KR20150107926A - 스트립 표면 처리 장치 - Google Patents

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KR20150107926A KR1020140029541A KR20140029541A KR20150107926A KR 20150107926 A KR20150107926 A KR 20150107926A KR 1020140029541 A KR1020140029541 A KR 1020140029541A KR 20140029541 A KR20140029541 A KR 20140029541A KR 20150107926 A KR20150107926 A KR 20150107926A
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Abstract

본 발명은 스트립을 탱크 내부로 진입할 수 있도록 가이드 하기 위한 전단 상,하부 롤; 상기 스트립의 표면을 처리하기 위한 용액을 분사하기 위한 스트립 상,하부 공급 노즐; 상기 표면 처리가 된 스트립을 상기 탱크 외부로 가이드 하기 위한 후단 상,하부 롤; 및 상기 후단 상부 롤의 이물질을 제거하기 위하여 상기 후단 상부 롤의 표면에 밀착하여 마련되는 이물질 제거 장치;를 포함하는 스트립 표면 처리 장치에 관한 것이다.

Description

스트립 표면 처리 장치{Device for cleaning strip surface}
본 발명은 스트립 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 스트립의 표면처리에 필요한 공정을 수행하기 위한 스트립 표면 처리 장치에 관한 것이다.
전기도금 강판 예컨대, 전기 아연 도금 스트립은 우수한 내식성을 바탕으로 일반 건축자재용을 비롯하여 이러한 표면관리가 요구되는 가전 및 자동차용 외 판재까지 적용범위가 점점 확대되고 있는 실정이다.
예를 들어, 일반 건축자재용 아연도금 스트립에서는 내식성이 가장 중요한 인자이며, 광택, 조도 및 각종 표면 결함등의 특성들은 상대적으로 경시되고 있는 데에 반하여, 근래 그 사용량이 증대되는 칼라 스트립, 가전재 및 자동차의 내, 외판 등의 용도에서는 내식성 못지 않게 표면 특성이 매우 중요한 인자이고, 따라서 아연 도금 스트립의 수요 측에서는 엄격한 표면 품질을 요구하고 있는 실정이다.
한편, 근래에는 이와 같은 아연도금 스트립의 추가적인 내식성을 높이면서, 특히 스트립제품의 후 프레스 공정시 금형과 피성형 금속 사이의 윤활성의 향상을 위하여 아연도금 스트립의 표면에 인산염을 재처리(이하, '인산 처리'이라 함)하여 인산 피막을 형성시킨다. 특히, 이와 같은 인산 처리에 의한 아연도금 스트립의 인산 피막 층은 스트립 특히, 자동차 외 판재로 사용되는 스트립의 도장시 도장의 밀착성, 및 도장 전후의 내식성을 향상하는 것으로 알려져 있어 현재 자동차 스트립의 표면 품질에 따른 관심이 집중되고 있는 실정이다.
예를 들어, 냉간 단조와 같이 피성형 금속의 프레스 가공 후 변형율이 큰 경우에는 피막중량이 큰 인산아연 피막과 스테아르산 비누를 조합하고, 반대로 자동차 외판재나 가전제품과 같은 변형율이 비교적 적은 프레스의 경우는 피막중량이 적은 인산아연 피막 단독 또는, 인산아연 피막과 윤활유를 조합하여 사용한다. 그런데, 스트립 도장후의 내식성 향상을 위해서는 미세하고 치밀한 인산 피막의 형성이 필요하다. 진행되는 스트립은 그 표면에 인산 처리 전에 먼저, 표면에 표면조정 처리 용액(이하, '표면 처리 용액'이라 함) 예를 들어, 티타늄 콜로아이드(Ti colloide) 등의 표면 처리 용액을 도포하는 구간을 통과하고, 그 다음 인산 처리 용액(인산염 용액)을 도포하는 인산 처리 구간을 통과하면 최종적으로 아연도금 스트립의 표면에 인산 처리를 통한 인산 피막을 형성시킨다.
