KR20150143456A - 광선치료 장치, 방법 및 용도 - Google Patents

광선치료 장치, 방법 및 용도 Download PDF

Info

Publication number
KR20150143456A
KR20150143456A KR1020157026777A KR20157026777A KR20150143456A KR 20150143456 A KR20150143456 A KR 20150143456A KR 1020157026777 A KR1020157026777 A KR 1020157026777A KR 20157026777 A KR20157026777 A KR 20157026777A KR 20150143456 A KR20150143456 A KR 20150143456A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
minutes
peak wavelength
light source
leds
Prior art date
Application number
KR1020157026777A
Other languages
English (en)
Inventor
니콜라스 루피스
레미지오 피에르갈리니
Original Assignee
클록스 테크놀로지스 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 클록스 테크놀로지스 인크. filed Critical 클록스 테크놀로지스 인크.
Publication of KR20150143456A publication Critical patent/KR20150143456A/ko

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00—Radiation therapy
    • A61N5/06—Radiation therapy using light
    • A61N5/0613—Apparatus adapted for a specific treatment
    • A61N5/062—Photodynamic therapy, i.e. excitation of an agent
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00—Radiation therapy
    • A61N5/06—Radiation therapy using light
    • A61N5/0613—Apparatus adapted for a specific treatment
    • A61N5/0624—Apparatus adapted for a specific treatment for eliminating microbes, germs, bacteria on or in the body
    • H05B33/0857—
    • H05B33/0863—
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B45/00—Circuit arrangements for operating light-emitting diodes [LED]
    • H05B45/20—Controlling the colour of the light
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00—Radiation therapy
    • A61N5/06—Radiation therapy using light
    • A61N2005/0626—Monitoring, verifying, controlling systems and methods
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00—Radiation therapy
    • A61N5/06—Radiation therapy using light
    • A61N2005/0658—Radiation therapy using light characterised by the wavelength of light used
    • A61N2005/0662—Visible light
    • A61N2005/0663—Coloured light

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Epidemiology (AREA)

Abstract

대상의 조직에 광선 치료를 제공하기 위한 장치, 시스템, 및 방법이 개시된다. 장치, 시스템, 및 방법은 조직에 대한 의료 및/또는 미용 치료를 야기할 수 있는 광을 방출하는 광 생성 공급원을 포함하는 광선치료 램프를 포함한다. 또한 그 장치의 용도가 포함된다. 또한 장치 및 방법은 광활성 가능 조성물을 포함할 수도 있다.

