KR20160029409A - 디스플레이 장치용 기판 - Google Patents

디스플레이 장치용 기판 Download PDF

Info

Publication number
KR20160029409A
KR20160029409A KR1020140118895A KR20140118895A KR20160029409A KR 20160029409 A KR20160029409 A KR 20160029409A KR 1020140118895 A KR1020140118895 A KR 1020140118895A KR 20140118895 A KR20140118895 A KR 20140118895A KR 20160029409 A KR20160029409 A KR 20160029409A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating layer
refractive index
layer
substrate
hard coat
Prior art date
Application number
KR1020140118895A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101606172B1 (ko
Inventor
안진수
김민석
Original Assignee
코닝정밀소재 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코닝정밀소재 주식회사 filed Critical 코닝정밀소재 주식회사
Priority to KR1020140118895A priority Critical patent/KR101606172B1/ko
Priority to CN201580047809.2A priority patent/CN106687894B/zh
Priority to JP2017512687A priority patent/JP6432089B2/ja
Priority to PCT/KR2015/009276 priority patent/WO2016036152A1/ko
Priority to EP15837550.1A priority patent/EP3189963B1/en
Priority to US15/508,724 priority patent/US10401992B2/en
Priority to TW104129314A priority patent/TWI585641B/zh
Publication of KR20160029409A publication Critical patent/KR20160029409A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101606172B1 publication Critical patent/KR101606172B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/022—Mechanical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G02B5/286—Interference filters comprising deposited thin solid films having four or fewer layers, e.g. for achieving a colour effect
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 디스플레이 장치용 기판에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 우수한 내구성을 가짐은 물론, 디스플레이 장치에 적용 시 컬러시프트(color shift) 발생을 최소화시킬 수 있는 디스플레이 장치용 기판에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은, 기재; 상기 기재 상에 형성되고, AlON으로 이루어진 하드코트 막; 상기 기재와 상기 하드코트 막 사이에 형성되고, 제1 굴절률을 가진 코팅막과 제2 굴절률을 가진 코팅막이 순차 반복적으로 적층되어 형성되는 다층막을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판을 제공한다.

