KR20160034120A - 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널 - Google Patents

나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널 Download PDF

Info

Publication number
KR20160034120A
KR20160034120A KR1020140125262A KR20140125262A KR20160034120A KR 20160034120 A KR20160034120 A KR 20160034120A KR 1020140125262 A KR1020140125262 A KR 1020140125262A KR 20140125262 A KR20140125262 A KR 20140125262A KR 20160034120 A KR20160034120 A KR 20160034120A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
transparent electrode
forming
electrode substrate
substrate
Prior art date
Application number
KR1020140125262A
Other languages
English (en)
Inventor
왕태준
조민경
박재홍
이기훈
Original Assignee
주식회사 에이든
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이든 filed Critical 주식회사 에이든
Priority to KR1020140125262A priority Critical patent/KR20160034120A/ko
Publication of KR20160034120A publication Critical patent/KR20160034120A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Abstract

본 발명은 금속 나노와이어를 이용하여 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 및 터치패널에 관한 것이다. 투명 전극 기판 제조방법은, 기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층과, 광경화성 보호층을 차례로 형성하고, 포토 마스크를 이용하여 보호층을 선택적으로 경화시킨 다음 경화되지 않은 보호층과 그 하부의 도전층을 세정하여 도전성 패턴을 형성한다. 이에 의해 보호층 형성 후 별도의 포토 레지스트 도포 및 스트립 공정을 생략할 수 있어 공정 단순화를 도모할 수 있다. 또한 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 하나의 부품으로 패키지화함으로써 투명 전극이 요구되는 터치패널을 비롯한 많은 전자부품에 활용이 가능하다.

Description

나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널{MANUFACTURING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE, TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE AND TOUCH PANEL USING NANOWIRES}
본 발명은 금속 나노와이어를 이용하여 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널에 관한 것이다.
최근 은나노와이어(Ag Nano Wire or Siver Nano Wire)는 기존 ITO(Indium doped Tin Oxide)가 극복하지 못하는 저저항 및 고투과도를 갖는 유연터치패널 등의 영역에서 ITO 대비 경쟁력을 보이며, ITO를 대체하는 투명 전극 재료로 적극 개발, 상용화되고 있다.
일반적으로, 나노와이어를 이용한 투명 전극은, 도 1과 같이 투명한 기판 상에 도전층(1)과 보호층(2)을 순차적으로 코팅한 후 보호필름(3)을 부착하여 투명 전극 필름 형태로 판매된다.
구체적으로, 은나노와이어와 분산과 점도를 효과적으로 맞추기 위한 고분자 바인더(Binder) 및 기타 첨가제를 물이나 알코올 계통용매에서 적절히 분산시켜 기판에 습식 코팅(Wet Coating)을 진행하며, 두께 150nm 전후의 도전층을 형성한다. 이때 코팅은 통상적으로 슬롯다이(Slot Die) 코팅 또는 마이크로 그라비어(Micro Gravure) 코팅 등을 사용한다.
이때, 도전층은 은나노와이어가 포함된 액상의 약액(Chemical)으로 코팅을 한 후 큐어링(Curing) 공정을 거치는데, 이때 기본 용매와 같은 액상의 재료는 증발되고 은나노와이어가 표면에 노출되는데 이는 필름을 권취할 때 배면과의 접촉 및 슬립(Slip)으로 인한 스크래치를 유발하며, 노출된 은나노와이어는 산화되는 문제점이 있었다.
이를 방지하기 위해 노출된 은나노와이어 위에 보호층으로서 광경화성 오버 코팅(Over Coating)층을 형성하여 은나노와이어의 표면 노출을 최대한 억제한다.
도 1은 투명 전극 필름의 구성도로서, 상술한 바와 같이 기판(1) 상에 도전층(2)과 보호층(3)이 형성된 투명 전극 필름에 대하여 산화와 스크래치 등으로부터 도전층(2)을 보호하기 위해 PE와 같은 보호 필름(4)을 부착한다.