Description

광선치료 장치, 방법 및 용도{PHOTOTHERAPEUTIC DEVICE, METHOD AND USE}
본 발명은 광선치료 장치, 방법 및 용도에 관한 것이다.
광선요법(phototherapy)은 가시광선 및 적외선과 같은 전자기 방사를 사용하는 생물학적 조직의 치료에 관한 것이다. 이는 피부 재생(rejuvenation) 및 다양한 피부 상태의 치료를 포함하는 의료 및 미용 분야 양쪽에서 광범위한 응용예들을 갖는다. 광선요법은 또한 소정의 감광성 약물(photo-sensitive drug) 또는 광활성 조성물(photoactive composition)을 조합하여 사용된다. 미용 및 의료 용도를 갖는 신규한 광선치료 장치 및 방법을 제공하는 것이 요망된다.
상이한 상호 보완적인 치료 효과를 갖는 광을 포함해서, 인간일 수도 있고 동물일 수도 있는 대상 내의 다양한 다른 상태들을 치료하는 광선치료용 장치, 및 그 장치의 방법 및 용도가 광범위하게 제공된다.
상기 장치의 상이한 측면들은 광범위하게 다음과 같은 특성들 중 하나 이상을 가질 수 있는 발광 스펙트럼을 갖는 광을 방출할 수 있는 적어도 하나의 광원을 포함한다: (i) 상기 방출된 광으로 조사된 치료 영역에 대한 항균 효과(antimicrobial effect)를 생성하는 것, (ii) 상기 치료 영역 내의 혈류를 조절하는 것, 및/또는 (iii) 상기 치료 영역 내의 혈류를 조절하는 것, 콜라겐 조절과 같은 치료 특성들을 갖는 광(형광 또는 인광)을 후에 방출할 수 있고 그리고/또는 치료 영역 상에, 내에 또는 옆에 일중항 산소(singlet oxygen)와 같은 생체치료 반응종(bio-therapeutic reactive species)을 방출할 수 있는 적어도 하나의 발색단(chromophore)/형광색소(fluorochrome)를 포함하는 광활성 가능 조성물을 활성화시키는 것.
일 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 치료 영역 위 또는 근처에 적용된 광활성 가능 조성물을 활성화시키기 위한 발광 스펙트럼을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원; 및 상기 제1 광과 다른 발광 스펙트럼을 갖는 제2 광을 방출할 수 있는 제2 광원을 포함하고, 여기서 상기 제1 및 제2 발광 스펙트럼은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 제1 광은 상기 전자기 스펙트럼의 보라색 영역 내에 있고, 상기 제2 광은 상기 전자기 스펙트럼의 청색 영역 내에 있다.
다른 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 제1 발광 스펙트럼을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원; 및 상기 제1 광과 다른 제2 발광 스펙트럼을 갖는 제2 광을 방출할 수 있는 제2 광원을 포함하며, 여기서 상기 제1 및 제2 발광 스펙트럼은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 제1 광은 상기 전자기 스펙트럼의 청색 영역 내에 있고, 상기 제2 광은 상기 전자기 스펙트럼의 보라색 영역 내에 있다.
다른 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 처리 영역 위 또는 근처에 적용된 광활성 가능 조성물을 활성화시키기 위한 제1 피크 파장을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원; 및 상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광을 방출할 수 있는 제2 광원을 포함하고, 여기서 상기 제1 및 제2 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다.
다른 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 제1 피크 파장을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원; 및 상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광을 방출할 수 있는 제2 광원을 포함하고, 여기서 상기 제1 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제1 광은 약 430 내지 약 500nm, 약 440 내지 약 500nm, 약 450 내지 약 500nm, 약 430 내지 약 475nm, 약 435nm 내지 약 470nm, 약 440nm 내지 약 460nm, 약 440nm, 약 450nm, 약 460nm 또는 약 470nm의 피크 파장(제1 피크 파장)을 갖는다. 소정의 실시예들에서, 상기 제2 광은 약 400nm 내지 약 500nm, 약 400nm 내지 약 475nm, 약 400nm 내지 약 450nm, 약 400nm 내지 약 430nm, 또는 약 410nm 내지 약 420nm, 또는 약 415nm의 피크 파장(제2 피크 파장)을 갖는다. 일 실시예에서, 상기 제2 피크 파장은 약 410nm 내지 약 430nm이고, 상기 제1 광의 피크 파장은 약 440nm 내지 약 470nm이다.
대안적으로, 상기 제2 피크 파장은 약 480 내지 약 760nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 650nm, 약 480nm 내지 약 620nm, 약 500 내지 약 700nm, 약 520nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm, 약 540nm 내지 약 580nm, 약 500nm 내지 약 570nm, 약 570nm 내지 약 590nm, 약 590nm 내지 약 610nm, 약 610nm 내지 약 760nm, 또는 전자기 스펙트럼의 적외선 범위 이내일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 피크 파장은 상기 제1 피크 파장보다 길다. 상기 제1 및 제2 피크 파장 간의 거리는 스토크스 이동(Stoke's shift)에 기인할 수 있다.
상기 제1 광 및 제2 광 중 적어도 하나는 약 20nm 이하, 또는 약 19nm±5nm(14nm 내지 24nm)의 대역폭(반치 전폭(full width half maximum)을 가질 수 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 제2 광은 약 15nm와 약 100nm 사이, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 폭을 갖는다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광은 상기 제1 광의 대역폭보다 넓은 대역폭을 갖는다. 상기 제1 광의 대역폭은 약 15nm 내지 약 25nm 일 수 있고, 상기 제2 광의 대역폭은 약 20nm 내지 약 100nm일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 치료 거리(예를 들면 5cm 또는 10cm)에서 측정된, 상기 장치로부터 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 광의 평균 출력 밀도는 약 200mW/cm2 미만, 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 200mW/cm2, 약 10 내지 약 150mW/cm2, 20 내지 약 130mW/cm2, 약 55 내지 약 130mW/cm2, 약 90 내지 약 140mW/cm2, 약 100 내지 약 140mW/cm2, 또는 약 110 내지 약 135mW/cm2이다. 일부 실시예에서, 상기 장치에 의해 방출된 광의 평균 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약10 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 85mW/cm2, 약15 내지 약 75mW/cm2, 약 30 내지 약 70mW/cm2, 약 40mW/cm2 내지 약 70mW/cm2, 약 55 내지 약 85mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 65mW/cm2이다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광의 평균 출력 밀도보다 낮다. 예를 들면, 상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광 출력 밀도의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%일 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 약 75mW/cm2 미만, 약 50mW/cm2 미만, 약 10mW/cm2 미만, 약 5mW/cm2 미만, 약 2.5mW/cm2 미만, 또는 약 2mW/cm2 미만일 수 있다. 상기 피크 파장에서의 출력 밀도는 약 0.02mW/cm2/nm 내지 약 75mW/cm2/nm, 약 0.02 내지 약 50mW/cm2/nm, 약 0.02 내지 약 10mW/cm2/nm, 약 0.02 내지 약 5mW/cm2/nm, 또는 약 0.02 내지 약 10mW/cm2/nm, 약 0.005 내지 약 10mW/cm2/nm, 약 0.01 내지 0.1mW/cm2/nm, 약 0.01 내지 약 2mW/cm2/nm, 약 0.01 내지 약 3mW/cm2/nm, 또는 약 0.5 내지 약 5mW/cm2/nm일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 장치는 상기 장치로부터의 발광 기간에 걸쳐서 방출된 광원, 예를 들면 시간 경과에 따라 방출된 출력 밀도의 감소를 조절하도록 배열된다. 상기 출력 밀도는 소정의 비율, 예를 들면 분당 약 0.002mW/cm2의 조사 내지 분당 약 0.1mW/cm2의 조사, 분당 약 0.005mW/cm2, 분당 약 0.006mW/cm2, 또는 분당 약 0.012mW/cm2로 감소될 수 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 제2 광원은 임의의 형광 또는 인광 제제로부터 방출된 형광 또는 인광 광을 대략적으로 또는 실질적으로 모방하는 광을 방출한다. 일 실시예에서, 상기 제2 광은 광활성화된 때에 에오신 Y(Eosin Y) 또는 에오신 Y 및 플루오레세인(Fluorescein)에 의해 방출되는 것과 유사한 광을 방출한다. 상기 형광 또는 인광 광은 녹색, 황색 및 오렌지색과 같은 전자기 스펙트럼의 가시 또는 적외선 부분 이내일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 단일의 치료 동안, 상기 장치로부터 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 평균 플루엔스(average fluence)는 약 4J/cm2 초과, 약 10J/cm2 초과, 약 15J/cm2 초과, 30 J/cm2 초과, 약 50J/cm2 초과, 약 60J/cm2까지이다. 소정의 실시예들에서, 상기 장치는 단일의 치료 동안, 약 4J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 50J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 30J/cm2, 약 20J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 약 25J/cm2, 또는 약 10J/cm2 내지 약 20J/cm2의 플루엔스를 갖는 광을 방출하도록 배열된다.
상기 치료 시간은 약 30초 내지 약 25분, 약 30초 내지 20분, 약 30초 내지 19분, 약 30초 내지 18분, 약 30초 내지 19분, 약 30초 내지 17분, 약 30초 내지 16분, 약 30초 내지 15분, 약 30초 내지 14분, 약 30초 내지 13분, 약 30초 내지 12분, 약 30초 내지 11분, 약 30초 내지 10분, 약 30초 내지 9분, 약 30초 내지 8분, 약 30초 내지 7분, 약 30초 내지 6분, 약 30초 내지 5분, 약 30초 내지 4분, 통상적으로 5 내지 15분의 범위일 수 있다. 상기 치료 시간은 약 90분, 약 80분, 약 70분, 약 60분, 약 50분, 약 40분 또는 약 30분까지의 범위일 수 있다. 상기 치료 시간은 치료 영역으로 유도된 플루엔스의 비율을 조정함으로써 선량(dosage)을 유지하기 위해서 조정될 수 있음을 이해해야 할 것이다. 예를 들면, 20J/cm2의 총 선량 및 15분의 처리 시간 동안, 플루엔스는 분당 1.3J/cm2의 임의의 비율로 전달될 수 있다. 소정의 실시예들에서, 최대 광 강도는 치료의 분당 약 12J/cm2일 수 있다. 상기 플루엔스 비율은 구해진 치료법으로 조정될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광원에 의해 방출되거나 상기 제2 광원으로부터 치료 영역으로 전달된 플루엔스는 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 치료 영역으로 전달된 플루엔스보다 낮다. 예를 들면, 상기 제2 광원에 의해 방출되거나 상기 제2 광원으로부터 치료 영역으로 전달된 플루엔스는 치료당, 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 치료 영역으로 전달된 플루엔스의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%이다.
일부 실시예에서, 상기 제1 광의 피크 파장은 약 440nm 내지 약 470nm이며, 약 18-24의 대역폭을 갖고, 상기 제2 광의 피크 파장은 약 410nm 내지 약 430nm이며, 약 13-18nm의 대역폭을 갖는다. 이들 실시예에서, 상기 장치는 약 55 내지 약 130mW/cm2, 또는 약 10 내지 약 75mW/cm2의 평균 출력 밀도를 방출할 수 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 플루엔스 비율은 분당 약 5-10J/cm2이다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 큰 대역폭을 갖고, 여기서 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 평균 출력 밀도를 갖는다. 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 플루엔스를 가질 수 있다. 상기 제2 광은 상기 제1 광의 제1 피크 파장에서의 최대 출력보다 낮은 제2 피크 파장에서의 최대 출력을 가질 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 장치는 제3 광원을 더 포함하고, 여기서 상기 제3 광원은 약 500nm 내지 약 750nm, 약 630 내지 약 750nm, 또는 약 750nm 내지 약 1mm의 피크 파장을 갖는 제3 광을 방출할 수 있다.
또 다른 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장 및 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2의 평균 출력 밀도를 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원을 포함한다.
또 다른 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 19nm±약 5nm의 대역폭을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원을 포함한다.
다른 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는 제1광을 방출할 수 있는 제1광원을 포함한다.
또 다른 측면으로부터, 광선치료용 장치가 제공되며, 상기 장치는, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일의 치료 동안의 플루엔스를 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원을 포함한다.
또 다른 측면으로부터, 약 15nm 초과의 대역폭을 갖고, 약 400nm 내지 약 700nm 사이의 피크 파장을 갖는 광을 방출하도록 배열된 적어도 하나의 광원을 갖는 광선치료용 장치가 제공되며, 여기서 상기 광의 방출된 출력 밀도는 발광 기간에 걸쳐서 감소된다. 상기 출력 밀도는 임의의 비율, 예를 들면 분당 약 0.002mW/cm2의 조사 내지 분당 약 0.1mW/cm2의 조사, 분당 약 0.005mW/cm2, 분당 약 0.006mW/cm2, 또는 분당 약 0.012mW/cm2로 감소될 수 있다. 이는 실질적으로 발색단에 의해 방출된 형광 및 시간 경과에 따른 형광의 출력 강도의 붕괴(decay)를 시뮬레이션할 수 있다.
임의의 상기 측면들의 소정의 실시예들에서, 상기 제1 광은 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2의 평균 출력 밀도를 가질 수 있다.
임의의 상기 측면들의 소정의 실시예들에서, 상기 제1 광은 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일의 치료 동안의 플루엔스를 가질 수 있다.
임의의 상기 측면들의 소정의 실시예들에서, 상기 제1 광은 약 400 내지 약 750nm의 대역폭, 및 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 가질 수 있다. 상기 제1 광은 약 19nm±5nm의 대역폭을 가질 수 있다.
상기 측면들의 소정의 실시예들에서, 상기 제2 광을 방출할 수 있는 피크 파장을 갖는 제2 광원이 제공되며, 여기서 상기 제2 광은 다음의 것들 중 적어도 하나를 포함한다:
a) 상기 제1 광원의 대역폭보다 큰 대역폭,
b) 상기 제1 광의 평균 출력 밀도보다 낮은 평균 출력 밀도,
c) 상기 제1 광의 피크 파장에서의 출력보다 낮은 피크 파장에서의 출력,
d) 상기 제1 광의 피크 파장보다 긴 피크 파장, 또는
e) 상기 제1 광의 플루엔스보다 치료 시간 동안에 낮은 플루엔스.
상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광 출력 밀도의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%일 수 있다.
상기 제2 광원에 의해 방출되거나 상기 제2 광원으로부터 치료 영역으로 전달된 플루엔스는 치료당, 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 치료 영역에 전달된 플루엔스의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%이다.
상기 제2 광의 대역폭은 20nm 초과, 약 20-100nm, 약 20-80nm, 약 20-60nm, 약 20-40nm일 수 있다.
피크 파장에서의 출력은 상기 제1 광의 피크 파장에서의 출력의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%일 수 있다.
본 발명은 이하에서 제시되는 임의의 실시예들이 서로 또는 상기에서 제시하거나, 달리 본원에서 제시한 임의의 측면들 또는 실시예들과 조합될 수 있음을 고려하고 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 장치는 상기 제1 광의 제1 발광 스펙트럼 및/또는 상기 제2 광의 제2 발광 스펙트럼을 가변시키기 위해서 상기 제1 광원 및 제2 광원들과 전자 통신하는 컨트롤러를 더 포함하며, 여기서 상기 제1 및 제2 발광 스펙트럼은 대역폭, 피크 파장, 출력 밀도, 방출 시간 및 플루엔스로부터 선택된 하나 이상의 발광 스펙트럼 파라미터를 포함한다. 상기 컨트롤러는 상기 제1 광 및 제2 광 각각의 발광 스펙트럼 파라미터들 중 하나 이상을 개별적으로 제어할 수 있다. 일부 실시예들에서, 상기 컨트롤러는, 치료 시간의 함수로서 상기 제1 광 및 제2 광의 발광 스펙트럼 파라미터들 중 하나 이상을 조절하도록 배열된다. 일부 실시예들에서, 상기 컨트롤러는, 예를 들면 발광 시간 동안에 상기 제1 광원의 방출된 출력 밀도를 감소시킴으로써, 그리고 선택적으로 상기 발광 시간 동안에 상기 제2 광원의 방출된 출력 밀도를 증가시킴으로써, 치료 시간의 함수로서 상기 제1 광 및 제2 광의 발광 스펙트럼 파라미터들 중 하나 이상을 조절하여, 활성화된 발색단들에 의해 방출된 형광 또는 인광을 모방하도록 배열될 수 있다. 상기 컨트롤러는 발광 밀도, 파장, 시간 경과에 따른 발광 밀도 및 파장의 변동, 및 치료 거리를 포함하는 사전 설정된 치료 파라미터들을 갖는 치료 모드들을 포함할 수 있다. 예를 들면, 치료 모드들은 가벼운 여드름, 심한 여드름, 깊은 주름들, 가벼운 주름들, 및 상이한 등급들의 궤양들을 치료하기 위한 상이한 치료 파라미터들을 포함할 수 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 컨트롤러는 임의의 광원들의 펄싱(pulsing)을 제어할 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제1 광원 및 제2 광원(존재시)은 비간섭성(non-coherent) 광을 방출할 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 광원 및 제2 광원(존재시)은 발광 다이오드(Light Emitting Diode; LED)들을 포함할 수 있다. 상기 LED들은 어레이로서 배열될 수 있다. 상기 어레이는 적어도 하나의 패널 상에 지지될 수 있다. 상기 제1 광원으로부터의 LED들은 한 세트의 LED들로서 간주될 수 있고, 상기 제2 광원(존재시)으로부터의 LED들은 다른 세트의 LED들로서 간주될 수 있고, LED들의 각 세트는 적어도 하나의 LED를 포함한다. 각 세트로부터의 LED들은 상호 분산된(interdispersed) 방식 또는 나란한(side-by-side) 방식으로 배열될 수 있다. 예를 들면, 상기 제2 광원들은 어레이 내의 제1 광원들 사이에서 상호 분산될 수 있다. 상기 제1 광원 및 제2 광원(존재시), 및/또는 상기 개별 LED들은 서로로부터 약 4 내지 7mm, 약 4 내지 10mm, 약 10 내지 15mm, 또는 15 내지 20mm 이격될 수 있다. 그들은 실질적으로 균등하게 이격될 수 있다.
상기 LED들의 어레이는 적어도 하나의 패널 상에 배열될 수 있다. 상기 장치는 복수의 연결 가능한 패널을 포함할 수 있다. 상기 패널(들)은 평평하거나 만곡된 발광 표면을 제시할 수도 있다. 상기 연결 가능한 패널들은 서로에 대하여 이동 가능할 수 있거나 고정식 구성일 수 있다. 상기 장치는 상기 패널들과 전자 통신하여 패널들로부터의 발광을 개별적으로 제어하는 패널 컨트롤러를 포함할 수 있다.
또한 상기 장치는 상기 LED들의 어레이에 결합된 히트싱크, 상기 LED들의 어레이를 냉각하기 위한 팬, 열이 대류, 단열, 또는 임의의 다른 수단에 의해 제거될 수 있게 하기 위해서 광원들을 지지하는 장치의 하우징 내의 벤트(vent)를 포함할 수 있는 냉각 시스템을 포함할 수 있다.
또한 상기 장치는 상기 제1 광 및/또는 상기 제2 광(존재시)을 필터링하기 위한 하나 이상의 필터를 포함할 수 있다. 상기 장치는 상기 제1 및/또는 상기 제2 광(존재시)을 제어하기 위한 콜리메이터(collimator)를 더 포함할 수 있다. 상기 장치는 치료 거리를 표시하도록 장치의 방출 면으로부터 연장되는 스페이싱 프로브(spacing probe)를 더 포함할 수 있다.
다른 실시예에서, 상기 광원(들) 또는 LED들의 어레이는 드레싱 또는 마스크 용도, 또는 드레싱 또는 마스크의 형성부 용도로, 직물 같은 연성 기재 상에 제공될 수 있다.
상기 장치의 발광 표면은 광섬유, 또는 하나 이상의 광원에 연결 가능한 광섬유들의 다발과 같은 하나 이상의 도파관을 포함할 수 있다. 상기 광섬유들은 적절한 광 반송 및 장력 특성들을 갖는 임의의 물질, 예를 들면 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate; PMMA)로 이루어질 수 있다. 상기 광섬유(들)는 슬리브(sleeve)로 피복될 수 있다. 따라서, 상기 광섬유들은 치료 광을 상기 장치로부터 대상의 내부 공동 또는 상기 대상 위의 도달하기 어려운 치료 영역에 전달하는 데에 사용된다.
상기 측면들의 소정의 실시예들에서, 상기 광원은 보라색 범위(400-450nm), 청색 범위(450-490nm), 전자기 스펙트럼의 녹색 범위(약 490 내지 약 560nm), 황색 범위(560-590nm), 오렌지색 범위(590-635), 또는 전자기 스펙트럼의 적색 범위(약 635 내지 약 750nm) 이내의 광을 방출할 수 있다. 상술한 출력 밀도, 플루엔스 및/또는 대역폭들과 함께 이들의 방출된 파장들은 생체광자성 조성물(biophotonic composition)들을 광활성화시킬 수 있고 그리고/또는 그들 자체의 치료 효과를 가질 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제1 광원에 의해 방출된 피크 파장은 약 440-470nm이고, 약 20nm±2nm의 대역폭, 및 약 100-150mW/cm2, 60-135mW/cm2, 약 135mW/cm2 사이의 5cm에서의 총 출력 밀도를 갖는다. 다른 실시예들에서, 상기 제1 광원에 의해 방출된 피크 파장은 약 440-480nm이고, 5cm에서 또는 10cm에서 약 75mW/cm2 미만, 약 25 내지 약 70mW/cm2, 약 30 내지 약 65mW/cm2, 약 55 내지 약 65mW/cm2의 총 출력 밀도를 갖는다. 다른 실시예에서, 상기 장치는 약 410nm 내지 약 420nm의 피크 파장, 약 13-15nm의 대역폭 및 0.01 내지 5mW/cm2 범위 이내의 총 출력 밀도를 갖는 광을 방출할 수 있는 제2 광원을 포함한다.
약 440-470nm의 피크를 갖는 보라색/청색 범위 이내의 파장을 갖는 적어도 하나의 광원은 에오신 Y, 로즈 벵갈(Rose Bengal), 플록신 B(Phloxine B), 및 에리트로신(Erythrosine)과 같은 황색/오렌지색/적색 염료를 여기시키는 것을 발견하였으며, 이들 각각은 보라색/청색 광과 함께, 혈류의 조절 및 콜라겐 조절과 같은 치료 영역에서의 유리한 효과들을 갖는 것이 발명자들에 의해 관찰되었다.
소정의 실시예들에서, 광활성 가능 조성물 내의 발색단에 대한 활성화 광일 뿐만 아니라, 광원으로부터 방출된 광은, 조직에 적용될 때에 그 자체의 치료 이점들, 예를 들면 항균 특성들, 치료 부위에서의 혈류의 조절, 콜라겐 조절, 또는 임의의 다른 미용 또는 의료 치료 효과들을 또한 가질 수 있다. 따라서, 또한 조성물이 적용되는 조직들을 조사할 수 있기 위해 활성화 광이 조성물을 통과할 수 있게 하는 광활성 가능 조성물을 갖는 장치를 사용하는 것이 유리할 수 있다. 상기 광활성 가능 조성물은 실질적으로 투명 또는 반투명할 수 있거나, 그렇지 않으면 광학적으로 전도성일 수 있다.
상기 제1, 제2 및/또는 제3 광원은, 단일의 광원 또는 복수의 광원으로부터 상이한 시간에서 그리고/또는 상이한 시간 기간 동안에, 동시에 상이한/상호 보완적인 특성을 갖는 광을 방출할 수 있다. 이와 같이, 상기 장치는, 예를 들면 먼저 상처 위의 감염을 치료하고, 이어서 염증을 감소시키고, 콜라겐을 조절하여 상처 치유 동안에 흉터를 최소화하는, 상이한 단계들의 상태 치료에 사용될 수 있다. 다른 예는 대상의 피부 위의 상태(예를 들면, 프로피오니박테리움 여드름들(propionibacterium acnes(p. acnes)))에 책임이 있다고 생각되는 세균을 처음에 사멸하고, 이어서 혈관화(vascularization) 및 콜라겐 조절에 의해 여드름 병변(acne lesions) 및 흉터를 치유함으로써 여드름을 치료하는 것이다.
임의의 상기 실시예들의 장치는 램프용 헤드, 또는 상기 램프 그 자체일 수 있다. 상기 장치가 헤드인 경우에는, 다른 램프 헤드들과 호환가능할 수 있고 동일한 램프 기저부 구조체 상에 끼워 맞추도록 구성될 수 있다. 상이한 헤드들 상의 광원들은 파장, 펄스 지속기간, 총 방출된 에너지와 같은 상이한 파라미터들을 방출하도록 구성될 수 있거나, 또는 상기 상이한 헤드들은 상이한 신체 부분들의 치료에 적절한 상이한 크기 및 형상을 가질 수 있다.
또 다른 측면으로부터, 어레이로 배열된 복수의 발광 다이오드(LED)를 갖는 램프 헤드를 포함하는 램프가 제공되며, 상기 어레이는 적어도 2 세트의 LED들을 포함하고, 여기서 각 세트는 적어도 하나의 LED; 및 상기 램프 헤드에 전기적으로 연결되고 상기 LED들을 제어하고 작동시키기 위한 회로를 갖는 램프 컨트롤러를 포함하고; 여기서 제1 세트의 LED들은 약 400nm 내지 약 500nm의 피크 파장을 갖는 비간섭성 광을 생성할 수 있고; 여기서 제2 세트의 LED들은 약 400nm 내지 약 430nm의 피크 파장을 갖는 비간섭성 광을 생성할 수 있고; 여기서 상기 램프 헤드에 의해 생성될 수 있는 광의 출력 밀도는 약 10 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2이다.
또 다른 측면으로부터, 어레이로 배열된 복수의 발광 다이오드(LED)를 갖는 램프 헤드가 제공되며, 상기 어레이는 적어도 제1 세트 및 제2 세트의 LED들을 포함하고, 여기서 각각의 상기 제1 및 제2 세트는 적어도 하나의 LED; 및 상기 램프 헤드에 전기적으로 연결되고 LED들을 제어하고 작동시키기 위한 회로를 갖는 램프 컨트롤러를 포함하고; 여기서 상기 제1 세트의 LED들은 약 430nm 내지 약 500nm의 피크 파장을 갖는 제1 간섭 광을 생성할 수 있고; 여기서 상기 제2 세트의 LED들은 약 400nm 내지 약 430nm의 피크 파장을 갖는 제2 간섭 광을 생성할 수 있고; 여기서 상기 램프 헤드에 의해 생성될 수 있거나 치료 표면에 의해 수신될 수 있는 광의 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2이다.