Description

디스플레이 장치용 기판{SUBSTRATE FOR DISPLAY UNIT}
본 발명은 디스플레이 장치용 기판에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 우수한 내구성을 가짐은 물론, 디스플레이 장치에 적용 시 컬러시프트(color shift) 발생을 최소화시킬 수 있는 디스플레이 장치용 기판에 관한 것이다.
현대 사회가 고도로 정보화 되어감에 따라서 이미지 디스플레이(image display) 관련 부품 및 기기가 현저하게 진보하고 보급되고 있다. 그 중에서, 화상을 표시하는 디스플레이 장치는 텔레비전 장치용, 퍼스널 컴퓨터의 모니터장치용 등으로서 현저하게 보급되고 있다. 이에 따라, 표시장치를 대표했던 음극선관(cathode ray tube: CRT)은 액정 디스플레이 장치(liquid crystal display: LCD), 플라즈마 디스플레이 장치(plasma display panel: PDP), 전계 방출 표시장치(field emission display: FED), 유기 발광 디스플레이 장치(organic light emitting display: OLED) 등과 같은 평판 디스플레이 장치(flat panel display: FPD)로 급속히 대체되고 있다.
한편, 최근 들어, 스마트 폰의 등장으로 인해, 모바일 디스플레이 장치를 중심으로 터치패널의 사용이 급속히 확대되고 있다. 터치패널은 디스플레이 장치의 전면에 배치되어, 사용자가 디스플레이 장치를 보면서 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치로 이를 터치하면 신호를 출력할 수 있게 만든 장치이다. 이때, 이러한 터치패널에서 직접적으로 압력을 받는 커버 기판은 그 기능 상, 높은 광 투과성을 만족시키는 동시에, 수백만 회의 접촉을 견뎌내야 하므로, 높은 기계적 내구성을 필요로 한다. 이에 따라, 보다 우수한 내구성 및 광학 특성을 동시에 구현 가능한 커버 기판을 만들기 위한 노력이 계속되고 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2011-0135612호(2011.12.19.)
본 발명은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 우수한 내구성을 가짐은 물론, 디스플레이 장치에 적용 시 컬러시프트(color shift) 발생을 최소화시킬 수 있는 디스플레이 장치용 기판을 제공하는 것이다.
이를 위해, 본 발명은, 기재; 상기 기재 상에 형성되고, AlON으로 이루어진 하드코트 막; 상기 기재와 상기 하드코트 막 사이에 형성되고, 제1 굴절률을 가진 코팅막과 제2 굴절률을 가진 코팅막이 순차 반복적으로 적층되어 형성되는 다층막을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판을 제공한다.
여기서, 상기 제1 굴절률을 가진 코팅막과 상기 제2 굴절률을 가진 코팅막은 적어도 2회 순차 반복적으로 적층되어 있을 수 있다.
이때, 상기 제1 굴절률은 2.0~2.5이고, 상기 제2 굴절률은 1.35~1.6일 수 있다.
또한, 상기 다층막은, 상기 기재 상에 형성되고, 상기 제1 굴절률을 가진 제1 코팅막, 상기 제1 코팅막 상에 형성되고, 상기 제1 굴절률보다 굴절률이 낮은 제2 굴절률을 가진 제2 코팅막, 상기 제2 코팅막 상에 형성되고, 상기 제1 코팅막을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어진 제3 코팅막, 및 상기 제3 코팅막 상에 형성되고, 상기 제2 코팅막을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어진 제4 코팅막을 포함할 수 있다.
이때, 상기 제1 코팅막 및 상기 제3 코팅막은 Nb2O5, TiO2, Ta2O5, Ti2O3, Ti3O5 및 ZrO2를 포함하는 굴절률이 2.0~2.5인 금속 산화물 중 선택된 어느 하나의 금속 산화물로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 제1 코팅막 및 상기 제3 코팅막은 상기 제2 코팅막 및 상기 제4 코팅막보다 상대적으로 얇은 두께로 형성될 수 있다.
그리고 상기 제1 코팅막, 상기 제3 코팅막 및 상기 하드코트 막 중 상기 제1 코팅막이 상대적으로 가장 얇은 두께로 형성되고, 상기 하드코트 막이 상대적으로 가장 두꺼운 두께로 형성될 수 있다.