한편, 인산 처리 구간의 입측과 출측에 각각 스트립을 가이드하는 전단 및 후단 상,하부 롤이 설치 된다. 그런데, 이와 같은 스트립의 표면 처리 공정에서 사용되는 전단 및 후단 상,하부 롤은 통상 스트립 표면에 압착하면서 회동하는 롤로서, 탄성력을 갖는 고무 재질로 되어 있다. 이 때, 표면 처리 공정을 마치고 탱크로부터 스트립을 외부로 가이드 하기 위한 후단 상,하부 롤 중에서 후단 상부 롤의 경우에는 표면 처리 이후에 스트립 상부 표면에 존재하는 이물질과 직접적으로 접촉하게 된다. 따라서, 인산 처리 공정에서 고무 재질로 된 후단 상부 롤에는 스트립 표면에 부착된 미세한 금속 이물질을 비롯한 각종 이물질이 붙게 된다. 결국, 이와 후단 상부 롤에 부착된 이물질들은 스트립의 표면에 칩마크, 덴트(dent)를 포함하는 다양한 영향을 미치게 된다. 또는, 후단 상부 롤의 표면이 금속 이물질이나 기타 요인으로 오염되는 경우 스트립에는 얼룩 마크가 발생되고, 이는 고가의 냉연 아연도금 스트립의 품질 불량으로 이어지는 것이다.
특히, 아연도금되고 추가로 도포하는 인산 처리 공정을 거친 스트립은 표면 처리 공정의 마지막 단계이기 때문에 그 표면결함은 바로 제품의 불량으로 이어진다. 따라서 스트립에 직접 접촉되어 스트립을 가이드하는 역할을 하는 전단 및 후단 상,하부 롤 중 특히, 후단 상부 롤의 세척을 위한 장비의 개발이 시급한 실정이다.
대한민국 공개특허문헌 제10-2008-0096294호
본 발명은 스트립을 표면 처리 장치의 외부로 가이드하는 후단 상부 롤의 표면의 이물질을 제거하여 후단 상부 롤의 표면의 이물질에 의한 스트립의 질적 저하를 방지하는 스트립 표면 처리 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면은 스트립을 탱크 내부로 진입할 수 있도록 가이드 하기 위한 전단 상,하부 롤; 상기 스트립의 표면을 처리하기 위한 용액을 분사하기 위한 스트립 상,하부 공급 노즐; 상기 표면 처리가 된 스트립을 상기 탱크 외부로 가이드 하기 위한 후단 상,하부 롤; 및 상기 후단 상부 롤의 이물질을 제거하기 위하여 상기 후단 상부 롤의 표면에 밀착하여 마련되는 이물질 제거 장치;를 포함하는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 이물질 제거 장치는 상기 후단 상부 롤의 표면에 접촉하여 회동가능하게 마련되어 상기 후단 상부 롤의 이물질을 제거하는 벨트부, 상기 벨트부의 이물질 중에 자성을 갖는 금속 성분을 제거하기 위한 자석부 및 상기 벨트부의 이물질을 제거하기 위하여 세척액을 분사하는 세척부를 포함하는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 이물질 제거 장치는 상기 후단 상부 롤의 표면과 탈부착이 가능하도록 이동부를 더 포함하는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 벨트부는 두 개 이상의 서로 다른 성질을 가지는 벨트 표면을 포함하는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 벨트 표면은 상기 후단 상부 롤의 표면에서, 액상 이물질을 흡수하기 위한 흡입포 면, 고상 이물질을 제거하기 위한 브러쉬 면 및 부직포 면을 포함하는 군에서 선택되는 어느 두 개 이상을 포함하는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 벨트 표면은 서로 다른 성질을 가지는 면이 각각 상기 벨트부로부터 탈부착이 가능하게 마련되는 스트립 표면 처리 장치를 제거할 수 있다.