다른 측면으로부터, 어레이로 배열된 복수의 발광 다이오드(LED)를 갖는 램프 헤드를 포함하는 램프가 제공되며, 상기 어레이는 적어도 제1 세트 및 제2 세트의 LED들을 포함하고, 여기서 각각의 상기 제1 및 제2 세트는 적어도 하나의 LED; 및 상기 램프 헤드에 전기적으로 연결되고 LED들을 제어하고 작동시키기 위한 회로를 갖는 램프 컨트롤러를 포함하고; 여기서 상기 제1 세트의 LED들은 약 400nm 내지 약 500nm의 피크 파장을 갖는 제1 간섭 광을 생성할 수 있고; 여기서 상기 제2 세트의 LED들은 약 500nm 내지 약 760nm의 피크 파장을 갖는 제2 간섭광을 생성할 수 있고; 여기서 상기 램프 헤드에 의해 생성될 수 있는 광의 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2이다.
상기 제1 세트의 LED들은 약 19nm±5nm의 대역폭, 또는 약 13 내지 약 26nm의 대역폭을 갖는 광을 생성할 수 있다. 상기 제2 세트의 LED들은 약 13nm 내지 약 20nm의 대역폭을 갖는 광을 생성할 수 있다. 상기 램프는 제3 세트의 LED들을 더 포함할 수 있고, 여기서 상기 제3 세트의 LED는 약 500nm 내지 750nm, 또는 약 630 내지 약 720nm의 피크 파장을 갖는 비간섭성 광을 생성할 수 있다.
상기 램프는 상기 제1 및/또는 제2 광의 하나 이상의 파라미터를 가변시키도록 배열된 컨트롤러를 더 포함할 수 있고, 상기 하나 이상의 파라미터는 출력 밀도, 대역폭, 파장, 플루엔스 및 방출 시간으로부터 선택된다.
소정의 실시예들에서, 상기 제1 및 제2 세트의 LED들은 어레이에서 서로로부터 약 4 내지 7mm, 약 4 내지 10mm, 약 10 내지 15mm, 또는 약 15 내지 20mm 이격되어 있다. 제1 및 제2 세트 LED들의 LED들은 서로 간에 상호 분산될 수 있다. 제1 및 제2 세트 LED들의 LED들은 상기 어레이에서 실질적으로 균등하게 이격될 수 있다. 상기 램프 헤드는 상기 LED들을 수용하는 복수의 패널을 포함할 수 있고, 상기 패널들은 서로에 대하여 이동 가능하다. 바람직하게는, 상기 램프 컨트롤러는 각각의 패널들의 LED를 개별적으로 제어할 수 있다.
상기 램프는 상기 제1 및/또는 제2 광을 필터링하기 위한 하나 이상의 필터를 더 포함할 수 있다. 상기 램프는 또한 상기 제1 및/또는 제2 광을 콜리메이팅하기 위한 콜리메이터를 더 포함할 수 있다. 상기 램프는 또한 치료 거리를 표시하도록 램프의 방출 면으로부터 연장되는 스페이싱 프로브를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 벤트가 냉각을 위해 상기 램프 헤드 내에 포함될 수 있다. 다른 냉각 시스템들도 또한 가능하다.
상기 램프는 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일 치료 동안에 플루엔스를 치료 표면에 방출하거나 전달하도록 배열될 수 있다. 램프는 또한 약 10 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 150mW/cm2, 약 20 내지 약 130mW/cm2, 약 55 내지 약 130mW/cm2, 약 90 내지 약 140mW/cm2, 약 100 내지 약 140mW/cm2, 약 110 내지 약 135mW/cm2, 약 10 내지 약 85mW/cm2, 약 30 내지 약 70mW/cm2, 약 40 내지 약 70mW/cm2, 약 55 내지 약 65mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 85mW/cm2의 출력 밀도를 방출하거나 전달하도록 배열될 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 장치 또는 램프는 휴대용이다. 휠 또는 핸들(들)이 제공될 수 있다. 상기 장치 또는 램프는 침대와 같은 가구에, 또는 벽에 램프를 장착하기 위한 장착부(mount)를 포함할 수 있다. 또한 상기 장치 또는 램프는 다리(leg), 발(foot), 휠 또는 기저부와 같은 바닥 위에 장치 또는 램프를 지지하는 지지부를 포함할 수 있다. 상기 지지부는 가구 아래로 미끄러질 수 있고 장치 또는 램프가 넘어지는 것을 방지할 수 있는 무거운 기저부 또는 긴 발을 포함할 수 있다. 상기 장착부 또는 지지부는 용이한 보관 및 휴대를 위해서 접이식(foldable)일 수 있다. 휴대용 버전의 장치 또는 램프는 배터리로 작동될 수 있거나 재충전 가능하며, 케이블이 있거나 없이 제공될 수 있다. 배터리와 같은 전원은 램프가 부착될 수 있는 충전 기저부 내부에, 또는 램프의 본체 내부에 포함될 수 있다.
이동식 휴대용 램프의 일 실시예에서, 상기 램프 헤드는 예를 들면 약 5cm 내지 약 10cm의 직경의 원형 방출 표면을 갖는다. 이 경우, 빔 직경보다 큰 직경의 치료 영역을 치료하기 위해서, 넓은 발산각(divergence angle)을 갖는 LED들이 사용되며, 상기 휴대용 램프는 방출 표면의 직경보다 큰 직경에 걸쳐 광을 공급하기 위해서 치료 영역으로부터 충분한 거리만큼 유지된다. 일 실시예에서, 광 밀도는 약 75 내지 약 120mW/cm2이다. 상기 파장은 420-490nm로 약 460-470nm 부근에서 피크를 갖는다.
다른 측면으로부터, 활성화된 발색단에 의해 방출된 형광 또는 인광에 실질적으로 대응하는 광을 방출할 수 있는 적어도 하나의 광원을 갖는 장치가 제공된다. 일 실시예에서, 상기 광원은 약 15nm 초과, 약 20nm 초과, 약 25nm 초과, 약 30nm 초과의 대역폭을 갖는 광을 방출하도록 배열된다. 상기 대역폭은 예를 들면 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm일 수 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 장치는 이 장치로부터의 발광 기간에 걸쳐서 방출된 광원, 예를 들면 시간 경과에 따라 방출된 출력 밀도의 감소를 조절하도록 배열된다. 소정의 실시예들에서, 적어도 하나의 광원은 약 400nm 내지 약 750nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm 사이의 피크 파장을 갖는 광을 방출하도록 배열된다. 일 실시예에서, 상기 광원은 0.005 내지 약 10mW/cm2, 약 0.01 내지 0.1mW/cm2, 약 0.01 내지 약 2mW/cm2, 약 0.01 내지 약 3mW/cm2, 약 0.5 내지 약 5mW/cm2 사이의 총 출력 밀도를 갖는 광을 생성할 수 있다.
상기 출력 밀도는 임의의 비율로, 예를 들면 분당 약 0.002mW/cm2의 조사 내지 분당 약 0.1mW/cm2의 조사, 분당 약 0.005mW/cm2, 분당 약 0.006mW/cm2, 또는 분당 약 0.012mW/cm2로 감소될 수 있다.
다른 측면으로부터, 광활성 가능 조성물을 갖는 상기에서 정의된 장치 또는 램프의 용도가 제공된다. 소정의 실시예들에서, 상기 광활성 가능 조성물은 광 활성제를 포함한다. 상기 광 활성제는 염료와 같은 형광제일 수 있다. 상기 광 활성제는 전자기 스펙트럼의 녹색, 황색, 오렌지색 또는 적색 부분 중 적어도 하나에서 광을 흡수하거나 방출할 수 있다. 하나의 구현예에서, 상기 광 활성제는 조직에 적용될 수 있거나 조직 근처에 배치될 수 있고 약 400 내지 약 700nm, 약 420-565nm, 약 420-540nm, 약 470-535nm, 또는 약 450nm 내지 약 700nm 범위에서 보통의 피크 여기 파장(물 또는 알코올에서)을 갖는 광학 매질 내부에 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 광활성 가능 조성물은 에오신 Y, 플루오레세인, 로즈 벵갈, 에리트로신, 플록신 B, 클로로필 a(chlorophyll a), 클로로필 b, 클로로필린(chlorophyllin) 중 어느 하나 이상을 포함한다.
또 다른 측면으로부터, 조직의 미용 용도 또는 미용 치료(예를 들면, 피부 재생, 피부 컨디셔닝, 피부 유지, 흉터 감소 또는 제거, 타투 제거, 피부톤 균일화, 모공 크기 감소, 조직 광채(tissue luminosity) 증가, 흉터 감소 또는 축소), 의료 용도(예를 들면, 상처 치유), 염증 치료 용도, 박테리아, 바이러스 또는 곰팡이 감염 치료 용도, 여드름, 주사비(rosacea), 건선(psoriasis), 습진(eczema), 피부염(dermatitis) 등의 피부 상태 치료 용도 및/또는 진단 용도를 위해 상술한 장치 또는 램프의 용도가 제공된다. 상기 장치 및/또는 램프는 가정, 병원, 클리닉, 야외 등을 비롯한 임의의 세팅에서 사용될 수 있다.
상기 용도들의 소정의 실시예들에서, 상기 장치는 방출 표면으로서의 표시 스크린, 카메라 플래시 또는 플래시라이트를 갖는 휴대용 컴퓨팅 장치, 스마트폰, 또는 이동 전화기와 같은 모바일 기기, 예를 들면 아이폰®, 아이패드®, 삼성 갤럭시®일 수 있다. 이들 실시예에서, 본원에서 설명되는 바와 같이, 광활성 가능 조성물을 활성화시킬 수 있는 발광 스펙트럼을 갖는 광을 방출하는 '응용에들'이 본 출원의 범주 이내에서 사용되고 포함될 수 있다. 동일한 방식으로, 데스크톱 컴퓨터 또는 텔레비전의 표시 스크린은 광활성 가능 조성물을 활성화시킬 수 있는 발광 스펙트럼을 갖는 광을 방출하기에 적합할 수 있다. 이와 같이, 사용자는 단순히 모바일 기기의 발광 표면 또는 표시 스크린 근처에 치료 영역을 위치시킴으로써 광 및 광활성 가능 조성물의 치료 효과로부터 이익을 얻을 수 있다. 텔레비전, 컴퓨터 모니터 또는 모바일 기기는 약 15분, 30분, 45분, 1시간, 2시간, 3시간, 4시간, 5시간, 6시간, 7시간 또는 8시간의 조사 후에 광활성 가능 조성물을 광활성화시킬 수 있고 그리고/또는, 광활성 가능 조성물 내의 광 활성제의 흡수 스펙트럼과 중첩하는 발광 스펙트럼을 갖는 광을 방출할 수 있는 광원을 가질 수 있다.
본 발명의 장치들 및 램프들은 모바일 기기, 텔레비전, 컴퓨터, 욕조, 샤워, 침대, 태닝 베드, 의류 물품, 담요, 커버 등과 같은 물체들로 구현될 수 있다.
또 다른 측면으로부터, 조직을 치료하기 위한 미용 방법 또는 의료 방법이 제공되고, 상기 방법은, (본 발명의 장치 및 램프에 의해 방출된 광에 관하여) 상기에서 정의된 발광 스펙트럼을 갖는 광으로 치료 영역을 조사하는 단계를 포함한다. 예를 들면, 상기 치료 영역은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내부에서 상이한 발광 스펙트럼을 갖는 2개의 광으로 조사될 수 있다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법이 제공되며, 상기 방법은, 광활성 가능 조성물을 활성화시킬 수 있는 제1 피크 파장을 갖는 제1 광으로 상기 조직 위의 치료 영역 위 또는 근처에 적용된 광활성 가능 조성물 또는 상기 조직 위의 치료 영역을 조사하는 단계; 및 상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광으로 상기 조직 위의 동일하거나 상이한 광활성 가능 조성물 또는 상기 치료 영역을 조사하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 제1 및 제2 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법이 제공되며, 상기 방법은, 제1 피크 파장을 갖는 제1 광으로 상기 조직을 조사하는 단계; 및 상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광으로 상기 조직을 조사하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 제1 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법이 제공되며, 상기 방법은, 약 430nm 내지 약 500nm의 피크 파장을 갖는 제1 광원으로부터의 비간섭성 광으로 조직을 조사하는 단계; 및 약 400nm 내지 약 430nm의 피크 파장을 갖는 제2 광원으로부터의 비간섭성 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함하고; 여기서 상기 조직에는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2의 광의 총 출력 밀도가 조사된다.
소정의 실시예들에서, 상기 방법은 조직을 조사하기 전에 상기 조직 위의 처리 영역 위 또는 근처에 광활성 가능 조성물을 적용하는 단계를 더 포함한다.
상기 제1 피크 파장은 약 430 내지 약 500nm, 약 440 내지 약 500nm, 약 450 내지 약 500nm, 약 430 내지 약 475nm, 약 440nm 내지 약 460nm, 약 445nm 내지 약 455nm, 약 435nm 내지 약 470nm, 약 440nm, 약 450nm, 약 460nm 또는 약 470nm일 수 있다. 상기 제2 광은 약 400nm 내지 약 500nm, 약 400nm 내지 약 475nm, 약 400nm 내지 약 450nm, 약 400nm 내지 약 430nm, 또는 약 410nm 내지 약 420nm, 약 415nm의 피크 파장을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 피크 파장은 약 410nm 내지 약 430nm일 수 있고, 상기 제2 피크 파장은 약 440nm 내지 약 470nm일 수 있다.
대안적으로, 상기 제2 피크 파장은 약 480 내지 약 760nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 650nm, 약 480nm 내지 약 620nm, 약 500 내지 약 700nm, 약 520nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm, 약 540nm 내지 약 580nm, 약 500nm 내지 약 570nm, 약 570nm 내지 약 590nm, 약 590nm 내지 약 610nm, 약 610nm 내지 약 760nm, 또는 전자기 스펙트럼의 적외선 범위 이내일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제1 광 및 제2 광 중 적어도 하나는 약 20nm 이하 또는 약 19nm±5nm의 대역폭을 갖는다. 상기 제2 광은 약 15nm와 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm 사이의 대역폭을 가질 수 있다. 상기 제2 광은 상기 제1 광의 대역폭보다 넓은 대역폭을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 광의 대역폭은 약 15nm 내지 약 25nm일 수 있고, 상기 제2 광의 대역폭은 약 20nm 내지 약 100nm일 수 있다.
상기 제1 광 및 제2 광에 의해 방출되고 그리고/또는 치료 영역에 의해 수신된 평균 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 200mW/cm2, 약 10 내지 약 150mW/cm2, 약 20 내지 약 130mW/cm2, 약 55 내지 약 130mW/cm2, 약 90 내지 약 140mW/cm2, 약 100 내지 약 140mW/cm2, 또는 약 110 내지 약 135mW/cm2일 수 있다.
상기 제1 광 및 제2 광에 의해 방출되고 그리고/또는 치료 영역에 의해 수신된 평균 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 85mW/cm2, 약 10 내지 약 75mW/cm2, 약 30 내지 약 70mW/cm2, 약 40mW/cm2 내지 약 70mW/cm2, 약 55 내지 약 65mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 85mW/cm2일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광의 평균 출력 밀도보다 낮다. 상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광 출력 밀도의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%일 수 있다.
단일의 치료 동안, 치료 영역에 의해 수신된 광의 플루엔스는 약 4J/cm2 초과, 약 10J/cm2 초과, 약 15J/cm2 초과, 약 30J/cm2 초과, 약 50J/cm2 초과, 약 60J/cm2 까지일 수 있다. 단일의 치료 동안, 치료 영역에 의해 수신된 광의 플루엔스는 약 4J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 50J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 30J/cm2, 약 20J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 약 25J/cm2, 또는 약 10J/cm2 내지 약 20J/cm2일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 단일의 치료는 약 90분, 80분, 70분, 60분, 50분, 40분, 30분까지 동안, 약 1 내지 약 30분 동안, 약 1 내지 약 25분 동안, 약 1 내지 약 20분 동안, 약 1 내지 약 19분 동안, 약 1 내지 약 18분 동안, 약 1 내지 약 17분 동안, 약 1 내지 약 16분 동안, 약 1 내지 약 15분 동안, 약 1 내지 약 14분 동안, 약 1 내지 약 13분 동안, 약 1 내지 약 12분 동안, 약 1 내지 약 11분 동안, 약 1 내지 약 10분 동안, 약 1 내지 약 9분 동안, 약 1 내지 약 8분 동안, 약 1 내지 약 7분 동안, 약 1 내지 약 6분 동안, 약 1 내지 약 5분 동안, 약 1 내지 약 4분 동안, 또는 약 1 내지 약 3분 동안 조직 또는 광활성 가능 조성물을 조사하는 단계를 포함한다. 상기 광은 연속적으로 또는 펄스형으로 적용될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광원으로부터 치료 영역에 전달된 플루엔스는 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 치료 영역에 전달된 플루엔스보다 낮다. 상기 제2 광원으로부터 치료 영역에 전달된 플루엔스는 치료당, 제1 광에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 치료 영역에 전달된 플루엔스의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 큰 대역폭을 가질 수 있고, 여기서 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 평균 출력 밀도를 갖는다. 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 플루엔스를 가질 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 제2 광은 상기 제1 광의 피크 파장에서의 최대 출력보다 낮은 피크 파장에서의 최대 출력을 갖는다.
상기 방법은 치료 시간 동안에 상기 제1 광 및/또는 제2 광의 발광 스펙트럼을 가변시키는 단계를 더 포함할 수 있고, 여기서 각각의 상기 제1 광 및 제2 광의 발광 스펙트럼은 대역폭, 피크 파장, 출력 밀도, 발광 시간 및 플루엔스로부터 선택된 하나 이상의 발광 스펙트럼 파라미터를 포함한다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 75mW/cm2, 내지 약 55mW/cm2 내지 약 150 mW/cm2의 출력 밀도를 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 19nm±약 5nm의 대역폭을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료용 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계, 및 상기 조직의 조사 동안에 제1 광의 피크 파장, 대역폭, 출력 밀도 또는 플루엔스 중 적어도 하나를 조절하는 단계를 포함한다.
다른 측면으로부터, 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 또는 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일 치료 동안의 플루엔스를 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
상기 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장은 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계, 및 상기 조직의 조사 동안에 제1 광의 피크 파장, 대역폭, 출력 밀도 또는 플루엔스 중 적어도 하나를 조절하는 단계를 포함한다. 하나의 구현예에서, 상기 방법은 상기 광 조사 시간 동안에 적어도 하나의 광원으로부터 방출된 광의 최대 출력 밀도를 감소 또는 증가시키는 단계를 포함한다. 상이한 광원들로부터의 광들은 상이한 시간에서 또는 동시에 상이하게 조절될 수 있다. 하나의 광원으로부터의 광의 조절은 총 조사 시간의 일부분에만 걸쳐서, 또는 전체 조사 시간에 걸쳐서 생길 수 있음이 이해될 것이다. 소정의 실시예들에서, 출력 밀도는 예를 들면 분당 약 0.002mW/cm2의 조사 내지 분당 약 0.1mW/cm2의 조사, 분당 약 0.005mW/cm2, 분당 약 0.006mW/cm2, 또는 분당 약 0.012mW/cm2의 비율로 증가 또는 감소될 수 있다.
상기 치료 영역은 상이한 특성들을 갖는 광을 갖는 단일의 광원 또는 복수의 광원으로부터 동시에 또는 상이한 시간에 조사될 수 있다. 상기 조사 광은 상기 장치 및 램프의 측면들에 관하여 상술한 임의의 특성들을 가질 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 조사 광은, 예를 들면 약 490nm 내지 약 720nm의 범위 이내의 피크 파장을 갖는, 전자기 스펙트럼의 하나 이상의 녹색, 황색, 오렌지색, 적색 및 적외선 부분 이내의 형광 또는 인광 광이다. 일 실시예에서, 상기 조사 광은 약 400nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm 사이의 파장을 갖는다. 다른 실시예에서, 상기 조사 광은 0.005 내지 약 10mW/cm2, 약 0.5 내지 약 5mW/cm2 사이의 출력 밀도를 갖는다. 소정의 실시예들에서, 상기 조사 광은 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는다. 상기 조사 광의 광원은 상기 제1 광원, 또는 임의의 다른 광원에 의해 활성화되어 형광을 방출하는 형광색소와 같은 광 활성제일 수 있다. 대안적으로, 상기 조사 광은 형광 또는 인광 스펙트럼을 모방하는 LED, 레이저 등과 같은 전자적으로 생성된 광으로부터의 것일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 조사 광의 평균 또는 총 출력 밀도는 약 0.01mW/cm2 내지 약 200mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 150mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 135mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 75mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 60mW/cm2, 약 0.02mW/cm2 내지 약 50mW/cm2, 약 0.02mW/cm2 내지 약 30mW/cm2, 약 0.02mW/cm2 내지 약 15mW/cm2이다.
상술한 조사 광의 실시예들의 조합이 또한 가능하다는 사실이 당업자에게 명백할 것이다. 예를 들면, 동일 또는 상이한 시간 동안 상이한 발광 스펙트럼을 갖는 광으로 치료 영역을 조사한다. 일 실시예에서, 치료 영역은 약 440-470nm의 피크 파장, 약 20nm±2nm의 대역폭, 및 약 60-150mW/cm2 사이의 총 또는 평균 출력 밀도를 갖는 제1 광원으로부터의 광; 및 약 540nm 내지 약 640nm의 피크 파장, 0.005 내지 약 10mW/cm2, 약 0.5 내지 약 5mW/cm2 사이의 출력 밀도, 및 약 20nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는 제2 광원으로부터의 광으로 조사된다.
다른 측면으로부터, 조직들을 치료하기 위한 시스템이 제공되며, 상기 시스템은, 치료 영역을 조사하기 위한 적어도 하나의 광원을 포함하되, 상기 적어도 하나의 광원은 다음과 같은 특성들 중 하나 이상을 가질 수 있는 발광 스펙트럼을 갖는 조사 광을 방출할 수 있다: (i) 상기 방출된 광으로 조사된 치료 영역에 대한 항균 효과를 생성하는 것, (ii) 상기 치료 영역 내의 혈류를 조절하는 것, 및/또는 (iii) 치료 특성들을 갖는 광을 방출할 수 있거나 치료 영역 상에, 내에 또는 옆에 생체치료 반응종을 방출할 수 있는 발색단을 포함해서 광활성 가능 조성물 내의 광 활성제가 세포들에 의해 내면화되지 않고 그리고/또는 세포들을 민감하게 하지 않는 광활성 가능 조성물을 활성화시키는 것. 상기 치료 영역은 상이한 특성들을 갖는 광으로, 단일의 광원 또는 복수의 광원으로부터 동시에 또는 상이한 시간에 조사될 수 있다. 상기 조사 광은 상기 장치, 램프 및/또는 시스템의 측면들에 관하여 상술한 임의의 특성들을 가질 수 있다.
다른 측면으로부터, 조직들을 치료하기 위한 시스템이 제공되며, 상기 시스템은, 상술한 바와 같이, 램프 또는 장치, 및 광 활성제를 포함하는 광활성 가능 조성물을 포함한다.
소정의 실시예들에서, 상기 적어도 하나의 광원으로부터 방출된 광은 약 400nm 내지 약 720nm, 400nm 내지 약 550nm, 약 450nm 내지 약 500nm, 약 440 내지 약 475nm, 약 450, 약 446, 약 464nm 또는 약 470nm의 피크 파장을 갖는다. 이 경우에서의 광원은 적어도 하나의 LED 또는 LED들의 임의의 어레이일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 조사 광은, 예를 들면 약 520nm 내지 약 720nm 범위 이내의 피크 파장을 갖는, 전자기 스펙트럼의 하나 이상의 녹색, 황색, 오렌지색, 적색 및 적외선 부분 이내의 형광 또는 인광 광이다. 이 경우, 상기 시스템은 광원으로서 광 활성제를 포함한다. 일 실시예에서, 상기 조사 광은 약 400nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm 사이의 파장을 갖는다. 다른 실시예에서, 상기 조사 광은 0.005 내지 약 10mW/cm2, 약 0.5 내지 약 5mW/cm2 사이의 출력 밀도를 갖는다. 소정의 실시예들에서, 상기 조사 광은 약 20nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는다. 상기 조사 광의 광원은 상기 제1 광원, 또는 임의의 다른 광원에 의해 활성화되어 형광을 방출하는 형광색소와 같은 광 활성제일 수 있다. 대안적으로, 상기 광원은 형광 또는 인광 스펙트럼을 실질적으로 모방하는 LED들의 어레이로부터의 것일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 광원은 약 400nm 내지 약 500nm, 선택적으로 약 400nm 내지 약 475nm, 선택적으로 약 400nm 내지 약 450nm, 선택적으로 약 410nm 내지 약 420nm, 또는 소정의 실시예에서 약 415nm 내지 약 418nm의 피크 파장을 갖는 광을 생성할 수 있다. 이 경우에서의 광원은 적어도 하나의 LED 또는 LED들의 임의의 어레이일 수 있다.
상술한 광원들의 하나 이상의 실시예의 조합이 본 발명의 시스템 내부에서 또한 가능함이 당업자에게는 명백할 것이다. 예를 들면, 상기 시스템은 약 450nm의 피크 파장, 약 20nm 이하의 대역폭, 및 약 130-150mW/cm2 사이의 평균 또는 총 출력 밀도를 갖는 제1 광원; 및 형광 또는 인광을 방출할 수 있는 광활성 가능 조성물인 제2 광원을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 상기 형광은 약 540nm 내지 약 640nm의 피크 파장, 0.005 내지 약 10mW/cm2, 약 0.5 내지 약 5mW/cm2 사이의 출력 밀도, 및 약 20nm 내지 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는다.
소정의 실시예들에서, 상기 시스템은, 예를 들면 치료 시간에 걸쳐서 상기 조사 광의 방출된 평균 또는 최대 출력 밀도를 조절함으로써 또는 대역폭 또는 파장 범위를 조절함으로써, 치료 기간 동안에 조사 광을 조절하기 위한 컨트롤러를 포함한다. 하나의 구현예에서, 상기 방법은 상기 광 조사 시간 동안에 적어도 하나의 광원으로부터 방출된 광의 최대 출력 강도 또는 평균 출력을 감소 또는 증가시키는 단계를 포함한다. 상이한 광원들로부터의 광들은 상이한 시간에 또는 동시에 상이하게 조절될 수 있다. 임의의 방출된 광들의 출력 밀도는 임의의 비율로, 예를 들면 분당 약 0.002mW/cm2의 조사 내지 분당 약 0.1mW/cm2의 조사, 분당 약 0.005mW/cm2, 분당 약 0.006mW/cm2, 또는 분당 약 0.012mW/cm2로 감소될 수 있다. 상기 출력 밀도 조절은 총 조사 시간의 일부분에만 걸쳐서, 또는 전체 조사 시간에 걸쳐서 생길 수 있다.
다른 측면으로부터, 조직을 치료하는 미용 또는 의료 방법이 제공되며, 상기 방법은 상기 총 조사 시간의 적어도 일부분 동안에 출력 밀도가 감소하는 제1 광으로 조직의 치료 부위를 조사하는 단계를 포함한다. 선택적으로, 상기 방법은 상기 총 조사 시간의 적어도 일부분 동안에 출력 밀도가 증가, 동일하게 유지 또는 감소하는 제2 광으로 조직의 동일한 치료 부위를 조사하는 단계를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 상기 제1 광은 다중색 대역폭을 갖고 녹색, 황색, 오렌지색 또는 적색 광 중 하나 이상을 포함한다. 일 실시예에서, 상기 제2 광은 단일 색 이내의 파장 범위를 갖고 청색 또는 보라색 광을 포함한다. 소정의 실시예들에서, 상기 제1 광 및/또는 제2 광의 파장 및/또는 대역폭은 또한 상기 총 조사 시간의 적어도 일부분 동안에 변한다. 다른 실시예들에서, 상기 제1 광은 치료 부위 위 또는 근처의 조성물 내의 적어도 하나의 형광색소에 의해 생성된다. 상기 방법은, 상기 조성물의 두께를 가변시킴으로써, 상기 치료 부위로부터 광원의 거리를 가변시킴으로써, 상기 조성물 내의 형광색소의 농도를 가변시킴으로써, 또는 할로겐화물과 같은 형광을 향상시키도록 형광색소에 화학종을 첨가함으로써, 상기 제1 광 또는 제2 광의 출력 밀도를 조절하는 또 다른 단계(들)를 더 포함할 수 있다.