아울러, 상기 하드코트 막은 상기 다층막의 두께보다 적어도 10배 이상 두꺼운 두께로 형성될 수 있다.
이때 상기 하드코트 막은 1,000~3,000㎚ 두께로 형성될 수 있다.
또한, 상기 하드코트 막 상에 형성되고, 상기 하드코트 막보다 굴절률이 상대적으로 낮은 물질로 이루어지는 제5 코팅막을 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 제5 코팅막은 상기 제2 코팅막 및 상기 제4 코팅막을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
본 발명에 따르면, AlON으로 이루어진 하드코트 막 하부에 이와 굴절률이 동등하거나 그 이상인 고굴절 코팅막 및 이보다 굴절률이 낮은 저굴절 코팅막이 순차 반복적으로 적층된 다층막 구조를 구비함으로써, 내구성을 향상시킬 수 있음은 물론, 디스플레이 장치에 적용되는 경우, 컬러시프트 발생을 최소화시킬 수 있다.
특히, 본 발명에 따르면, 디스플레이 장치에 사용되는 터치패널의 커버 기판으로 적용 시, 우수한 내구성으로 인해, 수백만 회의 접촉을 견딜 수 있고, 컬러시프트 발생 최소화로 인해, 요구되는 우수한 광학적 특성 또한 동시에 만족시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판을 개략적으로 나타낸 단면 모식도.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판의 파장에 따른 투과율 및 반사율 변화를 나타낸 그래프.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판의 광학 특성에 대한 시뮬레이션 결과.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판에 대해 상세히 설명한다.
아울러, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단된 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판(100)은, 각종 디스플레이 장치의 커버 기판이나 디스플레이 장치의 전면에 배치되는 터치패널의 커버 기판으로 적용 가능한 기판이다. 이러한 디스플레이 장치용 기판(100)은 기재(110), 하드코트 막(120) 및 다층막(130)을 포함하여 형성된다.
기재(110)는 하드코트 막(120) 및 다층막(130)을 지지하는 역할을 한다. 이러한 기재(110)는 디스플레이 장치에 적용되기 위해, 고투명성과 내열성을 갖는 물질로 이루어지는 것이 바람직하다. 이때, 기재(110)의 투명성에 관해서는 가시광선 투과율이 80% 이상인 것이 바람직하고, 내열성에 관해서는 유리 전이온도가 50℃ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 기재(110)는 무기화합물 성형물과 유기고분자 성형물로 이루어질 수 있다. 이때, 무기화합물 성형물로는 반강화 유리, 석영 등을 들 수 있다. 또한, 유기고분자 성형물로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyetylene terephthalate, PET), 아크릴(acryl), 폴리카보네이트(polycabonate, PC), 우레탄 아크릴레이트(urethane acrylate), 폴리에스테르(polyester), 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate), 브롬화 아크릴레이트(brominate acrylate), 폴리염화비닐(polyvinyl chloride, PVC) 등을 들 수 있다.
하드코트 막(120)은 기재(110) 상에 형성되는데, 보다 상세하게는 기재(110) 상에 형성되는 다층막(130) 상에 형성된다. 본 발명의 실시 예에서, 이러한 하드코트 막(120)은 AlON으로 이루어진다. 여기서, AlON은 단단하면서도 투과율이 우수한 재료로 평가된다. 하지만, 각도에 따른 광학 특성 변화가 커서, 다시 말해, 각도에 따라 컬러시프트 발생으로 인해 디스플레이 장치의 커버 기판 재료로 사용하기에는 부적합하게 인식되어 왔다. 이에, 본 발명의 실시 예에서는 AlON으로 이루어진 하드코트 막(120) 하부에 굴절률이 다른 코팅막들로 적층된 다층막(130)을 구비함으로써, AlON으로 인한 컬러시프트 발생 문제를 해결하였는데, 이에 대해서는 하기에서 보다 상세히 설명하기로 한다.