또한, 상기 자석부는 상기 벨트부의 이물질 중에서 자성을 갖는 금속 성분을 끌어 당기기 위한 자석 및 상기 자석의 외부면을 둘러싸고 이물질과 자석의 직접적인 접촉을 피할 수 있게 하는 피복을 포함하는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 피복은 상기 이물질이 붙더라도 상기 자석부의 직경이 변하지 않도록 탄성을 가지는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 세척부는 세척액을 분사하는 노즐, 상기 세척액을 저장하는 세척액 탱크 및 상기 세척액을 상기 세척액 탱크에서 상기 노즐로 공급하기 위한 공급부를 포함하는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 노즐은 상기 벨트부의 이물질을 상기 벨트부의 이동 방향의 양 옆으로 내보내기 위하여 상기 벨트부의 이동 방향을 향해 꺾인 형태로 마련되는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 노즐은 적어도 하나 이상 마련되며, 상기 벨트부의 이동 방향을 향해 꺾인 형태로 마련되고, 상기 벨트부의 이동 방향으로 갈수록 상기 이동 경로의 중심에서부터 양 옆으로 점차적으로 배열되는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 상기 공급부는 상기 벨트부의 이동 경로 상에서 상기 노즐을 지지하기 위한 지지관을 포함하고, 상기 노즐은 상기 지지관에 적어도 하나 이상 마련되며, 상기 노즐은 각각 개별적인 움직임이 가능하도록 마련되는 스트립 표면 처리 장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 일 측면에 따른 스트립 표면 처리 장치에 의하면 스트립을 장치 외부로 가이드하는 후단 상부 롤의 표면에 존재하는 용액 및 기타 이물질을 제거하여 이로 인한 스트립 표면에의 결함을 최소화 하고 양질의 제품을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 스트립 표면 처리 장치의 전체적인 모습을 나타내기 위한 측면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 이물질 제거 장치를 나타내기 위한 측면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 이물질 제거 장치의 벨트부를 나타내기 위한 정면도이다.
도 4는 발명의 일 실시 예에 따른 벨트 표면을 나타내기 위한 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 의한 자석부를 나타내기 위한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 피복을 나타내기 위한 측면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 세척부의 작업 모습을 나타낸 평면도이며, 도 8 및 9는 세척부의 각각 다른 실시 예를 나타낸 평면도이다.
이하에서는 본 발명의 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하의 실시 예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 충분히 전달하기 위해 제시하는 것이다. 본 발명은 여기서 제시한 실시 예만으로 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 도면은 본 발명을 명확히 하기 위해 설명과 관계 없는 부분의 도시를 생략하고, 이해를 돕기 위해 구성요소의 크기를 다소 과장하여 표현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 스트립 표면 처리 장치의 전체적인 모습을 나타낸 측면도이다. 도 1을 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 스트립 표면 처리 장치는 스트립(S)을 탱크 내부로 진입할 수 있도록 가이드 하기 위한 전단 상,하부 롤(10,20), 상기 스트립의 표면을 처리하기 위한 용액을 분사하기 위한 스트립 상,하부 공급 노즐(2,3), 상기 표면 처리가 된 스트립(S)을 상기 탱크 외부로 가이드 하기 위한 후단 상,하부 롤(11,21) 및 상기 후단 상부 롤(11)의 이물질을 제거하기 위하여 상기 후단 상부 롤(11)의 표면에 밀착하여 마련되는 이물질 제거 장치(100)를 포함할 수 있다.
스트립 제조 공정에 있어서, 스트립의 표면에 약품을 이용하여 원하는 목적을 얻고자 하는 처리 공정이 포함될 수 있다. 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 스트립에 전기도금을 통해 아연(Zn) 도금을 하고 이의 도장성과 내식성 향상을 위해 후처리로 인산을 처리하는 공정을 거칠 수 있다. 이러한 경우에 표면 조정을 위하여 피엘-에프(PL-F) 분말 용액을 사용할 수 있다. 상기의 표면 조정을 위한 공정을 거치기 위하여 스트립(S)을 스트립 표면 처리 장치 내부로 가이드 하는 역할을 하는 것이 전단 상,하부 롤(10,20)일 수 있다.
상기 전단 상,하부 롤(10,20)에 의하여 스트립 표면 처리 장치 내부로 진입한 스트립(S)은 표면 처리에 필요한 용액을 표면으로 공급받게 되는데 이 때 용액을 공급하는 구성은 스트립 상,하부 노즐(2,3)일 수 있다. 상기 용액은 용액 순환 탱크(5)에서부터 공급펌프(4)에 의하여 스트립 상,하부 노즐(2,3)로 공급이 될 수 있으며, 스트립(S) 표면 처리 이후의 용액은 슬러지 용액(7)이 되어 리턴 배관(6)을 통해 다시 용액 순환 탱크(5)로 돌아오는 과정을 거칠 수 있다.