또 다른 측면으로부터, 조직을 치료하기 위한 시스템이 제공되며, 상기 시스템은 총 조사 시간의 적어도 일부분 동안에 출력 밀도가 감소할 수 있는 제1 광을 생성할 수 있는 제1 광원을 포함한다. 선택적으로, 상기 시스템은 상기 총 조사 시간의 적어도 일부분 동안에 출력 밀도가 증가, 동일하게 유지 또는 감소하는 제2 광원을 생성할 수 있는 제2 광원을 포함한다. 일 실시예에서, 상기 제1 광원은 다중색 대역폭을 갖고 녹색, 황색, 오렌지색 또는 적색 광 중 하나 이상을 포함한다. 일 실시예에서, 상기 제2 광은 하나의 색 이내의 파장 범위를 갖고 청색 또는 보라색 광을 포함한다. 소정의 실시예들에서, 상기 제1 광 및/또는 제2 광의 파장 및/또는 대역폭은 또한 상기 총 조사 시간의 적어도 일부분 동안에 변한다. 다른 실시예들에서, 상기 제1 광원은 치료 부위 위 또는 근처의 조성물 내에 적어도 하나의 형광색소를 포함한다.
이론에 구속되지 않고, 상술한 개별 및 조합된 파장, 대역폭, 방출된 출력 밀도 및 강도는 그들이 조사하는 조직 위의 소정의 상호 보완적인 치료 효과들을 갖는다고 생각된다. 본 발명자들은 약 410-490nm의 피크 파장을 갖는 광이 치료 부위에서 혈류 조절 특성을 갖고 소염제 및 콜라겐 조절 특성을 가질 수 있음을 관찰하였다. 약 410-490nm의 피크 파장 및 15-25nm의 대역폭을 갖는 청색 광이 조직 위 또는 근처의 광 매질 내의 녹색, 황색 및 오렌지색 염료를 광활성화하여 그들이 형광을 발하게 할 수 있음이 발명자들에 의해 또한 발견되었다. 스토크스 이동에 따르면, 상기 방출된 형광 광은 활성화 광보다 긴 피크 파장을 갖고, 이러한 긴 파장은 보다 깊은 조직 침투를 갖는다. 상기 방출된 형광 광은 그의 잠재적인 치료 효과를 향상시킨다고 생각되는 다중색 대역폭의 것일 수 있다. 따라서, 상기 방출된 형광 광은 이것이 조사하고, 상기 광원으로부터 방출된 광의 치료 효과에 상호 보완적인 조직들에 대한 치료 효과도 또한 갖는다고 여겨진다. 산소의 존재 시, 상기 광활성화는 또한 치료 효과를 갖는 수준으로 활성 산소종(reactive oxygen species)을 생성할 수 있다.
정의
본 명세서 및 첨부된 청구항들에서 사용되는 바와 같이, 부정관사("a", "an") 및 정관사("the")의 단수형은 문맥에서 달리 명확히 기재하지 않는 한 복수형의 대상물들을 포함한다.
본원에서 사용된 바와 같이, 주어진 값 또는 범위의 문맥에서 "약"이란 용어는 상기 주어진 값 또는 범위의 20% 이내, 바람직하게는 10% 이내, 및 더욱 바람직하게는 5% 이내의 값 또는 범위를 지칭한다.
본원에서 사용되는 경우 "및/또는"은 기타 특징부 또는 구성성분의 유무에 따라 2개의 명시된 특징부 또는 구성성분 각각의 구체적인 개시내용으로서 받아들여져야 한다는 것을 본원에서 주목하는 것이 편리하다. 예를 들어 "A 및/또는 B"는 각각이 본원에서 개별적으로 개시된 것과 같이 (i) A, (ii) B 및 (iii) A 및 B 각각의 구체적인 개시내용으로서 받아들여져야 한다.
"항균 효과"란, 세균, 곰팡이 및 원생동물(protozoan)과 같은 미생물들이 사멸될 수 있거나 억제될 수 있음을 의미한다. 이는 살균 효과 또는 세균 발육 억제(bacteriostatic) 효과를 포함할 수 있다.
"발광 스펙트럼"이란, 통상적으로 파장, 출력 밀도, 및 대역폭의 관점에서 방출된 광의 특성들을 정의하는 전자기 방사의 주파수들의 스펙트럼을 의미한다.
"발광 다이오드"란, 유기, 고분자, 고체 상태 및 RGB를 포함하는 임의의 발광 다이오드를 의미한다.
"광원"이란, 원하는 특징들을 갖는 광을 출력할 수 있는 임의의 광원, 예를 들면 발광 다이오드; 백열등; 전자 자극(electron stimulated); 전자발광 와이어 및 시트 같은 전자발광 물질, 전계 유도 고분자 전자발광 물질; 형광 램프, 음극 램프, 네온 및 아르곤 램프, 플라스마 램프, 크세논 플래시 램프 같은 가스 방전 전구; 메탈핼라이드(metal-halide) 램프, 다이오드 레이저, 섬유 레이저, 아크 방전 또는 다른 광원과 같은 고 강도 방전 램프를 의미한다. 상기 광원은 스펙트럼 농축되거나 스펙트럼 확산(즉, 광대역)될 수 있는 펄스 또는 연속 광 파를 방출할 수 있다. 발광할 수 있는 광 활성제 또는 광 활성제들이 또한 본원에서 광원으로 고려된다. 광원은 유사한 특성들, 예를 들면 유사한 파장들을 갖는 하나 이상의 광 생성 유닛의 세트를 또한 포함하는 것으로 이해될 수 있다.
"피크"를 갖는 발광 스펙트럼이란, 광의 발광 스펙트럼이 좁은 대역폭 스펙트럼 또는 준단색(quasi-monochromatic) 스펙트럼인 것을 의미한다.
"피크 파장"이란, 최대 출력 또는 강도를 가지며, 통상적으로 nm로 측정되는 파장(들)을 의미한다.
"출력", "강도", "출력 밀도", "평균 출력"이란, 표면의 단위당 방사 출력으로서 정의되고, 통상적으로 W/cm2 또는mW/cm2로 측정되는 광의 조사를 의미한다. 방사 출력은 시간의 단위당 출력이고 와트(W)로 측정된다.
"피크 파장에서의 최대 출력"이란, 광의 최대 피크에서의 최대 출력값(들)을 의미하고, 통상적으로 mW/cm2/nm로 측정된다.
광의 "총 피크 출력", "총 출력" 또는 "평균 출력 밀도"란, 그 피크의 모든 파장에서의 피크의 출력을 의미하고, 통상적으로 mW/cm2로 측정된다.
"대역폭"이란, 최대 강도 반치(half the maximum intensity), 또는 FWHM(full width at half maximum)에서의 스펙트럼 대역폭을 의미한다.
"플루엔스(fluence)"란, 시간으로 곱한 단위 면적당 방사 출력("출력" 또는 "강도" 또는 "출력 밀도"라고도 알려짐)을 의미한다. 플루엔스는 통상적으로 J/cm2로 측정된다. 플루엔스는 선량(dosage)이라고도 알려져 있다.
"광활성 가능 조성물(photoactivatable composition)"이란, 발색단을 비롯한 임의의 매질을 의미하며, 발색단 분자들은, 예를 들면 형광, 여기 상태로의 발색단 분자들의 전이 및 이어지는 다른 분자들과의 상호작용으로서, 흡수 광의 방출로 이어지는 매질 내부의 방사 에너지를 흡수할 수 있다. 여기 상태는 본원에서 교환 가능하게 '광여기' 또는 '광활성'이라 지칭된다.
용어 "발색단(chromophore)", "광활성화제(photoactivating agent)", "광 활성제(photoactive agent)" 및 "포토액티베이터(photoactivator)"는 본원에서 상호교환 가능하게 사용된다. 화학 분자 또는 화합물을 의미하는 발색단은, 광 조사에 의한 접촉 시, 광을 흡수할 수 있다.
상기 개시된 장치, 램프, 용도 및 방법의 또 다른 응용 가능한 분야들은 이하에서 제공되는 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 상세한 설명 및 특정 예들은, 특정 실시예들을 표시하지만, 예시 목적으로만 의도된 것일 뿐 추구될 수 있는 본 발명 또는 임의의 청구항들의 범주를 한정하려는 것이 아니다.
본 발명의 내용 중에 포함되어 있다.
상기 및 다른 목적들 및 이점들은 첨부된 도면들을 참조하여, 그의 다음과 같은 설명으로부터 보다 완전히 인정될 것이다. 이러한 묘사된 실시예들은 예시로서 이해되는 것이고 어떠한 방식으로도 한정하는 것이 아니다.
도 1은 본 발명의 소정의 실시예들에 따른, 제1 광원 및 제2 광원을 포함하는 발광 장치의 개략도를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 소정의 실시예들에 따른, 도 1의 장치의 광 생성원들의 어레이의 예시적인 물리적 배열을 나타낸다.
도 3은 광원으로부터 5cm에서 측정했을 때, 본 발명의 소정의 실시예들에 따른 도 1의 장치에 의해 방출된 광의 스펙트럼이다.
도 4는 본 발명의 소정의 실시예들에 따른 광 생성원들의 어레이들의 대안의 예시적인 물리적 배열들(도 4a 내지 도 4d)을 나타낸다.
도 5는 광원으로부터 5cm에서 측정했을 때, 본 발명의 소정의 실시예들에 따른, 도 1의 장치의 다른 구현예에 의해 방출된 광의 스펙트럼이다.
도 6은 본 발명의 소정의 실시예들에 따른 임의의 기능들을 수행하기 위한 컴퓨팅 장치의 예시적인 블록도를 나타낸다.
도 7a는 본 발명의 실시예들에 따른, 혈관형성을 평가하도록 세포들에 적용되는 광 치료 시간에 걸친 출력 강도를 나타내는 발광 스펙트럼이고(예 1), 도 7b는 도 7a의 발광 스펙트럼의 확대부이다.
도 8은 본 발명의 소정의 실시예들에 따른 장치 또는 시스템에 의해 광활성화된 조성물들에 의해 방출된 형광 광의 광원으로부터 발광 시간에 걸쳐 그리고 상이한 거리들에서의 평균 출력 밀도의 감소를 도시한다(예 3).
도 9는 본 발명의 소정의 실시예들에 따른 장치 또는 시스템에 의해 광활성 가능 조성물을 통해 전송된 광의 광원으로부터 발광 시간에 걸쳐 그리고 상이한 거리들에서의 평균 출력 밀도의 증가를 도시한다(예 3).
도 10a는 본 발명의 실시예들에 따른, 콜라겐 형성을 측정하도록 세포들에 적용되는 광선 치료들 중 하나의 시간 경과에 따른 출력 강도를 나타내는 발광 스펙트럼이고(예 3), 도 10b는 도 10a의 발광 스펙트럼의 확대부이다.
도 11a는 본 발명의 소정의 실시예들에 따른 장치로부터의 광의 세균 성장에 대한 효과를 나타내는 그래프이다(예 4).
도 11b는 본 발명의 소정의 실시예들에 따른 장치로부터의 광의 세균 성장에 대한 효과를 나타내는 그래프이다(예 4).
본원에서 설명되는 장치, 램프, 시스템 및 방법의 이해를 제공하기 위해서, 이제 소정의 예시적인 실시예들이 설명될 것이다. 명료화 및 예시를 위해서, 실시예들은 발광 다이오드(LED) 광원들에 대하여 주로 설명된다. 그러나, 적절하게 적응 및 변형될 수 있는 다른 광원들이 본원에서 설명되는 장치, 램프, 시스템 및 방법에서 또한 사용될 수 있음이 당 기술분야에서의 숙련자에게 이해될 것이다. 이러한 다른 추가 및 변형은 그의 범주로부터 벗어나지 않을 것이다.
본 발명의 제1 광범위한 측면에 따르면, 발광용 장치(100)가 제공되며, 장치(100)는, 제1 광원 및 제2 광원을 포함하는 램프이다. 구체적으로, 일 실시예에서 한 세트의 제1 LED들(102)인 제1 광원은 광원으로 조사된 치료 부위 또는 영역에 대한 치료 효과를 유도할 수 있는 발광 스펙트럼을 갖는다. 상기 치료 효과는 예를 들면 처음에 치료 부위에서 혈류를 증가시키고, 이어서 염증을 감소시키고 콜라겐을 생성하는 것과 같은 항균 효과 및/또는 자극 효과를 포함할 수 있다. 일 실시예에서 한 세트의 제2 LED들(104)인 제2 광원은 치료 부위 위에 적용되거나 그 근처에 위치하는 광활성 가능 조성물을 활성화시킬 수 있거나, 국소적 혈류 조절 또는 콜라겐 리모델링에 대한 효과를 가질 수 있는 발광 스펙트럼을 갖는다.
광활성 가능 조성물은 일반적으로 치료 파장들 및 치료 강도들에서의 형광 광의 방출에 의해서든지, 그런 다음 조성물들 또는 치료 부위 내의 또 다른 광 활성제들을 활성화시켜서 치료 효과를 가질 수 있는 에너지의 방출에 의해서든지, 그리고/또는 그런 다음 예를 들면 다른 분자들과 반응해서 활성 산소종을 생성할 수 있는 여기된 단일항 상태(excited singlet state)로의 그 분자들의 여기에 의해서, 활성화되었을 때 치료 영역에 대한 치료 효과를 제공할 수 있는 광 활성제를 포함한다. 낮은 수준의 활성 산소종들은 조직들에 대한 치료 효과를 가질 수 있다고 여겨진다. 광활성 가능 조성물들의 예들은 2006년 11월 9일자로 출원된 미국 특허출원 공개 제2007/0128132호, 2009년 11월 6일자로 출원된 PCT 공개번호 WO/2010/051636, 2009년 11월 6일자로 출원된 PCT 공개번호 WO/2010/051641, 및 2010년 7월 19일자로 출원된 PCT 출원번호 PCT/CA/2010/001134에 설명되어 있고, 이들의 내용이 참조로 본원에서 포함된다.
대안적으로, 양쪽 광원들은 하나 이상의 광 활성제를 포함하는 광활성 가능 조성물을 활성화시키기에 적절한 발광 스펙트럼을 갖는 광을 방출할 수 있다. 이와 같이, 넓은 대역폭 활성화 에너지가 광 활성제를 보다 효율적으로 광활성화할 수 있는 광 활성제에 제공될 수 있다. 상이한 흡수 프로파일을 갖는 하나보다 많은 광 활성제가 있는 경우, 적어도 2개의 광원을 제공하면 이들 광 활성제들 양쪽을 광활성화시킬 수 있다. 또한, 일부 광 활성제는 그들의 흡수 스펙트럼 내에 복수의 피크 파장을 가질 수 있다. 따라서, 2개 이상의 광원의 제공은 그의 광활성화 특성들로부터 이득을 얻기 위해서 그의 전체 흡수 스펙트럼에 걸쳐서 광 활성제를 완전히 활성화시킬 수 있다.
제1 및 제 2 세트의 LED들(102, 104)은 치료 부위에 상호 보완적인 광선요법 치료를 제공할 수 있어, 제1 세트의 LED들(102)의 치료 효과가, 예를 들면 광활성 가능 치료 조성물의 활성화를 통해 제2 세트의 LED들(104)의 치료 효과에 의해 증가되고 상호 보완된다. 일부 실시예에서, 이러한 광활성 가능 조성물에 의해 방출된 형광은 약 75mW/cm2 미만, 약 50mW/cm2 미만, 약 10mW/cm2 미만, 약 5mW/cm2 미만, 약 2.5mW/cm2 미만, 또는 약 2mW/cm2 미만의 피부 표면에서의 출력 밀도를 갖는다. 최대 출력 밀도는 약 0.02 mW/cm2 내지 약 75 mW/cm2, 약 0.02 mW/cm2 내지 약 50 mW/cm2, 약 0.02 mW/cm2 내지 약 10 mW/cm2, 약 0.02 mW/cm2 내지 약 5 mW/cm2, 또는 약 0.02 mW/cm2 내지 약 10 mW/cm2일 수 있다.
이제 도 1에 도시된 장치(100)의 실시예를 참조하면, 제1 및 제2 세트의 LED들(102, 104)은 기저부(110)를 갖는 본체(108)에 조절식으로 부착되는 장치의 헤드(106) 내에 수용된다. 잠금(locking) 기구(들)가 헤드, 기저부 또는 본체의 위치를 잠그기 위해 제공될 수 있다. 상기 LED들은 어레이로서 하우징 내부의 패널(도시하지 않음) 상에 장착되고 헤드(106)의 방출 표면(112)으로부터 광을 방출한다. 장치(100)는 사용자가 장치를 원하는 위치로 자유롭게 이동시킬 수 있고 장치의 위치를 잠글 수 있도록 기저부(도시하지 않음)에서 잠금 가능한 휠들을 포함할 수 있다.
선택적으로, 사용된 LED들의 출력 및 치료 시간에 따라서, 가열을 최소화하기 위해서, 헤드(100)는 제1 및/또는 제2 세트의 LED들을 냉각하기 위한 하나 이상의 냉각 시스템(도시하지 않음), 예를 들면 히트 싱크, 하나 이상의 팬(도시하지 않음), 램프 하우징 내의 벤트, 액체 냉각 장치 등을 포함할 수 있다. 상기 냉각 시스템은 열을 흡수하기 위한 차폐부를 또한 포함할 수 있다.
상기 장치는 또한 상이한 LED 세트들 뿐만 아니라 한 세트 내의 개별 LED들에 대한 전원 인가/전원 차단 같은 방출된 광의 다양한 파라미터들을 제어하기 위해 LED들과 전자 통신하는 컨트롤러(114)를 포함한다. 상기 컨트롤러에 의해 제어될 수 있는 다른 파라미터들은, 각 LED로부터의 광의 최대 발광 출력 밀도, 대역폭, 발광의 피크 파장, 발광의 지속기간, 발광 시간의 함수로서의 발광 출력 밀도의 변동, 발광 시간의 함수로서의 파장의 변동이다. 이는 장치 조작자가 요구되는 치료법에 따라 각 대상의 광선요법 치료를 맞출 수 있게 할 수 있다.
헤드(106)는 장치(100)의 나머지 부분으로부터 제거 가능하고 교체 가능하다. 소정의 실시예들에서, 상기 램프는 헤드(106)가 편의상 임의의 각도로 임의의 방향을 향할 수 있게 하고, 해당 위치에 잠가질 수 있게 하는 회전 장치(들)(도시하지 않음)를 포함한다. 소정의 실시예들에서, 램프 헤드(106)는 이동식 휴대용 램프로서 사용되도록 장치의 나머지 부분으로부터 제거 가능하다. 이 경우, 상기 램프 헤드는 상기 컨트롤러의 하나 이상의 구성요소 및 선택적으로 전원을 포함할 수 있다. 소정의 실시예들에서, 치료 부위로부터 발광 면(112)을 이격시키기 위해 램프 헤드(106) 상으로 연장되는 스페이싱 프로브(도시하지 않음)가 제공된다. 이는 거리의 함수인 적절한 광 선량(light dose)의 전달을 보장할 수 있다. 상기 스페이싱 프로브는 적절한 길이를 갖는 자(ruler)와 같은 측정 장치일 수 있거나, 음(sound) 또는 광을 사용하여 거리를 검출하기 위한 센서 시스템을 포함할 수 있다.
소정의 실시예들에서는, 장치의 본체(108)에 제거 가능하게 부착되는, 트레이, 바구니 또는 네트와 같은 작업 표면이 또한 제공된다.
제1 및 제2 세트의 LED들(102, 104)의 어레이의 예시적인 물리 공간 배열이 도 2에 도시되어 있다. 상기 어레이는 제1 세트 내에 6개의 LED를 갖고 제2 세트 내에 34개의 LED를 갖는 8행 및 5열로 배열된 40개의 LED 를 포함한다. 다른 어레이 구성을 갖는 임의의 다른 수의 LED들도 또한 가능함이 당업자에게 이해될 것이다. 다른 실시예에서, 상기 LED 어레이는 패널 상에 탑재되는, 적어도 총 36개의 LED, 적어도 총 40개의 LED, 적어도 총 46개의 LED 또는 적어도 총 184개의 LED를 포함한다. 일 실시예에서, 상기 LED 어레이는 8행 및 23열로 배열된 184개의 LED를 포함한다. 또 다른 실시예에서, 상기 LED 어레이는 6행X 6열을 포함하는 36개의 LED를 포함한다. 상기 LED 어레이가 임의의 구성으로 배열될 수 있고 직사각형, 원형 또는 임의의 다른 형상과 같은 임의의 크기 또는 형상일 수 있음이 당업자에게 이해될 것이다. 상기 패널 표면은 LED들 중의 일부가 다른 것들보다 치료 부위에 가깝도록 점차로 변할 수 있다. 예를 들면, 패널은 제1 표면 상의 제2 세트의 LED들, 및 제1 표면의 주변부 주위에 장착되고 제1 표면으로부터 이격되는 제1 세트의 LED를 포함하는 직사각형 패널일 수 있다.
도 2의 실시예에서, 상기 제1 및 제2 세트의 LED들은 서로 다른 피크 발광 파장을 갖는다. 상기 제1 세트의 LED들은 프로피오니박테리움 여드름(p. acnes)과 같은 소정의 박테리아에 대한 항균 효과를 가질 수 있는, 약 410nm 내지 약 420nm의 피크 파장 및 약 13-15nm의 대역폭을 갖고, 제2 세트의 LED들은 약 440nm 내지 470nm의 피크 파장 및 약 20nm±2nm의 대역폭을 갖는다. 도 3은 출력 밀도 스펙트럼 대 파장을 측정하도록 SP-100 분광복사기(spectroradiometer)(SP-100, ORB Optronix)를 사용하여 측정했을 때, 5cm에서 측정한 장치의 이 실시예의 예시적인 발광 스펙트럼이다. 통상적으로, 장치의 이 실시예에 의해 5cm의 거리에서 얻어진 총 발광 출력 밀도는 5분에 걸쳐서 방출된 약 20 내지 50J/cm2의 총 에너지를 갖는 약 60내지 150mW/cm2 이다.
다른 실시예(도시하지 않음)에서, 상기 LED들은 피부, 모발, 손톱 또는 다른 조직들에 적용될 수 있는 드레싱, 마스크, 또는 임의의 다른 물질의 일부를 형성할 수 있거나, 또는 이들과 함께 포함될 수 있는 연성 기재 상에 장착된다.
장치 헤드(106)는 LED들이 위에 장착되는 복수의 연결 가능한 패널(도시하지 않음)을 포함할 수 있다. 함께 연결 가능한 패널들은 2, 3, 4, 5, 6 또는 7과 같은 임의의 수일 수 있다. 패널들은 그들의 발광 표면들(112)이 서로에 대하여 정렬되도록 함께 연결될 수 있다. 이와 같이, 얼굴, 팔, 또는 다리와 같은 대상의 만곡된 또는 불규칙한 치료 부위의 상이한 측면들에 광을 조사하는 것이 가능할 수 있다. 상기 패널의 크기 및 형상은 치료할 영역에 따라 달라질 것이다. 예를 들면, 얼굴 치료의 경우, 단일의 만곡된 패널, 또는 곡률을 갖는 다수의 결합 패널이 사용될 수 있다. 상기 패널들은 서로 이동 가능하게 연결될 수 있다. 잠금 기구가 원하는 위치에 패널들을 고정하기 위해 제공될 수 있다.
상기 LED 어레이는 또한 상기 제1 및/또는 제2 세트의 LED들과 다른 피크 파장 또는 출력 밀도 또는 대역폭으로 광을 방출하는 제3 세트의 LED들을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 제3 세트의 LED들은 가시성 전자기 스펙트럼의 적색 부분(예를 들면, 630nm와 700nm 사이) 내에서 발광한다. 다른 실시예들에서, 상기 제3 세트의 LED들은 가시성 전자기 스펙트럼의 오렌지색 부분(예를 들면, 635nm와 590nm 사이) 내에서 발광한다. 또 다른 실시예들에서, 상기 제3 세트의 LED들은 가시성 스펙트럼의 황색 부분(예를 들면, 590nm와 560nm 사이) 내에서 발광한다. 다른 실시예들에서, 상기 제3 세트의 광 생성원들은 전자기 스펙트럼의 적외선 부분(예를 들면, 800nm와 1000nm 사이) 내에서 발광한다. 대안적인 실시예들은 상술한 것과 다른 파장들 및 출력 밀도들의 광을 방출하고, 다른 치료 효과들을 갖는 LED들을 포함한다.
상기 제1 및 제2 세트의 LED들(102, 104)의 또 다른 예시적인 어레이들이 도 4에 도시되어 있다. 상기 제2 세트의 LED들의 LED들은 제1 세트의 LED들의 LED들 사이에 상호 분산되어 있다. 각각의 상기 제1 및 제2 세트의 LED들의 LED들 내의 상이한 수 및 비율이 가능하다. 또한 상이한 LED들에 의해 방출될 수 있는 출력 밀도가 가변될 수 있기 때문에, 그 비율은 상기 제1 및 제2 세트의 LED들의 출력 밀도 비율의 측면에서 정의될 수 있다. 상기 수 또는 출력 밀도 비율은 장치(100)를 사용하여 원하는 치료 효과에 따라 맞춰질 수 있다. 예를 들면, 감염된 피부 상태의 경우, 상기 제1 LED 세트에 의해 방출될 수 있는 상대 출력이 증가될 수 있는 반면에, 미용 치료의 경우 상기 제2 LED 세트에 의해 방출될 수 있는 상대 출력 밀도가 증가될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 LED들은 균등하게 이격되어 있다. 상기 패널 상의 LED들 간의 거리는 서로로부터 약 4 내지 7mm, 약 4 내지 10mm, 약 10 내지 15mm, 또는 약 15 내지 20mm와 같은 임의의 거리일 수 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 LED들은 일 방향으로 약 10-12mm 및 다른 방향으로 약 13-18mm 만큼 이격되어 있다. 상기 LED들은 보다 높은 출력이 장치(100)로부터 요구되는 경우에 보다 가깝게 배열될 수 있다. 소정의 다른 실시예들에서, 상기 LED들은 균등하게 이격되어 있지 않다.
선택적으로, 장치(100)는 제거 가능한 마스크(커버)를 포함해서 헤드(100)의 발광 영역의 크기를 감소시킬 수 있다. 상기 장치는 마스크를 사용하거나 사용하지 않고 노출면에 걸쳐서 실질적으로 균등한 분포로 광을 전달하도록 구성될 수 있다. 상기 헤드는 U자 형상, 원형 형상, 또는 램프 헤드를 위해 임의의 다른 적절한 형상을 가질 수 있다. 장치(100)는 또한 적정 파장, 대역폭 또는 출력 밀도의 광을 방출하기 위해서 발광 표면(112)으로부터 방출된 광을 필터링하는 필터들을 포함할 수 있다. 상기 필터들은 UV 필터, 콜리메이터, 반사기 또는 장치(100)로부터의 광을 성형하기 위한 임의의 다른 수단을 포함할 수 있다.
도 5는 상기 제2 세트의 LED들이 450 내지 약 480nm의 보다 높은 피크 파장을 갖고, 상기 헤드가 얼굴, 팔, 다리와 같은 윤곽이 있는 신체의 일부분 또는 전체 주위를 래핑(wrap)하도록 위치하는 3개의 패널을 포함하는 상술한 실시예와는 다른, 도 3과 동일한 방식으로 측정된, 장치의 다른 실시예의 발광 스펙트럼이다. 이 실시예에서, 치료 거리에서의 평균 출력 밀도는 약 75mW/cm2 미만, 또는 약 30 내지 150mW/cm2이다.
상기 장치의 다른 실시예에서, 상기 제1 광원으로부터의 광의 피크 파장은 약 430 내지 약 500nm, 약 440 내지 약 500nm, 약 450 내지 약 500nm, 약 430 내지 약 475nm, 약 435nm 내지 약 470nm, 약 440nm 내지 약 460nm, 약 445nm 내지 약 455nm, 약 440nm, 약 450nm, 약 460nm 또는 약 470nm이다.
상기 제2 광원으로부터의 광의 피크 파장은 약 400nm 내지 약 500nm, 약 400nm 내지 약 475nm, 약 400nm 내지 약 450nm, 약 400nm 내지 약 430nm, 약 410nm 내지 약 420nm, 또는 약 415nm일 수 있다.
대안적으로, 상기 제2 피크 파장은 약 480 내지 약 760nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 650nm, 약 480nm 내지 약 620nm, 약 500 내지 약 700nm, 약 520nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm, 약 540nm 내지 약 580nm, 약 500nm 내지 약 570nm, 약 570nm 내지 약 590nm, 약 590nm 내지 약 610nm, 또는 약 610nm 내지 약 760nm일 수 있다. 소정의 실시예들에서, 상기 제2 광원으로부터의 광은 상기 제1 광원으로부터의 광보다 넓은 대역폭, 및 보다 낮은 평균 출력을 갖는다.
장치의 다른 실시예는, 상이한 피크 파장들을 갖는 광을 방출하는 제1 광원 및 제2 광원들 대신에 하나 이상의 필터에 의해 요구되는 스펙트럼으로 변형되는 백색 광과 같은 광을 방출하는 적어도 하나의 광원이 제공된다는 점에서 상기한 것들과 다르다. 상기 적어도 하나의 광원은 백색 광을 방출하는 LED들의 어레이 또는 다른 광원들이다. 상기 필터들은 원하지 않는 광을 제거하여 유익한 광만이 치료 부위를 통과할 수 있게 하는, 무대 조명에 사용되는 것들과 같은 착색된 투명 시트들을 포함한다. 다른 실시예에서, 상기 필터는 형광제를 포함할 수 있다.
상기 장치의 발광 표면은 광섬유, 또는 하나 이상의 광원에 연결 가능한 광섬유의 다발과 같은 하나 이상의 도파관을 포함할 수 있다. 상기 광섬유들은 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)와 같은, 적절한 광 반송 및 인장 특성들을 갖는 임의의 물질로 이루어질 수 있다. 상기 광섬유(들)는 슬리브로 피복될 수 있다. 따라서, 상기 광섬유들은 치료 광을 상기 장치로부터 대상의 내부 공동 또는 상기 대상 위의 도달하기 어려운 치료 영역에 전달하는 데에 사용된다.
이제 컨트롤러로서의 컨트롤러(114)를 참조하면, 상이한 치료 파라미터들이 치료 모드로서 사전 설정될 수 있거나, 장치 조작자에 의해 맞춤화될 수 있다. 예를 들면, 컨트롤러(114)는 사용자가 적색, 황색, 청색 및/또는 적외선 파장, 또는 그들의 조합과 같은 특정 피크 파장들을 선택해서 피부 상태 또는 상처와 같은 다양한 상태를 치료 가능하게 할 수 있다. 추가 광 색 타입들이 또한 사용될 수 있다. 이 경우, 상기 장치는 원하는 피크 파장 당 상이한 세트들의 LED들을 포함한다. 컨트롤러(114)는 사용자가 치료 모드들, 타이머들, 및 다른 기능 특징들을 선택 및 제어하는 것을 지원하는 디스플레이(도시하지 않음)를 선택적으로 포함할 수 있다.
컨트롤러(114)는 동시에 또는 별도의 시간에 피크 파장들과 같은 상이한 발광 스펙트럼을 갖는, 상이한 세트들의 LED들, 또는 다른 광원들을 조사하게 할 수 있다. 상이한 광원들을 동시에 활성화하여 상이한 광원들에 의한 조사 효과들이 동시에 일어나게 하는 것이 바람직할 수 있다. 또한, 2개 이상의 발광 스펙트럼의 조합은 한번에 어느 발광 스펙트럼의 단일 적용보다 더 효율적인 처리가 될 수 있는 시너지 효과를 도입할 수 있다. 대안적으로, 한번에 하나의 발광 스펙트럼을 활성화시키는 것이 바람직할 수 있다. 단일의 발광 스펙트럼 이내에서 광선치료 램프를 작동시키는 것은, 다수의 발광 스펙트럼에서 동시에 작동하는 것으로부터 시너지 효과가 없는 것으로 예상되는 경우, 또는 이렇게 하면 해로운 영향을 갖는다고 결정되는 경우에 바람직할 수 있다. 또한, 2개 이상의 발광 스펙트럼 간을 교대하는 것이 바람직할 수 있다. 예를 들면, 약한 여드름 치료에서, 2개의 파장 범위(예를 들면, 633nm(적색)와 415nm(보라색)) 사이를 교대하면 하나의 파장 범위만을 사용하는 것보다 더 효율적인 치료가 될 수 있다.
치료 모드들은 도 6에서의 장치에 관하여 설명되는 바와 같이 기계 판독 가능 형태의 메모리 장치 또는 데이터베이스 상에 저장될 수 있다. 예를 들면, 사용자는 치료할 피부 상태 또는 의료 상태의 리스트 중 하나 이상을 선택할 수 있다. 메모리 장치 또는 데이터베이스 상에 저장된 치료 모드들에 따라, 램프 컨트롤러는 특정 광선요법 치료와 대응하는 광선치료 램프의 작동 파라미터들에 접근할 수 있다. 이러한 파라미터들은 치료 시간, 평균 출력, 치료 거리, 피크 파장 및 대역폭에 의해 정의된 선량을 포함할 수 있고, 장치의 제조사 또는 프로그래머에 의해 입력될 수 있거나, 대안적으로 사용자가 맞춤화된 광선요법 치료 프로그램에 따른 조정 작동 파라미터를 제공할 수 있다.
상기 장치에서의 회로는 작동 모드를 선택하는 스위치를 포함할 수 있다. 상기 스위치는, 하드웨어, 소프트웨어, 펌웨어, 또는 그들의 조합으로 구현될 수 있다. 상이한 작동 모드들은 파장 범위, 대역폭, 피크 파장, 또는 임의의 다른 광원 파라미터와 같은 생성된 광의 다양한 파라미터를 특정할 수 있다. 또한, 광원은 광의 펄스들을 생성하도록 구성될 수 있다. 광원들의 진동(pulsating) 시, 보다 강한 강도들이 비-진동 광원과 동일한 양의 시간으로 동일한 양의 에너지를 전달하는 데에 사용될 수 있다. 따라서, 진동은 짧은 양의 시간 동안 보다 강한 밀도의 광을 전달하는 것이 바람직할 수 있고 치료 효율을 촉진할 수 있다. 이 경우, 상이한 모드들은 펄스 지속기간, 펄스 주파수, 펄스 강도, 펄스들의 수, 또는 임의의 다른 진동 파라미터와 같은 상이한 진동 파라미터들을 포함할 수 있다. 일부의 경우, 치료 기간 전반에 걸쳐서 일정한 펄스 파라미터들을 유지하여, 동일한 펄스가 반복적으로 전달되는 것이 바람직할 수 있다. 다른 경우들에서, 동일한 기간 이내에 다수의 펄스들에 걸쳐서 시간 경과에 따라 하나 이상의 펄스 파라미터를 가변시키는 것이 바람직할 수 있다. 예를 들면, 각 펄스 마다 펄스 강도가 증가하는 모드로 작동하는 것이 바람직할 수 있다. 다른 예에서, 각 펄스 마다 2개 이상의 파장 범위 간을 교대하는 것이 바람직할 수 있다. 생성된 광(비-진동 또는 진동)의 파라미터들은 임의의 수의 패러다임을 위해 조정될 수 있다.