한편, AlON으로 이루어지는 하드코트 막(120)은 디스플레이 장치용 기판(100)의 표면 강도를 강화시키는 층이므로, 다층막(130)을 이루는 복수 개의 코팅막(131 내지 134)보다 상대적으로 두꺼운 후막으로 형성된다. 이때, 하드코트 막(120)을 이루는 AlON은 굴절률이 1.8~2.3으로, 다층막(130)을 이루는 제1 코팅막(131)과 제3 코팅막(133)과 함께 고굴절층으로서의 역할을 한다. 이러한 하드코트 막(120)은 고굴절층을 이루는 제1 코팅막(131) 및 제3 코팅막(133)보다 두껍게 형성되는 것에 더해, 다층막(130) 전체의 두께보다 적어도 10배 이상 두꺼운 두께로 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 하드코트 막(160)은 1,000~3,000㎚ 두께, 바람직하게는 2,000㎚ 두께로 형성될 수 있다.
다층막(130)은 기재(110)와 하드코트 막(120) 사이에 형성된다. 또한, 다층막(130)은 굴절률이 다른, 즉, 제1 굴절률을 가진 코팅막과 제2 굴절률을 가진 코팅막이 순차 반복적으로 적층되어 형성된다. 이때, 제1 굴절률을 가진 코팅막과 제2 굴절률을 가진 코팅막은 적어도 2회 순차 반복적으로 적층될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 제1 굴절률을 가진 코팅막은 고굴절층으로, 굴절률이 2.0~2.5이고, 제2 굴절률을 가진 코팅막은 저굴절률층으로, 굴절률이 1.35~1.6이다.
본 발명의 실시 예에 따른 다층막(130)은 차례로 적층되어 있는 제1 코팅막(131), 제2 코팅막(132), 제3 코팅막(133) 및 제4 코팅막(134)을 포함하여 형성될 수 있는데, 이는, 일례일 뿐 더 많은 코팅막들의 적층으로도 형성될 수 있다.
한편, 제1 코팅막(131)은 기재(110) 상에 형성된다. 본 발명의 실시 예에서, 제1 코팅막(131)은 제1 굴절률을 갖는 고굴절층을 이루게 된다. 즉, 제1 코팅막(131)은 제2 코팅막(132) 및 제4 코팅막(134)보다 굴절률이 상대적으로 높은 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 제1 코팅막(131)은 제3 코팅막(133)을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 그리고 제1 코팅막(131)은 하드코트 막(120)을 이루는 AlON과 동등 또는 그 이상의 굴절률을 갖는 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같이, 제1 코팅막(131)이 고굴절률을 갖는 물질로 이루어지면, 막 두께를 감소시킬 수 있고, 이에 따라, 디스플레이 장치용 기판(100)의 구조 단순화가 가능해짐은 물론, 저굴절층을 이루는 제2 코팅막(132)과의 굴절률 차이가 커져서, 광학 특성 또한 높은 수준으로 만족시킬 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 고굴절층을 이루는 제1 코팅막(131)은 Nb2O5, TiO2, Ta2O5, Ti2O3, Ti3O5 및 ZrO2를 포함하는 굴절률이 2.0~2.5인 금속 산화물 중 선택된 어느 하나의 금속 산화물로 이루어질 수 있다.
한편, 고굴절층을 이루는 제1 코팅막(131), 제3 코팅막(133) 및 하드코트 막(120) 중 제1 코팅막(131)은 상대적으로 가장 얇은 두께로 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 제1 코팅막(131)은 8㎚ 두께로 형성될 수 있는데, 이는 일례일 뿐, 다른 고굴절층의 형성 두께에 따라, 제1 코팅막(131)의 형성 두께는 변화될 수 있다.
제2 코팅막(132)은 제1 코팅막(131) 상에 형성된다. 본 발명의 실시 예에서, 제2 코팅막(132)은 제2 굴절률을 갖는 저굴절층을 이루게 된다. 즉, 제2 코팅막(132)은 제1 코팅막(131) 및 제3 코팅막(133)보다 굴절률이 상대적으로 낮은 물질로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 제1 코팅막(131)과 제2 코팅막(132)은 고굴절층과 저굴절층의 적층 구조를 이루게 된다. 이때, 제2 코팅막(132)은 제4 코팅막(134)을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
