together with the above-mentioned CAT layer.
그리고, 기판은 투명하고, 플렉서블하며, 상면에 스퍼터링 또는 진공 증착에 의해 도전막을 형성하기 위한 고온 공정에 내열성이 있는 열가소성 플라스틱 필름으로 마련될 수 있다. 기판의 종류에 특별한 한정이 있는 것은 아니나, 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알콜계 수지, 폴리아릴레이트계 수지 및 폴리페닐렌설파이드계 수지를 포함하는 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 플라스틱 필름을 들 수 있다.The substrate may be made of a thermoplastic plastic film that is transparent, flexible, and heat resistant to a high-temperature process for forming a conductive film on the upper surface by sputtering or vacuum deposition. Although there is no particular limitation on the type of the substrate, it is possible to use various resins such as a polyester resin, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, , A polyvinyl chloride resin, a polyvinylidene chloride resin, a polystyrene resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyarylate resin, and a polyphenylene sulfide resin can be used. have.
또한, 상기 기판은 유리 재질로 마련될 수도 있다. 유리 재질로는 어느 정도 이상의 경도를 가지는 것이면 일반 유리도 사용이 가능하나 고경도 필름 유리, 사파이어 유리 및 고릴라 유리를 포함하는 경도가 높은 유리 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 유리가 사용될 수도 있다.Further, the substrate may be made of a glass material. As the glass material, ordinary glass can be used as long as it has a hardness of at least a certain degree, but any one or more of glass selected from the group of high hardness glass including high hardness film glass, sapphire glass and gorilla glass may be used.
상기 기판의 두께는 2 내지 200㎛의 범위 내인 것이 기계적 강도를 유지하면서 우수한 터치 패널 적용성을 나타낼 수 있다.The thickness of the substrate is in the range of 2 to 200 탆, which can exhibit excellent touch panel applicability while maintaining mechanical strength.
이하, 본 발명의 터치 스크린 패널의 제조 방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the touch screen panel of the present invention will be described in detail.
본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 제조 방법은, 기판을 준비하는 단계; 및 상기 기판의 적어도 일면에 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)층을 마련하는 단계를 포함한다. 각 단계별 구성요소들의 특징은 상기 터치 스크린 패널에 대한 상세한 설명에 기재된 바와 같다.A method of manufacturing a touch screen panel according to the present invention includes: preparing a substrate; And a CAT (Cu-Al-Ti) layer which is a ternary alloy composed of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) and the balance of copper (Cu) . The characteristics of the components in each step are as described in the detailed description of the touch screen panel.
먼저, 기판을 준비하는 단계에서, 상기 기판은 신뢰성 높은 제품을 제공하기 위하여 표면 세정 처리될 수 있다. 상기 표면 세정 처리는 용액 세정, 초음파 세정 등의 다양한 방법으로 수행할 수 있다. 또한, 기판 위에 마련될 수 있는 도전층과의 접착력을 향상시키기 위해 기판의 표면 처리를 더 수행할 수도 있다. First, in preparing the substrate, the substrate may be surface cleaned to provide a reliable product. The surface cleaning treatment may be performed by various methods such as solution cleaning, ultrasonic cleaning, and the like. Further, the surface treatment of the substrate may be further performed to improve the adhesion with the conductive layer which may be provided on the substrate.
상기 기판의 적어도 일면에 CAT층을 마련하는 단계에서, 상기 CAT층은 스퍼터링 등의 방법을 통해 신뢰성 있게 기판 상에 마련될 수 있다.In the step of providing the CAT layer on at least one side of the substrate, the CAT layer can be reliably provided on the substrate by a method such as sputtering.
또한, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 제조 방법은 상기 CAT층을 마련하는 단계 전 및/또는 후에 흑화층을 마련하는 단계를 더 포함할 수 있다. In addition, the method of manufacturing a touch screen panel according to the present invention may further include a step of providing a blackening layer before and / or after the step of providing the CAT layer.
