KR20150078169A - Touch screen panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

Provided are a touch screen panel which can increase reliability, and reducing the number of manufacturing processes by preventing electrode corrosion and adhesion degradation of a touch screen, and a manufacturing method thereof. The touch screen panel includes a first transparent electrode layer including a touch pattern; a wire layer formed on the first transparent electrode layer, and connected to the touch pattern; a second transparent electrode layer formed on the wire layer and contacting with the first transparent electrode layer; and a encapsulation structure formed on at least one side of the contacting first transparent electrode layer and second transparent electrode layer, and protecting the wire layer by encapsulation.

Description

터치스크린패널 및 이의 제조방법{Touch screen panel and manufacturing method thereof}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch screen panel and a manufacturing method thereof,

본 발명은 터치스크린패널에 관한 것으로, 특히 터치스크린의 전극 부식 및 접착력 저하를 방지하여 신뢰성을 높이면서 제조공정 수를 줄일 수 있는 터치스크린패널 및 이의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a touch screen panel, and more particularly, to a touch screen panel and a method of manufacturing the touch screen panel.

최근, 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 전계발광표시장치 (Electroluminescent Display) 및 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel) 등의 디스플레이 장치는 응답속도가 빠르고, 소비전력이 낮으며, 색재현율이 뛰어나 주목받아 왔다. In recent years, display devices such as a liquid crystal display, an electroluminescent display, and a plasma display panel have attracted attention due to their high response speed, low power consumption, come.

이러한 디스플레이 장치들은 TV, 컴퓨터용 모니터, 노트북 컴퓨터, 휴대폰(mobile phone), 냉장고의 표시부, 개인 휴대용 정보 단말기(Personal Digital Assistant), 현금 자동 입출금기(Automated Teller Machine) 등 다양한 전자제품에 사용되어 왔다. Such display devices have been used in various electronic products such as televisions, computer monitors, notebook computers, mobile phones, display parts of refrigerators, personal digital assistants, and automated teller machines.

일반적으로, 이러한 표시장치들은 키보드, 마우스, 디지타이저(Digitizer) 등의 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 사용자와의 인터페이스를 구성한다. 그러나, 키보드와 마우스 등과 같은 별도의 입력장치를 사용하는 것은 사용법을 익혀야 하고, 공간을 차지하는 등의 불편을 야기하여 제품의 완성도를 높이기 어려운 면이 있었다. 따라서, 편리하면서도 간단하고 오작동을 감소시킬 수 있는 입력장치에 대한 요구가 날로 증가되고 있다. Generally, these display devices constitute an interface with a user by using various input devices such as a keyboard, a mouse, and a digitizer. However, the use of a separate input device such as a keyboard and a mouse is required to learn how to use the device, and it is inconvenient to occupy a space, thereby making it difficult to improve the perfection of the product. Therefore, there is a growing demand for an input device that is convenient and simple and can reduce malfunctions.

이와 같은 요구에 따라 사용자가 손이나 펜 등으로 화면과 직접 접촉하여 정보를 입력하는 터치스크린패널(Touch Screen Panel)이 제안되었다. 터치스크린패널은 터치된 부분을 감지하는 방식에 따라, 상판 또는 하판에 금속 전극을 형성하여 직류전압을 인가한 상태에서 터치된 위치를 저항에 따른 전압 구배로 판단하는 저항막 방식(Resistive type), 도전막에 등전위를 형성하고 터치에 따른 상하판의 전압 변화가 일어난 위치를 감지하여 터치된 부분을 감지하는 정전용량방식(Capacitive type), 전자펜이 도전막을 터치함에 따라 유도되는 LC값을 읽어들여 터치된 부분을 감지하는 전자 유도 방식(Electro Magnetic type) 등으로 구별될 수 있다.In accordance with such a demand, a touch screen panel has been proposed in which a user directly touches the screen with a hand or a pen to input information. The touch screen panel includes a resistive type in which a metallic electrode is formed on a top plate or a bottom plate in accordance with a method of detecting a touched portion to determine a touched position as a voltage gradient according to a resistance in a state in which a direct current voltage is applied, A capacitive type in which an equal potential is formed on a conductive film and a touch position is detected by sensing a position where a voltage change of the upper and lower plates due to a touch is sensed and an LC value induced by touching the conductive film is read An electro-magnetic type in which a touch portion is sensed, and the like.

도 1은 종래의 터치스크린패널의 개략적인 도면이다. 1 is a schematic diagram of a conventional touch screen panel.

도 1을 참조하면, 종래의 터치스크린패널(1)은 표시패널(2), 예컨대 액정패널 상에 배치된 터치스크린(6)을 포함한다. 또한, 터치스크린(6)은 2개의 투명전극층(3, 5)과 그 사이의 배선층(4)을 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional touch screen panel 1 includes a display panel 2, for example, a touch screen 6 disposed on a liquid crystal panel. Further, the touch screen 6 includes two transparent electrode layers 3 and 5 and a wiring layer 4 therebetween.

터치스크린(6)의 투명전극층(3, 5)은 투명한 전극 물질, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide; IZO)로 형성되며, 각각의 투명전극층(3, 5)에는 다양한 형상의 다수의 터치패턴(미도시)이 형성된다. The transparent electrode layers 3 and 5 of the touch screen 6 are formed of transparent electrode materials such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) A plurality of touch patterns (not shown) of various shapes are formed.

또한, 배선층(4)은 은(Ag), 구리(Cu) 등의 저저항의 금속물질로 형성되며, 끝단이 외부 회로, 예컨대 FPCB(Flexible Printed Circuit Board) 등과 같은 외부 회로와 본딩된다.The wiring layer 4 is formed of a metal material of a low resistance such as silver (Ag) or copper (Cu), and its end is bonded to an external circuit, for example, an external circuit such as an FPCB (Flexible Printed Circuit Board).

도 2a 내지 도 2d는 종래의 터치스크린패널의 제조공정을 나타내는 도면들이다.2A to 2D are views showing a conventional manufacturing process of a touch screen panel.

도면을 참조하면, 먼저 표시패널(2) 상에 차례로 제1투명전극막(5a), 금속막(4a) 및 제2투명전극막(3a)을 각각 형성한다.Referring to the drawing, a first transparent electrode film 5a, a metal film 4a and a second transparent electrode film 3a are sequentially formed on a display panel 2, respectively.

제1투명전극막(5a)과 제2투명전극막(3a)은 ITO 또는 IZO를 증착하여 형성되고, 증착 후 패터닝을 통해 서로 대향되는 다수의 터치패턴을 형성한다.The first transparent electrode film 5a and the second transparent electrode film 3a are formed by depositing ITO or IZO, and form a plurality of touch patterns which are opposed to each other through patterning after deposition.

금속막(4a)은 은(Ag) 또는 구리(Cu) 등의 저저항 금속물질을 증착하여 형성된다. 금속막(4a)은 증착 후 패터닝을 통해 다수의 터치패턴과 연결된 배선을 형성한다.The metal film 4a is formed by depositing a low resistance metal material such as silver (Ag) or copper (Cu). The metal film 4a forms a wiring connected to a plurality of touch patterns through patterning after deposition.

이어, 제2투명전극막(3a) 상에 마스크패턴(11)을 형성한다. 마스크패턴(11)은 제2투명전극막(3a) 상에 포토레지스트(미도시)를 소정 두께로 도포한 후 패터닝하여 형성된다.Next, a mask pattern 11 is formed on the second transparent electrode film 3a. The mask pattern 11 is formed by applying a photoresist (not shown) to a predetermined thickness on the second transparent electrode film 3a and patterning the same.

계속해서, 마스크패턴(11)을 이용하여 제2투명전극막(3a), 금속막(4a) 및 제1투명전극막(5a)을 차례로 패터닝하여 제2투명전극층(3), 배선층(4) 및 제1투명전극층(5)을 구비한 터치스크린(6)을 형성한다.Subsequently, the second transparent electrode layer 3a, the metal film 4a and the first transparent electrode film 5a are sequentially patterned using the mask pattern 11 to form the second transparent electrode layer 3, the wiring layer 4, And a first transparent electrode layer (5).

이때, 투명전극막(3a, 5a)과 금속막(4a)의 패터닝 특성, 즉 식각 특성에 의해 금속막(4a)은 오버식각된다. 이에 따라, 터치스크린(6)의 전면에 보호막(7)을 형성하여 보호하게 된다.At this time, the metal film 4a is over-etched due to patterning characteristics of the transparent electrode films 3a and 5a and the metal film 4a, that is, etching properties. Accordingly, the protective film 7 is formed on the entire surface of the touch screen 6 to protect the touch screen 6.

상술한 바와 같이, 종래의 터치스크린패널 제조공정에서는 추가로 보호막(7)을 형성하는 공정이 필요하게 되어 공정수가 증가한다.As described above, in the conventional touch screen panel manufacturing process, a process of forming the protective film 7 is further required, and the number of processes increases.