본 발명의 실시 예에서는 고굴절층을 이루는 제1 코팅막(131)이 굴절률이 2.0~2.5인 금속 산화물로 이루어지므로, 저굴절층을 이루는 제2 코팅막(132)은 굴절률이 이보다 낮은, 예컨대, 굴절률이 1.35~1.6인 SiO2나 MgF2로 이루어질 수 있다. 하지만, 본 발명의 실시 예에서, 제2 코팅막(132)을 이루는 물질을 SiO2나 MgF2만으로 한정하는 것은 아니다.
한편, 본 발명의 실시 예에서, 제2 코팅막(132)은 48㎚ 두께로 형성될 수 있는데, 이는, 일례일 뿐, 나머지 코팅막들의 형성 두께에 따라, 제2 코팅막(132)의 형성 두께는 변화될 수 있다.
제3 코팅막(133)은 제2 코팅막(132) 상에 형성된다. 이러한 제3 코팅막(133)은 제2 코팅막(132)보다 굴절률이 상대적으로 높은 물질로 이루어져, 고굴절층을 이루게 된다. 즉, 제3 코팅막(133)은 제1 코팅막(131)을 이루는 제1 굴절률을 갖는 물질, 예컨대, Nb2O5, TiO2, Ta2O5, Ti2O3, Ti3O5 및 ZrO2를 포함하는 굴절률이 2.0~2.5인 금속 산화물 중 선택된 어느 하나의 금속 산화물로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 제1 코팅막(131), 제2 코팅막(132) 및 제3 코팅막(133)은 고굴절층, 저굴절층 및 고굴절층의 적층 구조를 이루게 된다.
한편, 본 발명의 실시 예에서, 고굴절층을 이루는 제1 코팅막(131), 제3 코팅막(133) 및 하드코트 막(120) 중, 제3 코팅막(133)은 제1 코팅막(131)보다는 두꺼운 두께로 형성되고, 하드코트 막(120)보다는 얇은 두께로 형성된다. 본 발명의 실시 예에서는 제1 코팅막(131)이 8㎚ 두께로 형성되므로, 제3 코팅막(133)은 이보다 두꺼운 18㎚ 두께로 형성될 수 있다.
제4 코팅막(134)은 제3 코팅막(133) 상에 형성된다. 본 발명의 실시 예에서, 제4 코팅막(134)은 제2 코팅막(132)을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어져, 제2 굴절률을 갖는 저굴절층을 이루게 된다. 즉, 제4 코팅막(134)은 제1 코팅막(131) 및 제3 코팅막(133)보다 굴절률이 상대적으로 낮은 물질로 이루어진다. 본 발명의 실시 예에서, 제2 코팅막(132)이 SiO2나 MgF2와 같이 굴절률이 1.35~1.6인 물질로 이루어지므로, 제4 코팅막(134) 또한 이와 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 제1 코팅막(131), 제2 코팅막(132), 제3 코팅막(133) 및 제4 코팅막(134)은 고굴절층, 저굴절층, 고굴절층 및 고굴절층과 같이 고굴절층과 저굴절층이 순차 반복적으로 적층된 적층 구조를 이루게 되고, 이와 같이, 디스플레이 장치로부터 발생된 빛이 외부로 방출되는 경로에, 굴절률 차이를 갖는, 즉, 고굴절층, 저굴절층, 고굴절층 및 고굴절층과 같이 고굴절층과 저굴절층이 순차 반복적으로 적층된 다층막(130)이 배치되면, 디스플레이 장치의 광학 특성은 더욱 향상될 수 있다.
아울러, 본 발명의 실시 예에서, 제4 코팅막(134)은 48㎚ 두께로 형성되는 제2 코팅막(132)보다 얇은 20㎚ 두께로 형성될 수 있다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판(100)은 제5 코팅막(140)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 여기서, 제5 코팅막(140)은 하드코트 막(120) 상에 형성되고, 하드코트 막(120)보다 굴절률이 상대적으로 낮은 물질로 이루어질 수 있다. 이때, 제5 코팅막(140)은 제2 코팅막(132) 및 제4 코팅막(134)을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 즉, 제5 코팅막(140)은 SiO2나 MgF2로 이루어질 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 제5 코팅막(140)은 13㎚ 두께로 형성될 수 있다. 이러한 제5 코팅막(140)은 디스플레이 장치용 기판(100)의 보호층으로서의 역할을 하게 된다.
이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판(100)은 기재(110) 상에 순차 반복적으로 적층된 제1 코팅막(131), 제2 코팅막(132), 제3 코팅막(133) 및 제4 코팅막(134)으로 이루어진 다층막(130), 하드코트 막(120) 및 제5 코팅막(140)을 포함하여 형성된다. 이에 따라, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판(100)은 디스플레이 장치로부터 발생되는 광의 방출 경로를 따라 고굴절/저굴절/고굴절/저굴절/고굴절/저굴절의 적층 구조를 이루고, 이러한 굴절률 차이를 통해 우수한 광학 특성을 구현할 수 있다.