표면 처리 과정을 거친 스트립(S)은 스트립 표면 처리 장치 외부로 가이드 되기 위해서 후단 상,하부 롤(11,21)을 거칠 수 있는데 이 때, 표면 처리 공정 중에서 스트립 하부 공급 노즐(3)에서 분사된 용액은 중력에 의하여 스트립(S) 하부 표면에서 아래로 자연스럽게 떨어질 수 있으나, 스트립 상부 공급 노즐(2)에서 분사된 용액은 스트립(S) 표면에 남아 있을 수 있으며 그 밖의 금속 성분 또는 다른 물질이 스트립(S)의 상부 표면에 남아 있을 수 있다. 이러한 이물질은 후단 상부 롤(11)의 표면에 직접적으로 접촉하면서 후단 상부 롤(11) 표면에 옮겨질 수 있다.
이렇게 후단 상부 롤(11) 표면으로 옮겨진 이물질을 제거하기 위해서 이물질 제거 장치(100)가 마련될 수 있다. 이러한 이물질 제거 장치(100)는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 후단 상부 롤(11) 근방에 마련되어 필요에 따라서 후단 상부 롤(11)에 부착하거나 탈착할 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 이물질 제거 장치(100)를 나타내기 위한 측면도이다. 도 2를 참고하면, 이물질 제거 장치(100)는 후단 상부 롤(11)의 표면에 접촉하여 회동가능하게 마련되어 상기 후단 상부 롤(11)의 이물질을 제거하는 벨트부(110), 상기 벨트부(110)의 이물질 중에 자성을 갖는 금속 성분을 제거하기 위한 자석부(120), 및 상기 벨트부(110)의 이물질을 제거하기 위하여 세척액을 분사하는 세척부(130)를 포함할 수 있다.
이물질 제거 장치(100)는, 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 벨트 중심 축(101) 및 벨트 양단 축(102)에 의해서 고정되어 있을 수 있으며, 벨트 중심 축(101) 및 벨트 양단 축(102)은 이동이 가능하게 마련되어 벨트 양단 축(102)에서 후단 상부 롤(11)에서 가까운 축이 후단 상부 롤(11)에 부착 또는 탈착될 수 있는 형태로 마련될 수 있다.
또한, 이물질 제거 장치(100)는 후단 상부 롤(11)의 표면과 접착 및 탈착이 가능하도록 이동부(103)를 더 포함할 수 있다. 이물질 제거 장치(100)가 작동할 때에는 후단 상부 롤(11)에 부착이 된 상태로 작동을 할 수 있다. 그러나, 작동하지 않을 경우에는 이물질 제거 장치(100)가 후단 상부 롤(11)에 부착되어 있다면 후단 상부 롤(11)이 회전하는데 있어서 둘 사이의 마찰력이 방해가 될 수 있으며 이로 인하여 설비의 고장을 야기할 수 있다는 문제가 있을 수 있다. 따라서, 이물질 제거 장치(100)가 작동하지 않을 때에는 후단 상부 롤(11) 표면에서 이를 떼어내야 하는 과정이 필요할 수 있으며 이동부(103)가 이러한 역할을 수행할 수 있다.
이동부(103)는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 도 2에서 볼 수 있듯이 벨트 중심 축(101)이 고정되어 있는 상태로 벨트 양단 축(102)이 원주 운동을 하면서 후단 상부 롤(11) 표면과의 접착 및 탈착을 가능하게 할 수 있다. 이 때, 벨트 양단 축(102)은 일정 각도를 가지고 원주 운동을 할 수 있는 슬라이딩 부재로 마련될 수 있다. 또한, 벨트 중심 축(101)은 위치는 변하지 않으나 제자리에서 회전이 가능할 수 있는 구성으로 마련되어 벨트 양단 축(102)의 원주 운동을 도와줄 수 있다.