이와 같이 제조된 투명 전극 필름은, 보호필름을 제거한 후 레이저(건식) 또는 케미칼(습식) 식각에 의한 패터닝 공정을 진행하여 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 제조한다.
투명 전극 기판은, PDP(플라즈마 디스플레이 판넬), 광학필터, 전자차폐제, 유기발광다이오드(OLED), 태양전지, LCD(liquid crystal display), 터치스크린, 휴대폰용 EL 키패드 등 전기, 자기, 광학 소자 및 센서 등에 광범위하게 적용할 수 있다.
그러나 위와 같은 종래의 방법으로 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 제조하는 경우, 보호필름 부착을 위해 별도의 공정이 필요하며, 패턴 형성을 위해서는 다시 보호필름을 제거하는 공정이 요구되어 제조 단가의 상승 요인이 될 뿐만 아니라, 제조 시간이 많이 소요된다는 문제점이 있었다.
또한 보호필름 제거 후 포토 레지스트를 이용한 식각 공정이 요구되므로, 그에 따라 공정시간이 지연되고 식각액 처리를 위한 비용이 추가적으로 소요된다는 문제점이 있었다.
한편, 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 터치패널에 적용하는 경우, 그 구조와 방식에 따라 투명광학 접착제(OCA) 또는 투명광학 레진(OCR)를 통해 라미네이션(Lamination)되며 최종적으로 커버 윈도우와 결합된다.
정전용량 방식의 터치패널은 통상적으로 각 센서채널에 전압이 인가되어 센서구동을 수행하게 되는데, 은나노와이어를 이용한 정전용량 터치패널의 경우, 습기, 자외선 및 내부 전압에 의해 은나노와이어의 산화 또는 마이그레이션(Migration)이 촉진되어 채널간 전기적 단락(Short)이나 절연파괴의 원인이 되었다. 또한 은나노와이어가 포함된 전극은 정전기에 매우 취약하다는 문제점이 있었다.
특히 은나노와이어를 이용하여 모바일 기기로 사용되는 정전용량 터치패널은 에지부에서 특히 신뢰성이 낮다는 치명적인 문제점이 있었다.
또한 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판이 포함된 터치패널은 도전층과 보호층간의 굴절률 차에 의하여 시인성이 저하된다는 문제점이 있었다.
상술한 배경 기술 상의 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은 건식 또는 습식 시각에 의한 패턴 형성 공정이 필요없는 도전성 패턴이 형성된 필름 형태의 투명 전극 기판 제조방법을 제공함에 있다.
또한 본 발명은, 습기, 자외선, 정전기 및 장치의 내부 전압으로부터 신뢰성을 유지할 수 있는 투명 전극 기판 제조방법을 제공함에 다른 목적이 있다.
또한 본 발명은, 투명 전극 기판의 시인성을 향상시키는 것을 목적으로 하고 있다.
또한 본 발명은, 상술한 투명 전극 기판 제조방법을 이용하여 투명 전극 및 이를 이용한 터치패널을 제공함에 또 다른 목적이 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 투명 전극 기판 제조방법은, 금속 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법에 있어서, 기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계; 상기 도전층 상에 광경화성 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계; 상기 보호층을 포토 마스크를 이용하여 선택적으로 경화시키는 선택적 경화 단계; 및 경화되지 않은 보호층과 그 하부의 도전층을 세정하여 도전성 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계; 를 포함한다.
바람직하게, 상기 금속은, 은(Ag)이다.
바람직하게, 상기 도전층 또는 상기 보호층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함한다.
바람직하게, 상기 도전층 또는 상기 보호층은, 도전성의 정전기 방지제를 포함한다. 이때, 상기 정전기 방지제는, 탄소나노튜브, 환원성 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이다.
바람직하게, 상기 도전층 형성 단계 이후에, 상기 도전층에 열을 공급하거나 빛을 조사하는 큐어링 단계; 를 더 포함한다.
바람직하게, 상기 패턴 형성 단계는, 탈이온수 또는 약알칼리 세정액으로 세정한다.
바람직하게, 상기 패턴 형성 단계 이후에, 상기 도전성 패턴이 형성된 기판 상에 배선전극층을 선택적으로 형성하는 배선전극층 형성 단계; 를 더 포함한다.
바람직하게, 상기 배선전극층은, 은 페이스트를 포함한다.
바람직하게, 상기 배선전극층 형성 단계 이후에, 상기 배선전극층이 형성된 기판 상에 절연층을 형성하는 절연층 형성 단계; 를 더 포함한다.
바람직하게, 상기 절연층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함한다. 이때, 상기 자외선 차단제는, TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이고, 상기 자외선 안정제는, 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이다.
바람직하게, 상기 절연층은, 상기 도전층과 상기 보호층 간의 인덱스 매칭 물질을 더 포함한다. 이때, 상기 절연층은, 평탄하게 형성된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 측면에 해당하는 투명 전극 기판은 상술한 투명 기판 제조방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 투명 전극 기판 제조방법은, 금속 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법에 있어서, 기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계; 상기 도전층 상에 광경화성 배선전극층을 선택적으로 형성하는 배선전극층 형성 단계, 상기 도전층과 상기 배선전극층 상에 광경화성 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계; 포토 마스크를 이용하여 상기 보호층과 상기 배선전극층을 선택적으로 경화시키는 선택적 경화 단계; 및 경화되지 않은 보호층, 배선전극층과 그 하부의 도전층을 세정하여 도전성 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계; 를 포함한다.
바람직하게, 상기 도전층은, 은 나노와이어를 포함하고, 상기 배선전극층은, 은 페이스트를 포함한다.
바람직하게, 상기 패턴 형성 단계 이후에, 상기 도전성 패턴이 형성된 기판 상에 절연층을 형성하는 절연층 형성 단계; 를 더 포함한다. 이때, 상기 절연층은, 평탄하게 형성한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 측면에 해당하는 투명 전극 기판은 상술한 투명 제조 방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 과제를 해결하기 위한 터치패널은, 투명 전극 기판을 이용한 터치패널에 있어서, 상술한 본 발명의 투명 전극 기판 제조방에 의하여 제조된 투명 전극 기판 중 어느 하나로 이루어진 하부 투명 전극 기판과 상부 투명 전극 기판; 상기 하부 투명 전극 기판과 상기 상부 투명 전극 기판을 결합하는 제1 접착층; 및 상기 상부 투명 전극 기판과 투명 윈도우를 결합하는 제2 접착층; 을 포함한다.
바람직하게, 상기 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함한다.
본 발명에 의하면, 투명 전극 기판 제조에 있어서 보호층을 선택적으로 경화시켜 도전성 패턴을 형성하거나, 배선전극층과 보호층을 선택적으로 경화시켜 도전층 및 배선전극층 패턴을 동시에 형성할 수 있어 별도의 포토 레지스트 도포와 스트립 공정이 생략되어 공정 단순화를 도모할 수 있고 생산성을 향상할 수 있다.
또한 본 발명은 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 하나의 부품으로 패키지화함으로써 투명 전극이 요구되는 터치패널을 비롯한 많은 전자부품에 활용이 가능하다.
또한 본 발명은 도전층, 보호층 및 절연층 중 어느 하나에 자외선 차단제 및/또는 자외선 안정제를 포함하여 자외선에 의한 나노와이어의 도전성 네트워크 손상을 방지하여 신뢰성을 높일 수 있다.
또한 본 발명은 도전층 또는 보호층에 도전성의 정전기 방지제를 포함하여 정전기로부터 나노와이어의 네트워크 손상을 방지할 수 있다.
또한 본 발명은 절연층에 인덱스 매칭 물질을 포함하여 시인성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 종래의 필름 형태의 투명 전극 기판의 구성도.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 의한 공정 순서를 나타낸 플로차트.
도 3 내지 6은 본 발명의 제1 실시예에 의한 제조 공정 순서에 따른 투명 전극 기판의 구성도.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 의한 공정 순서를 나타낸 플로차트.
도 8 내지 10은 본 발명의 제2 실시예에 의한 제조 공정 순서에 따른 투명 전극 기판의 구성도.
이하에서는 본 발명의 실시예들에 대하여 도면을 참고하여 설명한다.
도면들에 있어서 각 층이나 장치의 크기 및 두께는 설명의 편의상 과장이나 축소되어 표현될 수 있으며, 동일한 기능과 작용을 하는 구성요소에 대해서는 도면 부호를 동일하게 사용한다. 그리고 발명의 설명에 있어서, 구성요소의 위치관계를 설명하는 용어로 사용되는 '상', '상부', '하' 및 '하부'는 접촉하고 있는 상부 또는 하부를 지칭하는 이외에, 중간에 다른 구성요소를 게재하는 경우를 포함한다.
본 발명에 따른 투명 전극 기판의 실시예들은 도전성 패턴 형성 방법에 따라 제1, 제2 실시예로 나누고, 이들을 이용한 터치패널은 제3 실시예로서 설명한다. 그리고 각 실시예는 은 나노와이어를 중심으로 설명하였으나 도전성의 다른 금속 나노와이어에도 적용될 수 있음은 물론이다.
1. 제1 실시예에 의한 투명 전극 기판 제조방법
제1 실시예에 의한 투명 전극 기판 제조방법을 도 2의 플로차트와 도전성 패턴 형성 순서를 나타낸 도 3 내지 도 6을 참고하여 설명한다.
1) 도전층 형성 단계
직경 20~50nm, 길이 10~100㎛을 갖는 은나노와이어와 고분자 바인더 및 첨가제를 물 또는 알코올 계통의 용매에서 적절히 분산한 코팅액을 PET 또는 PC로 이루어진 유연성의 투명 기판(11) 상에 슬롯 다이 또는 마이크로 그라이버 코팅 방법으로 코팅하여 도전층(12)을 형성한다.
도전층(12)을 건조시키거나 열처리 또는 광을 조사하는 큐어링 과정을 거쳐 용매와 같은 액상의 재료가 증발하면서 은나노와이어 일부가 표면에 노출된다.
2) 보호층 형성 단계
큐어링한 도전층(12)의 표면으로 노출된 은나노와이어의 네트워크를 보호하면서 은나노와이어의 표면 노출을 최소화 하기 위하여 광경화성 보호층(13)을 형성한다. 이때 보호층(13)은 용매, 바인더, 광경화제 등을 포함한다.
상술한 도전층(12) 또는 보호층(13)은 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
자외선 차단제로서 TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 등으로 이루어진 기능성 분말 중 어느 하나 또는 2 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이에 의해 자외선에 의하여 에지부에서 발생하는 도전층(12)의 네트워크 손상을 방지할 수 있다.
자외선 안정제로서 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 이에 의해 자외선을 흡수하여 열에너지로 분산시킴으로써 도전층(12)을 안정화시킬 수 있다.
또한 도전층(12) 또는 보호층(13)은 정전기를 방지하기 위하여, 도전성의 정전기 방지제를 포함할 수 있다. 이러한 정전기 방지제로서 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중에서 어느 하나 또는 2 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
3) 선택적 경화 단계
보호층(13)이 경화되지 않은 상태에서 도 3과 같이 원하는 도전성 패턴 형상을 갖는 포토 마스크(14)를 이용하여 자외선을 조사한다. 이를 통해 보호층(13)을 선택적으로 경화시킨다.
4) 패턴 형성 단계
경화되지 않은 보호층(13)과 그 하부의 도전층(12)은 탈이온수 또는 약칼리성을 갖는 세정액 등을 이용하여 세정함으로써 원하는 도전성 패턴을 얻을 수 있다.
이에 의해 보호층(13)을 형성한 상태에서 세정만으로 도전성 패턴을 형성시킬 수 있게 된다. 따라서 종래에 레이저(건식) 또는 케미칼(습식) 식각에 의한 패터닝 공정을 생략할 수 있어 공정을 단순화하여 생산량을 높일 수 있다.
5) 배선전극층 형성 단계
도전성 패턴이 형성된 기판(11) 상에 은 페이스트와 같은 메탈 페이스트를 스크린 프린팅 방법을 이용하여 선택적으로 코팅함으로써 배선전극층(15)을 형성할 수 있다. 이러한 방법 이외에 배선전극층(15)은 광경화성 메탈 페이스트를 이용하거나, 증착시켜 형성할 수도 있다.
6) 절연층 형성 단계
배선전극층(15)이 형성된 기판(11) 상에 상부면이 평탄하도록 절연층(16)을 형성한다. 절연층(16)은 상술한 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
또한 절연층(16)은 도전층(12)과 보호층(13) 간의 굴절률 차이로 인한 시인성 악화를 방지하기 위하여 인덱스 매칭 물질을 포함할 수 있다.
상술한 절연층(16)에 자외선 차단제, 자외선 안정제 및 인덱스 매칭 물질을 함께 포함시키는 경우 투명 전극의 신뢰성 및 시인성을 동시에 확보할 수 있다.
이러한 절연층(16)은 평탄하게 형성하며, 상부면에 보호필름을 부착하여 필름 형태의 투명 전극 기판으로 판매가 가능하다.
상술한 일련의 단계에 의하여 제1 실시예의 투명 전극 기판(10)을 제조할 수 있으며, 이와 같이 제작된 필름 형태의 투명 전극 기판(10)은, PDP(플라즈마 디스플레이 판넬), 광학필터, 전자차폐제, 유기발광다이오드(OLED), 태양전지, LCD(liquid crystal display), 터치스크린, 휴대폰용 EL 키패드 등 전기, 자기, 광학 소자 및 센서 등에 광범위하게 적용 가능하다.
2. 제2 실시예에 의한 투명 전극 기판 제조방법
제2 실시예에 의한 투명 전극 기판 제조방법을 도 7의 플로차트와 도전성 패턴 형성 순서를 나타낸 도 8 내지 도 10을 참고하여 설명한다.
제2 실시예는, 제1 실시예와 비교하여 배선전극층 형성 단계를 도전층 형성 단계 이후에 수행하는 점을 제외하면 기본적으로 제1 실시예의 해당 공정과 동일하고, 각 층을 구성하는 성분 또한 동일하다. 따라서 이하에서는 제1 실시예와의 차이점을 중심으로 설명하고, 동일한 단계에 대해서는 설명을 생략하기로 한다.
먼저, 기판(21) 상에 도전층(22)을 형성하는 도전층 형성 단계는 제1 실시예와 동일하게 수행한다.
도전층(22) 상에 광경화성 배선전극층(23)을 선택적으로 형성한다. 이러한 자외성 경화형 배선전극층(23)은, 은 페이스트와 같은 메탈 페이스트를 스크린 프린팅 방법을 사용하여 형성한다.
배선전극층(23)과 노출된 도전층(22) 상에 광경화성 보호층(24)을 형성한다. 보호층(24)은 제1 실시예와 동일하게 구성할 수 있다.
광경화성 물질로 이루어진 보호층(24)과 배선전극층(23)에 대하여 도 8과 같이, 포토 마스크(25)를 이용하여 자외선을 조사함으로써 조사 영역을 선택적으로 경화시킨다.
경화되지 않은 보호층(24), 배선전극층(23)과 함께 그 하부의 도전층(22)을 탈이온수 또는 약알칼리성의 세정액으로 세정하여 제거함으로써 도 9와 같이, 원하는 도전성 패턴을 형성시킬 수 있다.
배선전극층(23)이 형성된 기판(21) 상에는 제1 실시예와 마찬가지로 절연층(26)을 형성한다(도 10 참조).
상술한 일련의 단계에 의하여 제2 실시예의 투명 전극 기판(20)을 제조할 수 있다.
3. 제3 실시예에 의한 터치패널
상술한 제1, 제2 실시예의 투명 전극 기판(10, 20)은 터치패널에 적용될 수 있다.
구체적으로, 제1, 제2 실시예의 투명 전극 기판(10, 20) 중 어느 하나를 선택하여 터치패널을 구성하는 하부 기판과 상부 기판으로 이용하고, 하부 기판과 상부 기판 사이에 이들을 결합하는 제1 접착층을 형성하고, 상부 기판과 터치 영역에 해당하는 투명 윈도우를 결합하는 제2 접착층을 구비할 수 있다.
이때, 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으며, 이는 상술한 제1, 제2 실시예의 절연층(16, 26)에 사용된 자외선 차단제와 자외선 안정제를 사용할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 구체적인 실시예와 도면을 중심으로 본 발명에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 특허청구범위를 중심으로 판단되어야 하며, 특허청구범위의 기재뿐만 아니라 그 변형물 또는 균등물에까지 그 효력이 미침은 자명하다.
10 : 제1 실시예의 투명 전극 기판 11 : 기판
12 : 도전층 13 : 보호층
14 : 포토마스크 15 : 배선전극층
16 : 절연층
20 : 제2 실시예의 투명 전극 기판 21 : 기판
22 : 도전층 23 : 배선전극층
24 : 보호층 25 : 포토마스크
26 : 절연층

Claims (23)

  1. 금속 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법에 있어서,
    기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계;
    상기 도전층 상에 광경화성 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계;
    상기 보호층을 포토 마스크를 이용하여 선택적으로 경화시키는 선택적 경화 단계; 및
    경화되지 않은 보호층과 그 하부의 도전층을 세정하여 도전성 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 금속은, 은(Ag)인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 도전층 또는 상기 보호층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 도전층 또는 상기 보호층은, 도전성의 정전기 방지제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 정전기 방지제는, 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 도전층 형성 단계 이후에,
    상기 도전층에 열을 공급하거나 빛을 조사하는 큐어링 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 패턴 형성 단계는, 탈이온수 또는 약알칼리 세정액으로 세정하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 패턴 형성 단계 이후에,
    상기 도전성 패턴이 형성된 기판 상에 배선전극층을 선택적으로 형성하는 배선전극층 형성 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 배선전극층은, 은 페이스트를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 배선전극층 형성 단계 이후에,
    상기 배선전극층이 형성된 기판 상에 절연층을 형성하는 절연층 형성 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 절연층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  12. 청구항 3 또는 청구항 11에 있어서,
    상기 자외선 차단제는, TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  13. 청구항 3 또는 청구항 11에 있어서,
    상기 자외선 안정제는, 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  14. 청구항 10에 있어서,
    상기 절연층은, 상기 도전층과 상기 보호층 간의 인덱스 매칭 물질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  15. 청구항 10에 있어서,
    상기 절연층은, 평탄하게 형성된 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  16. 청구항 10의 투명 전극 기판 제조방법에 의하여 제조된 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판.
  17. 금속 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법에 있어서,
    기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계;
    상기 도전층 상에 광경화성 배선전극층을 선택적으로 형성하는 배선전극층 형성 단계,
    상기 도전층과 상기 배선전극층 상에 광경화성 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계;
    포토 마스크를 이용하여 상기 보호층과 상기 배선전극층을 선택적으로 경화시키는 선택적 경화 단계; 및
    경화되지 않은 보호층, 배선전극층과 그 하부의 도전층을 세정하여 도전성 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 도전층은, 은 나노와이어를 포함하고,
    상기 배선전극층은, 은 페이스트를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  19. 청구항 17에 있어서,
    상기 패턴 형성 단계 이후에,
    상기 도전성 패턴이 형성된 기판 상에 절연층을 형성하는 절연층 형성 단계;
    를 더 포함하는 투명 전극 기판 제조방법.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 절연층은, 평탄하게 형성한 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.