여기서, 하드코트 막(120)과 함께 고굴절층을 이루는 제1 코팅막(131) 및 제3 코팅막(133)을 하드코트 막(120)을 이루는 AlON이 아닌, 이보다 굴절률이 동등 또는 그 이상인 물질, 예컨대, Nb2O5로 형성한 이유는 굴절률이 높을수록 코팅막의 두께를 감소시킬 수 있어, 다층막(130)의 구조를 단순화시킬 수 있고, 저굴절층을 이루는 제2 코팅막(132) 및 제4 코팅막(134)과의 굴절률 차이를 AlON보다 더 크게 하면, 광학 특성을 보다 향상시킬 수 있기 때문이다. 또한, 제1 코팅막(131) 및 제3 코팅막(133)을 Nb2O5로 형성한 이유는 AlON을 다층으로 형성하는 경우, 형성 공정이 복잡하고, 이에 따라 설비 또한 복잡해지는 반면, Nb2O5는 O2의 미세 조정만으로 안정된 성막이 가능하기 때문이다. 그리고 제1 코팅막(131) 및 제3 코팅막(133)을 Nb2O5로 형성한 이유는, Nb2O5는 AlON과 마찬가지로 우수한 내환경성을 갖기 때문이다. 즉, 본 발명의 실시 예에서는 AlON과 동등 또는 그 이상의 광학 특성 및 내구성을 가짐은 물론, AlON보다 성막이 용이한 Nb2O5 또는 이와 균등한 금속 산화물을 고굴절층을 이루는 제1 코팅막(131) 및 제3 코팅막(133)으로 선택한 것이다.
한편, 도 2 및 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판의 파장에 따른 투과율 및 반사율 변화를 나타낸 그래프로, 도 2 및 도 3의 그래프에서 보여지는 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판은, 파장에 따른 투과율 변화가 크지 않은 것을 확인할 수 있고, 다양한 각도에서도 파장에 따른 반사율 변화 또한 크지 않은 것을 확인할 수 있다.
또한, 도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판의 광학 특성에 대한 시뮬레이션 결과로, 색 a, b에 대한 시뮬레이션 결과를 보여준다. 시뮬레이션 결과를 보면, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판은 색 a, b에 대한 투과율 및 반사율 편차가 유효 범위 내에 들어오는 것으로 나타났다.
상기의 결과들에서 확인되는 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판은, 고굴절층이 AlON과 Nb2O5로 이루어져, 우수한 내구성을 가짐은 물론, 다양한 각도에서도 투과율 및 반사율 편차가 크지 않으므로, 디스플레이 장치에 적용 시 컬러시프트 발생을 최소화시킬 수 있다. 특히, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이 장치용 기판이 터치패널의 커버 기판으로 적용되면, 우수한 내구성으로 인해, 수백만 회의 접촉을 견딜 수 있고, 컬러시프트 발생 최소화로 인해, 요구되는 우수한 광학적 특성 또한 동시에 만족시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 실시 예에서는 고굴절층과 저굴절층이 순차 반복적으로 적층된 6층 구조를 예시하였다. 이때, 본 발명의 실시 예에서, 적층 구조의 층수를 제한하는 것은 아니나, 층수가 늘어날수록 구조가 복잡해지고, 공정 능력이 저하되는 문제가 발생된다. 그리고 무엇보다도 디스플레이 장치용 기판을 8층이나 10층 구조로 형성하더라도 6층 구조로 이루어진 디스플레이 장치용 기판과 동등 또는 유사한 광학적 특성이 구현되므로, 굳이 6층보다 다층으로 디스플레이 장치용 기판을 형성할 이유가 없다.
따라서, 본 발명의 실시 예와 같이, 디스플레이 장치용 기판은 6층 구조로 형성되는 것이 공정적, 비용적 측면, 내구성 및 광학적 측면에서 가장 바람직하다고 말할 수 있다.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시 예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
100: 디스플레이 장치용 기판 110: 기재
120: 하드코트 막 130: 다층막
131: 제1 코팅막 132: 제2 코팅막
133: 제3 코팅막 134: 제4 코팅막
140: 제5 코팅막