상이한 작동 모드들은 상이한 시간들에서 LED들과 같은 상이한 세트들의 광원들을 조사하는 것을 또한 포함할 수 있다. 예를 들면, LED 세트들 중 하나만이 한 세트 이내의 LED들의 선택된 수, 또는 모드로 조사될 수 있다. 이는 모든 LED를 조사하는 것이 요구되는 것보다 큰 영역을 치료하도록 치료를 요하는 영역(예를 들면, 상처)이 작은 경우에 바람직할 수 있다. 예로서, 눈 근처의 피부의 영역을 치료하는 것이 바람직할 수 있지만, 눈에 대한 광의 전달은 손상을 야기할 수 있다. 이 경우, 광 생성원들의 서브세트(subset)를 사용하면 치료할 영역의 크기 및 형상을 적절히 제어하기에 유용하다. 다른 예에서, 모드가 펄스들을 사용하는 것을 포함하는 경우, 광 생성원들의 2개의 서브세트가 교대로 펄스 인가 및 차단되어 광 생성원들의 하나의 서브세트만이 임의의 주어진 시간에 조사된다. 이 모드는 위치들의 서브세트에 대한 강한 강도를 갖는 일시적인 광(transient light)을 전달하는 것이 바람직할 때에 선택될 수 있다.
장치 조작자는 작동 모드를 직접 선택할 수 있거나, 장치는 사용자가 하나 이상의 목표를 선택할 수 있게 하는 사용자 인터페이스를 포함할 수 있고, 장치는 사용자의 선택에 기초하여 적절한 모드를 선택하도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 장치 조작자는 여드름을 치료하기 위한 모드를 사용하기를 원하는 것을 사용자 인터페이스에서 표시할 수 있고, 약 14nm의 반치 전폭 대역폭(full width half maximum bandwidth)에서 약 400nm 내지 약 430nm의 제1 발광 최대 피크, 약 440 내지 약 470nm의 제2 최대 피크를 갖는 비-진동 발광, 또는 여드름을 치료하기 위한 임의의 다른 적절한 모드와 같은 적절한 모드가 선택될 수 있다.
상기 장치의 회로에 의해 또는 조작자에 의해 선택된 모드들은 안전하고 임의의 국가에서의 규제 요건을 준수하는 수준들 이내로 적절하게 조정될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 장치는 이 장치 출력이 센서가 검출하는 다양한 파라미터에 관련되도록 컨트롤러 및 피드백 기구와 통신하는 센서를 포함한다. 상기 센서는 광, 열 또는 생체인식(biometric) 센서 등일 수 있다. 예를 들면, 상기 치료 부위 위 또는 근처에 사전 설정된 온도에 도달되거나 그에 근접하게 도달되는 것을 열 센서가 감지하는 경우, 상기 장치는, 예를 들면 (i) 출력 밀도를 낮추고 처리 시간을 연장해서 동일한 선량을 전달하거나, (ii) 상기 선량을 감소시키거나, (iii) 상기 장치의 전원을 차단하거나, (iv) 경보를 활성화하거나, (v) 존재하는 경우, 냉각 시스템을 활성화시켜서 상기 치료 영역 부근 또는 내부를 냉각하거나, 또는 (vi) 존재하는 경우, 상기 냉각 시스템의 출력, 예를 들면 냉각 비율 또는 냉각 정도를 조정함으로써, 이에 따라 발광 파라미터들을 조정할 것이다.
상기 센서는 상기 장치가 조사하는 광활성 가능 조성물로부터 출력된 광을 검출하기 위한 광 센서일 수 있고, 검출된 방출된 광에 응답하여, 상기 장치는, 예를 들면 (i) 상기 광활성 가능 조성물이 소비된(광퇴색된(photobleached)) 때에 램프의 전원을 차단할 수 있고, (ii) 상기 조성물로부터 장치의 거리 또는 상기 조성물 두께의 변동성을 고려하여 상기 조성물을 조사하는 광의 발광 스펙트럼을 조정할 수 있다. 이는 상기 광활성화된 조성물의 방출에 기초하여 램프의 특징들을 적응시키는 자가조율(self-tuning) 기구로 고려될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 센서는 광활성 가능 조성물을 장치와 쌍을 이루게 하는 데에 사용된다. 예를 들면, 상기 램프가 광활성 가능 조성물로부터 특정 광학 신호(optical signature)를 알 수 있을 때에만, 또는 상기 조성물의 용기로부터 특정 바 코드를 알 수 있을 때에 램프가 작동될 수 있다. 이는 또한 안전 특징부로 고려될 수 있다.
도 6은 본원에서 설명되는 임의의 프로세스들을 수행하기 위해 장치에 포함될 수 있는 컴퓨팅 장치의 블록도이다. 이들 시스템들의 구성요소들 각각은 하나 이상의 컴퓨팅 장치(400) 상에서 구현될 수 있다. 소정의 측면들에서, 이들 시스템들의 복수의 구성요소는 하나의 컴퓨팅 장치(400) 내부에 포함될 수 있다. 소정의 구현예들에서, 구성요소 및 저장 장치는 수개의 컴퓨팅 장치(400)에 걸쳐서 구현될 수 있다.
컴퓨팅 장치(400)는 적어도 하나의 통신 인터페이스 유닛, 입력/출력 컨트롤러(410), 시스템 메모리, 및 하나 이상의 데이터 저장 장치를 포함한다. 시스템 메모리는 적어도 하나의 랜덤 액세스 메모리(RAM; 402) 및 적어도 하나의 읽기 전용 메모리(ROM; 404)를 포함한다. 이들 요소 모두는 중앙 처리 유닛(CPU; 406)과 통신하여 컴퓨팅 장치(400)의 작동을 용이하게 한다. 컴퓨팅 장치(400)는 많은 상이한 방식으로 구성될 수 있다. 예를 들면, 컴퓨팅 장치(400)는 통상의 독립형 컴퓨터일 수 있거나, 또는 대안적으로, 컴퓨팅 장치(400)의 기능들이 다수의 컴퓨터 시스템 및 아키텍처에 걸쳐서 분산될 수 있다. 도 4에서, 컴퓨팅 장치(400)는 네트워크 또는 로컬 네트워크를 통해 다른 서버들 또는 시스템들에 연결된다.
컴퓨팅 장치(400)는 분산형 아키텍처로 구성될 수 있고, 여기서 데이터베이스들 및 프로세서들이 개별 유닛 또는 위치에 수용된다. 일부 유닛은 주요 처리 기능들을 수행하고 일반적인 컨트롤러 또는 프로세서 및 시스템 메모리를 최소한으로 수용한다. 분산형 아키텍처 구현예들에서, 이들 유닛들 각각은 통신 인터페이스 유닛(408)을 통해 다른 서버들, 클라이언트 또는 사용자 컴퓨터들 및 다른 관련 장치들과의 주요 통신 링크로서 기능하는 통신 허브 또는 포트(도시하지 않음)에 부착될 수 있다. 상기 통신 허브 또는 포트는 주로 통신 라우터로서 기능하는, 그 자체의 최소 처리 용량을 가질 수 있다. 하기를 포함하지만 이에 한정되지 않는 다양한 통신 프로토콜이 시스템의 일부일 수 있다: 이더넷(Ethernet), SAP, SASTM, ATP, BLUETOOTHTM, GSM 및 TCP/IP.
CPU(406)는 프로세서, 예를 들면, CPU(406)로부터의 작업부하(workload)를 분담하기 위한 하나 이상의 통상적인 마이크로프로세서 및 수치연산 코프로세서(co-processor)와 같은 하나 이상의 보조 코프로세서를 포함한다. CPU(406)는 통신 인터페이스 유닛(408) 및 입력/출력 컨트롤러(410)와 통신하고, 이들을 통해CPU(406)는 다른 서버들, 사용자 단말들, 또는 장치들과 같은 다른 장치들과 통신한다. 통신 인터페이스 유닛(408) 및 입력/출력 컨트롤러(410)는 예를 들면 다른 프로세서, 서버 또는 클라이언트 단말과의 동시 통신을 위한 다수의 통신 채널을 포함할 수 있다.
CPU(406)는 또한 데이터 저장 장치와 통신한다. 데이터 저장 장치는 자기, 광 또는 반도체 메모리의 적절한 조합을 포함할 수 있고, 예를 들면 RAM(402), ROM(404), 플래시 드라이브, 컴팩트 디스크와 같은 광 디스크 또는 하드 디스크 또는 드라이브를 포함할 수 있다. CPU(406) 및 데이터 저장 장치는 각각, 예를 들면 단일 컴퓨터 또는 다른 컴퓨팅 장치 내부에 전체적으로 위치할 수 있거나; 또는 USB 포트, 시리얼 포트 케이블, 동축 케이블, 이더넷 케이블, 전화선, 무선 주파수 송수신기 또는 다른 유사한 무선 또는 유선 매체 또는 상기한 것들의 조합과 같은 통신 매체에 의해 서로 연결될 수 있다. 예를 들면, CPU(406)는 통신 인터페이스 유닛(408)을 통해 데이터 저장 장치에 연결될 수 있다. CPU(406)는 하나 이상의 특정 처리 기능을 수행하도록 구성될 수 있다.
상기 데이터 저장 장치는, 예를 들면 (i) 컴퓨팅 장치(400)용 운영 시스템(412); (ii) 본원에서 개시되는 시스템 및 방법에 따라, 특히 CPU(406)에 관하여 상세히 설명된 프로세스들에 따라 CPU(406)를 유도하기에 적합한 하나 이상의 애플리케이션(414) (예를 들면, 컴퓨터 프로그램 코드 또는 컴퓨터 프로그램 제품); 또는 (iii) 상기 프로그램에 의해 요구되는 정보를 저장하는 데에 이용될 수 있는 정보를 저장하기에 적합한 데이터베이스(들)(416)를 저장할 수 있다.
운영 시스템(412) 및 애플리케이션들(414)은, 예를 들면 압축, 비압축 및 암호화 형태로 저장될 수 있고, 컴퓨터 프로그램 코드를 포함할 수 있다. 상기 프로그램의 지시어들은 데이터 저장 장치와는 다른 컴퓨터 판독 가능 매체로부터, 예를 들면 ROM(404) 또는 RAM(402)으로부터 프로세서의 주 메모리로 판독될 수 있다. 프로그램 내의 지시어들의 시퀀스들의 실행이 CPU(406)가 본원에서 설명되는 프로세스 단계들을 수행할 수 있게 하지만, 고정 배선(hard-wired) 회로가 본 발명의 프로세스들의 구현을 위해 소프트웨어 지시어들 대신에, 또는 그들과 조합하여 사용될 수 있다. 따라서, 설명된 시스템 및 방법은 하드웨어 및 소프트웨어의 임의의 특정 조합에 한정되지 않는다.
적절한 컴퓨터 프로그램이 본원에서 설명되는 바와 같이 작동 모드를 선택하는 것에 관한 하나 이상의 기능을 수행하기 위해 제공될 수 있다. 또한 상기 프로그램은, 프로세서가 입력/출력 컨트롤러(410)를 통해 컴퓨터 주변 기기들(예를 들면, 비디오 디스플레이, 키보드, 컴퓨터 마우스 등)과 접속할 수 있게 하는 운영 시스템(412), 데이터베이스 관리 시스템 및 "기기 드라이버들"과 같은프로그램 요소들을 포함할 수 있다.
본원에서 사용되는 바와 같이 용어 "컴퓨터 판독 가능 매체"는 실행 동안에 컴퓨팅 장치(400)의 프로세서(또는 본원에서 설명되는 장치의 임의의 다른 프로세서)에 대한 지시어들의 제공 시에 제공하거나 관여하는 임의의 비일시적 매체를 지칭한다. 이러한 매체는 비휘발성 매체 및 휘발성 매체를 포함하지만 이에 한정되지 않는 많은 형태를 취할 수 있다. 비휘발성 매체는, 예를 들면 광, 자기, 또는 광자기 디스크, 또는 플래시 메모리와 같은 집적회로 메모리를 포함한다. 휘발성 매체는 통상적으로 주 메모리를 구성하는 다이나믹 랜덤 액세스 메모리(DRAM)를 포함한다. 컴퓨터 판독 가능 매체의 공통의 형태들은, 예를 들면, 플로피 디스크, 플렉시블 디스크, 하드 디스크, 자기 테이프, 임의의 다른 자기 매체, CD-ROM, DVD, 임의의 다른 광 매체, 펀치 카드, 종이 테이프, 홀 패턴들을 갖는 임의의 다른 물리 매체, RAM, PROM, EPROM 또는 EEPROM(전기적으로 삭제할 수 있는 프로그램 가능 읽기 전용 메모리; electronically erasable programmable read-only memory), FLASH-EEPROM, 임의의 다른 메모리 칩 또는 카트리지, 또는 컴퓨터가 판독할 수 있는 임의의 다른 비일시적 매체를 포함한다.
컴퓨터 판독 가능 매체의 다양한 형태는 실행 동안에 CPU(406)(본원에서 설명되는 장치의 임의의 다른 프로세서)에 대한 하나 이상의 지시어의 하나 이상의 시퀀스를 반송하는 것에 관련될 수 있다. 예를 들면, 지시어들은 처음에는 원격 컴퓨터(도시하지 않음)의 자기 디스크 상에 담겨질 수 있다. 원격 컴퓨터는 지시어들을 그의 동적 메모리 내로 로딩할 수 있고 이더넷 연결, 케이블선, 또는 심지어 모뎀을 사용하는 전화선을 통해 지시어들을 송출할 수 있다. 컴퓨팅 장치(400) (예를 들면, 서버)에 로컬인 통신 장치는 각각의 통신선 상의 데이터를 수신할 수 있고 프로세서용 시스템 버스 상에 데이터를 배치할 수 있다. 상기 시스템 버스는 주 메모리로 데이터를 반송하는데, 거기서부터 상기 프로세서가 지시어들을 검색하고 실행한다. 주 메모리로부터 수신된 지시어들은 선택적으로 프로세서에 의한 실행 전 또는 후에 메모리 내에 저장될 수 있다. 또한, 지시어들은 다양한 타입의 정보를 반송하는 무선 통신 또는 데이터 스트림의 예시적인 형태인 전기, 전자기 또는 광 신호들로서 통신 포트를 통해 수신될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 장치는 방출 표면으로서의 표시 스크린, 카메라 플래시 또는 플래시라이트를 갖는 휴대용 컴퓨팅 장치, 스마트폰, 또는 이동 전화기와 같은 모바일 기기, 예를 들면 아이폰®, 아이패드®, 삼성 갤럭시®일 수 있다. 대안적으로, 상기 장치는 데스크톱 컴퓨터의 표시 스크린, 텔레비전, 욕조, 샤워, 침대, 태닝 베드, 담요와 같은 신체 부위 커버, 로브(robe), 장갑과 같은 의류 물품 등으로 구현될 수 있거나 일체화될 수 있다.
방법들
대상의 피부, 상처, 병변 또는 다른 피부 상태를 치료하기 위한 방법들이 또한 개시된다. 대상의 피부에 도달하는 광의 치료 이점들은 치료 시간에 걸친 총 발광 출력 뿐만 아니라 광의 파장 및 방출된 광의 출력 밀도에도 관련될 수 있다.
소정의 측면들에서, 상기 방법은 약 4mW/cm2 내지 약 150mW/cm2의 평균 출력 밀도를 갖는 광으로 대상의 피부를 조사하는 것을 포함한다. 소정의 실시예들에서, 상이한 파장 범위를 갖는 2개 이상의 세트의 LED들을 적용할 때, 하나의 세트의 LED들의 출력 밀도는 다른 세트의 LED들의 임계량 미만으로 제한될 수 있다. 예를 들면, 하나의 세트의 출력 밀도는 다른 세트의 출력 밀도의 10%, 또는 임의의 다른 적절한 임계량 미만으로 제한될 수 있다.
다른 측면들에서, 상기 방법은 광활성 가능 조성물을 활성화시킬 수 있는 제1 피크 파장을 갖는 제1 광으로 조직 위의 치료 영역 위 또는 근처에 적용된 광활성 가능 조성물 또는 상기 조직의 치료 영역을 조사하는 단계; 및 상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광으로 상기 조직 위의 동일 또는 상이한 광활성 가능 조성물 또는 치료 영역을 조사하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 제1 및 제2 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다.
또 다른 측면들에서, 상기 방법은 제1 피크 파장을 갖는 제1 광으로 상기 조직을 조사하는 단계; 및 상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광으로 상기 조직을 조사하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 제1 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있다.
또 다른 측면들에서, 상기 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2의 출력 밀도를 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
또 다른 측면들에서, 상기 방법은 약 400 내지 750nm의 피크 파장, 및 약 19nm±약 5nm의 대역폭을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
또 다른 측면들에서, 상기 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
또 다른 측면들에서, 상기 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계, 및 조직의 조사 동안에 제1 광의 피크 파장, 대역폭, 출력 밀도 또는 플루엔스를 조절하는 단계를 포함한다.
또 다른 측면들에서, 상기 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일의 치료 동안의 플루엔스를 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함한다.
소정의 실시예들에서, 광은 1초 내지 30분의 기간 동안에 치료 영역에 적용된다. 소정의 실시예들에서, 광은 1-30초, 15-45초, 30-60초, 0.75-1.5분, 1-2분, 1.5-2.5분, 2-3분, 2.5-3.5분, 3-4분, 3.5-4.5분, 4-5분, 4-6분, 5-7분, 6-8분, 7-9분, 8-10분, 9-11분, 10-12분, 11-13분, 12-14분, 13-15분, 14-16분, 15-17분, 16-18분, 17-19분, 18-20분, 19-21분, 20-22분, 21-23분, 22-24분, 23-25분, 24-26분, 25-27분, 26-28분, 27-29분, 또는 28-30분의 기간 동안에 적용된다. 상기 치료 시간은 약 90분, 약 80분, 약 70분, 약 60분, 약 50분, 약 40분 또는 약 30분까지의 범위일 수 있다. 상기 치료 기간은 상기 치료 부위에 전달된 광 에너지의 총 줄(joule)에 따를 것이고, 그래서 발광 출력 밀도가 높을수록 보다 짧은 시간을 필요로 할 것이고, 또는 그 반대일 것이다.
소정의 실시예들에서, 광은 약 90분, 약 80분, 약 70분, 약 60분, 약 50분, 약 40분 또는 약 30분까지 동안, 약 1 내지 약 30분 동안, 약 1 내지 약 25분 동안, 약 1 내지 약 20분 동안, 약 1 내지 약 19분 동안, 약 1 내지 약 18분 동안, 약 1 내지 약 17분 동안, 약 1 내지 약 16분 동안, 약 1 내지 약 15분 동안, 약 1 내지 약 14분 동안, 약 1 내지 약 13분 동안, 약 1 내지 약 12분 동안, 약 1 내지 약 11분 동안, 약 1 내지 약 10분 동안, 약 1 내지 약 9분 동안, 약 1 내지 약 8분 동안, 약 1 내지 약 7분 동안, 약 1 내지 약 6분 동안, 약 1 내지 약 5분 동안, 약 1 내지 약 4분 동안, 또는 약 1 내지 약 3분 동안 적용된다.
일부 실시예에서, 대상의 조직(예를 들면, 피부, 상처, 병변 또는 다른 피부 상태)을 치료하기 위한 방법은, 예를 들면 본 장치(100)의 실시예로부터 소정의 파장 및 출력 밀도의 광을 적용하기 전에 조직에 광활성 가능 조성물을 적용하는 단계를 더 포함한다.
상기 광활성 가능 조성물은 하나 이상의 조성물을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광활성 가능 조성물은 특정 파장 광(즉, 화학 광선(actinic light))에 의해 활성화될 수 있는 광 활성제 성분을 포함할 수 있다. 상기 광활성 가능 조성물은 화학 광선에 의해 활성화되고 광 에너지의 분산을 가속화하는 하나 이상의 광 활성제 분자를 포함하며, 그 자신에 대한 치료 효과를 수행하는 광 활성제를 유도하거나, 또는 이러한 화합물이 조성물에 존재할 때에 치료 효과(예, 과산화물 같은 산화제의 분해 공정 가속화)를 수행할 수 있는 상기 조성물에 함유된 다른 제제들의 광화학 활성화를 유도한다. 상기 포함된 광 활성제는 소정의 파장의 광자들에 의해 조사되고 보다 높은 에너지 상태로 여기된다. 상기 광 활성제의 여기된 전자들이 보다 낮은 에너지 상태로 되돌아가는 경우, 이들은 보다 낮은 에너지 수준을 갖는 광자를 방출하며, 그 결과 보다 긴 파장을 갖는 광의 방출(스토크스 이동)을 야기한다. 적정 환경에서, 이 에너지의 대부분은 상기 광활성 가능 조성물의 기타 구성성분으로 전달되거나, 치료 부위에 직접 전달될 수 있다.
기타 염료 그룹 또는 염료(생물학적이고 조직학적인 염료, 식용 착색제, 카로티노이드류)가 사용될 수도 있을지라도 적합한 광 활성제들은 형광 염료(또는 염색제)일 수 있다. 광 활성제들을 조합함으로써 조합된 염료 분자들에 의해 광 흡수를 증가하고 흡수 및 광-생물조절 선택성을 향상시킬 수도 있다. 또한 광 활성제들을 조합한 결과 상기 광 활성제들 간에 에너지 전달을 야기할 수도 있다. 이것은 새로운 감광성 및/또는 선택성 광 활성제 혼합물을 생성할 여러 가능성을 생성한다. 적절한 광 활성제로는 다음을 포함할 수 있다:
엽록소 염료
예시적인 엽록소 염료들로는 엽록소 a; 엽록소 b; 오일 용해성 엽록소; 세균 엽록소(bacteriochlorophyll) a; 세균 엽록소 b; 세균 엽록소 c; 세균 엽록소 d; 원형 엽록소(protochlorophyll); 원형 엽록소 a; 양쪽 친매성 엽록소 유도체 1; 및 양쪽 친매성 엽록소 유도체 2를 들 수 있지만, 이에 한정되지 않는다.
크산텐 ( Xanthene ) 유도체
예시적인 크산텐 염료로는 에오신 B(4',5'-디브로모,2',7'-디니트로-플루오레세인, 2음이온); 에오신 Y; 에오신 Y(2',4',5',7'-테트라브로모-플루오레세인, 2음이온); 에오신(2',4',5',7'-테트라브로모-플루오레세인, 2음이온); 에오신(2',4',5',7'-테트라브로모-플루오레세인, 2음이온) 메틸 에스테르; 에오신(2',4',5',7'-테트라브로모-플루오레세인, 단일 음이온) p-이소프로필벤질 에스테르; 에오신 유도체(2',7'-디브로모-플루오레세인, 2음이온); 에오신 유도체(4',5'-디브로모-플루오레세인, 2음이온); 에오신 유도체(2',7'-디클로로-플루오레세인, 2음이온); 에오신 유도체(4',5'-디클로로-플루오레세인, 2음이온); 에오신 유도체 (2',7'-디요오도-플루오레세인, 2음이온); 에오신 유도체(4',5'-디요오도-플루오레세인, 2음이온); 에오신 유도체(트리브로모-플루오레세인, 2음이온); 에오신 유도체(2',4',5',7'-테트라클로로-플루오레세인, 2음이온); 에오신; 에오신 디세틸피리디늄 클로라이드 이온쌍; 에리트로신 B(2',4',5',7'-테트라요오도-플루오레세인, 2음이온); 에리트로신; 에리트로신 2음이온; 에리트로신 B; 플루오레세인; 플루오레세인 2음이온; 플록신 B(2',4',5',7'-테트라브로모-3,4,5,6-테트라클로로-플루오레세인, 2음이온); 플록신 B(테트라클로로-테트라브로모-플루오레세인); 플록신 B; 로즈 벵갈(3,4,5,6-테트라클로로-2',4',5',7'-테트라요오도플루오레세인, 2음이온); 피로닌(pyronin) G, 피로닌 J, 피로닌 Y; 로다민과 같은 로다민 염료에는 4,5-디브로모-로다민 메틸 에스테르; 4,5-디브로모-로다민 n-부틸 에스테르; 로다민 101 메틸 에스테르; 로다민 123; 로다민 6G; 로다민 6G 헥실 에스테르; 테트라브로모-로다민 123; 및 테트라메틸-로다민 에틸 에스테르를 포함하는 것을 들 수 있지만, 이에 한정되지 않는다.
메틸렌 블루 염료
예시적인 메틸렌 블루 유도체들로는 1-메틸 메틸렌 블루; 1,9-디메틸 메틸렌 블루; 메틸렌 블루; 메틸렌 블루(16 .mu.M); 메틸렌 블루 (14 .mu.M); 메틸렌 바이올렛; 브로모메틸렌 바이올렛; 4-요오도메틸렌 바이올렛; 1,9-디메틸-3-디메틸-아미노-7-디에틸-아미노-페노티아진; 및 1,9-디메틸-3-디에틸아미노-7-디부틸-아미노-페노티아진을 들 수 있지만, 이에 한정되지 않는다.
아조 염료
예시적인 아조(또는 디아조-) 염료들로는 메틸 바이올렛, 뉴트럴 레드, 파라 레드(안료 레드 1), 아마란스(amaranth)(아조루빈(Azorubine) S), 카아르모이신(Carmoisine)(아조루빈, 식용 적색 3, 애시드 레드 14), 알루라 적색 AC(FD&C 40), 타르트라진 (FD&C 황색 5), 오렌지 G (애시드 오렌지 10), 폰소(Ponceau) 4R(식용 적색 7), 메틸 레드(애시드 레드 2), 및 무렉시드-푸르푸르산 암모늄을 들 수 있지만, 이에 한정되지 않는다.
본 발명의 몇몇 측면에서, 하나 이상의 광 활성제는 애시드 블랙 1, 애시드 블루 22, 애시드 블루 93, 애시드 푹신(Acid fuchsin), 애시드 그린, 애시드 그린 1, 애시드 그린 5, 애시드 마젠타(Acid magenta), 애시드 오렌지 10, 애시드 레드 26, 애시드 레드 29, 애시드 레드 44, 애시드 레드 51, 애시드 레드 66, 애시드 레드 87, 애시드 레드 91, 애시드 레드 92, 애시드 레드 94, 애시드 레드 101, 애시드 레드 103, 애시드 로제인(Acid roseine), 애시드 루빈(Acid rubin), 애시드 바이올렛 19, 애시드 옐로우 1, 애시드 옐로우 9, 애시드 옐로우 23, 애시드 옐로우 24, 애시드 옐로우 36, 애시드 옐로우 73, 애시드 옐로우 S, 아크리딘 오렌지, 아크리플라빈(Acriflavine), 알시안 블루(Alcian blue), 알시안 옐로우, 알코올 용해성 에오신, 알리자린(Alizarin), 알리자린 블루 2RC, 알리자린 카르민, 알리자린 시아닌 BBS, 알리자롤 시아닌(Alizarol cyanin) R, 알리자린 레드 S, 알리자린 퍼퓨린(Alizarin purpurin), 알루미논(Aluminon), 아미도 블랙 10B, 아미도슈워즈(Amidoschwarz), 아닐린 블루 WS, 안트라센 블루 SWR, 아우라민(Auramine) O, 아조카민(Azocarmine) B, 아조카민 G, 아조익 디아조 5, 아조익 디아조 48, 아주어(Azure) A, 아주어 B, 아주어 C, 베이직 블루 8, 베이직 블루 9, 베이직 블루 12, 베이직 블루 15, 베이직 블루 17, 베이직 블루 20, 베이직 블루 26, 베이직 브라운 1, 베이직 푹신, 베이직 그린 4, 베이직 오렌지 14, 베이직 레드 2, 베이직 레드 5, 베이직 레드 9, 베이직 바이올렛 2, 베이직 바이올렛 3, 베이직 바이올렛 4, 베이직 바이올렛 10, 베이직 바이올렛 14, 베이직 옐로우 1, 베이직 옐로우 2, 비브리히 스칼렛(Biebrich scarlet), 비스마르크 브라운(Bismarkck brown) Y, 브릴리언트 크리스탈 스칼렛(Brilliant crystla scarlet) 6R, 칼슘 레드, 카르민(Carmine), 카르민산, 셀레스틴 블루(Celestine blue) B, 차이나 블루(China blue), 코치닐(Cochineal), 코엘레스틴 블루(Coelestine blue), 크롬 바이올렛 CG, 크로모트로프(Chromotrope) 2R, 크로목산 시아닌(Chromoxane cyanin) R, 콩고 코린트(Congo corinth), 콩고 레드, 코튼 블루, 코튼 레드, 크로세인 스칼렛(Croceine scarlet), 크로신(Crocin), 크리스탈 폰소 6R, 크리스탈 바이올렛, 달리아(Dahlia), 다이아몬드 그린 B, 다이렉트 블루 14, 다이렉트 블루 58, 다이렉트 레드, 다이렉트 레드 10, 다이렉트 레드 28, 다이렉트 레드 80, 다이렉트 옐로우 7, 에오신 B, 에오신 블루이쉬(Eosin Bluish), 에오신, 에오신 Y, 에오신 옐로위쉬(Eosin yellowish), 에오신올(Eosinol), 이리 가넷(Erie garnet) B, 에리오크롬 시아닌(Eriochrome cyanin) R, 에리트로신 B, 에틸 에오신, 에틸 그린, 에틸 바이올렛, 에반스 블루(Evans blue), 패스트 블루(Fast blue) B, 패스트 그린 FCF, 패스트 레드 B, 패스트 옐로우, 플루오레세인, 식용 녹색 3, 갈레인(Gallein), 갈라민 블루(Gallamine blue), 갈로시아닌(Gallocyanin), 겐티안 바이올렛(Gentian violet), 헤마테인(Haematein), 헤마틴(Haematine), 헤마톡실린(Haematoxylin), 헬리오 패스트 루빈(Helio fast rubin) BBL, 헬베티아 블루(Helvetia blue), 헤마테인(Hematein), 헤마틴(Hematine), 헤마톡실린(Hematoxylin), 호프만 바이올렛(Hoffman's violet), 임페리얼 레드(Imperial red), 인도시아닌 그린(Indocyanin green), 인그레인 블루(Ingrain blue), 인그레인 블루 1, 인그레인 옐로우 1, INT, 커메즈(Kermes), 커메직산(Kermesic acid), 커네크트로트(Kernechtrot), 랙(Lac), 랙카인산(Laccaic acid), 라우쓰 바이올렛(Lauth's violet), 라이트 그린, 리사민 그린(Lissamine green) SF, 룩솔 패스트 블루(Luxol fast blue), 마젠타 0, 마젠타 I, 마젠타 II, 마젠타 III, 말라카이트 그린(Malachite green), 맨체스터 브라운(Manchester brown), 마티우스 옐로우(martius yellow), 메르브로민(Merbromin), 머큐로크롬(Mercurochrome), 메타닐 옐로우(Metanil yellow), 메틸렌 아주어 A, 메틸렌 아주어 B, 메틸렌 아주어 C, 메틸렌 블루, 메틸 블루, 메틸 그린, 메틸 바이올렛, 메틸 바이올렛 2B, 메틸 바이올렛 10B, 모던트 블루(Mordant blue) 3, 모던트 블루 10, 모던트 블루 14, 모던트 블루 23, 모던트 블루 32, 모던트 블루 45, 모던트 레드 3, 모던트 레드 11, 모던트 바이올렛 25, 모던트 바이올렛 39, 나프톨 블루 블랙(Naphthol blue black), 나프톨 그린 B, 나프톨 옐로우 S, 내츄럴 블랙 1, 내츄럴 레드, 내츄럴 레드 3, 내츄럴 레드 4, 내츄럴 레드 8, 내츄럴 레드 16, 내츄럴 레드 25, 내츄럴 레드 28, 내츄럴 옐로우 6, NBT, 뉴트럴 레드, 뉴 푹신(New fuchsin), 니아가라 블루(Niagara blue) 3B, 나이트 블루, 나일 블루(Nile blue), 나일 블루 A, 나일 블루 옥사존(oxazone), 나일 블루 설페이트, 나일 레드, 니트로 BT, 니트로 블루 테트라졸륨, 뉴클리어 패스트 레드(Nuclear fast red), 오일 레드 O, 오렌지 G, 오르세인(Orcein), 파라로사닐린(Pararosanilin), 플록신 B, 피크르산(Picric acid), 폰소 2R, 폰소 6R, 폰소 B, 폰소 데 크실리딘(Ponceau de Xylidine), 폰소 S, 프리뮬러(Primula), 퍼퓨린, 피코빌린류, 피코시아닌(Phycocyanin)류, 피코에리트린(Phycoerythrin)류, 피코에리트린시아닌 (PEC), 프탈로시아닌류, 피로닌(Pyronin) B, 피로닌 G, 피로닌 Y, 로다민 B, 로사닐린, 로즈 벵갈, 샤프론, 사프라닌(Safranin) O, 스칼렛 R, 스칼렛 레드, 샤라크(Scharlach) R, 쉘락(Shellac), 시리우스 레드(Sirius red) F3B, 솔로크롬 시아닌(Solochrome cyanin) R, 솔루블 블루(Soluble blue), 솔벤트 블랙 3, 솔벤트 블루 38, 솔벤트 레드 23, 솔벤트 레드 24, 솔벤트 레드 27, 솔벤트 레드 45, 솔벤트 옐로우 94, 주정용 에오신(Spirit soluble eosin), 수단(Sudan) III, 수단 IV, 수단 블랙 B, 설퍼 옐로우(Sulfur yellow) S, 스위스 블루(Swiss blue), 테트라진, 티오플라빈(Thioflavine) S, 티오플라빈 T, 티오닌(Thionin), 톨루이딘 블루(Toluidine blue), 톨루일린 레드, 트로페올린(Tropaeolin) G, 트리파플라빈(Trypaflavine), 트리판 블루(Trypan blue), 우라닌(Uranin), 빅토리아 블루(Victoria blue) 4R, 빅토리아 블루 B, 빅토리아 그린 B, 워터 블루(Water blue) I, 수용성 에오신, 크실리딘 폰소, 또는 옐로위쉬 에오신(Yellowish eosin) 중 임의의 것으로부터 독립적으로 선택될 수 있다.