또한, 도 2d의 A에서와 같이, 보호막(7)이 배선층(4)의 일측, 즉 오버식각된 부분을 제대로 커버하지 못하며, 이에 따라 외부로부터 침투되는 습기나 산소 등에 의해 배선층(4)이 부식된다. 2 (d), the protective film 7 does not cover one side of the wiring layer 4, that is, the over-etched portion, so that the wiring layer 4 is corroded by moisture or oxygen penetrated from the outside, do.

이러한 배선층(4)의 부식은 상부의 제2투명전극층(3)과 배선층(4)의 접합력을 저하시키며, 이는 제2투명전극층(3)이 배선층(4)으로부터 박리되는 문제를 발생시킨다.Corrosion of the wiring layer 4 deteriorates bonding strength between the upper second transparent electrode layer 3 and the wiring layer 4, which causes a problem that the second transparent electrode layer 3 is peeled off from the wiring layer 4.

본 발명은 상기한 문제점을 개선하기 위한 것으로, 제조공정의 수를 줄이면서 배선층의 부식 등을 방지하여 신뢰성을 높일 수 있는 터치스크린패널 및 이의 제조방법을 제공하고자 하는 데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a touch screen panel and a method of manufacturing the touch screen panel which can reduce the number of manufacturing steps and prevent corrosion of the wiring layer and improve reliability.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린패널은, 터치패턴이 형성된 제1투명전극층; 상기 제1투명전극층 상에 형성되어 상기 터치패턴에 접속된 배선층; 상기 배선층 상에 형성되어 상기 제1투명전극층과 합착된 제2투명전극층; 및 합착된 상기 제1투명전극층과 상기 제2투명전극층의 적어도 일측에 형성되어 상기 배선층을 봉지시켜 보호하는 봉지구조를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a touch screen panel including: a first transparent electrode layer having a touch pattern; A wiring layer formed on the first transparent electrode layer and connected to the touch pattern; A second transparent electrode layer formed on the wiring layer and bonded to the first transparent electrode layer; And a sealing structure formed on at least one side of the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer to seal and protect the wiring layer.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린패널의 제조방법은, 표시패널 상에 제1투명도전막, 금속막 및 제2투명도전막을 차례로 증착하고 패터닝하여 제1투명전극층, 배선층 및 제2투명전극층을 가지는 터치스크린을 형성하는 단계; 및 상기 터치스크린의 적어도 일측에 봉지구조를 형성하여 상기 배선층을 봉지시키는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch screen panel, including: depositing a first transparent conductive film, a metal film, and a second transparent conductive film on a display panel in sequence, Forming a touch screen having a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer; And sealing the wiring layer by forming a sealing structure on at least one side of the touch screen.

본 발명의 터치스크린패널 및 이의 제조방법은, OMO 구조의 터치스크린의 적어도 일측을 부식저항성이 높은 금속물질로 봉지함으로써, 이전의 공정에서 오버식각된 배선층을 외부의 습기 또는 산소로부터 보호하여 부식을 방지할 수 있다. The touch screen panel and the method of manufacturing the same of the present invention seal at least one side of an OMO-structured touch screen with a metal material having high corrosion resistance to protect the over-etched wiring layer from external moisture or oxygen in the previous process, .

또한, 종래의 보호막 형성 공정을 생략함으로써, 터치스크린패널의 제조공정을 단순화할 수 있다. In addition, by omitting the conventional protective film forming step, the manufacturing process of the touch screen panel can be simplified.

도 1은 종래의 터치스크린패널의 개략적인 도면이다.
도 2a 내지 도 2d는 종래의 터치스크린패널의 제조공정을 나타내는 도면들이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린패널의 개략적인 도면이다.
도 4는 도 3을 Ⅳ~Ⅳ'의 선으로 절단한 단면도이다.
도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린패널의 제조방법을 나타내는 공정도들이다.1 is a schematic diagram of a conventional touch screen panel.
2A to 2D are views showing a conventional manufacturing process of a touch screen panel.
3 is a schematic diagram of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a cross-sectional view of Fig. 3 taken along lines IV-IV '.
5A to 5E are process diagrams illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 터치스크린패널 및 이의 제조방법을 상세히 설명한다. 터치스크린패널은 다양한 종류로 구성될 수 있으나, 본 발명에서는 OMO(Oxide Metal Oxide) 구조의 전극을 갖는 터치스크린패널에 대해 설명하기로 한다. 그리고, OMO 구조는 전극의 낮은 전도성을 개선하고 투명성 및 저반사 특징을 가질 수 있도록 ITO/Metal/ITO 구조일 수 있다.
Hereinafter, a touch screen panel and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The touch screen panel may be composed of various types, but the touch screen panel having an electrode of OMO (Oxide Metal Oxide) structure will be described in the present invention. And, the OMO structure can be an ITO / Metal / ITO structure to improve the low conductivity of the electrode and to have transparency and low reflection characteristics.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린패널의 개략적인 도면이고, 도 4는 도 3을 Ⅳ~Ⅳ'의 선으로 절단한 단면도이다.FIG. 3 is a schematic view of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view taken along lines IV-IV 'of FIG.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 터치스크린패널(100)은 표시패널(110) 및 터치스크린(120)을 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4, the touch screen panel 100 according to the present embodiment may include a display panel 110 and a touch screen 120.

표시패널(110)은 실질적으로 영상이 표시되는 부분으로, 액정패널, 유기발광패널, 플라즈마패널 등이 사용될 수 있으며, 제한되지 않는다. The display panel 110 may be a liquid crystal panel, an organic light emitting panel, a plasma panel, or the like, and is not limited thereto.

터치스크린(120)은 표시패널(110) 상에 배치되며, 사용자로부터의 터치입력을 표시패널(110)로 전달할 수 있다.The touch screen 120 is disposed on the display panel 110 and can transmit a touch input from the user to the display panel 110. [

터치스크린(120)은 2개의 투명전극층(121, 123)과 그 사이에 형성된 배선층(125)을 포함할 수 있다. 2개의 투명전극층(121, 123)은 배선층(125)을 사이에 두고 서로 합착될 수 있다.The touch screen 120 may include two transparent electrode layers 121 and 123 and a wiring layer 125 formed therebetween. The two transparent electrode layers 121 and 123 may be attached to each other with the interconnection layer 125 therebetween.

2개의 투명전극층(121, 123)은 표시패널(110) 상에 배치된 제1투명전극층(121)과 상기 제1투명전극층(121) 상의 제2투명전극층(123)을 포함할 수 있다. The two transparent electrode layers 121 and 123 may include a first transparent electrode layer 121 disposed on the display panel 110 and a second transparent electrode layer 123 disposed on the first transparent electrode layer 121.

제1투명전극층(121)과 제2투명전극층(123)은 투명한 전극물질, 예컨대 ITO 또는 IZO로 형성될 수 있다. The first transparent electrode layer 121 and the second transparent electrode layer 123 may be formed of a transparent electrode material such as ITO or IZO.

또한, 제1투명전극층(121)과 제2투명전극층(123)에는 터치패턴(미도시)이 형성될 수 있다. 터치패턴은 사각형, 원형, 마름모형 등의 형태로 형성될 수 있으며 메쉬(mesh)구조를 가질 수 있다. 터치패턴은 투명전극층(121, 123)을 형성하기 위한 물질, 즉 투명전극막을 증착한 후 이를 패터닝하여 형성될 수 있다.A touch pattern (not shown) may be formed on the first transparent electrode layer 121 and the second transparent electrode layer 123. The touch pattern may be formed in the shape of a square, a circle, a diamond, or the like, and may have a mesh structure. The touch pattern may be formed by depositing a material for forming the transparent electrode layers 121 and 123, that is, a transparent electrode film, and then patterning the same.

배선층(125)은 은(Ag), 구리(Cu) 등과 같은 저저항 특성의 금속물질로 형성될 수 있다. 배선층(125)은 제1투명전극층(121) 또는 제2투명전극층(123)에 형성된 터치패턴을 외부 회로와 연결시키는 배선으로 동작할 수 있다.The wiring layer 125 may be formed of a metal material having low resistance characteristics such as silver (Ag), copper (Cu), or the like. The wiring layer 125 may operate as a wiring connecting the touch pattern formed on the first transparent electrode layer 121 or the second transparent electrode layer 123 to an external circuit.

배선층(125)은 제1투명전극층(121) 상에 소정 두께로 증착된 후 패터닝되어 형성될 수 있다.The wiring layer 125 may be deposited on the first transparent electrode layer 121 to a predetermined thickness and then patterned.

또한, 본 실시예의 터치스크린(120)은 적어도 일측, 예컨대 제1투명전극층(121) 및 제2투명전극층(123)의 측부에 형성된 봉지구조(127)를 더 포함할 수 있다.The touch screen 120 of the present embodiment may further include an encapsulation structure 127 formed on at least one side of the first transparent electrode layer 121 and the second transparent electrode layer 123, for example.

봉지구조(127)는 터치스크린(120)의 측부에서 제1투명전극층(121)과 제2투명전극층(123) 사이에 위치하는 배선층(125)을 봉지(encapsulation)하여 외부로부터 배선층(125)을 보호할 수 있다.The encapsulation structure 127 encapsulates the wiring layer 125 located between the first transparent electrode layer 121 and the second transparent electrode layer 123 on the side of the touch screen 120 to form the wiring layer 125 from the outside Can be protected.

봉지구조(127)는 부식저항성이 큰 금속물질로 형성될 수 있는데, 예컨대 주석(Sn) 또는 은-주석 합금(Ag-Sn Alloy) 등이 사용될 수 있다.The sealing structure 127 may be formed of a metal material having high corrosion resistance, such as tin (Sn) or silver-tin alloy (Ag-Sn alloy).

봉지구조(127)는 제1투명전극층(121)과 제2투명전극층(123) 사이에서 도금 등의 방법으로 형성될 수 있다. 여기서, 봉지구조(127)의 도금 방법으로는 전기도금방법 또는 무전해도금방법을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.The sealing structure 127 may be formed between the first transparent electrode layer 121 and the second transparent electrode layer 123 by plating or the like. Here, as the plating method of the sealing structure 127, an electroplating method or an electroless plating method may be used, but the present invention is not limited thereto.

이러한 봉지구조(127)는 외부로부터 침투되는 습기 및 산소에 의해 배선층(125)이 부식되는 것을 방지할 수 있으며, 제2투명전극층(123)이 배선층(125)으로부터 박리되는 현상을 방지할 수 있다.The sealing structure 127 can prevent the wiring layer 125 from being corroded by moisture and oxygen penetrated from the outside and can prevent the second transparent electrode layer 123 from peeling off from the wiring layer 125 .

한편, 상술한 터치스크린(120)은 표시패널(110)보다 적어도 일측이 짧은 길이를 가지도록 형성될 수 있다. 그리고, 터치스크린(120)에 의해 노출된 표시패널(110)에는 FPCB(Flexible Printed Circuit Board; FPCB) 등과 같은 구동부(미도시)가 접속될 수 있다. 터치스크린(120)의 배선층(125)은 구동부와 연결될 수 있다.
Meanwhile, the touch screen 120 may be formed so that at least one side of the touch panel 120 has a shorter length than the display panel 110. A driver (not shown) such as a flexible printed circuit board (FPCB) may be connected to the display panel 110 exposed by the touch screen 120. The wiring layer 125 of the touch screen 120 may be connected to the driving unit.

이하, 상술한 터치스크린패널(100)의 제조방법에 대해 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the touch screen panel 100 will be described in detail with reference to the drawings.

도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린패널의 제조방법을 나타내는 공정도들이다.5A to 5E are process diagrams illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 5a를 참조하면, 표시패널(110) 상에 순차적으로 투명도전막(121a, 123a)과 금속막(125a)을 형성할 수 있다.First, referring to FIG. 5A, transparent conductive films 121a and 123a and a metal film 125a may be sequentially formed on a display panel 110. FIG.

표시패널(110)은 앞서 설명한 바와 같이 영상을 표시할 수 있는 액정패널, 유기발광패널 등일 수 있다. The display panel 110 may be a liquid crystal panel, an organic luminescent panel, or the like capable of displaying an image as described above.

표시패널(110)의 상면에는 소정의 두께로 제1투명도전막(121a)을 형성할 수 있다. 제1투명도전막(121a)은 ITO 또는 IZO 등의 투명한 전극물질로 형성될 수 있으며, 경우에 따라 나노튜브(Nano Tube), 그래핀(Graphene), 메탈메쉬(Metal Mesh) 등과 같은 물질로 형성될 수도 있다.The first transparent conductive film 121a may be formed on the upper surface of the display panel 110 to a predetermined thickness. The first transparent conductive film 121a may be formed of a transparent electrode material such as ITO or IZO and may be formed of a material such as a nano tube, a graphene, a metal mesh, It is possible.

제1투명도전막(121a)은 표시패널(110) 상에 소정 두께로 증착될 수 있고, 증착 후 패터닝을 통해 다수의 터치패턴(미도시)을 형성할 수 있다. 또한, 경우에 따라 제1투명도전막(121a)은 표시패널(110) 상에 프린트 등의 방법으로 형성될 수도 있다.The first transparent conductive film 121a may be deposited to a predetermined thickness on the display panel 110, and a plurality of touch patterns (not shown) may be formed through patterning after deposition. In some cases, the first transparent conductive film 121a may be formed on the display panel 110 by printing or the like.

제1투명도전막(121a) 상에는 금속막(125a)이 증착될 수 있다. 금속막(125a)은 저저항의 특성을 가지는 금속물질, 예컨대 은 또는 구리 등의 금속물질로 형성될 수 있다.A metal film 125a may be deposited on the first transparent conductive film 121a. The metal film 125a may be formed of a metal material having low resistance characteristics, such as silver or copper.

금속막(125a)은 제1투명도전막(121a) 상에 증착된 후 패터닝되어 제1투명도전막(121a)에 형성된 다수의 터치패턴 각각과 접속되는 배선을 형성할 수 있다. The metal film 125a is deposited on the first transparent conductive film 121a and then patterned to form a wiring connected to each of the plurality of touch patterns formed on the first transparent conductive film 121a.

금속막(125a) 상에는 소정 두께로 제2투명도전막(123a)이 형성될 수 있다. 제2투명도전막(123a)은 앞서 설명된 제1투명도전막(121a)과 마찬가지로 ITO 또는 IZO 등의 투명한 전극물질로 형성되거나 나노튜브, 그래핀, 메탈메쉬 등의 물질로 형성될 수 있다.A second transparent conductive film 123a may be formed on the metal film 125a to a predetermined thickness. Like the first transparent conductive film 121a described above, the second transparent conductive film 123a may be formed of a transparent electrode material such as ITO or IZO, or may be formed of a material such as a nanotube, a graphene, or a metal mesh.

한편, 도면에 도시하지는 않았으나, 금속막(125a)과 제2투명도전막(123a) 사이에는 절연막(미도시)이 형성되어 배치될 수 있다. Meanwhile, although not shown in the figure, an insulating film (not shown) may be formed between the metal film 125a and the second transparent conductive film 123a.

도 5b를 참조하면, 제2투명도전막(123a) 상에 마스크패턴(130)을 형성할 수 있다. 마스크패턴(130)은 제2투명도전막(123a) 상에 소정 두께로 포토레지스트(미도시)를 도포한 후 패터닝하여 형성될 수 있다. Referring to FIG. 5B, the mask pattern 130 may be formed on the second transparent conductive film 123a. The mask pattern 130 may be formed by applying a photoresist (not shown) with a predetermined thickness on the second transparent conductive film 123a and patterning the same.

마스크패턴(130)에 의해 표시패널(110) 상에 터치스크린(120)이 형성될 영역을 제외한 나머지 영역은 노출될 수 있다. The mask pattern 130 may expose the remaining area except the area where the touch screen 120 is to be formed on the display panel 110. [

도 5b 및 도 5c를 참조하면, 마스크패턴(130)을 이용하여 제2투명도전막(123a), 금속막(125a) 및 제1투명도전막(121a)을 차례로 패터닝하여 제2투명전극층(123), 배선층(125) 및 제1투명전극층(121)을 구비하는 터치스크린(120)을 형성할 수 있다. 5B and 5C, the second transparent conductive layer 123a, the metal layer 125a, and the first transparent conductive layer 121a are sequentially patterned using the mask pattern 130 to form the second transparent electrode layer 123, The touch screen 120 having the wiring layer 125 and the first transparent electrode layer 121 can be formed.

제1 및 제2투명도전막(121a, 123a)과 금속막(125a)의 패터닝 방법으로는 습식 식각이 사용될 수 있다. Wet etching may be used as a method of patterning the first and second transparent conductive films 121a and 123a and the metal film 125a.

여기서, 금속막(125a)은 식각 특성에 의해 제1투명도전막(121a)과 제2투명도전막(123a)보다 과식각(over etch)되며, 이에 따라 금속막(125a), 즉 배선층(125)의 단부는 제1투명전극층(121) 및 제2투명전극층(123)의 단부와 일치되지 않는다.Here, the metal film 125a is overetched by the etching characteristics over the first transparent conductive film 121a and the second transparent conductive film 123a, so that the metal film 125a, that is, The ends do not coincide with the ends of the first transparent electrode layer 121 and the second transparent electrode layer 123.

이에, 도 5d를 참조하면, 과식각된 금속막, 즉 배선층(125)을 보호하기 위해 터치스크린(120)의 적어도 일측에 봉지구조(127)를 형성할 수 있다.Referring to FIG. 5D, the sealing structure 127 may be formed on at least one side of the touch screen 120 to protect the oversized metal film, that is, the wiring layer 125.

봉지구조(127)는 부식저항성이 높은 금속물질을 이용하여 도금 등의 방법으로 제1투명전극층(121)과 제2투명전극층(123) 사이의 빈 공간을 채우도록 형성될 수 있다.The encapsulation structure 127 may be formed to fill an empty space between the first transparent electrode layer 121 and the second transparent electrode layer 123 by plating or the like using a metal material having high corrosion resistance.

여기서, 봉지구조(127)를 형성하기 위한 금속물질로는 주석 또는 은-주석 합금이 사용될 수 있다.Here, as the metal material for forming the sealing structure 127, tin or a silver-tin alloy may be used.

봉지구조(127)로 은-주석 합금이 사용되는 경우, 주석의 함유량은 대략 10~80 Mol%일 수 있으며, 바람직하게는 32.5mol%일 수 있다. 이러한 은-주석 합금은 배선층(125)을 형성하는 금속물질, 예컨대 은보다 접합특성 및 부식특성이 우수할 수 있다.When a silver-tin alloy is used as the encapsulating structure 127, the content of tin may be approximately 10 to 80 mol%, preferably 32.5 mol%. Such a silver-tin alloy may have better bonding properties and corrosion characteristics than a metal material forming the wiring layer 125, such as silver.

또한, 봉지구조(127) 형성을 위한 도금 방법으로는 전기도금 또는 무전해도금이 사용될 수 있다.In addition, electroplating or electroless plating may be used as the plating method for forming the sealing structure 127.

전기도금은 도금하고자 하는 피도물, 예컨대 은-주석 합금 또는 주석을 음극으로 하고, 이 음극에 직류 전류를 가하여 피도물의 금속이온이 터치스크린(120)의 단부에 도금되도록 하는 방법이다.The electroplating is a method in which a workpiece to be plated such as a silver-tin alloy or tin is used as a negative electrode, and a direct current is applied to the negative electrode so that metal ions of the workpiece are plated on the end of the touch screen 120.

무전해도금은 전기를 사용하지 않는 도금 방법으로, 환원제가 포함된 도금액에 터치스크린(120)이 형성된 터치스크린패널(100)을 침지시켜 터치스크린(120)의 단부에 도금을 하는 방법이다. 무전해도금은 치환도금, 접촉도금, 비촉매 화학도금 및 촉매 화학도금 등의 방법이 있다.The electroless plating is a plating method that does not use electricity and is a method of plating the end of the touch screen 120 by immersing the touch screen panel 100 in which the touch screen 120 is formed in the plating liquid containing the reducing agent. Electroless plating is a method such as substitution plating, contact plating, non-catalytic chemical plating, and catalytic chemical plating.

또한, 봉지구조(127)를 주석으로 도금하는 경우에는 열처리 공정이 추가로 수행될 수 있다.Further, when the sealing structure 127 is plated with tin, a heat treatment process can be further performed.

다시 말하면, 주석을 이용하여 터치스크린(120)의 단부를 도금한 후 대략 400도 이하의 온도에서 도금 부분을 열처리 하여 봉지구조(127)를 형성할 수 있다.In other words, after the end of the touch screen 120 is plated with tin, the plated portion may be heat-treated at a temperature of about 400 degrees or less to form the sealing structure 127. [

한편, 상술한 봉지구조(127) 형성 공정에서는 별도의 마스크패턴이 사용되는 것이 아니라, 앞서 도 5c에서 사용된 마스크패턴(130)을 존치시켜 사용할 수 있다. 이에 따라, 봉지구조(127)는 마스크패턴(130)이 남아있는 부분에는 형성되지 않고, 터치스크린(120)의 단부에만 형성될 수 있다.Meanwhile, in the above-described process of forming the sealing structure 127, a separate mask pattern is not used, but the mask pattern 130 used in FIG. Accordingly, the sealing structure 127 can be formed only at the end portion of the touch screen 120 without being formed at the portion where the mask pattern 130 remains.

그리고, 도 5e에 도시된 바와 같이 터치스크린(120) 상에 남아있는 마스크패턴(130)을 제거함으로써, 단부에 봉지구조(127)가 형성된 터치스크린(120) 및 이를 포함하는 터치스크린패널(100)을 제조할 수 있다.As shown in FIG. 5E, the mask pattern 130 remaining on the touch screen 120 is removed to form the touch screen 120 having the sealing structure 127 at the end thereof, and the touch screen panel 100 ) Can be produced.

상술한 바와 같이, 본 실시예의 터치스크린패널(100)에서는 부식저항성이 큰 금속물질을 이용하여 터치스크린(120)의 일측을 봉지하기 때문에, 외부의 습기 또는 산소가 터치스크린(120)의 일측을 통해 침투되어 배선층(125)을 부식시키는 것을 방지할 수 있다.As described above, since one side of the touch screen 120 is sealed using the metal material having high corrosion resistance in the touch screen panel 100 of the present embodiment, So that corrosion of the wiring layer 125 can be prevented.

이에 따라, 종래의 터치스크린패널에서 배선층의 부식으로 인하여 투명전극층이 박리되는 현상을 방지하여 터치스크린패널의 신뢰성을 높일 수 있다.Accordingly, it is possible to prevent the transparent electrode layer from peeling due to the corrosion of the wiring layer in the conventional touch screen panel, thereby improving the reliability of the touch screen panel.

또한, 본 실시예의 터치스크린패널(100)은 터치스크린(120) 형성 후 별도의 보호막 형성공정을 수행하지 않기 때문에, 종래의 터치스크린패널의 제조공정에 비하여 공정 수를 줄일 수 있다.In addition, since the touch screen panel 100 of the present embodiment does not perform a separate protective film forming process after the touch screen 120 is formed, the number of processes can be reduced compared to the conventional manufacturing process of the touch screen panel.

전술한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.While a number of embodiments have been described in detail above, it should be construed as being illustrative of preferred embodiments rather than limiting the scope of the invention. Therefore, the invention should not be construed as limited to the embodiments described, but should be determined by equivalents to the appended claims and the claims.

100: 터치스크린패널 110: 표시패널
120: 터치스크린 121: 제1투명전극층
123: 제2투명전극층 125: 배선층
127: 봉지구조100: touch screen panel 110: display panel
120: touch screen 121: first transparent electrode layer
123: second transparent electrode layer 125: wiring layer
127: bag structure

Claims (10)

터치패턴이 형성된 제1투명전극층;
상기 제1투명전극층 상에 형성되어 상기 터치패턴에 접속된 배선층;
상기 배선층 상에 형성되어 상기 제1투명전극층과 합착된 제2투명전극층; 및
합착된 상기 제1투명전극층과 상기 제2투명전극층의 적어도 일측에 형성되어 상기 배선층을 봉지시켜 보호하는 봉지구조를 포함하는 터치스크린패널.A first transparent electrode layer having a touch pattern formed thereon;
A wiring layer formed on the first transparent electrode layer and connected to the touch pattern;
A second transparent electrode layer formed on the wiring layer and bonded to the first transparent electrode layer; And
And a sealing structure formed on at least one side of the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer to seal and protect the wiring layer. 제1항에 있어서,
상기 봉지구조는 주석(Sn) 또는 은-주석 합금(Ag-Sn Alloy) 중 하나로 형성된 터치스크린패널.The method according to claim 1,
Wherein the encapsulation structure is formed from one of tin (Sn) or a silver-tin alloy (Ag-Sn alloy). 제2항에 있어서,
상기 은-주석 합금의 주석 함유량은 10~80 mol%인 터치스크린패널.3. The method of claim 2,
Wherein the silver-tin alloy has a tin content of 10 to 80 mol%. 제1항에 있어서,
상기 봉지구조는 도금을 통해 형성된 터치스크린패널.The method according to claim 1,
Wherein the encapsulation structure is formed by plating. 제1항에 있어서,
상기 배선층은 은 또는 구리(Cu)의 저저항 금속물질로 형성된 터치스크린패널.The method according to claim 1,
Wherein the wiring layer is formed of a low resistance metal material of silver or copper (Cu). 표시패널 상에 제1투명도전막, 금속막 및 제2투명도전막을 차례로 증착하고 패터닝하여 제1투명전극층, 배선층 및 제2투명전극층을 가지는 터치스크린을 형성하는 단계; 및
상기 터치스크린의 적어도 일측에 봉지구조를 형성하여 상기 배선층을 봉지시키는 단계를 포함하는 터치스크린패널의 제조방법.Forming a touch screen having a first transparent electrode layer, a wiring layer and a second transparent electrode layer by sequentially depositing and patterning a first transparent conductive film, a metal film and a second transparent conductive film on a display panel; And
And forming a sealing structure on at least one side of the touch screen to seal the wiring layer. 제6항에 있어서,
상기 배선층을 봉지시키는 단계는, 주석 또는 은-주석 합금 중 하나를 상기 터치스크린의 적어도 일측에 도금하여 상기 배선층을 봉지시키는 단계인 터치스크린패널의 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the step of sealing the wiring layer comprises plating one of the tin or silver-tin alloy on at least one side of the touch screen to seal the wiring layer. 제7항에 있어서,
상기 은-주석 합금의 주석 함유량은 10~80 mol%인 터치스크린패널의 제조방법.8. The method of claim 7,
Wherein the silver-tin alloy has a tin content of 10 to 80 mol%. 제7항에 있어서,
상기 배선층을 봉지시키는 단계는, 상기 터치스크린의 적어도 일측에 도금된 주석을 열처리하는 단계를 더 포함하는 터치스크린패널의 제조방법.8. The method of claim 7,
Wherein the step of sealing the wiring layer further comprises a step of heat treating the plated tin on at least one side of the touch screen. 제6항에 있어서,
상기 금속막은 은 또는 구리 중 하나인 터치스크린패널의 제조방법.
The method according to claim 6,
Wherein the metal film is one of silver and copper.
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