Claims (11)

  1. 기재;
    상기 기재 상에 형성되고, AlON으로 이루어진 하드코트 막;
    상기 기재와 상기 하드코트 막 사이에 형성되고, 제1 굴절률을 가진 코팅막과 제2 굴절률을 가진 코팅막이 순차 반복적으로 적층되어 형성되는 다층막;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 굴절률을 가진 코팅막과 상기 제2 굴절률을 가진 코팅막은 적어도 2회 순차 반복적으로 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 굴절률은 2.0~2.5이고, 상기 제2 굴절률은 1.35~1.6인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 다층막은,
    상기 기재 상에 형성되고, 상기 제1 굴절률을 가진 제1 코팅막,
    상기 제1 코팅막 상에 형성되고, 상기 제1 굴절률보다 굴절률이 낮은 제2 굴절률을 가진 제2 코팅막,
    상기 제2 코팅막 상에 형성되고, 상기 제1 코팅막을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어진 제3 코팅막, 및
    상기 제3 코팅막 상에 형성되고, 상기 제2 코팅막을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어진 제4 코팅막을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1 코팅막 및 상기 제3 코팅막은 Nb2O5, TiO2, Ta2O5, Ti2O3, Ti3O5 및 ZrO2를 포함하는 굴절률이 2.0~2.5인 금속 산화물 중 선택된 어느 하나의 금속 산화물로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 제1 코팅막 및 상기 제3 코팅막은 상기 제2 코팅막 및 상기 제4 코팅막보다 상대적으로 얇은 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 제1 코팅막, 상기 제3 코팅막 및 상기 하드코트 막 중 상기 제1 코팅막이 상대적으로 가장 얇은 두께로 형성되고, 상기 하드코트 막이 상대적으로 가장 두꺼운 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 하드코트 막은 상기 다층막의 두께보다 적어도 10배 이상 두꺼운 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 하드코트 막은 1,000~3,000㎚ 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  10. 제4항에 있어서,
    상기 하드코트 막 상에 형성되고, 상기 하드코트 막보다 굴절률이 상대적으로 낮은 물질로 이루어지는 제5 코팅막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제5 코팅막은 상기 제2 코팅막 및 상기 제4 코팅막을 이루는 물질과 동일한 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판.
KR1020140118895A 2014-09-05 2014-09-05 디스플레이 장치용 기판 KR101606172B1 (ko)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140118895A KR101606172B1 (ko) 2014-09-05 2014-09-05 디스플레이 장치용 기판
CN201580047809.2A CN106687894B (zh) 2014-09-05 2015-09-03 用于显示装置的基底
JP2017512687A JP6432089B2 (ja) 2014-09-05 2015-09-03 ディスプレイ装置用基板
PCT/KR2015/009276 WO2016036152A1 (ko) 2014-09-05 2015-09-03 디스플레이 장치용 기판
EP15837550.1A EP3189963B1 (en) 2014-09-05 2015-09-03 Substrate for display device
US15/508,724 US10401992B2 (en) 2014-09-05 2015-09-03 Substrate for display device
TW104129314A TWI585641B (zh) 2014-09-05 2015-09-04 顯示裝置之基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140118895A KR101606172B1 (ko) 2014-09-05 2014-09-05 디스플레이 장치용 기판

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160029409A true KR20160029409A (ko) 2016-03-15
KR101606172B1 KR101606172B1 (ko) 2016-03-24

Family

ID=55440109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140118895A KR101606172B1 (ko) 2014-09-05 2014-09-05 디스플레이 장치용 기판

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10401992B2 (ko)
EP (1) EP3189963B1 (ko)
JP (1) JP6432089B2 (ko)
KR (1) KR101606172B1 (ko)
CN (1) CN106687894B (ko)
TW (1) TWI585641B (ko)
WO (1) WO2016036152A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109828324B (zh) * 2019-01-15 2020-12-08 西安应用光学研究所 一种具有高效雷达波屏蔽功能的宽角度激光高强减反射膜的膜系结构

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110135612A (ko) 2010-06-11 2011-12-19 (주)솔라세라믹 초유연 박판의 물리적 안정화를 통한 ｆｔｏ막 형성 방법

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT221835B (de) * 1961-04-21 1962-06-25 Reichert Optische Werke Ag Entspiegelungsbelag
US5332618A (en) * 1992-02-07 1994-07-26 Tru Vue, Inc. Antireflection layer system with integral UV blocking properties
JPH1177885A (ja) * 1997-09-17 1999-03-23 Osaka Prefecture 表面改質プラスチック材料
JP2000167969A (ja) * 1998-12-07 2000-06-20 Nitto Denko Corp 透明積層体およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルター
JP2002277608A (ja) * 2001-03-22 2002-09-25 Sony Corp 反射防止膜及びこれを用いた画像表示装置
JP3953829B2 (ja) * 2002-02-20 2007-08-08 大日本印刷株式会社 表面が強化された反射防止層、反射防止材、および反射防止体
FR2841894B1 (fr) * 2002-07-03 2006-03-10 Saint Gobain Substrat transparent comportant un revetement antireflet
US20040229051A1 (en) * 2003-05-15 2004-11-18 General Electric Company Multilayer coating package on flexible substrates for electro-optical devices
FR2856627B1 (fr) 2003-06-26 2006-08-11 Saint Gobain Substrat transparent muni d'un revetement avec proprietes de resistance mecanique
WO2005021259A1 (ja) 2003-08-28 2005-03-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 反射防止積層体
JP4987717B2 (ja) * 2004-08-18 2012-07-25 ダウ・コーニング・コーポレイション コーティングを有する基板及びその調製方法
TW200610978A (en) * 2004-09-27 2006-04-01 Jsr Corp Laminated body and manufacturing method thereof
US20070030569A1 (en) * 2005-08-04 2007-02-08 Guardian Industries Corp. Broad band antireflection coating and method of making same
FR2898295B1 (fr) 2006-03-10 2013-08-09 Saint Gobain Substrat transparent antireflet presentant une couleur neutre en reflexion
JP2007279203A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Seiko Epson Corp 多層反射防止層およびその製造方法、プラスチックレンズ
SG176232A1 (en) * 2009-06-02 2011-12-29 Agency Science Tech & Res Multilayer barrier film
TW201245753A (en) * 2011-05-13 2012-11-16 Innovation & Infinity Global Conductive film
JP5907701B2 (ja) * 2011-11-18 2016-04-26 住友理工株式会社 フィルム部材の製造方法
JP2013123825A (ja) * 2011-12-13 2013-06-24 Keiwa Inc ハードコートフィルム、透明導電性積層体及びタッチパネル
CN104040379B (zh) * 2012-01-10 2016-02-10 纳卢克斯株式会社 光学多层膜

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110135612A (ko) 2010-06-11 2011-12-19 (주)솔라세라믹 초유연 박판의 물리적 안정화를 통한 ｆｔｏ막 형성 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20170255290A1 (en) 2017-09-07
KR101606172B1 (ko) 2016-03-24
CN106687894B (zh) 2019-09-03
TW201614266A (en) 2016-04-16
TWI585641B (zh) 2017-06-01
JP2017529260A (ja) 2017-10-05
US10401992B2 (en) 2019-09-03
CN106687894A (zh) 2017-05-17
EP3189963B1 (en) 2018-11-14
JP6432089B2 (ja) 2018-12-05
WO2016036152A1 (ko) 2016-03-10
EP3189963A4 (en) 2018-01-10
EP3189963A1 (en) 2017-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20120057237A1 (en) Electrode film and coordinate detecting apparatus
TWI545591B (zh) Transparent conductive film and touch panel
US10591645B2 (en) Electronic devices having scratch-resistant antireflection coatings
CN111856630B (zh) 用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜
TWI486973B (zh) 透明導電層壓薄膜、其製造方法以及包含該透明導電層壓薄膜的觸控螢幕
US20090188726A1 (en) Touch panel
JP5160329B2 (ja) 透明導電性フィルム及びタッチパネル
US20110212305A1 (en) Transparent conductive laminate comprising visual light adjustment layers
US9625619B2 (en) Optical film assembly, display apparatus having the same and method of manufacturing the same
KR20130119762A (ko) 터치패널
KR101606172B1 (ko) 디스플레이 장치용 기판
KR101562966B1 (ko) 디스플레이 장치용 기판
US20140078098A1 (en) Touch panel
JP5417787B2 (ja) プラスチック成形品の製造方法およびプラスチック成形品
US20130021670A1 (en) Conductive film
US20150346388A1 (en) Optical multilayered unit and display device including the same
US20160048253A1 (en) Touch display device
JP2023053748A (ja) 光学積層体、反射防止膜
US20130022801A1 (en) Conductive film
US20130029109A1 (en) Conductive film
EP2549304A1 (en) Conductive film
JP2017016289A (ja) 透明導電フィルム、及び透明導電フィルムの製造方法
EP2551756A1 (en) Conductive film
KR20120136526A (ko) 전도 막

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181219

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191219

Year of fee payment: 5