이 단계에서, 상기 흑화층은 반응성 스퍼터링에 의해 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 흑화층은 상기 CAT층을 타겟으로 하고, 아르곤(Ar) 가스 및 반응성 가스를 공급하여 반응성 스퍼터링 방법으로 형성할 수 있고, 이때 사용되는 반응성 가스는 산소(O2) 또는 질소(N2)인 것이 바람직하다. 상기 반응성 가스의 유입량은 상기 Ar가스 유입량 대비 1 ~ 10%인 것이 바람직하며, 상기 유입량이 1%미만일 경우 CAT층 표면이 흑화층으로 충분히 피복되기 어려워 반사율을 이 높아져 시인성 문제가 발생할 우려가 있고, 반면 10%를 초과할 경우 저항이 높아질 우려가 있다.In this step, the blackening layer may be formed by reactive sputtering. Specifically, the blackening layer can be formed by a reactive sputtering method by supplying an argon (Ar) gas and a reactive gas with the CAT layer as a target, and the reactive gas used herein is oxygen (O 2) or nitrogen (N 2) . The inflow amount of the reactive gas is preferably 1 to 10% of the inflow amount of the Ar gas. When the inflow amount is less than 1%, the surface of the CAT layer is not sufficiently covered with the blackening layer, On the other hand, if it exceeds 10%, the resistance may increase.
이와 같이, 반응성 스퍼터링을 이용할 경우, CAT층 및 흑화층을 연속적으로 형성할 수 있어 바람직하다. 즉, 도전층 형성재료가 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)이고, 이와 동일한 CAT 타겟과 산소(O2) 또는 질소(N2)를 반응시켜 흑화층을 형성할 수 있기 때문에, 반응성 가스인 O2 또는 N2의 투입시기 및 투입량을 조절함으로써 연속적으로 CAT층 및 흑화층을 형성할 수 있다. As described above, when reactive sputtering is used, the CAT layer and the blackening layer can be continuously formed, which is preferable. That is, since the conductive layer forming material is CAT (Cu-Al-Ti) which is a ternary alloy, and the same CAT target can be reacted with oxygen (O 2) or nitrogen (N 2) to form a blackening layer, It is possible to continuously form the CAT layer and the blackening layer by adjusting the dosing timing and dosing amount of O2 or N2.
도 4에는 기존의 ITO 기반 터치 스크린 패널의 제조공정과 본 발명의 일실시예 에 따른 터치스크린 패널 제조공정(CAT 개선공정)을 비교하여 단계별로 설명한 순서도가 도시되어 있고, 도 5에는 상기 도 4에 도시된 CAT 개선공정과 본 발명의 다른 실시 예에 따른 CATO/CATN 반응성 공정을 비교하여 단계별로 설명한 순서도를 도시하였다. 도 4 및 5를 살펴보면, 본 발명에 따른 제조공정이 기존의 ITO 기반의 터치 스크린 패널 제조공정에 비하여 공정수가 현저히 줄어들었음을 알 수 있다.FIG. 4 is a flowchart illustrating steps of a conventional ITO-based touch screen panel manufacturing process and a touch screen panel manufacturing process (CAT improving process) according to an embodiment of the present invention. FIG. CATN process according to another embodiment of the present invention and a CATO / CATN reactive process according to another embodiment of the present invention. 4 and 5, it can be seen that the manufacturing process according to the present invention significantly reduces the number of processes compared to the conventional ITO-based touch screen panel manufacturing process.
또한, 상기 도 5에 도시된 개선공정은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 제조 방법의 일례에 불과한 것으로, 흑화층을 마련하는 단계는 CAT층을 마련하는 단계 전에 진행될 수 있고, 후에 진행될 수 있으며, 전후에 모두 진행될 수 있다.5 is only an example of a method of manufacturing a touch screen panel according to the present invention. The step of providing a blackening layer may be performed before or after the step of providing a CAT layer, It can be done both before and after.