그리고, 본 발명의 또 다른 실시 예의 이동부(103)는 벨트 양단 축(102) 및 벨트 중심 축(101)이 모두 같은 라인에 마련되어 있을 수 있기 때문에, 이와 같은 라인을 따라 벨트 양단 축(102) 및 벨트 중심 축(101)이 슬라이딩 할 수 있는 구성으로 마련하여 전체적으로 이물질 제거 장치(100)의 이동이 가능하게 마련될 수도 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 이물질 제거 장치(100)의 벨트부(110)를 나타내기 위한 정면도이다. 도 3을 참고하면, 벨트부(110)는 두 개 이상의 서로 다른 성질의 표면을 포함할 수 있다. 이 때의 성질은 특별히 한정이 있는 것은 아니나 물리적 성질을 지칭하는 것일 수 있으며, 두 개 이상의 서로 다른 성질의 벨트 표면(111)을 가짐으로써 각각의 다른 성질의 표면이 후단 상부 롤(11)의 표면과 접촉되어 힘이 작용될 때, 각각 다른 역할을 수행할 수 있다.
또한, 상기 두 개 이상의 서로 다른 성질의 벨트 표면(111)은 상기 후단 상부 롤(11)의 표면에서, 액상 이물질을 흡수하기 위한 흡입포 면, 고상 이물질을 제거하기 위한 브러쉬 면 및 부직포 면을 포함하는 군에서 선택되는 어느 두 개 이상일 수 있다. 스트립(S) 상부로부터 후단 상부 롤(11)로 옮겨지는 물질에는 표면 처리에 사용되는 용액, 스트립(S)으로부터 떨어져 나오는 금속 성분의 이물질 및 기타 다른 성분의 이물질이 있을 수 있다. 따라서 표면 처리에 사용되는 액상 용액을 제거하기 위해서는 액상을 흡수하기 위한 흡입포 면이 벨트 표면(111)에 포함될 수 있으며, 고상의 이물질을 후단 상부 롤(11)로부터 쓸어 내리기 위한 브러쉬 면이 마련될 수 있다. 또한, 후단 상부 롤(11) 표면에 흡착되어 붙어있는 고상의 이물질은 브러쉬 면에 의해서도 제거되지 않을 수 있기 ?문에 보다 큰 힘을 전달할 수 있는 부직포 면을 포함할 수 있다.
도 4는 발명의 일 실시 예에 따른 벨트 표면(111)을 나타내기 위한 사시도이다. 도 4를 참고하면 상기 벨트 표면(111)의 두 개 이상의 서로 다른 성질의 표면은 각각 벨트부에 탈부착이 가능하게 마련되어 벨트 표면(111)의 일부가 제 기능을 수행하지 못하는 경우에는 일부만 교체함으로 인해 작업의 효율을 높일 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 의한 자석부(120)를 나타내기 위한 사시도이다. 도 5를 참고하면 자석부(120)는 상기 벨트부(110)의 이물질 중에서 자성을 갖는 금속 성분을 끌어 당기기 위한 자석(121) 및 상기 자석(121)의 외부면을 둘러싸고 이물질과 자석(121)의 직접적인 접촉을 피할 수 있게 하는 피복(122)을 포함할 수 있다.
자석부(120)의 형상에 대해서는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 벨트부(110)의 벨트 표면(111)이 회전함에 따라서 같이 회전이 용이할 수 있도록 원기둥의 형상을 가질 수 있다.
또한, 자석(121)은 자성을 가지는 금속 물질을 끌어당길 수 있는 것을 일컫는 것으로서, 일반적인 자석 뿐만 아니라 전자기가 유도될 수 있는 것을 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 그리고, 자성의 세기에 대해서는 특별히 한정이 있는 것은 아니나 제거하고자 하는 금속 이물질이 제거될 수 있는 최소한의 세기에서부터 다른 장비의 가동에 영향을 주지 않는 세기의 범위를 모두 포함할 수 있다.
자석(121)의 형상에 관하여는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 벨트 표면(111)의 금속 이물질에 균일하게 영향을 미치기 위해서 벨트 표면(111)으로부터 일정한 거리를 유지할 수 있도록 원기둥의 형상을 가질 수 있으며, 그 크기 역시 금속 이물질을 끌어당길 수 있는 크기를 모두 포함할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 피복(122)을 나타내기 위한 측면도이다. 도 6을 참고하면 피복(122)은 벨트 표면(111)에서의 자성을 띄는 이물질(R)이 상기 자석(121)에 직접 접촉되지 않도록 하는 역할을 수행할 수 있다. 또한, 특별히 한정이 있는 것은 아니나 자석부(120)가 벨트 표면(111)에 직접 접촉하여 벨트 표면(111)의 이동에 따라서 함께 회전하는 경우에는 더 많은 자성을 가지는 이물질(R)을 자석부(120)에 붙일 수 있기 때문에 피복(122)은 벨트 표면(111)에 직접 접촉한 상태로 마련될 수 있다. 또한, 그 형상이나 두께에 대해서는 특별히 한정이 있는 것은 아니나 벨트 표면(111)에 직접 접촉하는 상태로 마련될 수 있기 때문에 벨트 표면(111)이 회전하는 경우에 원활하게 같이 회전할 수 있도록 원기둥의 형상으로 마련될 수 있으며, 자석(121)의 자력이 자성을 띄는 이물질(R)에 잘 전달될 수 있는 두께일 수 있다.
그리고, 피복은 자성을 띄는 이물질(R)이 붙더라도 상기 자석부(120)의 직경이 변하지 않도록 탄성을 가질 수 있다. 자성을 띄는 이물질(R)이 피복(122)의 표면에 붙는 경우에 피복(122)의 직경이 위치마다 달라질 수 있다. 이 경우에는 벨트 표면(111)에 흠집이 날 수 있으며 자석부(120)의 원활한 회전을 방해하여 설비의 고장 원인이 될 수 있다. 따라서 피복(122)은 탄성력을 가져 자성을 띄는 이물질(R)이 붙는 경우에도 이를 피복(122)이 함유하는 형태가 되어 자석부(120) 전체의 직경에는 변함이 없을 수 있다.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 세척부(130)의 작업 모습을 나타낸 평면도이다. 도 8 및 9는 각각 다른 실시 예를 나타낸 것이다.
도 7를 참고하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 세척부(130)는 세척액을 저장하는 탱크(132), 세척액을 벨트 표면(111)에 분사하는 노즐(131) 및 세척액 탱크(132)에 저장되는 세척액을 노즐(131)로 공급하기 위한 공급부(133)를 포함할 수 있다. 세척액 탱크(132)는 세척액을 저장하기 위한 것으로 그 형상이나 크기에 특별히 한정이 있는 것은 아니며 통상의 것을 사용할 수 있다. 또한 세척액 역시 특별히 한정이 있는 것이 아니나, 벨트 표면(111) 위에 존재하는 이물질을 용이하게 제거하기 위하여 밀도가 큰 것을 사용할 수 있다. 그 종류 역시 특별히 한정이 있는 것은 아니지만 물을 사용할 수 있다.
또한, 노즐(131)은 상기 벨트 표면(111)의 이물질을 상기 벨트부(110)의 폭을 기준으로 양 옆으로 내보내기 위하여 벨트 표면(111)의 이동 방향을 향해 꺾인 형태로 마련될 수 있다. 노즐(131)이 꺾인 형태로 마련되는 경우에는 노즐(131)에서 분사되는 세척액은 벨트부(110)의 길이 방향이 아닌, 길이 방향에서 폭 방향으로 기울어진 상태로 분사될 수 있다. 따라서 벨트 표면(111)의 이물질이 분사되는 세척액으로부터 힘을 받는 방향 역시 벨트부(110)의 길이 방향에서 폭 방향으로 기울어진 방향이 될 수 있다. 이에 따라서 이물질은 벨트 표면(111)에서 벨트부(110)의 폭 방향으로 점차적으로 이동할 수 있으며 결과적으로 벨트부(110)의 양 옆으로 떨어져 나갈 수 있다. 또한, 분사되는 세척액의 세기 역시 밸브(미도시) 구성을 통하여 조절할 수 있으며 작업자가 벨트 표면(111) 상에 존재하는 이물질의 상태와 양을 보고 이를 조절할 수 있다.