광활성 가능 조성물들은 기타 화합물, 예컨대 산소 풍부제, 산소 함유제, pH 조절제(예, 아세트산 나트륨, 수산화 나트륨), 광 회절화제 (예, 자기 결정, 하이드록실아파타이트), 치유 인자(예, 하이알루론산, 글루코사민), 킬레이트제(예, EDTA, EGTA), 지방분해 촉진제(예, 카페인), 및/또는 친수성 겔화제(예, 글루코오스, 셀룰로오스)를 함유할 수 있다.
광활성 가능 조성물과 조합하여 사용된 때, 장치가 하나보다 많은 피크 파장에서 방출하는 것이 특히 유용할 수 있다. 예를 들면, 광원이 LED일 때, 하나보다 많은 타입의 LED가 장치 내에 포함되며, 각 LED는 상이한 파장에서 방출한다. 예를 들면, 각 LED는 광활성 가능 조성물 내의 하나 이상의 발색단의 흡수 밴드와 중첩 또는 매칭하는 파장에서 발광할 수 있다. 각 타입의 LED는 독립적으로 스위치가 켜지고 꺼질 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 방법은 i) 대상의 피부에 광활성 가능 조성물을 적용하는 단계, ii) 상기 적용된 광활성 가능 조성물의 흡수 스펙트럼과 중첩하는 파장을 갖는 광을 적용하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 광은 상기 광활성 가능 조성물이 실질적으로 광퇴색될 때까지의 시간 기간 동안 적용된다.
소정의 실시예들에서, 상기 방법은 i) 대상의 피부에 광활성 가능 조성물을 적용하는 단계, ii) 상기 적용된 광활성 가능 조성물의 흡수 스펙트럼과 중첩하는 파장을 갖는 제1 광을 적용하는 단계로, 여기서 상기 제1 광은 광활성 가능 조성물이 실질적으로 광퇴색될 때까지의 시간 기간 동안 적용되는, 단계, 및 iii) 상기 제1 광과 다른 파장을 갖는 제2 광을 적용하는 단계를 포함한다.
특정 실시예에서, 상기 방법은 i) 대상의 피부에 광활성 가능 조성물을 적용하는 단계로, 여기서 상기 광활성 가능 조성물은 가시성 전자기 스펙트럼의 청색 부분 내의 광을 흡수하는, 단계, ii) 상기 대상의 피부에 청색 광을 적용하는 단계로, 여기서 상기 청색 광은 상기 광활성 가능 조성물이 실질적으로 광퇴색될 때까지 적용되는, 단계, 및 iii) 상기 대상의 피부에 적색 광을 적용하는 단계를 포함한다.
소정의 실시예들에서, 상기 방법은 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계, 및 조직의 조사 동안에 제1 광의 피크 파장, 대역폭, 출력 밀도 또는 플루엔스를 조절하는 단계를 포함한다. 하나의 구현예에서, 상기 방법은 광 조사 시간 동안에 적어도 하나의 광원으로부터 방출된 광의 최대 출력 강도를 감소 또는 증가시키는 단계를 포함한다. 상이한 광원들로부터의 광들은 상이한 시간 또는 동시에 상이하게 조절될 수 있다. 하나의 광원으로부터의 광의 조절은 총 조사 시간의 일부분에만 걸쳐서, 또는 전체 조사 시간에 걸쳐서 생길 수 있음이 이해될 것이다. 소정의 실시예들에서, 출력 밀도는, 예를 들면 분당 약 0.002mW/cm2의 조사 내지 분당 약 0.1mW/cm2의 조사, 분당 약 0.005mW/cm2, 분당 약 0.006mW/cm2, 또는 분당 약 0.012mW/cm2의 비율로 증가 또는 감소될 수 있다.
상기 치료 영역은 상이한 특성들을 갖는 광을 갖는 단일의 광원 또는 복수의 광원으로부터 동시에 또는 상이한 시간에 조사될 수 있다. 상기 조사 광은 장치 및 램프의 측면들에 관하여 상술한 임의의 특성들을 가질 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 조사 광은, 예를 들면 약 490nm 내지 약 720nm 범위 이내의 피크 파장을 갖는, 전자기 스펙트럼의 하나 이상의 녹색, 황색, 오렌지색, 적색 및 적외선 부분 이내의 형광 또는 인광 광이다. 일 실시예에서, 상기 조사 광은 약 400nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm 사이의 파장을 갖는다. 다른 실시예에서, 상기 조사 광은 0.005 내지 약 10mW/cm2, 약 0.5 내지 약 5mW/cm2 사이의 출력 밀도를 갖는다. 소정의 실시예들에서, 상기 조사 광은 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는다. 상기 조사 광의 광원은 제1 광원 또는 임의의 다른 광원에 의해 활성화되어 형광을 방출하는 형광색소와 같은 광 활성제일 수 있다. 대안적으로, 상기 조사 광은 형광 또는 인광 스펙트럼을 모방하는 LED, 레이저 등과 같은 전자적으로 생성된 광으로부터의 것일 수 있다.
소정의 실시예들에서, 상기 조사 광의 최대 출력 밀도는 약 0.01mW/cm2 내지 약 200mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 150mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 135mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 75mW/cm2, 0.02mW/cm2 내지 약 60mW/cm2, 약 0.02mW/cm2 내지 약 50mW/cm2, 약 0.02mW/cm2 내지 약 30mW/cm2, 약 0.02mW/cm2 내지 약 15mW/cm2이다.
소정의 다른 실시예들에서, 상기 LED들의 어레이 또는 다른 광원으로부터 생성된 광은 펄스형이다. 소정의 실시예들에서, 상기 생성된 광은 약 10ms와 약 300ms 사이의 펄스 지속기간을 갖는다. 그러나, 보다 길고 보다 짧은 펄스 지속기간이 응용예에 따라 사용될 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 생성된 광은 약 20ms와 약 100ms 사이의 펄스 지속기간을 갖는다. 일부 실시예에서, 상기 생성된 광은 약 20ms와 약 60ms 사이의 펄스 지속기간을 갖는다. 일부 실시예에서, 방사 빔은 약 20ms와 약 40ms 사이의 펄스 지속기간을 갖는다. 일부 실시예에서, 상기 생성된 광은 약 40ms와 약 60ms 사이의 펄스 지속기간을 갖는다. 일부 실시예에서, 상기 생성된 광은 약 40ms의 펄스 지속기간을 갖는다. 일부 실시예에서, 상기 생성된 광은 약 40ms 초과의 펄스 지속기간을 갖는다. 일부 실시예에서, 상기 생성된 광은 1ms 미만, 그리고 바람직하게는 500ns 미만의 펄스 지속기간을 갖는다. 또한, 상기 펄스 지속기간은 진폭, 파장, 대역폭 또는 그들의 조합과 같은 상기 생성된 광의 다른 특징들에 따라 달라질 수 있다.
상기 방법은 하나 이상의 광 요소들에 의해 방출된 광이 이것이 향하는 조직, 예를 들면 피부의 한 영역에 도달하기 전에 상기 방출된 광을 필터링, 감쇄, 증폭, 편파, 또는 달리 변조하는 것을 또한 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광은 UV 필터와 같은 광의 소정 대역폭을 제거하는 필터에 의해 필터링될 수 있다. 상기 광은 또한 콜리메이팅될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 광선치료 장치는 상기 장치의 LED들로부터 방출되는 광을 효과적으로 차단하는 차폐부와 조합하여 사용될 수도 있다. 예를 들면, 상기 대상의 피부 표면의 일부분만 치료를 요할 때, 치료를 요하지 않는 피부의 영역에 방출 광이 적용되는 것을 방지하는 데에 차폐부가 사용될 수 있다.
용도
본 발명의 시스템, 장치 및 방법은 다양한 미용, 건강 및 의료 분야를 위해 광선 치료 기술의 사용을 가능하게 한다. 광에 의해 유도된 세포 활성의 광조절(Photomodulation)은 피부 치료 또는 치료 방법에 유익하다고 발견되었다. 본 발명의 시스템, 장치 및 방법은 상처 및 조직 수복, 피부 상태, 피부 재생 및 피부 관리 급성 염증의 치료에 유용할 수 있다.
"피부 재생"은 하나 이상의 피부 노화 징후를 감소시키거나, 줄이거나, 지연시키거나 반전시키는 공정을 의미한다. 예를 들어, 일반적인 피부 노화 징후로는 잔주름 또는 주름의 발생, 얇고 투명한 피부, 하부 지방의 손실(손 및 목에 대한 탄력의 현저한 손실뿐만 아니라 움푹 들어간 뺨 및 안와를 초래함), 골 손실(골 손실로 인한 피부에서 뼈가 소실되도록 하며, 이는 피부 처짐을 야기함), 건성 피부(가려울 수 있음), 피부를 식히기에 충분한 땀을 흘리지 못함, 원치 않는 얼굴의 털, 주근깨, 검버섯, 거미 정맥, 거칠고 가죽 같은 피부, 당겼을 때 사라지는 미세 주름, 늘어진 피부, 또는 얼룩진 안색을 들 수 있지만, 이에 한정되지 않는다. 본 발명에 따르면, 상기 노화 징후들 중 하나 이상은 본 발명의 장치, 방법, 용도 및 시스템에 의해 감소되거나, 줄어들거나, 지연되거나, 심지어는 반전될 수 있다.
"피부 질환"은 홍반, 모세혈관 확장, 활성 모세혈관 확장, 건선, 피부암, 천포창, 일광 화상, 피부염, 광선 각화증, 습진, 발진, 여드름, 농가진, 만성단순성 태선, 비류, 입주위 피부염, 확산 피지선 과형성, 기타 피지선 질환, 콜라겐 관련 피부 질환 (결합조직 질환), 기타 땀샘 질환, 육아종 피부 상태, 혈관 병변, 양성 색소 병변, 헤어 질환 및 일부 피부 감염, 만성 및 급성 염증, 가성 모낭염, 약물 발진, 다형 홍반, 결절 홍반, 환상 육아종, 광선 각화증, 자반증, 원형 탈모증, 아프타성 구내염, 약물 발진, 피부 건조, 종양성 질환, 갈라지고 건조한, 건조증, 심상성 어린선, 진균 감염, 단순 포진, 간찰진, 켈로이드, 각화증, 비립종, 전염성 연속증(moluscum contagiosum), 장미색 비강진, 가려움증, 두드러기, 및 혈관 종양 및 기형을 포함하지만, 이들에만 한정되지 않는다. 피부염으로는 접촉성 피부염, 아토피성 피부염, 지루성 피부염, 화폐상 피부염, 전신성 박탈 피부염(generalized exfoliative dermatitis) 및 정체 피부염(stasis dermatitis)을 들 수 있다. 피부암으로는 흑색종, 기저세포 암종, 및 편평세포 암종(squamous cell carcinoma)을 들 수 있다.
여드름의 몇몇 유형으로는, 예를 들어 심상성 여드름(acne vulgaris), 낭포성 여드름, 응괴성 여드름(acne atrophica), 브롬 여드름(bromide acne), 염소 여드름(chlorine acne), 집족성 여드름(acne conglobata), 화장품성 여드름(acne cosmetica), 세제성 여드름(acne detergicans), 전염성 여드름, 하계 여드름(acne estivalis), 전격성 여드름(acne fulminans), 할로겐 여드름, 인투라타성 여드름(acne indurata), 요오드 여드름, 켈로이드성 여드름(acne keloid), 기계적 여드름(acne mechanica), 구진성 여드름(acne papulosa), 적창(pomade acne), 월경전 여드름(premenstrual acne), 농포성 여드름(acne pustulosa), 괴혈성 여드름(acne scorbutica), 선병성 여드름(acne scrofulosorum), 두드러기성 여드름(acne urticata), 두창성 여드름(acne varioliformis), 독물성 여드름(acne venenata), 프로피온산 여드름, 찰상 여드름(acne excoriee), 그람-음성 여드름, 스테로이드성 여드름, 및 결정낭포성 여드름(nodulocystic acne)을 들 수 있다.
몇몇 피부 질환은 발적(redness), 홍조, 화상, 박피, 뾰루지, 구진, 농포, 면포반, 반점, 결절, 물집, 수포, 모세관 확장증, 거미 정맥, 창, 표면 자극 또는 통증, 가려움증, 염증, 적색, 자주색 또는 청색 패치(patch) 또는 변색, 사마귀(mole), 및/또는 종양을 포함한 다양한 증상을 나타낸다.
"상처"는, 예를 들어 급성 상처, 아급성 상처, 지연된 상처 또는 치유하기 어려운 상처, 및 만성 상처를 포함한, 임의의 조직에 대한 상처를 의미한다. 상처의 예는 개방 또는 폐쇄형 상처 둘 모두를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상처로는, 예를 들어, 화상, 절개, 절제, 열상, 찰과상, 천공 또는 관통창, 외과적 창상, 타박상, 혈종, 압착 손상, 상처(예를 들어, 욕창), 궤양, 치주염(치주 조직의 염증)에 의해 야기된 상처를 들 수 있다. 궤양은 당뇨병 족부 궤양, 욕창, 사지 절단, 정맥 궤양, 만성 궤양 및/또는 I 등급 내지 IV 등급 상처라고 분류될 수 있는 상처를 포함할 수 있다.
"급성 염증"은 그 자체가 통증, 발열, 발적, 부기(swelling) 및 기능 상실을 나타낼 수 있다. 급성 염증으로는, 예를 들어 곤충 자상, 예컨대 모기, 벌, 말벌, 덩굴 옻나무, 절제술 후 치료와 같은 알레르기 반응에서 관측되는 증상을 들 수 있다.
등가의 장치, 방법 및 용도의 식별은 충분히 통상 실시자의 숙련 범위 내에 있으며, 본 발명의 교시의 견지에서 단지 통상적인 실험을 요구할 수 있다. 본 발명의 실시는 하기 실시예로부터 더욱 완전히 이해될 것이며, 이는 단지 예시의 목적으로 본원에 제시되며, 임의의 방식으로 본 발명을 제한하는 것으로 이해되어서는 안 된다.
실시예
하기 실시예는 본 발명의 다양한 실시예의 실시를 예시하기 위해 나열되어 있다. 이들은 본 발명의 전체 범주를 제한하고 한정하도록 의도되지 않는다.
예 1 - 본 발명의 실시예들을 사용하는 광선 치료의 혈관형성 퍼텐셜
본 발명의 장치들, 시스템들 및 방법들에 의해 방출된 광의 혈관형성 퍼텐셜을 측정하기 위해서 인간 피부 모델을 개발하였다. 간략하게, 분광복사기(ORB Optronix로부터의 SP-100)를 사용하여 측정한 바, 이 예의 피부 모델 내의 세포들에 의해 수신된 광선 치료 시간에 걸친 출력 강도를 나타내는, 도 7a 및 도 7b에 나타낸 프로파일을 갖는 광이 제공되는 본 발명의 실시예에 따른 시스템에 의해 5분 동안 섬유아세포(fibroblast) 및 각질세포(keratinocyte)를 포함하는 인간 피부 모델을 조사하였다.
구체적으로, 피부 모델에 의해 수신되는 광은 약 400 내지 약 470nm의 파장 범위 및 약 450nm에서의 피크 파장을 갖는 제1 피크, 및 약 520nm 내지 약 620nm의 파장 범위 및 540-580nm 부근에서의 피크 파장을 갖는 제2 피크를 구비하였다. 치료 거리(피부 모델로부터 10cm)에서, 제1 피크의 피크 파장에서의 최대 출력은 1.5 - 2mW/cm2/nm 이었고, 제2 피크는 약 0.01mW/cm2/nm (제1 피크의 약 0.5%)이었다. 제1 피크의 총 출력은 5분의 치료 시간 동안 약 35-55mW/cm2 (약 38-45mW/cm2)의 범위였다. 제2 피크의 총 출력은 약 0.05-0.6mW/cm2 (약 0.4-0.5mW/cm2)이었고 제1 피크 총 출력의 약 0.1-1.5%(약 1%)까지였다. 제2 피크는 제1 피크의 대역폭(약 20nm)보다 넓은 약 20-60nm, 약 40-60nm의 대역폭을 가졌다. 5분의 치료 시간에서, 피부 모델은 약 10-20J/cm2, 약 15J/cm2의 플루엔스를 수신하였다. 제2 우세 피크는 5분의 치료 동안에 피부 모델에 의해 수신된 총 광 플루엔스의 약 0.3-1%(약 0.6%)이었다. 피부 모델에 의해 수신된 광(형광 광에 대한 활성화 광)의 출력 밀도의 상대 비율을 치료 시간 동안에 가변시켰다.
피부 모델을 조사하는 광을 제공하는 시스템은 ?갸뵌? 청색 광(도 3에 도시된 것과 유사한 발광 프로파일을 가짐)을 방출하는 램프 및 이 램프에 의해 활성화되어 형광 광을 방출하는 형광제(예를 들면 에오신)를 함유하는 조성물을 구비하였다. 구체적으로, 램프는 410-420nm 및 440-470nm의 피크 파장을 갖는 2 세트의 LED들을 가졌다. LED들로부터 10cm 거리에서, 활성화 광은 약 450nm의 피크 파장, 약 2-3mW/cm2/nm (약 2.5mW/cm2/nm)의 피크 파장에서의 출력, 약 55-65mW/cm2의 평균 출력, 및 약 15-25J/cm2 (약 16-20J/cm2)의 5분의 조사에서의 플루엔스를 가졌다.
피부 모델 및 생체광자성 조성물을 20㎛의 구멍 크기의 나일론 메쉬로 분리하였다. 피부 모델을 활성화 광 및 형광 광 양쪽에 의해 실질적으로 동시에 조사하였다.
생체광자성 조성물이 세포들과 제한적으로 접촉되기 때문에, 섬유아세포 및 각질세포를 생체광자성 조성물로부터 방출된 활성화 광 및 형광 광에 주로 노출시켰다. 그런 다음, 치료된 인간의 3D 피부 모델로부터의 조건부 매질(conditioned medium)을, MatrigelTM로 사전에 평판 배양된(plated) 당뇨병 환자로부터의 인간의 대동맥 내피 세포(aortic endothelial cell) 및 감염된 미세혈관 내피 세포(microvascular endothelial cell)에 적용하였다. 24시간 후에 현미경 검사로 내피 세포에 의한 관(tube)들의 형성을 관찰하고 모니터링하였다. 광 조사로 치료되는 조사된 3D 피부 모델들로부터의 조건부 매질이, 섬유아세포 및 각질세포에 의한 인자들의 생성을 통해 혈관형성에 대한 광선 치료(청색 및 녹색 스펙트럼에서 피크 파장을 갖는 2개의 피크에 의한 광)의 간접적인 효과를 제시하는, 양 세포 타입으로부터 체외에서 내피 관 형성을 유도하였다. 미치료 피부 샘플로부터의 일반 매질(Plain medium) 및 조건부 매질이 대조군(control)으로서 사용되었고, 내피 관 형성을 유도하지는 않았다.
예 2 - 단백질 분비 및 유전자 발현 프로파일들
상처 및 미창상의 3D 인간 피부 모델들(EpiDermFT, MatTek Corporation)을 사용하여 본 발명의 장치들, 시스템들 및 방법들에 의해 방출된 광의 퍼텐셜을 평가해서 분명한 단백질 분비 및 유전자 발현 프로파일들을 촉발시켰다. 간략하게, 상이한 조건(성장 인자 있음, 50% 성장 인자 있음 및 성장 인자 없음) 하에서 배양된 상처 및 미창상의 3D 인간 피부 모델들을 도 7a 및 도 7b에 나타낸 것과 유사한 프로파일을 갖는 광으로 2분 동안 조사하였다. 피부 모델들을 조사하는 시스템은 ?갸뵌? 청색 광을 방출하는 램프 및 이 램프에 의해 활성화되어 형광 광을 방출하는 2개의 형광제(에오신 및 에리트로신)를 함유하는 조성물을 구비하였다.
피부 모델들 및 조성물을 20㎛의 구멍 크기의 나일론 메쉬로 분리하였고, 램프를 피부 모델들로부터 약 10cm에 위치시켰다. 활성화 광 및 형광 광 양쪽에 의해 피부 모델을 실질적으로 동시에 조사하였다. 3D 피부 모델들로 이루어진 대조군들은 광으로 조사되지 않았다.
유전자 발현 및 단백질 분비 프로파일들을 24시간의 광 노출 후에 측정하였다. 시토카인 분비는 항체 어레이(레이바이오 휴먼 시토카인(RayBio Human Cytokine) 항체 어레이)에 의해 분석하였고, 유전자 발현은 PCR 어레이(PAHS-013A, 에스에이 바이오사이언스(SABioscience))에 의해 분석하였으며, 세포독성은 GAPDH 및 LDH 방출에 의해 결정되었다. 결과(표 1 및 표 2)에 따르면, 광 처리는 상처가 있는 피부 삽입체에서 그리고 비-기아 조건 하에 상처 치유의 염증성 초기 단계에 분비된 단백질의 수준 및 상기 단계와 관련된 유전자 발현을 증가시킬 수 있는 것으로 나타났다. 흥미롭게도, 미창상 피부 모델에 대한 광 처리의 효과는 상처가 있는 피부 삽입체에 대해 세포성 수준에서 훨씬 낮은 영향을 미쳤으며, 이는 세포성 효과 수준에서 광 처리 효과가 있음을 제시한다. 이는 염증에 관여되는 매개체(mediator)들을 조절하는 것으로 보인다. 상기 3D 피부 모델에서 대식세포와 같은 기타 세포 유형의 부족으로 인해, 항염증성 피드백(feed-back)이 결여되며, 상처 봉입에서의 지연을 설명할 수 있다. 세포독성은 광 처리에서 관측되지 않았다.
3일째 날에 치료군과 미치료 대조군 사이의 분비 비율에서의 통계학적으로 유의한 차이를 갖는 단백질의 목록: 2개의 화살표는 상기 비율이 2배 초과한다는 것을 의미함.
매질 1X 매질 0.5X 매질 0X
증가 ENA78 p=0.04 ↑↑
Il -1 R4 / ST2 p=0.02 ↑↑
MMP3 p=0.01 ↑↑
MCP -2 p=0.04 ↑↑		 안지오게닌 p = 0.03 ↑
CXCL16 p=0.04 ↑
감소 BMP6 p=0.01 ↓
TNFαp=0.005 ↓		 BMP6 p=0.02 ↓
최초 24시간 동안 치료군과 미치료 대조군 사이의 발현 비율에서의 통계학적으로 유의한 차이를 갖는 유전자의 목록2개의 화살표는 상기 비율이 2배 초과한다는 것을 의미함.
매질 1X 매질 0.5X 매질 0X
증가 CTGF p=0.02 ↑
ITGB3 p=0.03 ↑
MMP1 p=0.03 ↑
MMP3 p=0.01 ↑
THBS1 P=0.02 ↑		 CTGF P=0.04 ↑
ITGB3 p=0.05 ↑
MMP1 p=0.02 ↑↑
MMP10 p=0.003 ↑↑
MMP3 p=0.007 ↑↑
MMP8 p=0.02 ↑↑
THBS1 p=0.03 ↑		 MMP3 p=0.007 ↑↑
LAMA1 p=0.03 ↑
ITGA2 p=0.03 ↑
감소 HAS1 p=0.009 ↓↓
NCAM1 p=0.05 ↓↓
VCAM1 p=0.03 ↓↓
COL7A1 p=0.04 ↓
CTNNA1 p=0.03 ↓		 NCAM1 p=0.02 ↓↓
VCAN p=0.02 ↓
LAMC1 p=0.002 ↓
COL6A1 p=0.007 ↓
MMP7 p=0.003 ↓
예 3 - 시간 및 거리에 의한 출력 밀도 가변
도 8 및 도 9는 방출된 피크의 총 출력 또는 플루엔스를 변경하도록 치료 부위로부터 광원의 거리를 가변시킴으로써 본 발명의 실시예들에 따른 의료 또는 미용 치료를 위해 적절한 광선 치료 또는 시스템 계획이 선택될 수 있는 방법을 도시하고 있다. 또한, 2개의 피크를 갖는 2개의 광원이 존재하는 경우, 각각의 상대 출력은 시간 경과에 따라 가변될 수 있으며, 도 8은 5분의 치료 시간에 걸친 총 출력의 감소를 도시한다. 도 9은 시간 경과에 따른 총 출력의 증가를 도시한다. 일 실시예에서, 도 8 및 도 9는 도 3에 도시된 것과 같은 발광 프로파일을 갖는 램프 및 형광 조성물을 포함하는 시스템에 의해 생성될 수 있고, 도 8은 시간 경과에 따른 조성물의 방출된 형광의 총 출력의 감소를 나타내고, 도 9는 생체광자성 조성물을 통해 전송되는 램프의 출력의 증가를 나타낸다.
예 3 - 콜라겐 형성
인간 피부 섬유아세포를 광으로 조사하였고 콜라겐 형성에 관하여 측정하였다. 인간 피부 섬유아세포를 웰들((MatTek®)을 갖는 유리 바닥형 접시들로 평판 배양하였다. 웰당 대략 4000개의 세포가 있었다. 48시간 후, 유리 바닥형 접시들을 뒤집어서 세포들을 (A) 광 부재(대조군), (B) 오후에 약 13분 동안 태양광 노출(대조군), (C) 약 550-570nm의 피크 파장(약 480-620nm의 파장 범위를 가짐), 약 0.01 내지 약 0.065mW/cm2/ nm의 피크 파장에서의 최대 출력, 약 3-5mW/cm2의 총 피크 출력, 및 약 50-70nm의 대역폭을 갖는 광이 추가된 태양 광, 및 (D) 2개의 발광 피크, 즉 약 440-460nm의 피크 파장, 약18-23nm의 대역폭, 약 25-95mW/cm2의 총 피크 출력 및 약 1 내지 약 3.5mW/cm2/nm의 피크 파장에서의 최대 출력을 갖는 제1 피크, 및 약 550-570nm의 피크 파장, 약 50-70nm의 대역폭, 약 3-5mW/cm2의 총 피크 출력 및 약 0.01 내지 약 0.065mW/cm2/nm의 피크 파장에서의 최대 출력(도 10a 및 도 10b에 나타냄)을 갖는 제2 피크를 포함하는 광으로 유리 바닥을 통해 치료하였다.
치료 후, 세포들을 수세하고 정규 배지(regular medium)에서 48 시간 인큐베이팅시켰다. 그런 다음 Picro-Sirius red 법을 사용해서 현탁액에서 콜라겐 검정을 실시했다. 이는 피크르산 속의 Sirius red 염료 용액을 상기 현탁액에 첨가하고, 30분 동안 부드럽게 교반하면서 인큐베이팅시킨 다음, 원심분리해서 펠릿을 형성하는 것을 포함했다. 펠릿을 0.1N HCl 에 이어서 0.5 N NaOH으로 일차 수세해서 자유로운 염료를 제거했다. 원심분리 후, 현탁액을 콜라겐 타입 I에 대해 540 nm에서 판독했다. 그 결과가 표 3에 나타난다.
상술한 바와 같은 치료 방법 A, B, C 및 D에 노출된 인간 피부 섬유아세포 상청액의 콜라겐 타입 I 농도의 정량 비교. ++는 +의 약 두 배만큼 높은 콜라겐 수준을 나타내고, +++는 +의 약 세 배만큼 높은 콜라겐 수준을 나타냄.
　 (A)
광 없음 (대조군)		 (B)
태양광 (대조군)		 (C)
태양광 + 약 550-570nm의 피크 파장을 갖는 광		 (D)
440-460nm의 피크 파장을 갖는 광 및 약550-570nm의 피크 파장을 갖는 광
콜라겐 농도 + + +++ +++
광 부재 및 태양광 단독의 대조군들에 비해서 광 (C) 및 (D)에 의해 유도된 콜라겐 수준들 간의 통계학적인 차이가 있었다.
콜라겐 생성은 과립화 조직의 안정화 및 상처 크기의 감소를 비롯한 조직 수복 가능성에 대한 표시이다. 또한 잔주름의 감소, 모공 크기의 감소, 피부 질감 개선 및 본래 피부의 인장 강도의 향상에 연결된다.
예 1-3에서 설명된 시스템들과 실질적으로 유사 내지 동등한 발광 특성을 제공하는 장치 또는 시스템에서도 동일 또는 유사한 효과가 얻어질 수 있음이 합리적으로 예상된다. 예를 들면, 상기 시스템은 램프 및 발광 화합물을 포함할 수 있다.
예 4 - 항균 효과
프로피오니오박테리움 여드름들(p.acnes)을 12웰 플레이트에 배치하였고 혐기성 챔버(anaerobic chamber)에서 약 24시간 동안 약 35?로 배양하였다. 세균 현탁액을 본 발명의 실시예에 따른 다음의 램프들로 조사하였다: (A) 약 18-22nm의 대역폭, 현탁액으로부터 5cm 거리에서의 약 60-150mW/cm2의 총 출력, 및 약 18-39J/cm2의 5분 후의 현탁액을 조사하는 총 플루엔스를 갖는 440-470nm 부근에서 단일 피크를 방출하는 제1 램프. 총 발광 파장은 약 400-500nm의 범위이었다. UV 부재; 및 (B) 약 18-22nm의 대역폭을 갖는 440-470nm 부근의 피크 파장을 갖는 제1 피크, 및 410-420nm 부근에서의 피크 파장, 5cm에서의 약 60-150mW/cm2 (약 125mW/cm2)의 총 출력, 및 약 18-39J/cm2 (약 35J/cm2)의 5분 후의 총 플루엔스를 갖는 제2 피크를 방출하는, 도 3의 것과 유사한 발광 프로파일을 갖는 제2 램프. 총 발광 파장은 약 400-500nm 범위이었다. UV는 방출되지 않았다.
조사 후 2시간까지, 조사 전의 세균 현탁액의 광 밀도를 측정함으로써 세균 성장의 수준을 평가하였다. 그 결과를 대조군들(광 조사가 없는 세균 현탁액, 및 세균만이 없는 매질)과 비교하였다. 그 결과를 도 11a 및 도 11b에 도시하였다. 도 11a는 5분 동안의 램프 (A)에 의한 조사가 조사가 없는 세균 성장에 비해서 조사 후 적어도 2시간까지 동안 프로피오니오박테리움 여드름(p.acnes)의 성장에 영향을 주는 것을 나타낸다. 도 11b는 5분 동안의 램프 (B)에 의한 조사가 조사가 없는 세균 성장에 비해서 조사 후 적어도 2시간까지 동안 성장에 영향을 주는 것을 나타낸다. 또한, 프로피오니오박테리움 여드름(p.acnes)의 생존력이 조사 후 약 20-25시간 동안 영향을 주는 것을 양쪽 램프 A 및 B에서 관찰하였다. 이들 결과는 램프 A 및 B의 단기간의 다음과 같은 조사에서 적어도 프로피오니오박테리움 여드름((p.acnes)에 대한 세균 발육 억제 효과 및 장기간에서 프로피오니오박테리움 여드름(p.acnes)에 대한 살균 효과를 표시한다.
램프 A 및 B는, 황색포도상구균, 메티실린 내성 황색포도상구균, 클로스트리듐 디피실리균(clostridium difficile), 클렙시엘라균(klebsiella pneumonia) 및 녹농균을 포함하지만 이에 한정되지 않는 다른 그람 양성 및 그람 음성 세균 균주의, 적어도 단기간(예를 들면, 세균 발육 억제)에서의 성장에 영향을 미치는 것을 또한 나타내었다. 램프들은 또한 이들 세균 균주들 뿐만 아니라 황색포도상구균 및 표피포도상구균과 같은 다른 균주들의 일부의 장기간(예를 들면, 살균)에서의 생존력에 영향을 미쳤다.
형광 염료를 포함하는 생체광자성 조성물에 의한 이들 램프들의 사용은 프로피오니오박테리움 여드름(p.acnes)과 같은 세균 균주들에 대한 세균 발육 억제 및 살균의 상호 보완적인 효과를 갖는 것을 나타내었다.
상기한 설명은 단지 예시적인 것이고 본원에서 주어진 상세들에 한정되지 않음이 이해되어야 한다. 수개의 실시예가 본 발명에서 제공되었지만, 개시된 시스템들, 장치들, 방법들, 및 그들의 구성요소들이 본 발명의 범주를 이탈하지 않고서 다수의 다른 특정 형태로 구현될 수 있음이 이해되어야 한다.
본 발명을 검토한 후에 당 기술분야의 숙련자에게 변형예들 및 변경예들이 떠오를 것이다. 개시된 특징부들은 본원에서 설명된 하나 이상의 다른 특징부와 임의의 조합 및 하위 조합(다수의 의존형 조합 및 하위 조합을 포함함)으로 구현될 수 있다. 임의의 구성요소들을 포함하는, 상기에서 설명 또는 도시된 다양한 특징부는 다른 시스템들에 조합되거나 일체화될 수 있다. 또한, 소정의 특징부들이 생략될 수 있거나 구현되지 않는다.
변경, 치환 및 대체의 예들은 당 기술분야에 숙련자에 의해 확인 가능하며, 본 명세서에 개시된 정보의 범주를 벗어나지 않고 이루어질 수 있다. 본원에서 인용된 모든 참조는 그들 전체가 참조로 포함되며, 본원의 일부를 이룬다.