이후, 상기와 같이 적층된 CAT층 및 흑화층 위에 리버스 옵셋(reverse offset) 및 롤 프린팅 공정으로 에칭레지스트/페이스트를 이용하여 미세 패턴을 형성한 후, 에칭, 스트립핑, 건조 공정을 통하여 선폭 2~5㎛의 메쉬패턴을 구현할 수 있다(도3 참조).Thereafter, a fine pattern is formed on the laminated CAT layer and the blackening layer by using a reverse offset and a roll printing process using an etching resist / paste, and thereafter etching, stripping, A mesh pattern of 5 mu m can be realized (see Fig. 3).
이하, 실시예들을 통하여 본 발명을 설명하지만 본 발명이 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.
실시예 1Example 1
인라인 스퍼터링 장치를 사용하여, 180㎛ 두께의 PET(Polyethylene terephthalate)기판에 알루미늄(Al) 0.5중량%, 티타늄(Ti) 2.5중량% 및 구리(Cu) 97중량%로 구성된 3성분계 합금인 CAT층을 240nm 성막하였다.A CAT layer, which is a ternary alloy composed of 0.5% by weight of aluminum (Al), 2.5% by weight of titanium (Ti), and 97% by weight of copper (Cu), was placed on a polyethylene terephthalate (PET) Respectively.
상기 CAT층 위에 리버스 옵셋(reverse offset) 및 롤 프린팅 공정으로 에칭레지스트/페이스트를 이용하여 미세패턴을 형성한 후, 에칭, 스트립핑, 건조공정을 통하여 선폭 5㎛, 피치 140㎛의 메탈 메쉬(metal mesh) 패턴을 제조하였다.
A fine pattern is formed on the CAT layer using a reverse offset and a roll printing process using an etching resist / paste, and then a metal mesh having a line width of 5 μm and a pitch of 140 μm is formed by etching, stripping, mesh pattern.
실시예 2Example 2
인라인 스퍼터링 장치를 사용하여, 180㎛ 두께의 유리 기판에 알루미늄(Al) 0.5중량%, 티타늄(Ti) 2.5중량% 및 구리(Cu) 97중량%로 구성된 3성분계 합금인 CAT층을 240nm 두께로 성막하였다.A CAT layer as a three-component alloy consisting of 0.5% by weight of aluminum (Al), 2.5% by weight of titanium (Ti) and 97% by weight of copper (Cu) Respectively.
이어서, 상기 알루미늄(Al) 0.5중량%, 티타늄(Ti) 2.5중량% 및 구리(Cu) 97중량%로 구성된 3성분계 합금인 CAT을 타겟으로 이용한 반응성 스퍼터링 방식으로 흑화층인 CTZO층을 30nm 두께로 성막하였다. 이때, 상기 반응성 스퍼터링은 아르곤(Ar) 분위기 하에서 진행되었으며, 반응성 가스로는 산소(O2)가 사용되었다. 그리고, 상기 Ar은 400sccm(Standard Cubic Centimeter per Minute), O2는 5sccm의 유입량으로 공급하였다. Subsequently, the CTZO layer, which is a blackening layer, was formed to a thickness of 30 nm by a reactive sputtering method using CAT as a three-component alloy consisting of 0.5 wt% of aluminum (Al), 2.5 wt% of titanium (Ti) It was the tabernacle. At this time, the reactive sputtering was performed in an argon (Ar) atmosphere, and oxygen (O 2) was used as a reactive gas. The Ar was supplied at a flow rate of 400 sccm (Standard Cubic Centimeter per Minute), and the O2 flow rate was 5 sccm.
이렇게 적층된 CAT층 및 CATO층 위에 리버스 옵셋(reverse offset) 및 롤 프린팅 공정으로 에칭레지스트/페이스트를 이용하여 미세패턴을 형성한 후, 에칭, 스트립핑, 건조공정을 통하여 선폭 5㎛, 피치 140㎛의 메탈 메쉬(metal mesh) 패턴을 제조하였다.
A fine pattern is formed on the laminated CAT layer and the CATO layer by using a reverse offset and a roll printing process using an etching resist / paste, and then a line width of 5 μm and a pitch of 140 μm Of a metal mesh pattern.