그리고, 노즐(131)의 꺾인 정도에는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 직각을 기준으로 작업의 상태에 따라 선택할 수 있다. 꺾인 각이 클 경우 이물질이 벨트 표면(111)에서 이동 방향의 양 옆으로 밀려나가는 효과가 작아질 수 있으며, 꺾인 각이 작을 경우 이송되는 벨트 표면(111)에 존재하는 이물질이 분사되는 세척액의 영향을 받는 시간이 짧아질 수 있기 때문에 이물질 제거 효과가 크지 않을 수 있다.
도 8을 참고하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 세척부(130')의 노즐(131')은 하나 이상이 마련될 수 있으며, 벨트부(110)의 이동 방향을 향해 꺾인 형태로 마련될 수 있으며, 벨트부(110)의 이동 방향으로 갈수록 상기 이동 방향의 중심에서부터 양 옆으로 점차적으로 배열될 수 있다. 배열의 형태로는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 1차 세척단계는 1개의 노즐이 벨트부(110)의 이동 방향의 중심에, 2차 세척단계는 1차 세척단계의 노즐이 끝나는 양 끝부분을 중심으로 2개의 노즐이, 3차 세척단계는 2차 세척단계의 2개의 노즐이 끝나는, 폭방향 기준으로 가장 바깥쪽 끝부분을 중심으로 다시 2개의 노즐(131')이 배열될 수 있다. 상기와 같이 배열되는 경우에 이물질은 총 3단계를 거쳐 세척액에 의해 제거될 수 있으며 점차적으로 벨트부(110)의 이동 방향의 폭 방향으로 밀려나 결국 벨트 표면(111) 밖으로 떨어질 수 있다.
또한, 전술한 바와 같이 분사되는 세척액의 세기 역시 밸브(미도시) 구성을 통하여 조절할 수 있으며 작업자가 벨트 표면(111)에 존재하는 이물질의 상태와 양을 보고 이를 조절할 수 있다. 또한, 공급부(133')는 각각의 노즐(131')로 세척액을 공급할 수 있다. 그리고, 노즐(131')의 꺾인 정도에는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 직각을 기준으로 작업의 상태에 따라 선택할 수 있다. 꺾인 각이 클 경우 이물질이 벨트 표면(111)에서 이동 방향 양 옆으로 밀려나가는 효과가 작아질 수 있으며, 꺾인 각이 작을 경우 이송되는 벨트 표면(111)에 존재하는 이물질이 분사되는 세척액의 영향을 받는 시간이 짧아질 수 있기 때문에 이물질 제거 효과가 크지 않을 수 있다. 또한, 전술한 실시 예와 비교하여 노즐(131')의 크기는 상대적으로 작게 마련될 수 있다.
도 9을 참고하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 세척부(130")는 노즐(131")을 벨트부(110)의 이동 경로 상에서 지지하기 위한 지지관(134)을 추가로 포함할 수 있다. 또한, 노즐(131")은 지지관(134)에 적어도 하나 이상 마련될 수 있으며, 지지관(134)에 마련되는 노즐(131")은 개별적으로 세척액을 분사하는 방향을 정할 수 있도록 개별적인 움직임이 가능하도록 마련될 수 있다. 개별적으로 움직일 수 있는 노즐(131")을 이용하여 작업자가 수작업으로 벨트 표면(111)의 이물질 상태를 보고 방향을 설정할 수 있으며 원격제어 또는 자동장치를 통해 조절할 수도 있다.
지지관(134)의 형태에는 특별히 한정이 있는 것은 아니나, 전술한 실시 예에서의 노즐(131,131')의 형상과 같이 벨트부(110)의 이동 방향을 향해 꺾인 형상일 수 있으며, 지지관(134) 내부는 세척액 탱크(132)로부터 공급받은 세척액을 각각의 노즐(131")로 전달하기 위하여 비어있는 형상으로 마련될 수 있다. 또한, 노즐(131")은 지지관(134)에 하나 이상 마련될 수 있고 복수개의 노즐(131")이 마련되는 경우에는 일정한 간격을 두고 지지관(134)에 마련될 수 있다. 또한, 전술한 바와 같이 분사되는 세척액의 세기 역시 밸브(미도시) 구성을 통하여 조절할 수 있으며 작업자가 벨트 표면(111)에 존재하는 이물질의 상태와 양을 보고 이를 조절할 수 있다.
S: 스트립 R: 이물질
1: 탱크 2: 스트립 상부 공급 노즐
3: 스트립 하부 공급 노즐 4: 공급펌프
5: 용액 순환 탱크 6: 리턴 배관
7: 슬러지 용액 10: 전단 상부롤
11: 후단 상부 롤 11': 오염부
20: 전단 하부 롤 21: 후단 하부 롤
100: 이물질 제거 장치 101: 벨트 중심 축
102: 벨트 양단 축 103: 이동부
110: 벨트부 111: 벨트 표면
120: 자석부 121: 자석
122: 피복 130: 세척부
131: 노즐 132: 세척액 탱크
133: 공급부 134: 지지관

Claims (12)

  1. 스트립을 탱크 내부로 진입할 수 있도록 가이드 하기 위한 전단 상,하부 롤;
    상기 스트립의 표면을 처리하기 위한 용액을 분사하기 위한 스트립 상,하부 공급 노즐;
    상기 표면 처리가 된 스트립을 상기 탱크 외부로 가이드 하기 위한 후단 상,하부 롤; 및
    상기 후단 상부 롤의 이물질을 제거하기 위하여 상기 후단 상부 롤의 표면에 밀착하여 마련되는 이물질 제거 장치;를 포함하는 스트립 표면 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이물질 제거 장치는 상기 후단 상부 롤의 표면에 접촉하여 회동가능하게 마련되어 상기 후단 상부 롤의 이물질을 제거하는 벨트부,
    상기 벨트부의 이물질 중에 자성을 갖는 금속 성분을 제거하기 위한 자석부, 및
    상기 벨트부의 이물질을 제거하기 위하여 세척액을 분사하는 세척부를 포함하는 스트립 표면 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 이물질 제거 장치는 상기 후단 상부 롤의 표면과 탈부착이 가능하도록 이동부를 더 포함하는 스트립 표면 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 벨트부는 두 개 이상의 서로 다른 성질을 가지는 벨트 표면을 포함하는 스트립 표면 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 벨트 표면은 상기 후단 상부 롤의 표면에서, 액상 이물질을 흡수하기 위한 흡입포 면, 고상 이물질을 제거하기 위한 브러쉬 면 및 부직포 면을 포함하는 군에서 선택되는 어느 두 개 이상을 포함하는 스트립 표면 처리 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 벨트 표면은 서로 다른 성질을 가지는 면이 각각 상기 벨트부로부터 탈부착이 가능하게 마련되는 스트립 표면 처리 장치.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 자석부는 상기 벨트부의 이물질 중에서 자성을 갖는 금속 성분을 끌어 당기기 위한 자석 및
    상기 자석의 외부면을 둘러싸고 이물질과 자석의 직접적인 접촉을 피할 수 있게 하는 피복을 포함하는 스트립 표면 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 피복은 상기 이물질이 붙더라도 상기 자석부의 직경이 변하지 않도록 탄성을 가지는 스트립 표면 처리 장치.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 세척부는 세척액을 분사하는 노즐, 상기 세척액을 저장하는 세척액 탱크 및 상기 세척액을 상기 세척액 탱크에서 상기 노즐로 공급하기 위한 공급부를 포함하는 스트립 표면 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 노즐은 상기 벨트부의 이물질을 상기 벨트부의 이동 방향의 양 옆으로 내보내기 위하여 상기 벨트부의 이동 방향을 향해 꺾인 형태로 마련되는 스트립 표면 처리 장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 노즐은 적어도 하나 이상 마련되며,
    상기 벨트부의 이동 방향을 향해 꺾인 형태로 마련되고,
    상기 벨트부의 이동 방향으로 갈수록 상기 이동 경로의 중심에서부터 양 옆으로 점차적으로 배열되는 스트립 표면 처리 장치.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 공급부는 상기 벨트부의 이동 경로 상에서 상기 노즐을 지지하기 위한 지지관을 포함하고,
    상기 노즐은 상기 지지관에 적어도 하나 이상 마련되며,
    상기 노즐은 각각 개별적인 움직임이 가능하도록 마련되는 스트립 표면 처리 장치.
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