  21. 청구항 19의 투명 전극 기판 제조방법을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판.
  22. 투명 전극 기판을 이용한 터치패널에 있어서,
    청구항 16 또는 청구항 21의 투명 전극 기판 중 어느 하나로 이루어진 하부 투명 전극 기판과 상부 투명 전극 기판;
    상기 하부 투명 전극 기판과 상기 상부 투명 전극 기판을 결합하는 제1 접착층; 및
    상기 상부 투명 전극 기판과 투명 윈도우를 결합하는 제2 접착층;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  23. 청구항 22에 있어서,
    상기 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
KR1020140125262A 2014-09-19 2014-09-19 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널 KR20160034120A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140125262A KR20160034120A (ko) 2014-09-19 2014-09-19 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140125262A KR20160034120A (ko) 2014-09-19 2014-09-19 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160034120A true KR20160034120A (ko) 2016-03-29

Family

ID=55661952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140125262A KR20160034120A (ko) 2014-09-19 2014-09-19 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20160034120A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10957747B2 (en) 2018-09-04 2021-03-23 Samsung Display Co.. Ltd. Electronic panel and method for manufacturing the same
WO2022014817A1 (ko) * 2020-07-16 2022-01-20 삼성전자 주식회사 방열 구조를 포함하는 웨어러블 전자 장치

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10957747B2 (en) 2018-09-04 2021-03-23 Samsung Display Co.. Ltd. Electronic panel and method for manufacturing the same
US11856832B2 (en) 2018-09-04 2023-12-26 Samsung Display Co., Ltd. Electronic panel and method for manufacturing the same
WO2022014817A1 (ko) * 2020-07-16 2022-01-20 삼성전자 주식회사 방열 구조를 포함하는 웨어러블 전자 장치
US11921553B2 (en) 2020-07-16 2024-03-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Wearable electronic device having heat dissipation structure

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI644108B (zh) 以銀奈米結構為基礎之光學堆疊及具有防紫外線之觸碰感測器
KR100997048B1 (ko) 일체형 터치 윈도우 및 그 제조 방법
KR20160138139A (ko) 투명 도전성 적층체 및 투명 도전성 적층체를 구비한 터치 패널
JP2019192216A (ja) タッチパネル及びその直接パターニング方法
CN105446555B (zh) 纳米银线导电层叠结构及触控面板
CN110688023A (zh) 触控面板的制作方法及其触控面板
KR20140055351A (ko) 나노 와이어를 이용한 투명도전막 및 그 제조방법과 이를 이용한 어레이 기판, 유기전계발광소자 및 터치패널
US9760225B2 (en) Circuit device and manufacturing method thereof
US10037095B2 (en) Methods of forming nanostructure conductive films and touch devices including the nanostructure conductive films
TWI534679B (zh) 觸控面板及其製法
CN106773523B (zh) 一种掩膜板及其制作方法
KR20160034120A (ko) 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널
US10606175B2 (en) Method of manufacturing circuit board
CN113126829B (zh) 触控面板及其制作方法
KR20160034121A (ko) 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널
KR20160036981A (ko) 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널
KR20160036982A (ko) 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널
JP5605709B2 (ja) 多面付けワーク基板および多面付けワーク基板の製造方法
US8710738B2 (en) Display apparatus having a semi-penetration layer and a sealing unit
KR101323340B1 (ko) 전극 제조 방법
US20170027060A1 (en) Method for forming electrode pattern on substrate by light annealing
CN209657275U (zh) 触控偏光结构及其应用之触控显示装置
KR20160070595A (ko) 플렉서블 필름 및 그 제조 방법
KR20160016138A (ko) 터치 윈도우 및 이를 포함하는 터치 디바이스
KR20130097001A (ko) 표시장치용 유기 박막트랜지스터 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application