Claims (153)

  1. 치료 영역 위 또는 근처에 적용된 광활성 가능 조성물을 활성화시키기 위한 제1 피크 파장을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원; 및
    상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광을 방출할 수 있는 제2 광원을 포함하고, 상기 제1 및 제2 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있는 광선치료용 장치.
  2. 제1 피크 파장을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원; 및
    상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광을 방출할 수 있는 제2 광원을 포함하고, 상기 제1 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있는 광선치료용 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 피크 파장은 약 430 내지 약 500nm, 약 440 내지 약 500nm, 약 450 내지 약 500nm, 약 430 내지 약 475nm, 약 435nm 내지 약 470nm, 약 440nm 내지 약 460nm, 약 445nm 내지 약 455nm, 약 440nm, 약 450nm, 약 460nm 또는 약 470nm인 광선치료용 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 피크 파장은 약 400nm 내지 약 500nm, 약 400nm 내지 약 475nm, 약 400nm 내지 약 450nm, 약 400nm 내지 약 430nm, 또는 약 410nm 내지 약 420nm, 또는 약 415nm인 광선치료용 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 피크 파장은 약 410nm 내지 약 430nm이고, 상기 제1 광의 피크 파장은 약 440nm 내지 약 470nm인 광선치료용 장치.
  6. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 제2 피크 파장은 약 480 내지 약 760nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 650nm, 약 480nm 내지 약 620nm, 약 500 내지 약 700nm, 약 520nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm, 약 540nm 내지 약 580nm, 약 500nm 내지 약 570nm, 약 570nm 내지 약 590nm, 약 590nm 내지 약 610nm, 약 610nm 내지 약 760nm인 광선치료용 장치.
  7. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 제2 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 적외선 범위 이내인 광선치료용 장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광 및 제2 광 중 적어도 하나는 약 20nm 이하의 대역폭을 가지는 광선치료용 장치.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 광 및 제2 광 중 적어도 하나는 약 19nm±5nm의 대역폭을 가지는 광선치료용 장치.
  10. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광은 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 폭을 갖는 광선치료용 장치.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광은 상기 제1 광의 대역폭보다 넓은 대역폭을 갖는 광선치료용 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1 광의 대역폭은 약 15nm 내지 약 25nm이고, 상기 제2 광의 대역폭은 약 20nm 내지 약 100nm인 광선치료용 장치.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 장치로부터 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 광의 평균 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 200mW/cm2, 약 10 내지 약 150mW/cm2, 20 내지 약 130mW/cm2, 약 55 내지 약 130mW/cm2, 약 90 내지 약 140mW/cm2, 약 100 내지 약 140mW/cm2, 또는 약 110 내지 약 135mW/cm2인 광선치료용 장치.
  14. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 장치로부터 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 광의 평균 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 85mW/cm2, 약 10 내지 약 75mW/cm2, 30 내지 약 70mW/cm2, 약 40mW/cm2 내지 약 70mW/cm2, 약 55 내지 약 65mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 85mW/cm2인 광선치료용 장치.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광의 평균 출력 밀도보다 낮은 광선치료용 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광 출력 밀도의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%인 광선치료용 장치.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    단일의 치료 동안, 상기 장치로부터 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 광의 플루엔스(fluence)는 약 4J/cm2 초과, 약 10J/cm2 초과, 약 15J/cm2 초과, 30 J/cm2 초과, 약 50J/cm2 초과, 최대 약 60J/cm2인 광선치료용 장치.
  18. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    단일의 치료 동안, 상기 장치로부터 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 광의 플루엔스(fluence)는 약 4J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 50J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 30J/cm2, 약 20J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 약 25J/cm2, 또는 약 10J/cm2 내지 약 20J/cm2인 광선치료용 장치.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광원에 의해 방출되거나 상기 제2 광원으로부터 상기 치료 영역으로 전달된 플루엔스는 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 상기 치료 영역으로 전달된 플루엔스보다 낮은 광선치료용 장치.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 제2 광원에 의해 방출되거나 상기 제2 광원으로부터 상기 치료 영역으로 전달된 플루엔스는 치료당, 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 상기 치료 영역으로 전달된 플루엔스의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%인 광선치료용 장치.
  21. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광은 상기 제1 광보다 큰 대역폭을 갖고, 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 평균 출력 밀도를 갖는 광선치료용 장치.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 플루엔스를 가지는 광선치료용 장치.
  23. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광은 상기 제1 광의 제1 피크 파장에서의 최대 출력보다 낮은 제2 피크 파장에서의 최대 출력을 가지는 광선치료용 장치.
  24. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광의 제1 발광 스펙트럼 및/또는 상기 제2 광의 제2 발광 스펙트럼을 가변시키기 위해서 상기 제1 광원 및 제2 광원들과 전자 통신하는 컨트롤러를 더 포함하고, 상기 제1 및 제2 발광 스펙트럼은 대역폭, 상기 피크 파장, 출력 밀도, 방출 시간 및 플루엔스로부터 선택된 하나 이상의 발광 스펙트럼 파라미터를 포함하는 광선치료용 장치.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 상기 제1 광 및 제2 광 각각의 발광 스펙트럼 파라미터들 중 하나 이상을 개별적으로 제어할 수 있는 광선치료용 장치.
  26. 제24항 또는 제25항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 치료 시간의 함수로서 상기 제1 광 및 제2 광의 발광 스펙트럼 파라미터들 중 하나 이상을 조절하도록 배열된 광선치료용 장치.
  27. 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,
    제3 광원을 더 포함하고, 제3 광원은 약 500nm 내지 약 750nm, 약 630 내지 약 750nm, 또는 약 750nm 내지 약 1mm의 피크 파장을 갖는 제3 광을 방출할 수 있는 광선치료용 장치.
  28. 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원 및 제2 광원은 비간섭성 광을 방출할 수 있는 광선치료용 장치.
  29. 제1항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원 및/또는 제2 광원은 하나 이상의 발광 다이오드(LED)들을 포함하는 광선치료용 장치.
  30. 제1항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원 및 제2 광원은 적어도 하나의 패널 상의 어레이로서 배열된 광선치료용 장치.
  31. 제30항에 있어서,
    상기 제1 광원 및 제2 광원은 서로로부터 약 4 내지 7mm, 약 4 내지 10mm, 약 10 내지 15mm, 또는 15 내지 20mm 이격된 광선치료용 장치.
  32. 제30항 또는 제31항에 있어서,
    서로에 대하여 이동 가능한 복수의 연결 가능한 패널들을 포함하는 광선치료용 장치.
  33. 제32항에 있어서,
    상기 패널들과 전자 통신하여 상기 패널들로부터의 발광을 개별적으로 제어하는 패널 컨트롤러를 포함하는 광선치료용 장치.
  34. 제30항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광원은 상기 어레이 내의 제1 광원들 사이에 상호 분산되어 있는 광선치료용 장치.
  35. 제1항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원 및 제2 광원은 실질적으로 균등하게 이격된 광선치료용 장치.
  36. 제1항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광 및/또는 상기 제2 광을 필터링하기 위한 하나 이상의 필터를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  37. 제1항 내지 제36항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광 및/또는 상기 제2 광을 제어하기 위한 콜리메이터(collimator)를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  38. 제1항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원 및 제2 광원은 상기 장치의 방출 면 상에 있되, 상기 장치는 치료 거리를 표시하도록 상기 방출 면으로부터 연장되는 스페이싱 프로브(spacing probe)를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  39. 제1항 내지 제38항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 장치의 냉각을 위해 상기 제1 광원 및/또는 제2 광원을 지지하는 하우징 내에 적어도 하나의 벤트(vent)를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  40. 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2의 평균 출력 밀도를 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원을 포함하는 광선치료용 장치.
  41. 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 19nm±약 5nm의 대역폭을 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원을 포함하는 광선치료용 장치.
  42. 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는 제1광을 방출할 수 있는 제1광원을 포함하는 광선치료용 장치.
  43. 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일의 치료 동안의 플루엔스를 갖는 제1 광을 방출할 수 있는 제1 광원을 포함하는 광선치료용 장치.
  44. 제41항 내지 제43항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광은 약 4 내지 약 75 mW/cm2, 또는 약 55 mW/cm2 내지 약 150 mW/cm2의 평균 출력 밀도를 가지는 광선치료용 장치.
  45. 제40항 내지 제42항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광은 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일의 치료 동안의 플루엔스를 가지는 광선치료용 장치.
  46. 제40항, 제41항 또는 제43항에 있어서,
    상기 제1 광은 약 400 내지 약 750nm의 대역폭, 및 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 가지는 광선치료용 장치.
  47. 제40항, 제42항 또는 제43항에 있어서,
    상기 제1 광은 약 19nm±약 5nm의 대역폭을 가지는 광선치료용 장치.
  48. 제40항 내지 제47항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원은 발광 다이오드(LED)들의 어레이를 포함하는, 광선치료용 장치.
  49. 제40항 내지 제48항 중 어느 한 항에 있어서,
    기 피크 파장은 약 400nm 내지 약 450nm, 약 450nm 내지 약 490nm, 약 490nm 내지 약 560nm, 약 560nm 내지 약 590nm, 약 590nm 내지 약 635nm, 또는 약 635nm 내지 약 720nm인 광선치료용 장치.
  50. 제40항 내지 제49항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 광의 발광 동안 제1 광의 출력 밀도, 대역폭, 피크 파장, 방출 시간 또는 에너지 플루엔스를 가변시키기 위한 컨트롤러를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  51. 제50항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 상기 장치에 의한 상기 제1 광의 발광 동안 제1 광의 출력 밀도를 감소시킬 수 있는 광선치료용 장치.
  52. 제48항 내지 제51항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원은 서로로부터 약 4 내지 7mm, 약 4 내지 10mm, 약 10 내지 15mm, 또는 약 15 내지 20mm 이격된 광선치료용 장치.
  53. 제48항 또는 제52항에 있어서,
    상기 LED 어레이는 패널 내에 수용되어 있고, 상기 장치는 서로에 대하여 이동 가능하게 연결된 하나 이상의 패널을 포함하는 광선치료용 장치.
  54. 제53항에 있어서,
    상기 하나 이상의 패널과 전자 통신하여 상기 하나 이상의 패널을 개별적으로 제어하는 패널 컨트롤러를 포함하는 광선치료용 장치.
  55. 제40항 내지 제54항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광을 필터링하기 위한 하나 이상의 필터를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  56. 제40항 내지 제55항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광을 제어하기 위한 콜리메이터(collimator)를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  57. 제40항 내지 제56항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광원은 상기 장치의 방출 면 상에 있되, 상기 장치는 치료 거리를 표시하도록 상기 방출 면으로부터 연장되는 스페이싱 프로브(spacing probe)를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  58. 제40항 내지 제57항 중 어느 한 항에 있어서,
    냉각을 위해 상기 제1 광원을 지지하는 하우징 내에 적어도 하나의 벤트(vent)를 더 포함하는 광선치료용 장치.
  59. 제40항 내지 제58항 중 어느 한 항에 있어서,
    제2 광을 방출할 수 있는 피크 파장을 갖는 제2 광원을 더 포함하고, 상기 제2 광은 하기 중 적어도 하나를 포함하는 장치:
    f) 상기 제1 광원의 대역폭보다 큰 대역폭,
    g) 상기 제1 광의 평균 출력 밀도보다 낮은 평균 출력 밀도,
    h) 상기 제1 광의 피크 파장에서의 출력보다 낮은 피크 파장에서의 출력,
    i) 상기 제1 광의 피크 파장보다 긴 피크 파장, 또는
    j) 상기 제1 광의 플루엔스보다 치료 시간 동안에 낮은 플루엔스.
  60. 제59항에 있어서,
    상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광 출력 밀도의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%인 광선치료용 장치.
  61. 제59항에 있어서,
    상기 제2 광원에 의해 방출되거나 상기 제2 광원으로부터 상기 치료 영역으로 전달된 플루엔스는 치료당, 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 상기 치료 영역에 전달된 플루엔스의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%인 광선치료용 장치.
  62. 제59항에 있어서,
    상기 제2 광의 대역폭은 20nm 초과, 약 20-100nm, 약 20-80nm, 약 20-60nm, 약 20-40nm인 광선치료용 장치.
  63. 제59항에 있어서,
    피크 파장에서의 출력은 상기 제1 광의 피크 파장에서의 출력의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%인 광선치료용 장치.
  64. 적어도 제1 세트 및 제2 세트의 LED들을 포함하는 어레이로 배열된 복수의 발광 다이오드(LED)를 갖는 램프 헤드, 상기 제1 세트 및 제2 세트의 각각은 적어도 하나의 LED를 포함한다;
    상기 램프 헤드에 전기적으로 연결되고 상기 LED들을 제어하고 작동시키기 위한 회로를 갖는 램프 컨트롤러를 포함하는 램프로서;
    상기 제1 세트의 LED들은 약 430nm 내지 약 500nm의 피크 파장을 갖는 제1 비간섭성 광을 생성할 수 있고;
    상기 제2 세트의 LED들은 약 400nm 내지 약 430nm의 피크 파장을 갖는 제2 비간섭성 광을 생성할 수 있고;
    상기 램프 헤드에 의해 생성될 수 있는 광의 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2인 램프.
  65. 제64항에 있어서,
    상기 제1 세트의 LED들은 약 19nm±5nm의 대역폭, 또는 약 13 내지 약 26nm의 대역폭을 갖는 광을 생성할 수 있는 램프.
  66. 제64항 또는 제65항에 있어서,
    상기 제2 세트의 LED들은 약 13nm 내지 약 20nm의 대역폭을 갖는 광을 생성할 수 있는 램프.
  67. 제64항 내지 제66항 중 어느 한 항에 있어서,
    제3 세트의 LED들을 더 포함하고, 상기 제3 세트의 LED는 약 500nm 내지 750nm의 피크 파장을 갖는 비간섭성 광을 생성할 수 있는 램프.
  68. 제64항 내지 제67항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 제1 광 및/또는 상기 제2 광의 하나 이상의 파라미터를 가변시키도록 배열되되, 상기 하나 이상의 파라미터는 출력 밀도, 대역폭, 파장, 플루엔스 및 방출 시간으로부터 선택되는 램프.
  69. 제64항 내지 제68항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 세트의 LED들은 상기 어레이에서 서로로부터 약 4 내지 7mm, 약 4 내지 10mm, 약 10 내지 15mm, 또는 약 15 내지 20mm 이격되어 있는 램프.
  70. 제64항 내지 제69항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 세트 LED들의 LED들은 서로 간에 상호 분산되어 있는 램프.
  71. 제64항 내지 제70항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 세트 LED들의 LED들은 상기 어레이에서 실질적으로 균등하게 이격되어 있는 램프.
  72. 제64항 내지 제71항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 램프 헤드는 상기 LED들을 수용하는 복수의 패널을 포함하되, 상기 패널들은 서로에 대하여 이동 가능한 램프.
  73. 제72항에 있어서,
    상기 램프 컨트롤러는 각각의 패널들의 LED를 개별적으로 제어할 수 있는 램프.
  74. 제64항 내지 제73항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및/또는 제2 광을 필터링하기 위한 하나 이상의 필터를 더 포함하는 램프.
  75. 제64항 내지 제74항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및/또는 제2 광을 콜리메이팅하기 위한 콜리메이터를 더 포함하는 램프.
  76. 제64항 내지 제75항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 세트 LED들의 어레이는 상기 램프의 방출 면 상에 있되, 상기 램프는 치료 거리를 표시하도록 상기 방출 면으로부터 연장되는 스페이싱 프로브(spacing probe)를 더 포함하는 램프.
  77. 제64항 내지 제76항 중 어느 한 항에 있어서,
    냉각을 위해 상기 램프 내에 적어도 하나의 벤트(vent)를 더 포함하는 램프.
  78. 제64항 내지 제77항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 램프는 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일 치료 동안에 플루엔스를 치료 표면에 방출하거나 전달하도록 배열된 램프.
  79. 제64항 내지 제78항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 출력 밀도는 약 10 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 150mW/cm2, 약 20 내지 약 130mW/cm2, 약 55 내지 약 130mW/cm2, 약 90 내지 약 140mW/cm2, 약 100 내지 약 140mW/cm2, 약 110 내지 약 135mW/cm2, 약 10 내지 약 85mW/cm2, 약 30 내지 약 70mW/cm2, 약 40 내지 약 70mW/cm2, 약 55 내지 약 65mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 85mW/cm2인 램프.
  80. 적어도 제1 세트 및 제2 세트의 LED들을 포함하는 어레이로 배열된 복수의 발광 다이오드(LED)를 갖는 램프 헤드, 상기 제1 세트 및 제2 세트의 각각은 적어도 하나의 LED를 포함한다;
    상기 램프 헤드에 전기적으로 연결되고 상기 LED들을 제어하고 작동시키기 위한 회로를 갖는 램프 컨트롤러를 포함하고;
    상기 제1 세트의 LED들은 약 400nm 내지 약 500nm의 피크 파장을 갖는 비간섭성 광을 생성할 수 있고; 상기 제2 세트의 LED들은 약 500nm 내지 약 760nm의 피크 파장을 갖는 비간섭성 광을 생성할 수 있고;
    상기 램프 헤드에 의해 생성될 수 있는 광의 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 150mW/cm2인 램프.
  81. 제80항에 있어서,
    상기 제1 세트의 LED들은 약 17nm 내지 약 23nm의 대역폭을 갖는 광을 생성할 수 있는 램프.
  82. 제80항 또는 제81항에 있어서,
    상기 제2 세트의 LED들은 약 20nm 내지 100nm, 약 25nm 내지 80nm, 약 30nm 내지 70nm, 또는 약 20 내지 약 60nm의 대역폭을 갖는 광을 생성할 수 있는 램프.
  83. 제80항 내지 제82항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 세트의 LED들은 상기 제2 세트의 LED들 보다 높은 출력 밀도를 생성할 수 있는 램프.
  84. 제80항 내지 제83항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 제1 광 및/또는 상기 제2 광의 하나 이상의 파라미터를 가변시키도록 배열되되, 상기 하나 이상의 파라미터는 출력 밀도, 대역폭, 피크 파장, 플루엔스 및 방출 시간으로부터 선택된 것인 램프.
  85. 제80항 내지 제84항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 세트의 LED들은 상기 어레이에서 서로로부터 약 4 내지 7mm, 약 4 내지 10mm, 약 10 내지 15mm, 또는 약 15 내지 20mm 이격되어 있는 램프.
  86. 제80항 내지 제85항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 세트 LED들의 LED들은 서로 간에 상호 분산되어 있는 램프.
  87. 제80항 내지 제86항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 세트 LED들의 LED들은 상기 어레이에서 실질적으로 균등하게 이격되어 있는 램프.
  88. 제80항 내지 제87항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 램프 헤드는 상기 LED들을 수용하는 복수의 패널을 포함하되, 상기 패널들은 서로에 대하여 이동 가능한 램프.
  89. 제88항에 있어서,
    상기 램프 컨트롤러는 각각의 패널들의 LED를 개별적으로 제어할 수 있는 램프.
  90. 제80항 내지 제89항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및/또는 제2 광을 필터링하기 위한 하나 이상의 필터를 더 포함하는 램프.
  91. 제80항 내지 제90항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및/또는 제2 광을 콜리메이팅하기 위한 콜리메이터를 더 포함하는 램프.
  92. 제80항 내지 제91항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 세트 LED들의 어레이는 상기 램프의 방출 면 상에 있되, 상기 램프는 치료 거리를 표시하도록 상기 방출 면으로부터 연장되는 스페이싱 프로브(spacing probe)를 더 포함하는 램프.
  93. 제80항 내지 제92항 중 어느 한 항에 있어서,
    냉각을 위해 상기 램프 내에 적어도 하나의 벤트(vent)를 더 포함하는 램프.
  94. 제80항 내지 제93항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 램프는 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일 치료 동안에 플루엔스를 치료 표면에 방출하거나 전달하도록 배열된 램프.
  95. 제80항 내지 제94항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 출력 밀도는 약 10 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 150mW/cm2, 약 20 내지 약 130mW/cm2, 약 55 내지 약 130mW/cm2, 약 90 내지 약 140mW/cm2, 약 100 내지 약 140mW/cm2, 약 110 내지 약 135mW/cm2, 약 10 내지 약 85mW/cm2, 약 30 내지 약 70mW/cm2, 약 40 내지 약 70mW/cm2, 약 55 내지 약 65mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 85mW/cm2인 램프.
  96. 광활성 가능 조성물을 가지는, 제1항 내지 제63항 중 어느 한 항에 따른 장치; 또는 제64항 내지 제95항 중 어느 한 항에 따른 램프의 용도.
  97. 제96항에 있어서,
    상기 광활성 가능 조성물은 약 400 내지 약 700nm, 약 420 내지 약 540nm, 약 420 내지 약 590nm, 또는 약 450nm 내지 약 700nm 범위에서 피크 여기 파장을 갖는 적어도 하나의 광 활성제를 포함하는 용도.
  98. 제96항 또는 제97항에 있어서,
    상기 광 활성제는 형광제인 용도.
  99. 티슈의 미용 치료를 위한, 제1항 내지 제63항 중 어느 한 항에 따른 장치; 또는 제64항 내지 제95항 중 어느 한 항에 따른 램프의 용도.
  100. 제99항에 있어서,
    상기 미용 치료는 피부 재생, 피부 컨디셔닝, 모공 크기 감소, 조직 광채(tissue luminosity) 증가, 및 흉터 감소 또는 제거로부터 선택되는 용도.
  101. 피부 상태 치료를 위한, 제1항 내지 제63항 중 어느 한 항에 따른 장치; 또는 제64항 내지 제95항 중 어느 한 항에 따른 램프의 용도.
  102. 제101항에 있어서,
    상기 피부 상태는 여드름, 주사비(rosacea), 건선(psoriasis), 습진(eczema), 피부염(dermatitis), 염증 및 염증성 피부 상태를 포함하는 용도.
  103. 상처 치유를 위한, 제1항 내지 제63항 중 어느 한 항에 따른 장치; 또는 제64항 내지 제95항 중 어느 한 항에 따른 램프의 용도.
  104. 박테리아, 바이러스 또는 곰팡이 감염 치료를 위한, 제1항 내지 제63항 중 어느 한 항에 따른 장치; 또는 제64항 내지 제95항 중 어느 한 항에 따른 램프의 용도.
  105. 세균 발육 억제(bacteriostatic) 및/또는 살균 효과를 위한, 제1항 내지 제63항 중 어느 한 항에 따른 장치; 또는 제64항 내지 제95항 중 어느 한 항에 따른 램프의 용도.
  106. 광활성 가능 조성물을 활성화하기 위한 모바일 기기의 용도로서, 상기 모바일 기기는 상기 광활성 가능 조성물 중의 광 활성제의 흡광 스펙트럼과 중첩되는 발광 스펙트럼을 갖는 광을 방출할 수 있는 용도.
  107. 광활성 가능 조성물을 활성화하기 위한 텔레비전 또는 컴퓨터 모니터 표시 스크린의 용도로서, 상기 표시 스크린은 상기 광활성 가능 조성물 중의 광 활성제의 흡광 스펙트럼과 중첩되는 발광 스펙트럼을 갖는 광을 방출할 수 있는 용도.
  108. 제106항 또는 제107항에 있어서,
    상기 모바일 기기 또는 상기 표시 스크린은 약 15분, 30분, 45분, 1시간, 2시간, 3시간, 4시간, 5시간, 6시간, 7시간 또는 8시간의 조사 후에 광활성 가능 조성물을 광활성화시킬 수 있는 광원을 가진 용도.
  109. 제106항 내지 제108항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광활성 가능 조성물은 약 400 내지 약 700nm, 약 420 내지 약 540nm, 약 540 내지 약 590nm, 약 590 내지 약 635nm, 또는 약 635nm 내지 약 700nm 범위에서 피크 여기 파장을 갖는 적어도 하나의 광 활성제를 포함하는 용도.
  110. 제106항 내지 제108항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 모바일 기기, 텔레비전 또는 컴퓨터 모니터 표시 스크린은 제1항 내지 제63항 중 어느 한 항에 따른 장치; 또는 제64항 내지 제95항 중 어느 한 항에 따른 램프를 포함하는 용도.
  111. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서,
    광활성 가능 조성물을 활성화시킬 수 있는 제1 피크 파장을 갖는 제1 광으로 상기 조직 위의 치료 영역 위 또는 근처에 적용된 광활성 가능 조성물 또는 상기 조직 위의 치료 영역을 조사하는 단계; 및
    상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광으로 상기 조직 위의 동일하거나 상이한 광활성 가능 조성물 또는 상기 치료 영역을 조사하는 단계를 포함하고, 상기 제1 및 제2 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있는 방법.
  112. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서,
    제1 피크 파장을 갖는 제1 광으로 상기 조직을 조사하는 단계; 및
    상기 제1 피크 파장과 다른 제2 피크 파장을 갖는 제2 광으로 상기 조직을 조사하는 단계를 포함하고, 상기 제1 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 청색 및/또는 보라색 영역 내에 있는 방법.
  113. 제112항에 있어서,
    상기 조직을 조사하기 전에 상기 조직 위의 처리 영역 위 또는 근처에 광활성 가능 조성물을 적용하는 단계를 더 포함하는 방법.
  114. 제111항 내지 제113항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 피크 파장은 약 430 내지 약 500nm, 약 440 내지 약 500nm, 약 450 내지 약 500nm, 약 430 내지 약 475nm, 약 440nm 내지 약 460nm, 약 445nm 내지 약 455nm, 약 435nm 내지 약 470nm, 약 440nm, 약 450nm, 약 460nm 또는 약 470nm인 방법.
  115. 제111항 또는 제113항 또는 제114항에 있어서,
    상기 제2 광은 약 400nm 내지 약 500nm, 약 400nm 내지 약 475nm, 약 400nm 내지 약 450nm, 약 400nm 내지 약 430nm, 또는 약 410nm 내지 약 420nm, 약 415nm의 피크 파장을 가지는 방법.
  116. 제111항에 있어서,
    상기 제1 피크 파장은 약 410nm 내지 약 430nm일 수 있고, 상기 제2 피크 파장은 약 440nm 내지 약 470nm인 방법.
  117. 제112항 내지 제114항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 피크 파장은 약 480 내지 약 760nm, 약 480nm 내지 약 700nm, 약 480nm 내지 약 650nm, 약 480nm 내지 약 620nm, 약 500 내지 약 700nm, 약 520nm 내지 약 700nm, 약 500nm 내지 약 660nm, 약 540nm 내지 약 640nm, 약 540nm 내지 약 580nm, 약 500nm 내지 약 570nm, 약 570nm 내지 약 590nm, 약 590nm 내지 약 610nm, 약 610nm 내지 약 760nm인 방법.
  118. 제112항 내지 제114항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 피크 파장은 전자기 스펙트럼의 적외선 범위 이내에 있는 방법.
  119. 제111항 내지 제118항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광 및 제2 광 중 적어도 하나는 약 20nm 이하의 대역폭을 갖는 방법.
  120. 제111항 내지 제119항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광 및 제2 광 중 적어도 하나는 약 19nm±5nm의 대역폭을 갖는 방법.
  121. 제111항 내지 제118항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광은 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는, 방법.
  122. 제111항 내지 제121항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 광은 상기 제1 광의 대역폭보다 넓은 대역폭을 갖는 방법.
  123. 제122항에 있어서,
    상기 제1 광의 대역폭은 약 15nm 내지 약 25nm이고, 상기 제2 광의 대역폭은 약 20nm 내지 약 100nm인 방법.
  124. 제111항 내지 제123항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광 및 제2 광에 의해 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 평균 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 200mW/cm2, 약 10 내지 약 150mW/cm2, 약 20 내지 약 130mW/cm2, 약 55 내지 약 130mW/cm2, 약 90 내지 약 140mW/cm2, 약 100 내지 약 140mW/cm2, 또는 약 110 내지 약 135mW/cm2인 방법.
  125. 제111항 내지 제123항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광 및 제2 광에 의해 방출되고 그리고/또는 상기 치료 영역에 의해 수신된 평균 출력 밀도는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 약 15 내지 약 75mW/cm2, 약 10 내지 약 85mW/cm2, 약 10 내지 약 75mW/cm2, 약 30 내지 약 70mW/cm2, 약 40mW/cm2 내지 약 70mW/cm2, 약 55 내지 약 65mW/cm2, 또는 약 55 내지 약 85mW/cm2인 방법.
  126. 제111항 내지 제125항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광의 평균 출력 밀도보다 낮은 방법.
  127. 제126항에 있어서,
    상기 제2 광의 평균 출력 밀도는 상기 제1 광 출력 밀도의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%인 방법.
  128. 제111항 내지 제126항 중 어느 한 항에 있어서,
    단일의 치료 동안, 치료 영역에 의해 수신된 광의 플루엔스는 약 4J/cm2 초과, 약 10J/cm2 초과, 약 15J/cm2 초과, 약 30J/cm2 초과, 약 50J/cm2 초과, 약 60J/cm2까지인 방법.
  129. 제111항 내지 제126항 중 어느 한 항에 있어서,
    단일의 치료 동안, 치료 영역에 의해 수신된 광의 플루엔스는 약 4J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 60J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 50J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 10J/cm2 내지 약 30J/cm2, 약 20J/cm2 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 약 25J/cm2, 또는 약 10J/cm2 내지 약 20J/cm2인 방법.
  130. 제128항 또는 제129항에 있어서,
    상기 단일의 치료는 약 30분까지 동안, 약 1 내지 약 30분 동안, 약 1 내지 약 25분 동안, 약 1 내지 약 20분 동안, 약 1 내지 약 19분 동안, 약 1 내지 약 18분 동안, 약 1 내지 약 17분 동안, 약 1 내지 약 16분 동안, 약 1 내지 약 15분 동안, 약 1 내지 약 14분 동안, 약 1 내지 약 13분 동안, 약 1 내지 약 12분 동안, 약 1 내지 약 11분 동안, 약 1 내지 약 10분 동안, 약 1 내지 약 9분 동안, 약 1 내지 약 8분 동안, 약 1 내지 약 7분 동안, 약 1 내지 약 6분 동안, 약 1 내지 약 5분 동안, 약 1 내지 약 4분 동안, 또는 약 1 내지 약 3분 동안 상기 조직 또는 상기 광활성 가능 조성물을 조사하는 단계를 포함하는 방법.
  131. 제111항 내지 제130항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광원으로부터 상기 치료 영역에 전달된 플루엔스는 상기 제1 광원에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 상기 치료 영역에 전달된 플루엔스보다 낮은 방법.
  132. 제131항에 있어서,
    상기 제2 광원으로부터 상기 치료 영역에 전달된 플루엔스는 치료당, 제1 광에 의해 방출되거나 상기 제1 광원으로부터 상기 치료 영역에 전달된 플루엔스의 약 0.1% 내지 약 90%, 약 0.1% 내지 약 80%, 약 0.1% 내지 약 70%, 약 0.1% 내지 약 60%, 약 0.1% 내지 약 50%, 약 0.1% 내지 약 40%, 약 0.1% 내지 약 30%, 약 0.1% 내지 약 20%, 약 0.1% 내지 약 10%, 약 0.1% 내지 약 9%, 약 0.1% 내지 약 8%, 약 0.1% 내지 약 7%, 약 0.1% 내지 약 6%, 약 0.1% 내지 약 5%, 약 0.1% 내지 약 4%, 약 0.1% 내지 약 3%, 약 0.1% 내지 약 2%, 약 0.1% 내지 약 1%인 방법.
  133. 제111항 내지 제132항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광은 상기 제1 광보다 큰 대역폭을 가지고, 여기서 상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 평균 출력 밀도를 갖는 방법.
  134. 제133항에 있어서,
    상기 제2 광은 상기 제1 광보다 낮은 플루엔스를 갖는 방법.
  135. 제111항 내지 제134항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광은 상기 제1 광의 피크 파장에서의 최대 출력보다 낮은 피크 파장에서의 최대 출력을 갖는 방법.
  136. 제111항 내지 제135항 중 어느 한 항에 있어서, 치료 시간 동안에 상기 제1 광 및/또는 제2 광의 발광 스펙트럼을 가변시키는 단계를 더 포함하고, 각각의 상기 제1 광 및 제2 광의 발광 스펙트럼은 대역폭, 피크 파장, 출력 밀도, 발광 시간 및 플루엔스로부터 선택된 하나 이상의 발광 스펙트럼 파라미터를 포함하는, 방법.
  137. 제111항 내지 제136항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및/또는 제2 광은 발광 다이오드(LED)들에 의해 생성되는 방법.
  138. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 75mW/cm2, 내지 약 55mW/cm2 내지 약 150 mW/cm2의 출력 밀도를 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함하는 방법.
  139. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 19nm±약 5nm의 대역폭을 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함하는, 방법.
  140. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 갖는 제1 광으로 상기 조직을 조사하는 단계를 포함하는 방법.
  141. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장을 갖는 제1 광으로 상기 조직을 조사하는 단계, 및 상기 조직의 조사 동안에 상기 제1 광의 피크 파장, 대역폭, 출력 밀도 또는 플루엔스 중 적어도 하나를 조절하는 단계를 포함하는 방법.
  142. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서, 약 400 내지 약 750nm의 피크 파장, 및 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일 치료 동안의 플루엔스를 갖는 제1 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함하는 방법.
  143. 제139항 내지 제141항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광은 약 4 내지 약 75 mW/cm2, 또는 약 55 mW/cm2 내지 약 150 mW/cm2의 평균 출력 밀도를 가지는, 방법.
  144. 제138항 내지 제142항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광은 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일의 치료 동안의 플루엔스를 가지는 방법.
  145. 제138항, 제140항 또는 제142항에 있어서,
    상기 제1 광은 약 15nm 내지 약 100nm, 약 25nm 내지 약 80nm, 약 30nm 내지 약 70nm, 또는 약 20nm 내지 약 50nm의 대역폭을 가지는 방법.
  146. 제138항 내지 제145항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 피크 파장은 약 400nm 내지 약 450nm, 약 450nm 내지 약 490nm, 약 490nm 내지 약 560nm, 약 560nm 내지 약 590nm, 약 590nm 내지 약 635nm, 또는 약 635nm 내지 약 720nm인 방법.
  147. 제142항 또는 제144항에 있어서,
    상기 단일의 치료는 약 30분까지 동안, 약 1 내지 약 30분 동안, 약 1 내지 약 25분 동안, 약 1 내지 약 20분 동안, 약 1 내지 약 19분 동안, 약 1 내지 약 18분 동안, 약 1 내지 약 17분 동안, 약 1 내지 약 16분 동안, 약 1 내지 약 15분 동안, 약 1 내지 약 14분 동안, 약 1 내지 약 13분 동안, 약 1 내지 약 12분 동안, 약 1 내지 약 11분 동안, 약 1 내지 약 10분 동안, 약 1 내지 약 9분 동안, 약 1 내지 약 8분 동안, 약 1 내지 약 7분 동안, 약 1 내지 약 6분 동안, 약 1 내지 약 5분 동안, 약 1 내지 약 4분 동안, 또는 약 1 내지 약 3분 동안 상기 조직 또는 광활성 가능 조성물을 조사하는 단계를 포함하는 방법.
  148. 조직의 미용 또는 의료 치료용 방법으로서,
    약 430nm 내지 약 500nm의 피크 파장을 갖는 제1 광원으로부터의 비간섭성 광으로 상기 조직을 조사하는 단계;
    약 400nm 내지 약 430nm의 피크 파장을 갖는 제2 광원으로부터의 비간섭성 광으로 조직을 조사하는 단계를 포함하고; 상기 조직에는 약 4 내지 약 75mW/cm2, 또는 약 55mW/cm2 내지 약 150mW/cm2의 광의 총 출력 밀도가 조사되는 방법.
  149. 제147항에 있어서,
    상기 방법은 상기 광을 조사하기 전에 상기 조직에 광활성 가능 조성물을 적용하는 단계를 더 포함하는 방법.
  150. 제148항 또는 제149항에 있어서,
    상기 제1 광원 및 상기 제2 광은 약 4 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 60J/cm2, 약 10 내지 약 50J/cm2, 약 10 내지 약 40J/cm2, 약 10 내지 약 30J/cm2, 약 20 내지 약 40J/cm2, 약 15J/cm2 내지 25J/cm2, 또는 약 10 내지 약 20J/cm2의 단일 치료 동안의 플루엔스를 갖는 방법.
  151. 제150항에 있어서,
    상기 단일의 치료는 약 30분까지 동안, 약 1 내지 약 30분 동안, 약 1 내지 약 25분 동안, 약 1 내지 약 20분 동안, 약 1 내지 약 19분 동안, 약 1 내지 약 18분 동안, 약 1 내지 약 17분 동안, 약 1 내지 약 16분 동안, 약 1 내지 약 15분 동안, 약 1 내지 약 14분 동안, 약 1 내지 약 13분 동안, 약 1 내지 약 12분 동안, 약 1 내지 약 11분 동안, 약 1 내지 약 10분 동안, 약 1 내지 약 9분 동안, 약 1 내지 약 8분 동안, 약 1 내지 약 7분 동안, 약 1 내지 약 6분 동안, 약 1 내지 약 5분 동안, 약 1 내지 약 4분 동안, 또는 약 1 내지 약 3분 동안 상기 조직 또는 광활성 가능 조성물을 조사하는 단계를 포함하는 방법.
  152. 실질적으로 도면들을 참고하여 설명되고 그리고/또는 상기 도면들에 도시된 장치 또는 램프.
  153. 도면들을 참고하여 설명되고 그리고/또는 상기 도면들에 도시된 방법.
KR1020157026777A 2013-03-01 2014-02-28 광선치료 장치, 방법 및 용도 KR20150143456A (ko)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361771466P 2013-03-01 2013-03-01
US61/771,466 2013-03-01
US201361786140P 2013-03-14 2013-03-14
US61/786,140 2013-03-14
US14/194,216 2014-02-28
PCT/CA2014/000161 WO2014131115A1 (en) 2013-03-01 2014-02-28 Phototherapeutic device, method and use
US14/194,216 US20140303547A1 (en) 2013-03-01 2014-02-28 Phototherapeutic device, method and use