실시예 3 내지 4 Examples 3 to 4
상기 산소(O2)의 유입량이 하기의 표 1에 기재된 바와 같이 조절된 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 메탈 메쉬(metal mesh) 패턴을 제조하였다.
A metal mesh pattern was prepared in the same manner as in Example 1, except that the inflow amount of oxygen (O2) was adjusted as shown in Table 1 below.
실시예 5 내지 7Examples 5 to 7
상기 산소(O2) 대신 질소(N2)를 사용하고, 상기 질소(N2) 유입량을 표 1에 기재된 바와 같이 조절된 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 메탈 메쉬(metal mesh) 패턴을 제조하였다.
A metal mesh pattern was prepared in the same manner as in Example 1, except that nitrogen (N2) was used instead of oxygen (O2) and the amount of nitrogen (N2) introduced was controlled as shown in Table 1 .
비교예 1Comparative Example 1
인라인 스퍼터링 장치를 사용하여, 180㎛ 두께의 PET(Polyethylene terephthalate)기판에 Nb2O5/SiO2/ITO(20nm/80nm/50nm) 멀티막을 증착하여 150nm 두께의 비정질 투명전도층을 성막하였다. 이때, 상기 ITO는 인듐옥사이드(In203) 91중량%, 주석산(SnO2) 8중량% 및 산소 1중량%로 구성되어 있다. 상기 비정질 투명전도층을 150℃의 조건에서 40분 동안 열처리하여 결정질 투명전도층으로 전환하였다.An amorphous transparent conductive layer having a thickness of 150 nm was formed by depositing Nb2O5 / SiO2 / ITO (20 nm / 80 nm / 50 nm) multi-layer on a PET (polyethylene terephthalate) substrate having a thickness of 180 μm using an inline sputtering apparatus. At this time, the ITO is composed of 91 weight% of indium oxide (In203), 8 weight% of stannic acid (SnO2) and 1 weight% of oxygen. The amorphous transparent conductive layer was heat-treated at 150 캜 for 40 minutes to convert it into a crystalline transparent conductive layer.
이어서, 포토공정 및 에칭, 스트립핑, 건조 공정을 통하여 선폭 20㎛ 베젤을 형성하여 ITO 투명전극 패턴을 제조하였다.
Subsequently, a bezel having a line width of 20 mu m was formed through a photolithography process, an etching process, a stripping process, and a drying process, thereby manufacturing an ITO transparent electrode pattern.
비교예 2Comparative Example 2
상기 기판 상에 상기 CAT층을 성막하지 않고, 바로 CATO층을 성막한 것(CATO 단일층으로 구성)을 제외하고는 실시예 4와과 동일한 방법으로 메탈 메쉬(metal mesh) 패턴을 제조하였다. 단, 상기 CATO층은 270nm의 두께로 성막하였다.
A metal mesh pattern was prepared in the same manner as in Example 4, except that the CAT layer was not formed on the substrate but the CATO layer was directly formed (composed of a CATO single layer). However, the CATO layer was formed to a thickness of 270 nm.
비교예 3Comparative Example 3
상기 기판 상에 상기 CAT층을 성막하지 않고, 바로 CATN층을 성막한 것(CATN 단일층으로 구성)을 제외하고는 실시예 7과 동일한 방법으로 메탈 메쉬(metal mesh) 패턴을 제조하였다. 단, 상기 CATN층은 270nm의 두께로 성막하였다.
A metal mesh pattern was prepared in the same manner as in Example 7, except that the CAT layer was not formed on the substrate but the CATN layer was immediately formed (composed of a CATN single layer). However, the CATN layer was formed to a thickness of 270 nm.
< 평가방법 ><Evaluation method>
1. 반사율(Reflectance, %)One. Reflectance (%)
실시예 1 내지 14 및 비교예 1 내지 3에 따라 제조된 배선층의 반사율을 Shimazu사제 분광광도계 UV2450을 사용해서 측정했다. 380내지 780nm의 파장영역에서 입사각 5°에서의 출사각 5°에 대한 경면반사율을 측정하고 평균반사율을 산출 하였다
The reflectance of the wiring layer produced according to Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 3 was measured using a spectrophotometer UV2450 manufactured by Shimazu. The specular reflectance was measured with respect to an exit angle of 5 DEG at an incident angle of 5 DEG in a wavelength range of 380 to 780 nm, and an average reflectance was calculated
2. 저항(Resistance, Ω/□)2. Resistance (Ω / □)
JIS-K7194에 준거해서, 4단자법으로 측정하였다. 측정기는 미쯔비시 유카(주) 제조 Lotest AMCP-T400을 사용하였다.It was measured by a four-terminal method in accordance with JIS-K7194. Lotest AMCP-T400 manufactured by Mitsubishi Yucca Co., Ltd. was used as a measuring device.
[표 1] [Table 1]
표 1을 살펴보면, 본 발명에 따라 CAT층을 사용하여 메탈 메쉬 패턴을 제조한 실시예 1의 경우, ITO층을 사용한 비교예 1에 비하여 저항이 현저히 줄어든바, 전기 전도성이 향상되었음을 확인할 수 있다. As shown in Table 1, in the case of Example 1 in which the metal mesh pattern was produced using the CAT layer according to the present invention, the resistance was significantly reduced as compared with Comparative Example 1 in which the ITO layer was used, and it was confirmed that the electrical conductivity was improved.
그리고, 흑화층으로 증착된 CAT층을 사용하여 메탈 메쉬 패턴을 제조한 실시예 2 내지 6의 경우, 반사율이 더욱 낮아져 시인성 확보에 더욱 바람직하며 전기전도도 또한 우수함을 알 수 있고, CATO층 또는 CATN층 만을 포함하는 비교예 2 및 3와 비교하여도 낮은 저항은 나타냄을 확인할 수 있다.In Examples 2 to 6, in which a metal mesh pattern was produced by using a CAT layer deposited with a blackening layer, the reflectance was further lowered, which was more preferable for securing visibility and also the electrical conductivity was excellent. The CATO layer or the CATN layer It can be confirmed that the resistance is low as compared with the comparative examples 2 and 3 which contain only the resist material.
이상, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 해석되어야 하며 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the scope of the present invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments but is to be construed as being limited only by the appended claims. Should be construed as being included in the scope of the present invention.
Claims (25)
상기 기판의 적어도 일면에 마련되고, 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)층을 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.Board; And
(Cu-Al-Ti), which is a ternary alloy composed of 0.1 to 10.0% by weight of aluminum (Al), 0.1 to 10.0% by weight of titanium (Ti) and the balance of copper (Cu) Wherein the metal mesh-type touch screen panel includes a plurality of layers.
상기 CAT층의 두께는 50 내지 500nm인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the CAT layer is 50 to 500 nm.
상기 CAT층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 갖는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.The method according to claim 1,
Wherein the CAT layer has a mesh pattern shape with a line width of 10 mu m or less and a pitch of 600 mu m or less after patterning.
상기 CAT층에 접하여 마련되는 흑화층을 더 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.The method according to claim 1,
And a blackening layer provided in contact with the CAT layer.
상기 CAT층의 반사율(R1)과 상기 CAT층이 패터닝되어 제거된 기판 영역의 반사율(R2)의 차이가 하기의 식 (1)을 만족하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널:
|R1 - R2 | < 5% … (1)5. The method of claim 4,
Wherein the difference between the reflectance (R1) of the CAT layer and the reflectance (R2) of the substrate region on which the CAT layer is patterned and removed corresponds to the following formula (1)
| R1 - R2 | <5% ... (One)
상기 흑화층은, 상기 기판과 상기 CAT층 사이에 마련되는 제1흑화층 및 상기 CAT층을 개재하여 상기 제1흑화층과 대향하는 위치에 마련되는 제2흑화층 중 선택된 어느 하나 이상의 층을 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.5. The method of claim 4,
The blackening layer includes at least one selected from a first blackening layer provided between the substrate and the CAT layer and a second blackening layer provided at a position facing the first blackening layer via the CAT layer A metal mesh type touch screen panel.
상기 제1흑화층의 두께는 10 내지 50nm인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.The method according to claim 6,
Wherein the thickness of the first blackening layer is 10 to 50 nm.
상기 제2흑화층의 두께는 10 내지 30nm인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.The method according to claim 6,
Wherein the thickness of the second blackening layer is 10 to 30 nm.
상기 흑화층은 CATO(Cu-Al-Ti-O)층, CATN(Cu-Al-Ti-N)층 및 이들의 복합층 중 어느 하나인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.5. The method of claim 4,
Wherein the blackening layer is any one of a CATO (Cu-Al-Ti-O) layer, a CATN (Cu-Al-Ti-N) layer and a composite layer thereof.
상기 CATO(Cu-Al-Ti-O)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 산소(O2)의 반응으로 형성된 금속막인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.10. The method of claim 9,
Wherein the CATO (Cu-Al-Ti-O) layer is a three-component alloy consisting of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) Al-Ti) and oxygen (O2).
상기 CATN(Cu-Al-Ti-N)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 질소(N2)의 반응으로 형성된 금속막인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.10. The method of claim 9,
The CATN (Cu-Al-Ti-N) layer is a three-component alloy consisting of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) Al-Ti) and nitrogen (N2).
상기 흑화층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 갖는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널.5. The method of claim 4,
Wherein the blackening layer has a mesh pattern shape with a line width of 10 mu m or less and a pitch of 600 mu m or less after patterning.
상기 기판의 적어도 일면에 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)층을 마련하는 단계를 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.Preparing a substrate; And
(Cu-Al-Ti) layer which is a ternary alloy composed of 0.1 to 10.0% by weight of aluminum (Al), 0.1 to 10.0% by weight of titanium (Ti) and the balance of copper The method comprising the steps of:
상기 CAT층의 두께는 50 내지 500nm인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.14. The method of claim 13,
Wherein the thickness of the CAT layer is 50 to 500 nm.
상기 CAT층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 갖는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.14. The method of claim 13,
Wherein the CAT layer has a mesh pattern shape with a line width of 10 mu m or less and a pitch of 600 mu m or less after patterning.
상기 CAT층을 마련하는 단계 전 및/또는 후에 흑화층을 마련하는 단계를 더 포함하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.14. The method of claim 13,
Further comprising the step of providing a blackening layer before and / or after the step of providing the CAT layer.
상기 CAT층의 반사율(R1)과 상기 CAT층이 패터닝되어 제거된 기판 영역의 반사율(R2)의 차이가 하기의 식 (1)을 만족하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법:
|R1 - R2 | < 5% … (1)17. The method of claim 16,
Wherein a difference between a reflectance (R1) of the CAT layer and a reflectance (R2) of a substrate region in which the CAT layer is patterned and removed corresponds to the following formula (1):
| R1 - R2 | <5% ... (One)
상기 흑화층은 상기 CAT층을 타겟으로 하고, 아르곤(Ar) 가스 및 반응성 가스를 공급하여 반응성 스퍼터링 방법으로 형성하는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.17. The method of claim 16,
Wherein the blackening layer is formed by a reactive sputtering method by supplying argon (Ar) gas and reactive gas while targeting the CAT layer.
상기 반응성 가스는 산소(O2) 또는 질소(N2)인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.19. The method of claim 18,
Wherein the reactive gas is oxygen (O2) or nitrogen (N2).
상기 반응성 가스의 유입량은 상기 Ar가스 유입량 대비 1 ~ 10%인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.19. The method of claim 18,
Wherein the inflow amount of the reactive gas is 1 to 10% of the inflow amount of the Ar gas.
상기 흑화층은 CATO(Cu-Al-Ti-O)층, CATN(Cu-Al-Ti-N)층 및 이들의 복합층 중 어느 하나인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.17. The method of claim 16,
Wherein the blackening layer is any one of a CATO (Cu-Al-Ti-O) layer, a CATN (Cu-Al-Ti-N) layer and a composite layer thereof.
상기 CATO(Cu-Al-Ti-O)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 산소(O2)의 반응으로 형성된 금속막인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.22. The method of claim 21,
Wherein the CATO (Cu-Al-Ti-O) layer is a three-component alloy consisting of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) Al-Ti) and oxygen (O2).
상기 CATN(Cu-Al-Ti-N)층은 알루미늄(Al) 0.1 내지 10.0 중량%, 티타늄(Ti) 0.1 내지 10.0 중량% 및 나머지는 구리(Cu)로 구성되는 3성분계 합금인 CAT(Cu-Al-Ti)와 질소(N2)의 반응으로 형성된 금속막인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.22. The method of claim 21,
The CATN (Cu-Al-Ti-N) layer is a three-component alloy consisting of 0.1 to 10.0 wt% of aluminum (Al), 0.1 to 10.0 wt% of titanium (Ti) Al-Ti) and nitrogen (N2). ≪ IMAGE >
상기 흑화층의 두께는 10 내지 50nm인 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법. 17. The method of claim 16,
Wherein the thickness of the blackening layer is 10 to 50 nm.
상기 흑화층은 패터닝 후 선폭 10㎛이하, 피치 600㎛이하의 메쉬 패턴 형태를 갖는 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널의 제조방법.17. The method of claim 16,
Wherein the blackening layer has a mesh pattern shape with a line width of 10 mu m or less and a pitch of 600 mu m or less after patterning.
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Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
| CN108762578A (en) * | 2018-06-12 | 2018-11-06 | 信利光电股份有限公司 | A kind of metal grill touch screen and its preparation process |
| KR20200018009A (en) * | 2018-08-10 | 2020-02-19 | 일진디스플레이(주) | Method for Manufacturing Touch Panel of Metal-mesh Structure |
| JP2021516785A (en) * | 2018-08-24 | 2021-07-08 | エルジー・ケム・リミテッド | Electrode substrate for transparent light emitting element display and transparent light emitting element display including this |
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Families Citing this family (2)
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|---|---|---|---|---|
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| KR102206587B1 (en) | 2020-06-10 | 2021-01-21 | 심교권 | Forming method of metal wiring on flexible board |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20120100760A (en) * | 2011-03-04 | 2012-09-12 | 주식회사 엘지화학 | Conductive structure body and method for preparing the same |
| KR20120110065A (en) * | 2011-03-28 | 2012-10-09 | 주식회사 엘지화학 | Conductive structure, touch panel and method for manufacturing the same |
| KR20130075292A (en) * | 2011-12-27 | 2013-07-05 | 삼성전기주식회사 | Touch screen |
| KR20140030073A (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-11 | 주식회사 엘지화학 | Conductive structure body and method for manufacturing the same |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20120100760A (en) * | 2011-03-04 | 2012-09-12 | 주식회사 엘지화학 | Conductive structure body and method for preparing the same |
| KR20120110065A (en) * | 2011-03-28 | 2012-10-09 | 주식회사 엘지화학 | Conductive structure, touch panel and method for manufacturing the same |
| KR20130075292A (en) * | 2011-12-27 | 2013-07-05 | 삼성전기주식회사 | Touch screen |
| KR20140030073A (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-11 | 주식회사 엘지화학 | Conductive structure body and method for manufacturing the same |
| KR20140051649A (en) | 2012-10-23 | 2014-05-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | Metal mesh type touch screen panel |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108762578A (en) * | 2018-06-12 | 2018-11-06 | 信利光电股份有限公司 | A kind of metal grill touch screen and its preparation process |
| KR20200018009A (en) * | 2018-08-10 | 2020-02-19 | 일진디스플레이(주) | Method for Manufacturing Touch Panel of Metal-mesh Structure |
| JP2021516785A (en) * | 2018-08-24 | 2021-07-08 | エルジー・ケム・リミテッド | Electrode substrate for transparent light emitting element display and transparent light emitting element display including this |
| WO2022007767A1 (en) * | 2020-07-09 | 2022-01-13 | 北京载诚科技有限公司 | Double-sided conductive film, coating method, and touch screen |
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