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150143456A true KR20150143456A (ko) 2015-12-23

Family

ID=51427431

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157026777A KR20150143456A (ko) 2013-03-01 2014-02-28 광선치료 장치, 방법 및 용도

Country Status (11)

Country Link
US (1) US20140303547A1 (ko)
JP (1) JP2016511672A (ko)
KR (1) KR20150143456A (ko)
AU (1) AU2014223268A1 (ko)
BR (1) BR112015020804A2 (ko)
CA (1) CA2902360A1 (ko)
IL (1) IL240783A0 (ko)
MX (1) MX2015011296A (ko)
RU (1) RU2015141708A (ko)
WO (1) WO2014131115A1 (ko)
ZA (1) ZA201506216B (ko)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101877320B1 (ko) * 2016-07-15 2018-07-11 주식회사 이루다 레이저 및 고주파를 이용한 한방 뜸 및 침 장치
KR20190006023A (ko) * 2016-05-26 2019-01-16 샌 디에고 스테이트 유니버시티 리써치 파운데이션 펄스화된 보라색 또는 청색 광을 이용한 미생물의 광박멸
WO2019182236A1 (ko) * 2018-03-21 2019-09-26 계명대학교 산학협력단 욕창의 진단 및 치료가 동시에 가능한 바이오 포토닉스 장치, 및 그 이용을 통한 욕창의 치료방법
KR102079094B1 (ko) * 2019-12-03 2020-02-19 임현태 육각구조 광원 배치를 통해 조사밀도가 증가된 통증치료기
WO2020036436A1 (ko) * 2018-08-14 2020-02-20 서울바이오시스 주식회사 광 조사 장치
WO2020190022A1 (ko) * 2019-03-19 2020-09-24 서울바이오시스 주식회사 광 조사 장치
US10967197B2 (en) 2018-08-29 2021-04-06 Azulite, Inc. Phototherapy devices and methods for treating truncal acne and scars
KR20230015801A (ko) * 2021-07-23 2023-01-31 현광철 광 치료 장치 및 그 제어 방법
US12048853B2 (en) 2019-08-13 2024-07-30 Seoul Viosys Co., Ltd. Light irradiation apparatus

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5478631B2 (ja) 2008-11-07 2014-04-23 クロクス テクノロジーズ インコーポレイテッド 創傷治癒のための酸化剤および光活性化剤の組み合わせ
NZ598266A (en) 2009-07-17 2014-03-28 Klox Technologies Inc Combination of an oxidant, a photosensitizer and a wound healing agent for oral disinfection and treatment of oral disease
US20130281913A1 (en) 2012-04-20 2013-10-24 Klox Technologies Inc. Biophotonic compositions and methods for providing biophotonic treatment
US11116841B2 (en) 2012-04-20 2021-09-14 Klox Technologies Inc. Biophotonic compositions, kits and methods
US20140276354A1 (en) 2013-03-14 2014-09-18 Klox Technologies Inc. Biophotonic materials and uses thereof
AU2014286868B2 (en) 2013-07-03 2019-12-19 Klox Technologies Inc. Biophotonic compositions comprising a chromophore and a gelling agent for treating wounds
WO2015117159A1 (en) 2014-02-03 2015-08-06 Skylit Corporation Systems and methods for phototherapy
AR099941A1 (es) 2014-04-01 2016-08-31 Klox Tech Inc Composiciones para relleno de tejido y métodos de uso
US11358002B2 (en) 2014-05-29 2022-06-14 Raymond R. Blanche Method and apparatus for non-thermal nail, foot, and hand fungus treatment
US9555262B2 (en) 2014-05-29 2017-01-31 New Skin Therapies, LLC Method and apparatus for non-thermal nail, foot, and hand fungus treatment
US20160015840A1 (en) * 2014-07-16 2016-01-21 LiteProducts LLC Device and method for inactivating pathogens using visible light
SG11201808015VA (en) 2014-09-18 2018-10-30 Xenex Disinfection Services Llc Room and area disinfection utilizing pulsed light with modulated power flux and light systems with visible light compensation between pulses
EP3206721A1 (en) 2014-10-15 2017-08-23 Xenex Disinfection Services, LLC Pre-doffing disinfection systems and methods
US11421349B2 (en) 2014-10-31 2022-08-23 Klox Technologies Inc. Photoactivatable fibers and fabric media
EP3782572A1 (en) 2015-04-10 2021-02-24 Zerigo Health, Inc. Phototherapy light engine
US11638834B2 (en) 2015-07-24 2023-05-02 Zerigo Health, Inc. Systems and methods for phototherapy control
US20170056684A1 (en) * 2015-08-31 2017-03-02 Sasson Elihue Moulavi Lipolysis exercise device.
PL3362145T3 (pl) 2015-10-15 2021-07-19 Dusa Pharmaceuticals, Inc. Regulowany oświetlacz do terapii fotodynamicznej i diagnostyki
US10603508B2 (en) 2015-10-15 2020-03-31 Dusa Pharmaceuticals, Inc. Adjustable illuminators and methods for photodynamic therapy and diagnosis
US20190022218A1 (en) 2016-01-11 2019-01-24 Klox Technologies Limited Biophotonic compositions for the treatment of pyoderma
EP3202359B1 (en) 2016-02-02 2021-08-25 Braun GmbH Skin treatment device
ES2893295T3 (es) * 2016-02-02 2022-02-08 Braun Gmbh Dispositivo para el tratamiento de la piel
US10981017B2 (en) 2016-05-26 2021-04-20 San Diego State University Research Foundation Photoeradication of microorganisms with pulsed purple or blue light
US10898600B2 (en) * 2016-08-10 2021-01-26 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Disinfecting method and disinfecting apparatus
JP7261994B2 (ja) * 2016-08-10 2023-04-21 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 抗菌方法及び抗菌装置
CN106328795A (zh) * 2016-10-21 2017-01-11 电子科技大学 一种医用光疗的pc‑LEDs灯
JP7382832B2 (ja) * 2017-04-14 2023-11-17 デューサ ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド 光線力学療法及び診断のための調節可能な照射装置及び方法
US11590248B2 (en) * 2017-10-30 2023-02-28 Hubbell Lighting, Inc. Pulsing high intensity narrow spectrum light
CN107812321A (zh) * 2017-11-01 2018-03-20 深圳市汇健医疗工程有限公司 一种icu人造太阳***
WO2019095073A1 (en) * 2017-11-17 2019-05-23 Klox Technologies Limited Modulation of biophotonic regimens
KR20200115498A (ko) * 2017-12-29 2020-10-07 세루스 코포레이션 생물학적 유체를 처리하기 위한 시스템 및 방법
US10357567B1 (en) 2018-01-12 2019-07-23 Dusa Pharmaceuticals, Inc. Methods for photodynamic therapy
US11241374B2 (en) 2018-06-28 2022-02-08 Johnson & Johnson Consumer Inc. Compositions and methods for treating skin conditions using light and glucosamine hydrochloride
DE202018105021U1 (de) 2018-09-03 2018-09-19 Rüdiger Schloo Kabelloses Lichttherapiegerät für die Dusche
US11458328B2 (en) 2018-10-22 2022-10-04 Joovv, Inc. Photobiomodulation therapy device accessories
US10478635B1 (en) 2018-10-22 2019-11-19 Joovv, Inc. Photobiomodulation therapy systems and methods
US11280096B1 (en) * 2018-10-31 2022-03-22 Harry Bussey Cushioning preform for flooring
RU2716616C1 (ru) * 2019-04-17 2020-03-13 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Северо-Западный государственный медицинский университет им. И.И. Мечникова" Министерства здравоохранения Российской Федерации Способ лечения пациентов с псориазом в прогрессирующей стадии
RU2716617C1 (ru) * 2019-04-17 2020-03-13 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Северо-Западный государственный медицинский университет им. И.И. Мечникова" Министерства здравоохранения Российской Федерации Способ лечения пациентов псориазом в прогрессирующей стадии
EP3975948A4 (en) 2019-06-03 2023-06-28 Cooler Heads Care, Inc. Cooling cap assembly and cooling unit
MX2021015653A (es) 2019-06-22 2022-04-11 Cerus Corp Sistemas de tratamiento de fluidos biologicos.
AU2020308035A1 (en) 2019-06-28 2022-02-17 Cerus Corporation System and methods for implementing a biological fluid treatment device
WO2021092570A1 (en) * 2019-11-08 2021-05-14 EcoSense Lighting, Inc. Dynamic display lighting systems with bioactive lighting
JP2023504781A (ja) * 2019-11-27 2023-02-07 ナショナル ユニバーシティー オブ シンガポール 微生物を除去するシステムおよび方法
WO2021146813A1 (en) * 2020-01-23 2021-07-29 Klox Technologies Inc. Polarized fluorescent light therapy system and method
US11612669B2 (en) 2020-08-21 2023-03-28 University Of Washington Disinfection method and apparatus
US11529153B2 (en) 2020-08-21 2022-12-20 University Of Washington Vaccine generation
US20220062461A1 (en) * 2020-09-02 2022-03-03 University Of Washington Photosensitizer combination
US11425905B2 (en) 2020-09-02 2022-08-30 University Of Washington Antimicrobial preventive netting
USD1004789S1 (en) 2020-09-21 2023-11-14 Joovv, Inc. Photobiomodulation therapy device
USD963873S1 (en) 2020-09-21 2022-09-13 Joovv, Inc. Floor stand for a photobiomodulation therapy device
US11458220B2 (en) 2020-11-12 2022-10-04 Singletto Inc. Microbial disinfection for personal protection equipment
CN112402808A (zh) * 2020-11-18 2021-02-26 尹垚懿 一种寄生物灭活装置
US20220304951A1 (en) * 2021-03-26 2022-09-29 Lispiro Llc Anticancer compositions and methods for using same
WO2024038286A1 (en) 2022-08-19 2024-02-22 Aesthetic Technology Ltd Phototherapy device for light emission

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8182473B2 (en) * 1999-01-08 2012-05-22 Palomar Medical Technologies Cooling system for a photocosmetic device
US6887260B1 (en) * 1998-11-30 2005-05-03 Light Bioscience, Llc Method and apparatus for acne treatment
US6663659B2 (en) * 2000-01-13 2003-12-16 Mcdaniel David H. Method and apparatus for the photomodulation of living cells
US20030216795A1 (en) * 1999-07-07 2003-11-20 Yoram Harth Apparatus and method for high energy photodynamic therapy of acne vulgaris, seborrhea and other skin disorders
GB2370992B (en) * 2000-03-23 2002-11-20 Photo Therapeutics Ltd Therapeutic light source and method
US20030009158A1 (en) * 2001-07-09 2003-01-09 Perricone Nicholas V. Skin treatments using blue and violet light
US20040147984A1 (en) * 2001-11-29 2004-07-29 Palomar Medical Technologies, Inc. Methods and apparatus for delivering low power optical treatments
US7081128B2 (en) * 2002-03-04 2006-07-25 Hart Barry M Phototherapy device and method of use
US7201766B2 (en) * 2002-07-03 2007-04-10 Life Support Technologies, Inc. Methods and apparatus for light therapy
US20080091250A1 (en) * 2002-09-26 2008-04-17 Lumiport, Llc Light therapy desk lamp
US7931028B2 (en) * 2003-08-26 2011-04-26 Jay Harvey H Skin injury or damage prevention method using optical radiation
US20040218387A1 (en) * 2003-03-18 2004-11-04 Robert Gerlach LED lighting arrays, fixtures and systems and method for determining human color perception
CA2457214A1 (en) * 2004-02-06 2005-08-06 Qlt Inc. Photodynamic therapy for the treatment of acne
US20080125835A1 (en) * 2006-02-02 2008-05-29 Richard Laurent Method and apparatus for light therapy
US8246611B2 (en) * 2006-06-14 2012-08-21 Candela Corporation Treatment of skin by spatial modulation of thermal heating
WO2009023968A1 (en) * 2007-08-20 2009-02-26 UNIVERSITé LAVAL Artificial light apparatus and its use for influencing a condition in a subject
US9079022B2 (en) * 2007-09-27 2015-07-14 Led Intellectual Properties, Llc LED based phototherapy device for photo-rejuvenation of cells
JP4740934B2 (ja) * 2007-12-07 2011-08-03 シャープ株式会社 照明装置
WO2010078368A1 (en) * 2008-12-30 2010-07-08 Ultradent Products, Inc. Dental curing light having unibody design that acts as a heat sink
JP2012514498A (ja) * 2009-01-05 2012-06-28 プレクストロニクス インコーポレイテッド 有機発光ダイオード光線療法照明システム
US8574490B2 (en) * 2009-03-31 2013-11-05 Bactriblue, Ltd. Methods and apparatus for reducing count of infectious agents in intravenous access systems

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190006023A (ko) * 2016-05-26 2019-01-16 샌 디에고 스테이트 유니버시티 리써치 파운데이션 펄스화된 보라색 또는 청색 광을 이용한 미생물의 광박멸
KR101877320B1 (ko) * 2016-07-15 2018-07-11 주식회사 이루다 레이저 및 고주파를 이용한 한방 뜸 및 침 장치
WO2019182236A1 (ko) * 2018-03-21 2019-09-26 계명대학교 산학협력단 욕창의 진단 및 치료가 동시에 가능한 바이오 포토닉스 장치, 및 그 이용을 통한 욕창의 치료방법
WO2020036436A1 (ko) * 2018-08-14 2020-02-20 서울바이오시스 주식회사 광 조사 장치
CN111093766A (zh) * 2018-08-14 2020-05-01 首尔伟傲世有限公司 光照射装置
US10967197B2 (en) 2018-08-29 2021-04-06 Azulite, Inc. Phototherapy devices and methods for treating truncal acne and scars
US11992698B2 (en) 2019-03-19 2024-05-28 Seoul Viosys Co., Ltd. Light irradiation device
WO2020190022A1 (ko) * 2019-03-19 2020-09-24 서울바이오시스 주식회사 광 조사 장치
US12048853B2 (en) 2019-08-13 2024-07-30 Seoul Viosys Co., Ltd. Light irradiation apparatus
KR102079094B1 (ko) * 2019-12-03 2020-02-19 임현태 육각구조 광원 배치를 통해 조사밀도가 증가된 통증치료기
WO2021112484A1 (ko) * 2019-12-03 2021-06-10 (주) 헥사이노힐 육각구조 광원 배치를 통해 조사밀도가 증가된 통증치료기
KR20240007308A (ko) * 2021-07-23 2024-01-16 인하대학교 산학협력단 광 조사 장치 및 그 제어 방법
KR20230015801A (ko) * 2021-07-23 2023-01-31 현광철 광 치료 장치 및 그 제어 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20140303547A1 (en) 2014-10-09
MX2015011296A (es) 2016-04-04
ZA201506216B (en) 2019-04-24
JP2016511672A (ja) 2016-04-21
RU2015141708A (ru) 2017-04-06
IL240783A0 (en) 2015-10-29
AU2014223268A1 (en) 2015-09-17
CA2902360A1 (en) 2014-09-04
WO2014131115A1 (en) 2014-09-04
BR112015020804A2 (pt) 2017-07-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20150143456A (ko) 광선치료 장치, 방법 및 용도
US20160016001A1 (en) Phototherapeutic device, method and use
EP2961478A1 (en) Phototherapeutic device, method and use
US11617895B2 (en) Systems and methods for phototherapeutic modulation of nitric oxide
EP2968972B1 (en) Quantum dot light-emitting diodes for phototherapy
US20120123507A1 (en) Phototherapeutic Apparatus and Method
RU2012110193A (ru) Устройство для облучения актиничным излучением с разными длинами волн
US20190168017A1 (en) Phototherapy device and phototherapy method
US20220233878A1 (en) Light source for eye therapy and light emitting device having the same
EP3275506A1 (en) Blue light photobiomodulation
CN100591394C (zh) 一种发光二极管光治疗仪
JP2012016438A (ja) ユーザーの皮膚を処置する装置
De Jode et al. A comparison of novel light sources for photodynamic therapy
CA2947392C (en) Apparatus and method for multiwavelength photodynamic therapy
Plavskiĭ et al. Phototherapeutic systems for the treatment of hyperbilirubinemia of newborns
EP2386329A1 (en) Apparatus for the skin treatment with visible light
JP2013146529A (ja) 混合光刺激方法及び混合光刺激装置
KR101561448B1 (ko) 미립자를 포함하는 도광판을 이용한 광치료기
US20170281965A1 (en) Assembly for photodynamic therapy
JPS62286473A (ja) 光線治療、美容の照射方法及び光線治療、美容の照射装置

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid